JPS5950411A - 色フイルタの製造方法 - Google Patents
色フイルタの製造方法Info
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- JPS5950411A JPS5950411A JP57162574A JP16257482A JPS5950411A JP S5950411 A JPS5950411 A JP S5950411A JP 57162574 A JP57162574 A JP 57162574A JP 16257482 A JP16257482 A JP 16257482A JP S5950411 A JPS5950411 A JP S5950411A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、カラーテレビカメラの撮像デバイス等に使用
する色フィルタの製造方法に関するものである。
する色フィルタの製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来、有機色フィルタの製造方法には、大きくわけて2
つの方法がある。
つの方法がある。
まず、第1の製造方法は、第1図(A)〜(D)に示す
ような方法が一般的に用いられていた。すなわち、光学
研磨を施したガラス基板1上に、ポリビニルアルコール
、グリユー、ゼラチン、カゼイン等に、重クロム酸アン
モン等で感光性を付与した感光液を、ローラーコート、
デイツピンク、スピンナー等で、均一に塗布し、乾燥し
た後マスク露光法−ご1色目のパターン部分だけ光硬化
させ、現像して必要なパターン以外を除去して染色ベー
ス膜2を形成した後に、所定の分光特性を有する染料で
ベース膜2を染色して1色目のパターンを染色する。
ような方法が一般的に用いられていた。すなわち、光学
研磨を施したガラス基板1上に、ポリビニルアルコール
、グリユー、ゼラチン、カゼイン等に、重クロム酸アン
モン等で感光性を付与した感光液を、ローラーコート、
デイツピンク、スピンナー等で、均一に塗布し、乾燥し
た後マスク露光法−ご1色目のパターン部分だけ光硬化
させ、現像して必要なパターン以外を除去して染色ベー
ス膜2を形成した後に、所定の分光特性を有する染料で
ベース膜2を染色して1色目のパターンを染色する。
次に染料で染色されることのない透明な防染膜3を全面
に塗布する(第1図(A))。
に塗布する(第1図(A))。
次に、同様にして第1図(B)に示すように前記と同じ
感光液を均一に塗布し、乾燥した後マスク露光法で露光
現像して、2色目の染色ベース膜4を形成後所定の分光
特性を有する第2の染料で染色する。さらに、前記透明
な防染膜5を全面に塗布する。
感光液を均一に塗布し、乾燥した後マスク露光法で露光
現像して、2色目の染色ベース膜4を形成後所定の分光
特性を有する第2の染料で染色する。さらに、前記透明
な防染膜5を全面に塗布する。
次に同様にして、第1図(C)に示すように、前記と同
じ感光液を均一に塗布し、乾燥した後、マスク露光法で
露光現像して、3色目の染色ベース膜6を形成し、所定
の分光特性を存する第3の染料で染色する。
じ感光液を均一に塗布し、乾燥した後、マスク露光法で
露光現像して、3色目の染色ベース膜6を形成し、所定
の分光特性を存する第3の染料で染色する。
最後に、トップコート7を塗布して、第1図(D)に示
すような色フィルりが製造される。第1図(A)〜(C
)は第1図(D)のx −x’線工程断面図である。
すような色フィルりが製造される。第1図(A)〜(C
)は第1図(D)のx −x’線工程断面図である。
しかしながら、このような色フィルりの方法では、−色
目の染色ベース膜2と2色目の染色ベース膜4と3色目
の染色ベース膜6を形成する場合、それぞれ基板条件が
異っている。すなわち、第1図(C)に示すように、1
色目の染色ベース膜2は、ガラス基板1」−に直接形成
されているが、2色目の染色ベース膜4は、防染膜3上
に形成されており、3色目の染色ベース膜6は、防染膜
3と5上に形成されている。
目の染色ベース膜2と2色目の染色ベース膜4と3色目
