JPS62234103A - ポリイミド樹脂パタ−ンの形成方法 - Google Patents

ポリイミド樹脂パタ−ンの形成方法

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JPS62234103A
JPS62234103A JP61078026A JP7802686A JPS62234103A JP S62234103 A JPS62234103 A JP S62234103A JP 61078026 A JP61078026 A JP 61078026A JP 7802686 A JP7802686 A JP 7802686A JP S62234103 A JPS62234103 A JP S62234103A
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JP
Japan
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polyimide resin
pattern
resin pattern
forming
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JP61078026A
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Masayoshi Shimamura
正義 島村
Yoshihiro Yamamoto
山本 吉広
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Kyodo Printing Co Ltd
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Kyodo Printing Co Ltd
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  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (I¥f業上の利用分野) この発明は、ポリイミド樹脂を主成分としたポリイミド
樹脂パターンを形成する技術、特に、そのポリイミド樹
脂パターンの上に別の層を形成する場合に好適な技術に
関するものである。
(従来の技術) ポリイミド樹脂は、耐熱性、耐薬品性あるいは耐光性な
どの種々の耐性にすぐれており、従来から、保護被膜、
あるいはパターン形成材料として多くの分野で用いられ
ている。これを主成分としたポリイミド樹脂パターンを
得る場合、たとえば。
ポリイミド前駆体を含む塗布溶液が用意され、まず、回
転塗布法あるいはロールコータを用いる方法などによっ
て塗布被膜が形成され、ついで、フォトリングラフィ技
術などによって所定のパターンニングが施される。そし
て、パターンニングされたポリイミド樹脂パターンは、
その後、熱処理することによって硬化処理される。
以上については、たとえば、特開昭58−46326号
あるいは同60−237403号の各公報に記載されて
いる。
(発明が解決しようとする問題点) ところで1本発明者等の検討によると、硬化のだめの熱
処理を終えたポリイミド樹脂パターン10は、第3図に
示すように、その周縁部に角張った突起10aが生じる
傾向があり、そのために。
パターンの周縁部が欠けやすく、しかもまた、パターン
10の上に別の層を形成する際に不都合、たとえば、パ
ターンニングのための別の塗布被膜を均一に塗布するこ
とが困難であり、あるいは電極配線パターンにクラック
、ゆがみ等を生じたりするという問題があることが判明
した。
特に、こうした問題は、基体の一面に多数のポリイミド
樹脂パターンが配置されるような場合、たとえば、ガラ
ス基板上に、赤、緑、青のフィルタ画素をポリイミド樹
脂を主成分とした材料によってモザイク状に配置するカ
ラーフィルタを製造するような場合にはより一層顕著で
ある。
(問題点を解決するための手段) この発明では、前記した各問題を解決するために前記突
起10aを除去することに着目し、次のような手段を採
る。
すなわち、面記硬化のための熱処理に先立ち、前記ポリ
イミド樹脂パターンの周縁部分を、エツジ部分からパタ
ーンの内側に向かうにつれてその膜厚が漸次厚くなるよ
うになだらかに形成しておく方法である。その方法の具
体例としては、ポリイミド樹脂パターンをエツチングす
る際に過剰にサイドエツチングする方法を利用するのが
好適である。
(作用) ポリイミド樹脂はエツチング特性に優れており、パター
ンニングを終えた段階のパターン10の端面101は、
第1図(a)に鎖線で示すように、かなり急に切り立ち
、上面102との間で角部10bを形成している。こう
したパータン10を熱処理することによって硬化すると
、パターン中の残留溶媒あるいは生成する水分が逃げ出
すため、パターン10は全体的に収縮する。その時、前
記角部1ON)の部分が優先的に硬化する結果、^「記
した角張った突起10aを生じていたと考えられる。
しかし、この発明では、同じ第1図(a)に実線で示す
ように角部10bのないなだらがなパターン形状として
いる。そのため、パターン1oは熱処理によって収縮す
ることは収縮するが、硬化処理後も第1図(b)に示す
ように周縁部103はなだらかな形状を呈している。し
たがって、ポリイミド樹脂パターン1oの上に上層パタ
ーン12を無理なく形成することができるようになる。
(実施例) 第2図は、この発明を適用することによって得た液晶カ
ラー表示装置のカラーフィルタの断面図である。カラー
フィルタ2oは、透明なガラス基板22の一面に、多数
のフィルタ画素形成領域を区画するように格子状にパタ
ーン形成された黒色の遮光パターン24と、周縁部がそ
の遮光パターン24の上に重なり、前記フィルタ画素形
成領域を埋めるようにパターン形成された、赤、緑、青
の多数のフィルタ画素26,28.30とを備えている
。そうしたカラーフィルタ2oを次のようにして製造し
た。
まず、ガラス基板22上に黒色の塗布溶液をスピンナー
で1100Orpで90秒間回転塗布し、黒色の塗布被
膜を形成した後、その塗布被膜を150℃で30分間乾
