JPS62215901A - 色フイルタの製造方法 - Google Patents
色フイルタの製造方法Info
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- JPS62215901A JPS62215901A JP61060016A JP6001686A JPS62215901A JP S62215901 A JPS62215901 A JP S62215901A JP 61060016 A JP61060016 A JP 61060016A JP 6001686 A JP6001686 A JP 6001686A JP S62215901 A JPS62215901 A JP S62215901A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は色フィルタの製造方法に関する。
（ロ）従来の技術
従来の色フィルタの製造方法は、第２図Ａに示すように
固体撮像素子またはガラス板よりなる基板１０１上に、
全面着色用ベース膜１０２をコートする。次に、ポジ型
ホトレジスト〔例えばＡＺ１３５０Ｊ（シプレー社〕等
〕１０３をコートして、所定のパターンを有するホトマ
スク１０４を用いてアライメント後、矢印ａの方向より
露光して現像し、遮光領域形成部に相当する部分１０６
のレジストを除去する。なお、ここで、１０５は遮光領
域形成部以外を覆うＣｒ等のマスクパターンを示す。ま
た、着色用ベース膜１０２は重クロム酸アンモニウム等
で感光性を付与したゼラチンやカゼインを用いておくと
、ポジ型レジスト露光の際、レジスト開口部下部の着色
用ベース膜も露光・硬化される。
固体撮像素子またはガラス板よりなる基板１０１上に、
全面着色用ベース膜１０２をコートする。次に、ポジ型
ホトレジスト〔例えばＡＺ１３５０Ｊ（シプレー社〕等
〕１０３をコートして、所定のパターンを有するホトマ
スク１０４を用いてアライメント後、矢印ａの方向より
露光して現像し、遮光領域形成部に相当する部分１０６
のレジストを除去する。なお、ここで、１０５は遮光領
域形成部以外を覆うＣｒ等のマスクパターンを示す。ま
た、着色用ベース膜１０２は重クロム酸アンモニウム等
で感光性を付与したゼラチンやカゼインを用いておくと
、ポジ型レジスト露光の際、レジスト開口部下部の着色
用ベース膜も露光・硬化される。
続いて、前記ホトレジスト開口部の着色用ベース膜１０
７を黒色の酸性染料を用いて着色して遮光領域とし、さ
らに、トリクレン等の溶剤で残されたホトレジストパタ
ーン１６３Ａを除去する（第２図Ｂ）。
７を黒色の酸性染料を用いて着色して遮光領域とし、さ
らに、トリクレン等の溶剤で残されたホトレジストパタ
ーン１６３Ａを除去する（第２図Ｂ）。
続いて、全面に矢印すの方向より、赤外線等を照射して
、着色用ベース膜を焼き固める。なお、このとき、マス
クパターン１０５の間に対応する着色用ベース膜１０７
は、すでに黒色に着色されているため、染色されてない
部分の着色用ベース膜１０８に比べて熱線をよく吸収し
、非常に高密度に焼き固められ高重合のゼラチンやカゼ
インになる（第２図Ｃ）。
、着色用ベース膜を焼き固める。なお、このとき、マス
クパターン１０５の間に対応する着色用ベース膜１０７
は、すでに黒色に着色されているため、染色されてない
部分の着色用ベース膜１０８に比べて熱線をよく吸収し
、非常に高密度に焼き固められ高重合のゼラチンやカゼ
インになる（第２図Ｃ）。
その後、前面をよく水洗して着色用ベース膜中の重クロ
ム酸アンモニウム等の感光性付与物質を除去し、再びホ
トレジスト１０３Ｂを塗布し、（このときは、−回目と
異りポジ型、ネガ型、どちらでも良い）、所定のパター
ンを有するホトマスクを用いて露光現像し、第１の着色
部１０８Ｒを開口して、例えば赤色染料で着色する（第
２図Ｄ）。
ム酸アンモニウム等の感光性付与物質を除去し、再びホ