の染色ベース膜6を形成する場合、それぞれ基板条件が
異っている。すなわち、第1図(C)に示すように、1
色目の染色ベース膜2は、ガラス基板1」−に直接形成
されているが、2色目の染色ベース膜4は、防染膜3上
に形成されており、3色目の染色ベース膜6は、防染膜
3と5上に形成されている。
1方、感光液の密着力が、ガラス基板1と防染膜3.5
で異る。従ってガラス基板に密着力の良い感光液を使用
すると防染膜の界面で剥離が牛じやすく、このような従
来の色フィルりの製造方法では、剥離不良が多量に発生
している。さらにまた、防染膜3,5が存在するため、
1.2.3色目の染色ベース膜にそれぞれ段差があり、
2色目3色目と形成して行くに従って、パターンの解像
度が器くなる。すなわち、2色目、3色目の染色ベース
膜のパターンがボケる等の欠点があった。
で異る。従ってガラス基板に密着力の良い感光液を使用
すると防染膜の界面で剥離が牛じやすく、このような従
来の色フィルりの製造方法では、剥離不良が多量に発生
している。さらにまた、防染膜3,5が存在するため、
1.2.3色目の染色ベース膜にそれぞれ段差があり、
2色目3色目と形成して行くに従って、パターンの解像
度が器くなる。すなわち、2色目、3色目の染色ベース
膜のパターンがボケる等の欠点があった。
一方、第2の製造方法として、第2図(A)〜(P)に
示す方法がある。まず、第2図(A)に示すり[1<光
透過性のガラス基板21の上にストライプ状に光遮蔽パ
ターン、例えばOr (クロム)等の蒸着膜で作った金
属層2Qを形成する。ここで金属膜は固体撮像素子のホ
トダイオード部以外に光ノイズが入るのを防ぐために遮
光膜として用いている。
示す方法がある。まず、第2図(A)に示すり[1<光
透過性のガラス基板21の上にストライプ状に光遮蔽パ
ターン、例えばOr (クロム)等の蒸着膜で作った金
属層2Qを形成する。ここで金属膜は固体撮像素子のホ
トダイオード部以外に光ノイズが入るのを防ぐために遮
光膜として用いている。
次に第2図(B)に示す如くガラス基板21の上に染色
ベース膜22(以下、樹脂膜という)を厚さ3〜6μに
形成する。
ベース膜22(以下、樹脂膜という)を厚さ3〜6μに
形成する。
次に第2図(C)に示す如く樹脂膜22の−Fに防染膜
例えばスピンナーを用いてフォトレジスト23(側光ば
)L/−社AZ1350J )i6oooA程W ti
被覆j〜、60〜75℃で5〜10分間乾燥する。
例えばスピンナーを用いてフォトレジスト23(側光ば
)L/−社AZ1350J )i6oooA程W ti
被覆j〜、60〜75℃で5〜10分間乾燥する。
次に第2図(D)に示すように乳剤又はOr等で形成さ
れた所定のパターンのマスク24を有fるガラス板25
を載置し、水銀灯で光26を照射する。
れた所定のパターンのマスク24を有fるガラス板25
を載置し、水銀灯で光26を照射する。
次に露光したフォトレジスト23を現像する。
現像の結果、この例ではボン形であるため、感光部分が
溶解し去り、第2図(E)に示す如く未感光部分即ち防
染膜マスク27と溶解部分即ち非マスク部分28とが選
択的に形成される。防染膜マスク27は次の工程で染料
の浸透を防ぐものでなければならない。
溶解し去り、第2図(E)に示す如く未感光部分即ち防
染膜マスク27と溶解部分即ち非マスク部分28とが選
択的に形成される。防染膜マスク27は次の工程で染料
の浸透を防ぐものでなければならない。
次に防染膜マスク27で選択的に覆った樹脂膜22を染
料例えばコンゴーレッドに30〜40秒間浸し、非マス
ク部分28を介して赤色に着色する。そして第2図(F
)に示す如く樹脂膜22に赤着色領域22Rを形成する
。
料例えばコンゴーレッドに30〜40秒間浸し、非マス
ク部分28を介して赤色に着色する。そして第2図(F
)に示す如く樹脂膜22に赤着色領域22Rを形成する
。
次に第2図(G)に示す如く再び樹脂膜22の上にフォ
トレジスト29の被覆を形成する。
トレジスト29の被覆を形成する。
次に第2図(H′)に示す如く前述のマスク24と(は
異なるパターンのマスク31を具備したガラス板31を
フォトレジスト29の上に載せ、水銀灯で光26′!!
