JPH0277702A - カラーフィルタの製造法 - Google Patents
カラーフィルタの製造法Info
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- JPH0277702A JPH0277702A JP63230435A JP23043588A JPH0277702A JP H0277702 A JPH0277702 A JP H0277702A JP 63230435 A JP63230435 A JP 63230435A JP 23043588 A JP23043588 A JP 23043588A JP H0277702 A JPH0277702 A JP H0277702A
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Landscapes
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、液晶用力ラーテレヒ、ＣＣＤカメラ等に用い
られるカラーフィルタの製造法に関するものである。
られるカラーフィルタの製造法に関するものである。
従来の技術
カラーフィルタの製造法としては、従来は染色法が用い
られてきたが、最近これに代わり顔料をフォトレジスト
に混ぜた着色感光性樹脂を用いる方法が提案されている
。この製造法により作製したカラーフィルタ断面を第５
図に示す。
られてきたが、最近これに代わり顔料をフォトレジスト
に混ぜた着色感光性樹脂を用いる方法が提案されている
。この製造法により作製したカラーフィルタ断面を第５
図に示す。
同図において、黒色感光性樹脂を透明基板（例えばガラ
ス）１に塗布し、フォトマスクを当て露光し、現像、水
洗、乾燥を行い黒色パターン２を形成する。次に赤色感
光性樹脂を透明基板１に塗布し、フォトマスクを当て露
光し、現像、水洗、乾燥を行い赤色パターン３を形成す
る。同様の手順を繰り返し、緑色パターン４、青色パタ
ーン５を形成していた。
ス）１に塗布し、フォトマスクを当て露光し、現像、水
洗、乾燥を行い黒色パターン２を形成する。次に赤色感
光性樹脂を透明基板１に塗布し、フォトマスクを当て露
光し、現像、水洗、乾燥を行い赤色パターン３を形成す
る。同様の手順を繰り返し、緑色パターン４、青色パタ
ーン５を形成していた。
発明が解決しようとする課題
しかし、上記の製造法では第５図に示すようにパターン
ずれを起こし、黒色パターン１と後の画素パターンが重
なると突起６を生じていた。この上に透明導電膜（例え
ばＩＴＯ）等の電極（図示せず）を形成すると、対向す
るパネルの電極（図示せず）に接触しショートを起こす
（以下、対向ショートと呼ぶ）という課題があった。
ずれを起こし、黒色パターン１と後の画素パターンが重
なると突起６を生じていた。この上に透明導電膜（例え
ばＩＴＯ）等の電極（図示せず）を形成すると、対向す
るパネルの電極（図示せず）に接触しショートを起こす
（以下、対向ショートと呼ぶ）という課題があった。
また他方では、パターン同士のずれにより無着色領域７
が生じてしまい、光もれを起こすという課題があった。
が生じてしまい、光もれを起こすという課題があった。
この原因は、黒色パターン１の形成に続き、画素パター
ンの形成を行う必要があり、その際それぞれのフォトマ
スクの位置合わせをしなければならならず、しかも通常
の露光装置の位置合わせ精度は、±２〜３７１ｔｎあり
、パターンずれが避けがたいからであった。
ンの形成を行う必要があり、その際それぞれのフォトマ
スクの位置合わせをしなければならならず、しかも通常
の露光装置の位置合わせ精度は、±２〜３７１ｔｎあり
、パターンずれが避けがたいからであった。
本発明はかかる従来のカラーフィルタの製造法に鑑み、
対向ショートがなく、しかも光もれのないカラーフィル
タの製造法を提供することを目的とするものである。
対向ショートがなく、しかも光もれのないカラーフィル
タの製造法を提供することを目的とするものである。
課題を解決するための手段
上記課題を解決する請求項１の本発明は、透明基板上に
黒色顔料（第１の顔料）を分散させたレジスト材を塗布
・乾燥し第１の被膜を形成したのち、塗布面側と非塗布
面側の両方向から、フォトマスクを介し露光を行い、現
像、硬化させて第１のパターンを形成する工程と、次に
第２の顔料を分散させたレジスト材をその透明基板上に
塗布、乾燥し第２の被膜を形成し、フ第１・マスクを介