トレジスト１０３Ｂを塗布し、（このときは、−回目と
異りポジ型、ネガ型、どちらでも良い）、所定のパター
ンを有するホトマスクを用いて露光現像し、第１の着色
部１０８Ｒを開口して、例えば赤色染料で着色する（第
２図Ｄ）。
次に、ホトレジスト１０３Ｂを除去し、再びホトレジス
ト１０３Ｃをコートし、他の着色したい部分１０８Ｇを
開口し、例えば緑色に着色する（第２図Ｅ）。
ト１０３Ｃをコートし、他の着色したい部分１０８Ｇを
開口し、例えば緑色に着色する（第２図Ｅ）。
以下、同じような着色工程をくり返して他の部分１０８
ＣＹをシアン色に着色し、最後に表面に透明樹脂よりな
るトップコート層１０９を形成して、色フィルタを完成
する（第２図Ｆ）。
ＣＹをシアン色に着色し、最後に表面に透明樹脂よりな
るトップコート層１０９を形成して、色フィルタを完成
する（第２図Ｆ）。
上述した技術は特公昭６１−３４０２号公報に記載され
ている。
ている。
（ハ）発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上述した色フィルタの製造方法で、着色
用ベース膜に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）を染色する
場合、第２図りの如く、各染色工程に於いてレジストの
塗布、露光現像を繰り返えきなければならないので、製
造工程数が増加し歩留りが低下する欠点があった。
用ベース膜に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）を染色する
場合、第２図りの如く、各染色工程に於いてレジストの
塗布、露光現像を繰り返えきなければならないので、製
造工程数が増加し歩留りが低下する欠点があった。
（＝）問題点を解決するための手段
本発明は上述した点に鑑みてなされたものであり、第１
図Ｂに示す如く、ガラス基板（１）上へ染色基材を塗布
し、露光・現像を行ない所定のフィルタ領域膜（４Ｒ）
（４Ｇ＞（４Ｂ）を形成し、次に第１図Ｃに示す如く、
フィルタ領域膜（４Ｒ）（４Ｇ） （４Ｂ）全面にポジ
型レジスト（３）を塗布し、次に第１図りに示す如く、
ポジ型レジスト（３）上に所定のパターンを有するマス
ク（６）を用いて露光・現像を行ない赤色のフィルタと
なるフィルタ領域膜（４Ｒ）を露出許せ、次に第１図Ｅ
に示す如く、そのフィルタ領域膜（４Ｒ）を染色・固着
処理し、次に第１図Ｆに示す如く、マスク（６）を１ピ
ツチシフトさせ露光・現像し緑色のフィルタとなるフィ
ルタ領域膜（４Ｇ）を露出する。第１図Ｇに示す如く、
その露出したフィルタ領域膜（４Ｇ）を染色・固着処理
し、次に第１図Ｈに示す如く、全面露光して現像した後
、第１図工に示す如く残りのフィルタ領域膜（４Ｂ）を
染色し全面にオーバーコート膜（７〉を塗布して解決す
るものである。
図Ｂに示す如く、ガラス基板（１）上へ染色基材を塗布
し、露光・現像を行ない所定のフィルタ領域膜（４Ｒ）
（４Ｇ＞（４Ｂ）を形成し、次に第１図Ｃに示す如く、
フィルタ領域膜（４Ｒ）（４Ｇ） （４Ｂ）全面にポジ
型レジスト（３）を塗布し、次に第１図りに示す如く、
ポジ型レジスト（３）上に所定のパターンを有するマス
ク（６）を用いて露光・現像を行ない赤色のフィルタと
なるフィルタ領域膜（４Ｒ）を露出許せ、次に第１図Ｅ
に示す如く、そのフィルタ領域膜（４Ｒ）を染色・固着
処理し、次に第１図Ｆに示す如く、マスク（６）を１ピ
ツチシフトさせ露光・現像し緑色のフィルタとなるフィ
ルタ領域膜（４Ｇ）を露出する。第１図Ｇに示す如く、
その露出したフィルタ領域膜（４Ｇ）を染色・固着処理
し、次に第１図Ｈに示す如く、全面露光して現像した後
、第１図工に示す如く残りのフィルタ領域膜（４Ｂ）を
染色し全面にオーバーコート膜（７〉を塗布して解決す
るものである。
（ホ）作用
この様にポジ型レジスト（３）を塗布し、所定マスク（
