JPH02287401A - カラーフィルタの製造法 - Google Patents
カラーフィルタの製造法Info
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- JPH02287401A JPH02287401A JP1109342A JP10934289A JPH02287401A JP H02287401 A JPH02287401 A JP H02287401A JP 1109342 A JP1109342 A JP 1109342A JP 10934289 A JP10934289 A JP 10934289A JP H02287401 A JPH02287401 A JP H02287401A
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- Pending
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は液晶用カラーテレビ、ＣＯＤカメラ等に用いら
れるカラーフィルタの製造法に関するものである。
れるカラーフィルタの製造法に関するものである。
従来の技術
カラーフィルタの製造法としては、従来は染色法が用い
られてきたが、最近これに代わり顔料をフォトレジスト
に混ぜた着色感光性樹脂を用いる方法が提案されている
。この製造法により作製したカラーフィルタ断面を第７
図に示す。
られてきたが、最近これに代わり顔料をフォトレジスト
に混ぜた着色感光性樹脂を用いる方法が提案されている
。この製造法により作製したカラーフィルタ断面を第７
図に示す。
黒色感光性樹脂を透明基板（例えばガラス）１に塗布し
、フォトマスクを当て露光し、現像、水洗、乾燥を行い
黒色パターン２を形成する。次に赤色感光性樹脂を透明
基板１に塗布し、フォトマスクを当て露光し、現像、水
洗、乾燥を行い赤色パターン３を形成する。同様の手順
を繰り返し、緑色パターン４、青色パターン５を形成し
ていた。
、フォトマスクを当て露光し、現像、水洗、乾燥を行い
黒色パターン２を形成する。次に赤色感光性樹脂を透明
基板１に塗布し、フォトマスクを当て露光し、現像、水
洗、乾燥を行い赤色パターン３を形成する。同様の手順
を繰り返し、緑色パターン４、青色パターン５を形成し
ていた。
発明が解決しようとする課題
しかし、上記の製造法では第７図に示すようにパターン
ずれを起こし、黒色パターン１と画素パターンが重なる
と突起６を生じていた。この上に透明導電膜（例えばＩ
Ｔｏ）等の電極（図示せず）を形成すると、対向するパ
ネルの電極（図示せず）に接触しシロートを起こす（以
下、対向シｌ−トと呼ぶ）という課題があった。また他
方では、ノ寸ターン同士のずれにより無着色領域７が生
じ、光もれを起こすという課題があった。 この原因
は、黒色パターン１の形成に続き、画素パターンの形成
を行う必要があり、その際それぞれのフォトマスクの位
置合わせをしなければならず、しかも通常の露光機の位
置合わせ精度は、±２〜３μｍあり、パターンずれが避
けがたいからであった。
ずれを起こし、黒色パターン１と画素パターンが重なる
と突起６を生じていた。この上に透明導電膜（例えばＩ
Ｔｏ）等の電極（図示せず）を形成すると、対向するパ
ネルの電極（図示せず）に接触しシロートを起こす（以
下、対向シｌ−トと呼ぶ）という課題があった。また他
方では、ノ寸ターン同士のずれにより無着色領域７が生
じ、光もれを起こすという課題があった。 この原因
は、黒色パターン１の形成に続き、画素パターンの形成
を行う必要があり、その際それぞれのフォトマスクの位
置合わせをしなければならず、しかも通常の露光機の位
置合わせ精度は、±２〜３μｍあり、パターンずれが避
けがたいからであった。
本発明はかかる従来のカラーフィルタの製造法の課題に
鑑み、対向シーートがなく、光もれのないカラーフィル
タの製造法を提供することを目的とするものである。
鑑み、対向シーートがなく、光もれのないカラーフィル
タの製造法を提供することを目的とするものである。
課題を解決するための手段
本発明は、透明基板上に黒色顔料（第１の顔料）を分散
させたレジスト材を塗布・乾燥し第１の被膜を形成した
のち、フォトマスクを介して露光を行い、現像、硬化さ
せて第１のパターンを形成する工程、次に第２の顔料を
分散させたレジスト材を塗布、乾燥し第２の被膜を形成
し、塗布面側から塗布面に対して距離をとって設置した