l−照射する。
異なるパターンのマスク31を具備したガラス板31を
フォトレジスト29の上に載せ、水銀灯で光26′!!
l−照射する。
次に露光したフォトレジスト26を現像することによっ
て、第2図(I) K示す如く、感光部分を溶解し去り
、未感光部分を残す。即ち防染膜マスク32と非マスク
部分33とを形成する。
て、第2図(I) K示す如く、感光部分を溶解し去り
、未感光部分を残す。即ち防染膜マスク32と非マスク
部分33とを形成する。
次に防染膜マスク32で染択的に覆った樹脂膜22を染
料例えばスミノールイエロウとパテントゾル−との混合
液に30〜40秒間浸し、非マスク部分33を介して緑
色に染色する。そして第2図(J)に示す如く、赤着色
領域22Hに隣接せしめて緑着色領域22Gを形成する
。
料例えばスミノールイエロウとパテントゾル−との混合
液に30〜40秒間浸し、非マスク部分33を介して緑
色に染色する。そして第2図(J)に示す如く、赤着色
領域22Hに隣接せしめて緑着色領域22Gを形成する
。
次に、再び第2図(K)に示す如く、れ”I゛[脂膜2
2の上に)d、 )レシス+−34f:塗布する。
2の上に)d、 )レシス+−34f:塗布する。
次いで第2図(L) K示す如く、前述のマスク24゜
30とは異なるパターンのマスク35を具1ftしたガ
ラス板36をフォトレジスト34の上に載置し。
30とは異なるパターンのマスク35を具1ftしたガ
ラス板36をフォトレジスト34の上に載置し。
水銀灯から光26を照射する。
次にこfLを現像し、第2図凹に示す如く、感光部分を
除去し、未感光部分のみを残す。即ち防染膜マスク37
と非マスク部分38とを形成する。
除去し、未感光部分のみを残す。即ち防染膜マスク37
と非マスク部分38とを形成する。
次に防染膜マスク37で選択的に覆われた樹脂膜22を
染料例えばタイヤコツトンブルーに浸し、第2図(N)
に示す〃11〈青着色領域22Bi形成する。
染料例えばタイヤコツトンブルーに浸し、第2図(N)
に示す〃11〈青着色領域22Bi形成する。
しかる後防染膜マスク37を取り去り第2図(0)及び
第2図(p)に示す如き色フィルり、即ち赤着色領域2
2Rと緑着色領域22Gと青着色領域22Bとを有する
色フィルり39とする。
第2図(p)に示す如き色フィルり、即ち赤着色領域2
2Rと緑着色領域22Gと青着色領域22Bとを有する
色フィルり39とする。
しかしながら、この第2の製造方法では、染色時に染料
が1黄方向に広がるのを完全に阻止できず、境界部に形
成された金属層20の幅が2〜3μmで、染色ベース膜
厚が1μm以上となると、もはや、隣の色との混色51
が生じてしまい、フィルりとしての光学特性が劣化する
欠点があった。
が1黄方向に広がるのを完全に阻止できず、境界部に形
成された金属層20の幅が2〜3μmで、染色ベース膜
厚が1μm以上となると、もはや、隣の色との混色51
が生じてしまい、フィルりとしての光学特性が劣化する
欠点があった。
発明の目的
本発明は、以上述べてきた従来法の欠点を除去するため
になされたものであり、しかも、着色層が同一厚みで、
各色間で段差の無い色フィルりの製造方法を提供するこ
とを目的とする。
になされたものであり、しかも、着色層が同一厚みで、
各色間で段差の無い色フィルりの製造方法を提供するこ
とを目的とする。
発明の構成
さらに詳しくは、色分離領域をあらかじめ黒色に着色し
て遮光領域となし、その後、全面に熱線全照射して熱線
の吸収の良い前記黒色に着色した部分の着色用ベース膜
を焼き固めて高重合色分離領域となし、後工程である着
色工程で着色剤がこの色分離領域を越えて横方向へ拡散
することを防止したことを特徴とする色フィルりの製造
方法を提供するものである。
て遮光領域となし、その後、全面に熱線全照射して熱線
の吸収の良い前記黒色に着色した部分の着色用ベース膜
を焼き固めて高重合色分離領域となし、後工程である着
色工程で着色剤がこの色分離領域を越えて横方向へ拡散
することを防止したことを特徴とする色フィルりの製造
方法を提供するものである。
実施例の説明
以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
まず、あらかじめ、第3図(A)に示すように固体撮像
素子またはガラス板よりなる基板101上に、全面着色
用ベース膜102をコートする。
素子またはガラス板よりなる基板101上に、全面着色
用ベース膜102をコートする。
次に、ポジ型ホトレジスト〔例えばAZ1360J(シ
プレー社)等)103をコートして、所定のパターンを
有するホトマスク104を用いてアライメント後、矢印
aの方向より露光して現像し、遮光領域形成部に和尚す
る部分106のレジストを除去する。なお、ここで、1