６）を用いて露光・現像し、露出したフィルタ領域膜（
４Ｒ）を染色・固着処理することにより、そのフィルタ
領域膜（４Ｒ）はレジストで覆わなくともその後の染色
工程で染色されることがなくなるため、最初に塗布した
レジスト（３）を使用して次に染色するフィルタ領域膜
（４Ｇ）を露出することがテキル。従って、レジストの
塗布工程が１回で済むことになる。
６）を用いて露光・現像し、露出したフィルタ領域膜（
４Ｒ）を染色・固着処理することにより、そのフィルタ
領域膜（４Ｒ）はレジストで覆わなくともその後の染色
工程で染色されることがなくなるため、最初に塗布した
レジスト（３）を使用して次に染色するフィルタ領域膜
（４Ｇ）を露出することがテキル。従って、レジストの
塗布工程が１回で済むことになる。
（へ）実施例
以下に図面に示した実施例に基づいて本発明の詳細な説
明する。
明する。
第１図Ａ乃至第１図工は本発明の実施例を示す 。
色フィルタの製造方法である。
先ず第１図Ａに示す如く、ガラス基板（１）上にＣｒ等
の金属を蒸着等の手段で厚さ０．２〜０．３μに形成し
、該金属が格子状に残る様にフォトリソグラフィー技術
を使用してエツチング除去し遮光膜（２）を形成する。
の金属を蒸着等の手段で厚さ０．２〜０．３μに形成し
、該金属が格子状に残る様にフォトリソグラフィー技術
を使用してエツチング除去し遮光膜（２）を形成する。
次に第１図Ｂに示す如く、ガラス基板（１）上に染色基
材（３）、例えば、ゼラチンと重クロム酸アンモンとの
混合薬品又はあらかじめ合成きれた合成染色基材等をロ
ールコート又はスピンコード等を用いて厚さ０，５〜１
．０μに塗布し、乾燥させた後、ガラス基材（１）の裏
面から露光する。すると遮光膜（２）によって光が当ら
ない部分が感光 されないので、その部分が現像時に除
去されて遮光膜（２ン間にフィルタ領域膜（４Ｒ）（４
Ｇ） ＜４Ｂ）が形成される。
材（３）、例えば、ゼラチンと重クロム酸アンモンとの
混合薬品又はあらかじめ合成きれた合成染色基材等をロ
ールコート又はスピンコード等を用いて厚さ０，５〜１
．０μに塗布し、乾燥させた後、ガラス基材（１）の裏
面から露光する。すると遮光膜（２）によって光が当ら
ない部分が感光 されないので、その部分が現像時に除
去されて遮光膜（２ン間にフィルタ領域膜（４Ｒ）（４
Ｇ） ＜４Ｂ）が形成される。
次に第１図Ｃに示す如く、ガラス基板（１）上に形成し
た遮光膜（２）および夫々のフィルタ領域膜（４Ｒ）（
４Ｇ＞（４Ｂ）全面に耐防染性および耐薬品性を有する
ポジ型レジスト（５）を厚さ０．３μに形成する。
た遮光膜（２）および夫々のフィルタ領域膜（４Ｒ）（
４Ｇ＞（４Ｂ）全面に耐防染性および耐薬品性を有する
ポジ型レジスト（５）を厚さ０．３μに形成する。
次に第１図りに示す如く、ポジ型レジスト（５）上にＲ
，Ｇ、Ｂフィルタの配列に対応し、単一色のフィルタに
相当する部分が光を通し、他の部分が遮光するパターン
に形成されたマスク（６）を用いて、例えば赤色のフィ
ルタとなるフィルタ領域膜（４Ｒ）にアライメントした
後、矢印の方向より露光する。それを現像し露光された
レジストを除去し赤色フィルタとなるフィルタ領域膜（
４Ｒ）を露出する。
，Ｇ、Ｂフィルタの配列に対応し、単一色のフィルタに
相当する部分が光を通し、他の部分が遮光するパターン
に形成されたマスク（６）を用いて、例えば赤色のフィ
ルタとなるフィルタ領域膜（４Ｒ）にアライメントした
後、矢印の方向より露光する。それを現像し露光された
レジストを除去し赤色フィルタとなるフィルタ領域膜（
４Ｒ）を露出する。
次に第１図Ｅに示す如く、露出されたフィルタ領域膜（
４Ｒ）に赤色染料を用いて染色する。その後、他の染料
が侵入しない様にファイフィックスＳＬ（犬日本製薬）
等の薬品を用いて、その表面を固着処理する。
４Ｒ）に赤色染料を用いて染色する。その後、他の染料