し露光を行い、現像、硬化させて第２のパターンを形成
する工程と、以後所定パターン数だけ同じ工程を繰り返
すものである。
黒色顔料（第１の顔料）を分散させたレジスト材を塗布
・乾燥し第１の被膜を形成したのち、塗布面側と非塗布
面側の両方向から、フォトマスクを介し露光を行い、現
像、硬化させて第１のパターンを形成する工程と、次に
第２の顔料を分散させたレジスト材をその透明基板上に
塗布、乾燥し第２の被膜を形成し、フ第１・マスクを介
し露光を行い、現像、硬化させて第２のパターンを形成
する工程と、以後所定パターン数だけ同じ工程を繰り返
すものである。
作用
この技術的手段による作用は次に示すものである。
すなわち、黒色パターンと画素パターンのそれぞれ端部
を重ね合わせるようにすることが出来、光もれがなくな
るとともに、塗布面側と非塗布面側の両方向から、フォ
トマスクを介し露光を行うことができるので、黒色パタ
ーンの端部を薄く、中央部が厚い山型のパターン形成を
行えば、画素との重なり部の突起も小さくなり、対向シ
ョートを起こす割合も少なくなる。
を重ね合わせるようにすることが出来、光もれがなくな
るとともに、塗布面側と非塗布面側の両方向から、フォ
トマスクを介し露光を行うことができるので、黒色パタ
ーンの端部を薄く、中央部が厚い山型のパターン形成を
行えば、画素との重なり部の突起も小さくなり、対向シ
ョートを起こす割合も少なくなる。
実施例
以下、本発明の一実施例をネガ型レジスト材を使用した
場合を例にして、第１〜４図の工程断面図に基ずき説明
する。
場合を例にして、第１〜４図の工程断面図に基ずき説明
する。
透明基板ｌに黒色レジスト（商品名カラーモザイクに；
富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製）をスピ
ンナーで約１μｍの膜厚になるように塗布し、ホットプ
レートで１００℃、１分間のプリベークを行い、黒色レ
ジスト膜８を形成する。さらに黒色レジスト膜８上にポ
リビニールアルコールをスピンナーで塗布し、ホットプ
レートで１００℃、１分間のプリベークを行い、酸素遮
断膜９を形成する。これは露光時に活性基と酸素の結合
を防止するためのものである。次に、両面露光機により
上下両方向から露光を行う。塗布面側には、上側黒色用
フォトマスク１０を当て１００ｍＪ／Ｃｍ２の強度で、
非塗布面側には、上側黒色用フォトマスク１０（開口部
：３０．５０μｍ）より開口部の大きな下側黒色用フォ
トマスク１１（開口部：３５．５５１１ｍ）を当て２０
０ｍ Ｊ ／ ｃ ｍ ２の強度で露光した（第１図参
照）。露光後、ホットプレートで１００℃、１分間加熱
を行った後、１重量％炭酸ソーダ水溶液に１分間浸漬し
現像を行い、水洗をし、コンベクションオーブンで２０
０℃、１５分間加熱し黒色パターン１２が形成される（
第２図参照）。次に赤色レジスト（同カラーモザイクＲ
；同社製）をスピンナーで約１μｍの膜厚になるように
塗布し、ホットプレートで１００°Ｃ１１分間のプリベ
ークを行い、赤色レジスト膜１３を形成し、黒色パター
ン形成時と同様に酸素遮断膜９を形成する。そして下側
黒色用フォトマスク１１の遮蔽部（１５０Ｘ１７０μｍ
）より大きな開口部の赤色用フォトマスク１４（開口部
： ｌ ５５Ｘ １７５７１ｍ）を当て１００ｍＪ／
ｃｍ、２の強度で露光したく第３図参照）。
富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製）をスピ
ンナーで約１μｍの膜厚になるように塗布し、ホットプ
レートで１００℃、１分間のプリベークを行い、黒色レ
ジスト膜８を形成する。さらに黒色レジスト膜８上にポ
リビニールアルコールをスピンナーで塗布し、ホットプ
レートで１００℃、１分間のプリベークを行い、酸素遮
断膜９を形成する。これは露光時に活性基と酸素の結合
を防止するためのものである。次に、両面露光機により
上下両方向から露光を行う。塗布面側には、上側黒色用
フォトマスク１０を当て１００ｍＪ／Ｃｍ２の強度で、
非塗布面側には、上側黒色用フォトマスク１０（開口部
：３０．５０μｍ）より開口部の大きな下側黒色用フォ
トマスク１１（開口部：３５．５５１１ｍ）を当て２０
０ｍ Ｊ ／ ｃ ｍ ２の強度で露光した（第１図参
照）。露光後、ホットプレートで１００℃、１分間加熱
を行った後、１重量％炭酸ソーダ水溶液に１分間浸漬し
現像を行い、水洗をし、コンベクションオーブンで２０