05は遮光領域形成部以外を覆うOr等のマスクパター
ンを示す。
プレー社)等)103をコートして、所定のパターンを
有するホトマスク104を用いてアライメント後、矢印
aの方向より露光して現像し、遮光領域形成部に和尚す
る部分106のレジストを除去する。なお、ここで、1
05は遮光領域形成部以外を覆うOr等のマスクパター
ンを示す。
また、着色用ベース膜102は重クロム酸アルモニウム
等で感光性をイ」与したゼラチンやカゼインを用いてお
くと、ポジ型レジスト露光の際、レジメト開口部下部の
着色用ベース膜も露光・硬化さil−る。
等で感光性をイ」与したゼラチンやカゼインを用いてお
くと、ポジ型レジスト露光の際、レジメト開口部下部の
着色用ベース膜も露光・硬化さil−る。
続いて、前記ホトレジスト開口部の着色用ベース膜10
7を黒色の酸性染料を用いて着色して遮光領域とし、さ
らに、トリクレン等の溶剤で残されたホトレジストパタ
ーン1o3A’を除去する(第3図B)。
7を黒色の酸性染料を用いて着色して遮光領域とし、さ
らに、トリクレン等の溶剤で残されたホトレジストパタ
ーン1o3A’を除去する(第3図B)。
続いて、全面に矢印すの方向より、赤外線等を照射して
、着色用ベース膜を焼き固める。なお、このとき、マス
クパターン105の間に対応する着色用ベース膜107
は、すでに黒色に着色されているため、染色されてない
部分の着色用ベース膜iosに比べて熱線をよく吸収し
、非常に高密度に焼き固められ高重合のセラチンやカゼ
インになる。〔第3図C〕。
、着色用ベース膜を焼き固める。なお、このとき、マス
クパターン105の間に対応する着色用ベース膜107
は、すでに黒色に着色されているため、染色されてない
部分の着色用ベース膜iosに比べて熱線をよく吸収し
、非常に高密度に焼き固められ高重合のセラチンやカゼ
インになる。〔第3図C〕。
その後、前面をよく水洗して着色用ベース膜中(7)l
iクロム酸アンモニウム等の感光件伺与物質を除去し、
再びホトレジスト103Bを倹布し、(このときは、−
回目と異リボン型、ネガ型、どちらでも良い)、所定の
パターンを有するホトマスクを用いて露光現像し、第1
の着色部108Rを開口して、例えば赤色染料で着色す
る(第3図D)。
iクロム酸アンモニウム等の感光件伺与物質を除去し、
再びホトレジスト103Bを倹布し、(このときは、−
回目と異リボン型、ネガ型、どちらでも良い)、所定の
パターンを有するホトマスクを用いて露光現像し、第1
の着色部108Rを開口して、例えば赤色染料で着色す
る(第3図D)。
次に、ホトレシスl−1038’i除去し、再びホトレ
ジスト103Cをコートし、他の着色したい部分108
Gを開口し、例えば緑色に着色する(第3図E)。
ジスト103Cをコートし、他の着色したい部分108
Gを開口し、例えば緑色に着色する(第3図E)。
以下、同じような着色日程をくり返して他の部分108
0Yをシアン色に着色l−1最後に表面に透明樹脂より
なるトップコート層109を形成しで、色フィルりを完
成する(第3図F)。
0Yをシアン色に着色l−1最後に表面に透明樹脂より
なるトップコート層109を形成しで、色フィルりを完
成する(第3図F)。
ナオ、以上の実施例で述べてきた工程中、ホトレシスト
ハターン103A’i除去する前に、硬膜前例えばホル
マリンやタンニン酸あるいは石炭酸等の水溶液に浸漬し
、ゼラチンやカセインヲ硬膜化させた後、レジストを除
去する工程を入れるとさらに良い結果が得られた。また
、これら薬品による硬膜化処理工程を行った後、赤外線
による焼き固め工程を行なわなくても、着色剤し横方向
へのにじみを防止する効果はある程度得られた。
ハターン103A’i除去する前に、硬膜前例えばホル
マリンやタンニン酸あるいは石炭酸等の水溶液に浸漬し
、ゼラチンやカセインヲ硬膜化させた後、レジストを除
去する工程を入れるとさらに良い結果が得られた。また
、これら薬品による硬膜化処理工程を行った後、赤外線
による焼き固め工程を行なわなくても、着色剤し横方向
へのにじみを防止する効果はある程度得られた。
発明の効果
以上述べてきた、本発明の色フィルりの製造方法による
と、あらかじめ、色分離領域すなわち遮光領域として黒
色に着色した着色用ベース膜を熱線で焼き固めるため、
全面に着色用ベース膜をコートしてあっても、マスクを
用いることなく、全面に熱線を照射し、遮光領域すなわ
ち色分離領域の着色用ヘース膜を選択的に焼き固めて高
重合化することができる。従ってこの部分を境界とする
隣すのパターン間での着色剤の拡散を防止できる。
と、あらかじめ、色分離領域すなわち遮光領域として黒
色に着色した着色用ベース膜を熱線で焼き固めるため、
全面に着色用ベース膜をコートしてあっても、マスクを