が侵入しない様にファイフィックスＳＬ（犬日本製薬）
等の薬品を用いて、その表面を固着処理する。
次に第１図Ｆに示す如く、第１図りで使用したマスク（
６）を１ピツチシフトさせて、第１図りと同様に緑色フ
ィルタとなるフィルタ領域膜（４Ｇ）上に残っている未
感光のレジストを露光し現像処理すると露光きれたレジ
ストが除去され、緑色となるフィルタ領域膜（４Ｇ）が
露出される。
６）を１ピツチシフトさせて、第１図りと同様に緑色フ
ィルタとなるフィルタ領域膜（４Ｇ）上に残っている未
感光のレジストを露光し現像処理すると露光きれたレジ
ストが除去され、緑色となるフィルタ領域膜（４Ｇ）が
露出される。
次に第１図Ｇに示す如く、露出したフィルタ領域膜（４
Ｇ）に緑色染料を用いて染色する。この時、赤色に染色
されたフィルタは第１図Ｅによって固着処理きれている
ために緑の染料は侵入しない。
Ｇ）に緑色染料を用いて染色する。この時、赤色に染色
されたフィルタは第１図Ｅによって固着処理きれている
ために緑の染料は侵入しない。
緑色の染色後、フィルタ領域膜（４Ｇ）上に固着処理す
る。
る。
次に第１図Ｈに示す如く、残りのフィルタ領域膜（４Ｂ
）のレジストを露光して現像除去し青色が染色されるべ
きフィルタ領域膜（４Ｂ）を露出する。
）のレジストを露光して現像除去し青色が染色されるべ
きフィルタ領域膜（４Ｂ）を露出する。
最後に第１図工に示す如く、フィルタ領域膜（４Ｂ）に
青色染料を用いて染色する。この場合にも赤と緑に染色
されたフィルタ領域膜（４Ｒ） （４Ｇ）には固着処理
が施されているため青の染料は侵入しない。その後、ガ
ラス基板（１）全面に高分子材料からなる材料を用いて
厚さ０．３〜０．４μのオーバーコート膜（７）を形成
する。
青色染料を用いて染色する。この場合にも赤と緑に染色
されたフィルタ領域膜（４Ｒ） （４Ｇ）には固着処理
が施されているため青の染料は侵入しない。その後、ガ
ラス基板（１）全面に高分子材料からなる材料を用いて
厚さ０．３〜０．４μのオーバーコート膜（７）を形成
する。
斯る本発明によれば、ポジ型レジストを塗布し所定のマ
スクを用いて露光・現像し、露出したフィルタ領域膜を
染色・固着処理することにより、そのフィルタ領域膜は
レジストで覆わなくともその後の染色工程で染色される
ことがなくなるために最初に塗布したレジストを使用し
て次に染色するフィルタ領域膜を露出することができる
ので、−回のレジスト塗布工程でＲ，Ｇ、Ｂの染色が行
なえ、従来の様に各Ｒ，Ｇ、Ｂ毎にレジスト塗布工程を
必要としないので、製造工程数を減少させることができ
る。それによって歩留が向上し低価格のフィルタが提供
できる。
スクを用いて露光・現像し、露出したフィルタ領域膜を
染色・固着処理することにより、そのフィルタ領域膜は
レジストで覆わなくともその後の染色工程で染色される
ことがなくなるために最初に塗布したレジストを使用し
て次に染色するフィルタ領域膜を露出することができる
ので、−回のレジスト塗布工程でＲ，Ｇ、Ｂの染色が行
なえ、従来の様に各Ｒ，Ｇ、Ｂ毎にレジスト塗布工程を
必要としないので、製造工程数を減少させることができ
る。それによって歩留が向上し低価格のフィルタが提供
できる。
（ト）発明の効果
上述の如く、本発明によれば、１回のレジスト塗布工程
でＲ，Ｇ、Ｂ夫々の色を染色できるために、製造工程数
を減少することができ、歩留が向上し、且つ、低価格の
色フィルタが提供できる利点を有する。
でＲ，Ｇ、Ｂ夫々の色を染色できるために、製造工程数
を減少することができ、歩留が向上し、且つ、低価格の
色フィルタが提供できる利点を有する。
第１図Ａ乃至第１図工は本発明の実施例を示す製造工程
断面図、第２図Ａ乃至第２図Ｆは従来例を示す製造工程
断面図である。 （１）・・・ガラス基板、 （２）・・・遮光膜、 （
３）・・・ネガ型レジスト、（４Ｒ）（４Ｇ）（４Ｂ＞