０℃、１５分間加熱し黒色パターン１２が形成される（
第２図参照）。次に赤色レジスト（同カラーモザイクＲ
；同社製）をスピンナーで約１μｍの膜厚になるように
塗布し、ホットプレートで１００°Ｃ１１分間のプリベ
ークを行い、赤色レジスト膜１３を形成し、黒色パター
ン形成時と同様に酸素遮断膜９を形成する。そして下側
黒色用フォトマスク１１の遮蔽部（１５０Ｘ１７０μｍ
）より大きな開口部の赤色用フォトマスク１４（開口部
： ｌ ５５Ｘ １７５７１ｍ）を当て１００ｍＪ／
ｃｍ、２の強度で露光したく第３図参照）。
黒色パターン１２形成時と同様にして、露光後加熱、現
像、水洗、加熱を行い、赤色パターン１５を形成する。
像、水洗、加熱を行い、赤色パターン１５を形成する。
更に、赤色パターン１５形成と全く同様の手順で、緑色
レジスト（同カラーモザイクＧ；同社製）、青色レジス
Ｉ−（同カラーモザイクＢ；同社製）を使用し、緑色パ
ターン１６、青色パターン１７を形成する（第４図参照
）。
レジスト（同カラーモザイクＧ；同社製）、青色レジス
Ｉ−（同カラーモザイクＢ；同社製）を使用し、緑色パ
ターン１６、青色パターン１７を形成する（第４図参照
）。
次にこの一実施例の構成における作用を説明する。
まず塗布面側より上側黒色用フォトマスク１０と、それ
より開口部の大きい下側黒色用フォトマスク１１を非塗
布面側より当て露光を行えば、塗布断面上部は中央部、
下部は周辺部まで光架橋反応が起きるため、現像後は山
型の黒色パターン１２が形成される。このような黒色パ
ターン１２上に、下側黒色用フォトマスク１１の遮蔽部
より開口部の大きなフォトマスク１４を当て露光を行う
と、黒色パターン１２と画素パターン１５のそれぞれ端
部が重なり（重なっているところは、透過光が少なくな
り黒くなる）、光もれはなくなることになる。また、黒
色パターン１２は端部が薄いため、たとえ重なり部に突
起１８が出来ても大きなものとはならない。
より開口部の大きい下側黒色用フォトマスク１１を非塗
布面側より当て露光を行えば、塗布断面上部は中央部、
下部は周辺部まで光架橋反応が起きるため、現像後は山
型の黒色パターン１２が形成される。このような黒色パ
ターン１２上に、下側黒色用フォトマスク１１の遮蔽部
より開口部の大きなフォトマスク１４を当て露光を行う
と、黒色パターン１２と画素パターン１５のそれぞれ端
部が重なり（重なっているところは、透過光が少なくな
り黒くなる）、光もれはなくなることになる。また、黒
色パターン１２は端部が薄いため、たとえ重なり部に突
起１８が出来ても大きなものとはならない。
発明の効果
以上、述べてきたように本発明によれは、塗布面側と非
塗布面側の両方向から、フォトマスクを介し露光を行う
ことが出来るので、露光機のマスク合わせの精度範囲内
で、光もれがなく、突起が小さいために対向ショートを
起こしにくいカラーフィルタの製造ができる。
塗布面側の両方向から、フォトマスクを介し露光を行う
ことが出来るので、露光機のマスク合わせの精度範囲内
で、光もれがなく、突起が小さいために対向ショートを
起こしにくいカラーフィルタの製造ができる。
第１図〜第４図は本発明のカラーフィルタの製造法の一
実施例を示す工程断面図、第５図は従来の製造法により
作成したカラーフィルタの断面図である。 １・・・透明基板、６・・・突起、１０・・・上側黒色
用フォトマスク、１１・・・下側黒色用フォトマスク、
１２・・・黒色パターン、１５・・・赤色パターン、１
６・・・ 緑色パターン、１７−、・・青色パターン、
１８・・・突起
実施例を示す工程断面図、第５図は従来の製造法により
作成したカラーフィルタの断面図である。 １・・・透明基板、６・・・突起、１０・・・上側黒色
用フォトマスク、１１・・・下側黒色用フォトマスク、
１２・・・黒色パターン、１５・・・赤色パターン、１
６・・・ 緑色パターン、１７−、・・青色パターン、
１８・・・突起
Claims (3)
- （１）透明基板上に第１の顔料を分散させたレジスト材
を塗布、乾燥し第１の被膜を形成したのち、塗布面側と
非塗布面側の両方向から、フォトマスクを介し露光を行
い、現像、硬化させて第１のパターンを形成する工程と
、次に第２の顔料を分散させたレジスト材をその透明基
板上に塗布、乾燥し第２の被膜を形成し、フォトマスク
を介し露光を行い、現像、硬化させて第２のパターンを
形成する工程と、以後所定のパターン数だけ同じ工程を
繰り返すことを特徴とするカラーフィルタの製造法。 - （２）第１のパターンを形成するに際し、ネガ型レジス