用いることなく、全面に熱線を照射し、遮光領域すなわ
ち色分離領域の着色用ヘース膜を選択的に焼き固めて高
重合化することができる。従ってこの部分を境界とする
隣すのパターン間での着色剤の拡散を防止できる。
一方、色フィルりとして用いる着色領域の着色用ベース
膜は、黒色でないため、熱線を前者程吸収せず、それほ
ど焼き固められることがなく、色フィルりとして必要と
する濃度に十分着色することができる。
膜は、黒色でないため、熱線を前者程吸収せず、それほ
ど焼き固められることがなく、色フィルりとして必要と
する濃度に十分着色することができる。
従って、以上の方法を用いることにより、従来のような
金属膜による遮光パターンを必要とせずまた、色分離領
域での着色用ベース膜を除去することをしなくても着色
剤の隣りのパターンへ拡散を防止することができ、る。
金属膜による遮光パターンを必要とせずまた、色分離領
域での着色用ベース膜を除去することをしなくても着色
剤の隣りのパターンへ拡散を防止することができ、る。
しかも、遮光機能と色分離機能を同じ異色に着色した着
色用ベース膜で兼ねるため工数が少く、かつアライメン
ト誤差の少い高me な色フィルり全製造することがで
きる。
色用ベース膜で兼ねるため工数が少く、かつアライメン
ト誤差の少い高me な色フィルり全製造することがで
きる。
第1図(A)〜(C’) 、 (D)は従来より用いら
れている色フィルりの製造方法を説明するための工程断
面図、上面図、第2図(A)〜(0)、(P)は従来の
他の色フィルりの製造工程断面図、平面図、第3図(A
)〜(F)は本発明の一実施例にががる色フィルタの製
造方法を説明するための工程断面図である。 101・・・・・基板、102,107.j08・・・
・・着色用ベース膜、103・・・・・・ポトレシス)
、108Rt、1 os(It 、 1oscY・==
・着色!。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名−4
: 第254 20 第2図 り2f3 ’lンR?ンQ 22
f3第 3 図 a o6 第 3 図
れている色フィルりの製造方法を説明するための工程断
面図、上面図、第2図(A)〜(0)、(P)は従来の
他の色フィルりの製造工程断面図、平面図、第3図(A
)〜(F)は本発明の一実施例にががる色フィルタの製
造方法を説明するための工程断面図である。 101・・・・・基板、102,107.j08・・・
・・着色用ベース膜、103・・・・・・ポトレシス)
、108Rt、1 os(It 、 1oscY・==
・着色!。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名−4
: 第254 20 第2図 り2f3 ’lンR?ンQ 22
f3第 3 図 a o6 第 3 図
Claims (2)
- (1)基板上へ着色用ベースを塗布する工程と、前記着
色用ベース上へ防着色相ホトレジストを塗布し、所定の
パターンを有するホトマスクを用いて露ソC・現像を行
ない、前記所定のパターン状に着色用ベース全露出する
工程と、前記着色用ベースの露出部を黒色に着色し前記
ホトレジストの残部を除去した後、さらに、熱線を全面
に照射して黒色に着色した部分を焼き固める工程と、前
記黒色に着色した部分以外の着色用へ一スを、それぞれ
任、はの着色剤で所定の色に着色外けしてゆく工程とを
含むこと全特徴とする色フィルタの製造方法。 - (2)基板上へ着色用ベースを塗布する工程と、前記着
色用ベース上へ防着缶用ホトレジストヲ塗布し、所定の
パターンを有するホトマスクを用いて露光・現像を行な
い、前記所定のパターン状に着色用ベースを露出する工
程と、前記着色用ベースの露出部を黒色に着色した後硬
膜材で処理する工程と、前記ホトレジストの残部を除去
した後、前記黒色に着色した部分以外の着色用ベースを
、それぞれ任意の着色剤で所定の色に着色別けしてゆく
工程を含むことを特徴とした色フィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57162574A JPS5950411A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | 色フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57162574A JPS5950411A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | 色フイルタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5950411A true JPS5950411A (ja) | 1984-03-23 |