・・・フィルタ領域膜、（６）・・・マスク、＜７）・
・・オーバーコート膜。 出願人 三洋電機株式会社外１名 代理人 弁理士 西野卓嗣 外１名 第１閃Ａ 第１図Ｂ ↑ ｔ ↑ ↑ ↑ ↑ ↑ ↑ ↑ ↑第１図Ｃ 第１図り 第１図Ｅ 第１図Ｆ 第１図Ｇ Ｍ１図Ｈ 嬉 １ｒ：ｔＪＩ 第２閃Ａ 第２図Ｂ 第２図Ｃ
断面図、第２図Ａ乃至第２図Ｆは従来例を示す製造工程
断面図である。 （１）・・・ガラス基板、 （２）・・・遮光膜、 （
３）・・・ネガ型レジスト、（４Ｒ）（４Ｇ）（４Ｂ＞
・・・フィルタ領域膜、（６）・・・マスク、＜７）・
・・オーバーコート膜。 出願人 三洋電機株式会社外１名 代理人 弁理士 西野卓嗣 外１名 第１閃Ａ 第１図Ｂ ↑ ｔ ↑ ↑ ↑ ↑ ↑ ↑ ↑ ↑第１図Ｃ 第１図り 第１図Ｅ 第１図Ｆ 第１図Ｇ Ｍ１図Ｈ 嬉 １ｒ：ｔＪＩ 第２閃Ａ 第２図Ｂ 第２図Ｃ
Claims (1)
- （１）ガラス基板上へ染色基材を塗布し、露光・現像を
行ない所定のフィルタ領域膜を形成する工程と、該フィ
ルタ領域膜全面にポジ型レジストを塗布する工程と、該
ポジ型レジスト上に所定のパターンを有するマスクを用
いて露光・現像を行ない前記所定のパターン状に前記フ
ィルタ領域膜を露出する工程と、該フィルタ領域膜を染
色・固着処理する工程と、前記マスクを移動させ露光・
現像した後、隣接する前記フィルタ領域膜を染色・固着
処理する工程と、残りの前記フィルタ領域膜を露出した
後、染色する工程とを具備することを特徴とする色フィ
ルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61060016A JPS62215901A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 色フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61060016A JPS62215901A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 色フイルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62215901A true JPS62215901A (ja) | 1987-09-22 |
Family
ID=13129841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61060016A Pending JPS62215901A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | 色フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62215901A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01201605A (ja) * | 1988-02-08 | 1989-08-14 | Seiko Epson Corp | カラーフィルターの製造方法 |
| JPH02115803A (ja) * | 1988-10-25 | 1990-04-27 | Canon Inc | カラーフィルターの製法及び電極基板の製法 |
-
1986
- 1986-03-18 JP JP61060016A patent/JPS62215901A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01201605A (ja) * | 1988-02-08 | 1989-08-14 | Seiko Epson Corp | カラーフィルターの製造方法 |
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