燥処理する。ついで、その上にポジ型フォトレジストを
300Orpm、30秒間回転塗布し、110℃で30
分間乾燥処理する。これを紫外線露光装置により、フォ
トマスクを介して露光した後、0.2規定の水酸化ナト
リウム水溶液で現像゛し、同時に黒色の塗布被膜のエツ
チングも行なう、この際、サイドエツチングが生じるよ
う、過剰に現像液に浸す。それによって、パターンの周
縁部をなだらかな形状とする。
その後、ポジ型フォトレジストの未露光部をセロソルブ
アセテートで剥離し、250℃、60分間加熱焼成して
格子状の遮光パターン24を形成する。以後、同様にし
て赤色のフィルタ画素26、緑色のフィルタ画素28、
青色のフィルタ画素30を順次形成する。なお、図示は
してないが、各パターンを形成した後、やはり回転塗布
法によって、最上層に保護膜を形成し、その上に透明な
導電パターンを形成する。保i!!膜を省略することも
できる。
ここで、各々の塗布溶液の組成を以下に示す。
(黒色用) ソルベント ブラック 3      1. OKポリ
イミド前駆体溶液 (東し株式会社製、セミコファイン)5.0gメチルセ
ロソルブ         15.0g(赤色用) アシッド レッド 257      0.5gポリイ
ミド前駆体溶液 (東し株式会社製、セミコファイン)5.0gメチルセ
ロソルブ         8.5g(緑色用) ソルベントイエロー77     0.5gアシッドブ
ルーフ         0.15gポリイミド前駆体
溶液 (東し株式会社製、セミコファイン)5.0gメチルセ
ロソルブ         8.5g(青色用) ソルベント ブルー42     0.5gポリイミド
前駆体溶液 (東し株式会社製、セミコファイン)5.0gメチルセ
ロソルブ          8.5g(保護膜層用) ポリイミド前駆体溶液 (東し株式会社製、セミコファイ°ン)5.’Ogメチ
ルセロソルブ          7.5g(発明の効
果) この発明では、硬化のための熱処理に先立ち、ポリイミ
ド樹脂パターンの周縁部分を、エツジ部分からパターン
の内側に向かうにつれてその膜厚が漸次厚くなるように
なだらかに形成するようにしているため、熱処理後のパ
ターンの周縁部に突起が生じるのを有効に防止すること
ができ、表面性の良いパターンとし、その上に別の塗布
被膜を少ない塗布液量によって均一に形成すること、さ
らには、導電性の電極配線パターンをクラック等を生じ
ることなく確実に形成することができる。
なお、こうした効果は、基体の一面に多数のパターンを
有するカラーフィルタ、その中でも前記した実施例のよ
うに、パターン間に重なりがあるもの、あるいは各色の
フィルタ画素に膜厚差を設けるマルチギャップ型のもの
において特に顕著である。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)および(b)はこの発明を説明するための
断面図、第2図はこの発明を適用することにより製造し
たカラーフィルタの一実施例を示す断面図、第3図は従
来の問題点を説明するための断面図である。 10・・・ポリイミド樹脂パターン、12・・・上層パ
ターン、20・・・カラーフィルタ、22・・・ガラス
基板(基体)、24・・・遮光パターン、26・・・赤
色のフィルタ画素、28・・・緑色のフィルタ画素、3
0・・・青色のフィルタ画素。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ポリイミド樹脂を主成分としたポリイミド樹脂パタ
    ーンをパターンニングする第1工程と、パターンニング
    したポリイミド樹脂パターンを熱処理することによって
    硬化する第2工程とを少なくとも含む、ポリイミド樹脂
    パターンの形成方法において、前記第2工程の熱処理に
    先立ち、前記ポリイミド樹脂パターンの周縁部分を、エ
    ッジ部分からパターンの内側に向かうにつれてその膜厚
    が漸次厚くなるようになだらかに形成しておくことを特
    徴とする、ポリイミド樹脂パターンの形成方法。 2、前記ポリイミド樹脂パターンは、その上に別の層が
    形成される下層パターンである、特許請求の範囲第1項
    記載のポリイミド樹脂パターンの形成方法。 3、前記ポリイミド樹脂パターンの周縁部分をなだらか
    に形成するための手段として、ポリイミド樹脂パターン
    をエッチングする際に過剰にサイドエッチングする方法
    を利用する、特許請求の範囲第1項あるいは第2項記載
    のポリイミド樹脂パターンの形成方法。 4、前記ポリイミド樹脂パターンは、カラーフィルタに
    おける赤、緑、青のフィルタ画素、あるいは各フィルタ
    画素の周縁部に位置する遮光パターンの中の少なくとも
    一つである、特許請求の範囲第1項〜第3項のいずれか
    に記載のポリイミド樹脂パターンの形成方法。 5、前記赤、緑、青のフィルタ画素、および遮光パター
    ンは、ポリイミド樹脂と、そのポリイミド樹脂中に保持
    された染料とから成る、特許請求の範囲第4項記載のポ
    リイミド樹脂パターンの形成方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1990001713A1 (en) * 1988-07-29 1990-02-22 Nissha Printing Co., Ltd. Production method of color filter
JPH02287401A (ja) * 1989-04-28 1990-11-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd カラーフィルタの製造法
JPH0380413U (ja) * 1989-12-06 1991-08-19

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60247603A (ja) * 1984-05-24 1985-12-07 Toppan Printing Co Ltd カラ−フイルタ−

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