ト材を用いる場合は、前記塗布面側に当てるフォトマス
クは前記非塗布面側のフォトマスクより開口部の小さな
ものを使用し、ポジ型レジスト材を用いる場合は前記塗
布面側に当てるフォトマスクは前記非塗布面側のフォト
マスクより開口部の大きなものを使用することを特徴と
する請求項１記載のカラーフィルタの製造法。 - （３）第２以降のパターンを形成するに際し、ネガ型レ
ジスト材を用いる場合は、使用する前記フォトマスクの
開口部は、前記第１のパターンを形成する際の前記非塗
布面側に当てるフォトマスクの遮蔽部より大きく、ポジ
型レジスト材を用いる場合は使用する前記フォトマスク
の遮蔽部は、前記第１のパターンを形成する際の前記非
塗布面側に当てるフォトマスクの開口部より大きなもの
を使用することを特徴とする請求項１記載のカラーフィ
ルタの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63230435A JPH0277702A (ja) | 1988-09-14 | 1988-09-14 | カラーフィルタの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63230435A JPH0277702A (ja) | 1988-09-14 | 1988-09-14 | カラーフィルタの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0277702A true JPH0277702A (ja) | 1990-03-16 |
Family
ID=16907857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63230435A Pending JPH0277702A (ja) | 1988-09-14 | 1988-09-14 | カラーフィルタの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0277702A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5418094A (en) * | 1991-12-17 | 1995-05-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming a light shielding pattern |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5232702A (en) * | 1975-09-05 | 1977-03-12 | Asahi Chemical Ind | New method of printing plate |
| JPS5344204A (en) * | 1976-10-04 | 1978-04-20 | Kansai Paint Co Ltd | Method of producing photosensitive resin |
| JPS6132058A (ja) * | 1984-07-23 | 1986-02-14 | Osaka Seihan Center Kyogyo Kumiai | 樹脂刷版と製版方法 |
| JPS62106407A (ja) * | 1985-11-01 | 1987-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示用カラ−フイルタの製造方法 |
| JPS62109002A (ja) * | 1985-11-07 | 1987-05-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示用カラ−フイルタの製造方法 |
| JPS6360426A (ja) * | 1986-08-30 | 1988-03-16 | Canon Inc | 強誘電性液晶素子 |
| JPS6391627A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示体用カラ−フイルタの製造法 |
-
1988
- 1988-09-14 JP JP63230435A patent/JPH0277702A/ja active Pending
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