フォトマスクを介して露光を行い、現像、硬化させて第
２のパターンを形成する工程と、以後必要なパターン数
だけ同じ工程を繰り返すものである。
させたレジスト材を塗布・乾燥し第１の被膜を形成した
のち、フォトマスクを介して露光を行い、現像、硬化さ
せて第１のパターンを形成する工程、次に第２の顔料を
分散させたレジスト材を塗布、乾燥し第２の被膜を形成
し、塗布面側から塗布面に対して距離をとって設置した
フォトマスクを介して露光を行い、現像、硬化させて第
２のパターンを形成する工程と、以後必要なパターン数
だけ同じ工程を繰り返すものである。
作用
本発明は、黒色パターンと画素パターンのそれぞれ端部
を重ね合わせるようにすることにより、光もれがなくな
る。また第２以降のパターンの端部を薄くするパターン
形成を行うことにより画素との重なり部の突起も小さく
なり、対向シロートを起こす割合も少なくなる。
を重ね合わせるようにすることにより、光もれがなくな
る。また第２以降のパターンの端部を薄くするパターン
形成を行うことにより画素との重なり部の突起も小さく
なり、対向シロートを起こす割合も少なくなる。
実施例
以下、本発明の一実施例をネガ型レジスト材を使用した
場合を例にして、第１〜６図の工程断面図に基ずき説明
する。
場合を例にして、第１〜６図の工程断面図に基ずき説明
する。
透明基板１に黒色レジスト（商品名カラーモザイクに；
富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製）をスピ
ンナーで約１μｍの膜厚になるように塗布し、ホットプ
レートで１００℃、１分間のプリベークを行い、黒色レ
ジスト膜８を形成する。さらに黒色レジスト膜８上にポ
リビニールアルコールをスピンナーで塗布し、ホットプ
レートで１００℃、１分間のプリベークを行い、酸素遮
断膜８を形成する。これは露光時に活性基と酸素の結合
を防止するためのものである。次に、塗布面側からフォ
トマスク１０を介して、２０ｍＪ／ｃｍ”の強度で露光
した（第１図）。露光後、ホ、ドブレートで１００℃、
１分間加熱を行った後、１重量％炭酸ソーダ水溶液に１
分間浸漬し現像を行い、水洗をし、コンベクシーンオー
ブンで２００℃、１５分間加熱し黒色パターン１１が形
成される（第２図）。この時パターン線幅は２０μｍで
、そのパターン間の距離は１４０ミクロンである。
富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製）をスピ
ンナーで約１μｍの膜厚になるように塗布し、ホットプ
レートで１００℃、１分間のプリベークを行い、黒色レ
ジスト膜８を形成する。さらに黒色レジスト膜８上にポ
リビニールアルコールをスピンナーで塗布し、ホットプ
レートで１００℃、１分間のプリベークを行い、酸素遮
断膜８を形成する。これは露光時に活性基と酸素の結合
を防止するためのものである。次に、塗布面側からフォ
トマスク１０を介して、２０ｍＪ／ｃｍ”の強度で露光
した（第１図）。露光後、ホ、ドブレートで１００℃、
１分間加熱を行った後、１重量％炭酸ソーダ水溶液に１
分間浸漬し現像を行い、水洗をし、コンベクシーンオー
ブンで２００℃、１５分間加熱し黒色パターン１１が形
成される（第２図）。この時パターン線幅は２０μｍで
、そのパターン間の距離は１４０ミクロンである。
次に赤色レジスト（同カラーモザイクＲ；同社製）をス
ピンナーで約１μｍの膜厚になるように塗布し、ホット
プレートで１００℃、１分間のプリベークを行い、赤色
レジスト膜１２を形成し、黒色パターン形成時と同様に
酸素遮断膜９を形成する。そして、開口部１４・０μｍ
の赤色用フォトマスク１３を、赤色レジスト膜から２０
ミクロンの間隙を保って設置し、５ ｍ Ｊ ／ ｃ
ｍ”の強度で露光した（第３図）。
ピンナーで約１μｍの膜厚になるように塗布し、ホット
プレートで１００℃、１分間のプリベークを行い、赤色
レジスト膜１２を形成し、黒色パターン形成時と同様に
酸素遮断膜９を形成する。そして、開口部１４・０μｍ
の赤色用フォトマスク１３を、赤色レジスト膜から２０
ミクロンの間隙を保って設置し、５ ｍ Ｊ ／ ｃ
ｍ”の強度で露光した（第３図）。
黒色パターン１１形成時と同様にして、露光後加熱、現
像、水洗、加熱を行い、赤色パターン１４を形成する。
像、水洗、加熱を行い、赤色パターン１４を形成する。
赤色パターン１４形成と全く同様の手順で、緑色レジス
ト（同カラーモザイクＧ；同社製）、青色レジスト（同