JPS613402B2 JPS613402B2 (ja) | 1986-02-01 |
Family
ID=15757169
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57162574A Granted JPS5950411A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | 色フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5950411A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6214105A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
WO2007123712A1 (en) * | 2006-04-07 | 2007-11-01 | Micron Technology, Inc. | Method for fabricating of sidewall spacer separating color filters and a corresponding image sensor |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5217375A (en) * | 1975-07-21 | 1977-02-09 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Membrane separating apparatus |
JPS5246099A (en) * | 1975-10-07 | 1977-04-12 | Warner Lambert Co | Production of pyridd*2*11b** quinazolineeone |
JPS53658A (en) * | 1976-06-22 | 1978-01-06 | Unitika Ltd | Method of removing soluted oxygen |
JPS5525068A (en) * | 1978-08-12 | 1980-02-22 | Dainippon Printing Co Ltd | Surface modifying method of organic color filter |
-
1982
- 1982-09-17 JP JP57162574A patent/JPS5950411A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5217375A (en) * | 1975-07-21 | 1977-02-09 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Membrane separating apparatus |
JPS5246099A (en) * | 1975-10-07 | 1977-04-12 | Warner Lambert Co | Production of pyridd*2*11b** quinazolineeone |
JPS53658A (en) * | 1976-06-22 | 1978-01-06 | Unitika Ltd | Method of removing soluted oxygen |
JPS5525068A (en) * | 1978-08-12 | 1980-02-22 | Dainippon Printing Co Ltd | Surface modifying method of organic color filter |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6214105A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
WO2007123712A1 (en) * | 2006-04-07 | 2007-11-01 | Micron Technology, Inc. | Method for fabricating of sidewall spacer separating color filters and a corresponding image sensor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS613402B2 (ja) | 1986-02-01 |
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