カラーモザイクＢ；同社製）を使用し、緑色パターン１
５、青色パターン１６を形成する（第４−）。
ト（同カラーモザイクＧ；同社製）、青色レジスト（同
カラーモザイクＢ；同社製）を使用し、緑色パターン１
５、青色パターン１６を形成する（第４−）。
次にこの一実施例の構成における作用を説明する。
塗布面側より、塗布面に対して距離をとって設置した赤
色用フォトマスク１３を介して露光を行えば、光の回折
によりフォトマスクを通過した光は広がり、レジスト膜
上における露光量分布は第６図（ａ）のようになる。一
方、第６図は露光量と残膜率の関係を示したグラフで、
ＥＩ以上の露光量をレジスト表面に照射すれば現像に対
して溶解せず膜厚は最初の値を維持するが（残膜率＝１
）、Ｅ＋以下では現像によって表面が溶解し膜厚が減少
する（残膜率１以下）。さらにＥ＠で膜は完全になくな
る。この図より、Ｅ＋＝５ｍＪ／ｃｍ”であるから、第
５図（ａ）において露光量が５ｍＪ／ｃｍ２以下の部分
から膜厚が徐々に減少し、Ｅｓ”２ｍＪ／ｃｍ２で膜厚
はゼロになる。従ってレジスト膜は第５図（ｂ）のよう
な台形の断面形状になり、台形の底辺の幅はフォトマス
クの開口部よりも広く、約１５０μｍになる。
色用フォトマスク１３を介して露光を行えば、光の回折
によりフォトマスクを通過した光は広がり、レジスト膜
上における露光量分布は第６図（ａ）のようになる。一
方、第６図は露光量と残膜率の関係を示したグラフで、
ＥＩ以上の露光量をレジスト表面に照射すれば現像に対
して溶解せず膜厚は最初の値を維持するが（残膜率＝１
）、Ｅ＋以下では現像によって表面が溶解し膜厚が減少
する（残膜率１以下）。さらにＥ＠で膜は完全になくな
る。この図より、Ｅ＋＝５ｍＪ／ｃｍ”であるから、第
５図（ａ）において露光量が５ｍＪ／ｃｍ２以下の部分
から膜厚が徐々に減少し、Ｅｓ”２ｍＪ／ｃｍ２で膜厚
はゼロになる。従ってレジスト膜は第５図（ｂ）のよう
な台形の断面形状になり、台形の底辺の幅はフォトマス
クの開口部よりも広く、約１５０μｍになる。
従って第２以降のパターン形成時において、黒色パター
ン上に、開口部の大きなフォトマスクを当て露光を行う
と、第１図に示すように黒色パターンと画素パターンの
それぞれ端部が重なり、光もれはなくなることになる。
ン上に、開口部の大きなフォトマスクを当て露光を行う
と、第１図に示すように黒色パターンと画素パターンの
それぞれ端部が重なり、光もれはなくなることになる。
また、画素パターンは端部が薄いため重なり部の突起１
７は大きなものとはならない。
７は大きなものとはならない。
発明の効果
以上、述べてきたように本発明によれば、露光機のマス
ク合わせの精度節回内で、光もれがなく、突起が小さい
ために対向シβ−トを起こしにくいカラーフィルタの製
造ができる。
ク合わせの精度節回内で、光もれがなく、突起が小さい
ために対向シβ−トを起こしにくいカラーフィルタの製
造ができる。
第１図〜第４図は本発明のカラーフィルタの製造法の一
実施例を示す工程図、第５図（ａ）は同実施例における
赤色用マスクをレジスト面より２０μｍｉ！ｉＬ、て露
光したときのレジスト面上の露光量分布を示すグラフ、
第５図（ｂ）はその現像後の赤色パターンの断面図、第
６図は同実施例の赤色レジストの残膜率と露光量の関係
を示したグラフ、第７図は従来の製造法により作成した
カラーフィルタの断面図である。 １・・・透明基板、６・・・突起、１１・・・黒色パタ
ーン、１３・・・赤色フォトマスク、１４・・・赤色パ
ターン、１５・・・緑色パターン、１６・・・青色パタ
ーン、 １７・・・突起。 代理人の氏名 弁理士 栗野重孝 はか１名１図 第 ３ 図 第４図 ＾乞ぺたン 纂 図 （Ｌ） 萬 図 纂 図 絡 光量 ｃ″シＣ＃Ｉ
実施例を示す工程図、第５図（ａ）は同実施例における
赤色用マスクをレジスト面より２０μｍｉ！ｉＬ、て露
光したときのレジスト面上の露光量分布を示すグラフ、
第５図（ｂ）はその現像後の赤色パターンの断面図、第
６図は同実施例の赤色レジストの残膜率と露光量の関係
を示したグラフ、第７図は従来の製造法により作成した
カラーフィルタの断面図である。 １・・・透明基板、６・・・突起、１１・・・黒色パタ
ーン、１３・・・赤色フォトマスク、１４・・・赤色パ
ターン、１５・・・緑色パターン、１６・・・青色パタ
ーン、 １７・・・突起。 代理人の氏名 弁理士 栗野重孝 はか１名１図 第 ３ 図 第４図 ＾乞ぺたン 纂 図 （Ｌ） 萬 図 纂 図 絡 光量 ｃ″シＣ＃Ｉ
Claims (2)
- （１）透明基板上に第１の顔料を分散させたレジスト材
を塗布及び乾燥し、第１の被膜を形成したのち、塗布面
側から、フォトマスクを介して露光を行い、現像、硬化
させて第１のパターンを形成する工程、次に第２の顔料
を分散させたレジスト材を塗布及び乾燥し第２の被膜を
形成し、塗布面側から、塗布面に対して距離をとって設
置したフォトマスクを介して露光を行い、現像、硬化さ
せて第２のパターンを形成する工程、以下必要なパター
ン数だけ同じ工程を繰り返すことを特徴とするカラーフ
ィルタの製造法。 - （２）第２以降のパターンを形成する工程において、フ
ォトマスクの開口部は前記被膜パターンに必要な寸法よ
り大きくすることを特徴とする請求項１記載のカラーフ
ィルタの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1109342A JPH02287401A (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | カラーフィルタの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1109342A JPH02287401A (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | カラーフィルタの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02287401A true JPH02287401A (ja) | 1990-11-27 |
Family
ID=14507796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1109342A Pending JPH02287401A (ja) | 1989-04-28 | 1989-04-28 | カラーフィルタの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02287401A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59155830A (ja) * | 1983-02-24 | 1984-09-05 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶カラ−表示用カラ−パネル板の製造方法 |
| JPS6063502A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-04-11 | Hitachi Ltd | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
| JPS62234103A (ja) * | 1986-04-04 | 1987-10-14 | Kyodo Printing Co Ltd | ポリイミド樹脂パタ−ンの形成方法 |
| JPS6360426A (ja) * | 1986-08-30 | 1988-03-16 | Canon Inc | 強誘電性液晶素子 |
-
1989
- 1989-04-28 JP JP1109342A patent/JPH02287401A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59155830A (ja) * | 1983-02-24 | 1984-09-05 | Toppan Printing Co Ltd | 液晶カラ−表示用カラ−パネル板の製造方法 |
| JPS6063502A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-04-11 | Hitachi Ltd | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
| JPS62234103A (ja) * | 1986-04-04 | 1987-10-14 | Kyodo Printing Co Ltd | ポリイミド樹脂パタ−ンの形成方法 |
| JPS6360426A (ja) * | 1986-08-30 | 1988-03-16 | Canon Inc | 強誘電性液晶素子 |
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