JPS63249107A - カラ−フイルタの製造方法 - Google Patents
カラ−フイルタの製造方法Info
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- JPS63249107A JPS63249107A JP62082985A JP8298587A JPS63249107A JP S63249107 A JPS63249107 A JP S63249107A JP 62082985 A JP62082985 A JP 62082985A JP 8298587 A JP8298587 A JP 8298587A JP S63249107 A JPS63249107 A JP S63249107A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はブラックマトリックス付カラーフィルタの製造
方法に関し、特にカラー液晶ディスプレイに用いるのに
適したカラーフィルタの製造方法に関する。
方法に関し、特にカラー液晶ディスプレイに用いるのに
適したカラーフィルタの製造方法に関する。
従来のカラー液晶ディスプレイのブラックマトリックス
付カラーフィルタの製造方法を、第２図及び第３図を参
照して説明する。まず、ガラス基板１の全面にＩＴＯ（
Ｉｎ２ ０３ ＋Ｓｎ ０２ ＞よりなる透明導電膜を
スパッタ法、真空蒸着法を用いて形成する。次に、前記
透明導電膜をホト・エッチングにより加工して透明電極
２１ａ、２２ａ。
付カラーフィルタの製造方法を、第２図及び第３図を参
照して説明する。まず、ガラス基板１の全面にＩＴＯ（
Ｉｎ２ ０３ ＋Ｓｎ ０２ ＞よりなる透明導電膜を
スパッタ法、真空蒸着法を用いて形成する。次に、前記
透明導電膜をホト・エッチングにより加工して透明電極
２１ａ、２２ａ。
２２ｂ、２３ａ 〜２３Ｇ、３１ａ 〜３１ｄ。
３２ａ〜３２ｄ、３３ａ〜３３ｄ、２１〜２３゜３１〜
３３を形成する。このうち、２１ａ。
３３を形成する。このうち、２１ａ。
２２ａ、２２ｂ、２３ａ 〜２３Ｃ，３１ａ 〜３１ｄ
、３２ａ 〜３２ｄ、３３ａ 〜３３ｄは、電着法によ
り赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタを形
成する画素の下地となる画素電極であり、一方、２１〜
２３．３１〜３３は、電着の際、電源に接続されるもの
である。
、３２ａ 〜３２ｄ、３３ａ 〜３３ｄは、電着法によ
り赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタを形
成する画素の下地となる画素電極であり、一方、２１〜
２３．３１〜３３は、電着の際、電源に接続されるもの
である。
図示の例は、Ｒ，Ｇ、Ｂの３色の画素電極の配置がモザ
イク上のカラーフィルタを形成するときの、透明電極パ
ターンである。
イク上のカラーフィルタを形成するときの、透明電極パ
ターンである。
高分子電着法によるカラーフィルタの製造は、色素を分
散させた水溶性高分子が電気化学的に不溶化し、透明電
極上に析出する現像を応用したものであり、水溶性高分
子としてはアニオン形を主に使用する。
散させた水溶性高分子が電気化学的に不溶化し、透明電
極上に析出する現像を応用したものであり、水溶性高分
子としてはアニオン形を主に使用する。
製造工程は、赤（Ｒ＞用の色素を分散させた水溶性高分
子液中で、透明電極とこれに対向するよう配置された透
明電極間に直流電圧を印加させることで、前記画素電極
（２１ａ等）上に着色膜（カラーフィルタ層）を析出さ
せる。その俊、熱処理（約１００℃、１０分間）を行な
って硬化させることで赤（Ｒ＞のカラーフィルタ層が形
成される。次に電源と透明電極との接続を変え、緑（Ｇ
）用の色素を分散させた水溶性高分子液を用いて、上記
と同様電着と熱処理により緑（Ｇ）のカラーフィルタ層
を形成する。次に、再び電源と透明電極との接続を変え
、青（Ｂ）用の色素を分散させた水溶性高分子液を用い
て上記と同様、電着と熱処理により青（Ｂ）のカラーフ
ィルタ層を形成する。これにより、３色のモザイク状の
カラーフィルタが形成される。
子液中で、透明電極とこれに対向するよう配置された透
明電極間に直流電圧を印加させることで、前記画素電極
（２１ａ等）上に着色膜（カラーフィルタ層）を析出さ
せる。その俊、熱処理（約１００℃、１０分間）を行な
って硬化させることで赤（Ｒ＞のカラーフィルタ層が形
成される。次に電源と透明電極との接続を変え、緑（Ｇ
）用の色素を分散させた水溶性高分子液を用いて、上記
と同様電着と熱処理により緑（Ｇ）のカラーフィルタ層
を形成する。次に、再び電源と透明電極との接続を変え
、青（Ｂ）用の色素を分散させた水溶性高分子液を用い
て上記と同様、電着と熱処理により青（Ｂ）のカラーフ
ィルタ層を形成する。これにより、３色のモザイク状の
カラーフィルタが形成される。
ざらに、表示品質のコントラストを向上させるために、
Ｒ，Ｇ、Ｂよりなるカラーフィルタ層以外の領域に黒色
の高分子膜４０を形成する。この高分子膜４０としては
光重合硬化性のものを用い、Ｒ，Ｇ、Ｂの画素をマスク
として基板の裏側から光を照射し、光重合を行なうこと
によって、ブラックマトリックス層を形成する。
Ｒ，Ｇ、Ｂよりなるカラーフィルタ層以外の領域に黒色
の高分子膜４０を形成する。この高分子膜４０としては
光重合硬化性のものを用い、Ｒ，Ｇ、Ｂの画素をマスク
として基板の裏側から光を照射し、光重合を行なうこと
によって、ブラックマトリックス層を形成する。
以上述べた方法では、画素電極が給電線１０によって互
いに接続されている。給電線は便宜上画素電極と同一の
材料で形成される。このためこの給電線１０上にもＲ，
Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層が形成され光照射によるブラ
ックマトリックスの形成を行なったとき、Ｒ，Ｇ、Ｂの
画素電極の部分のみならず給電線１０の部分にも黒色の
高分子。
いに接続されている。給電線は便宜上画素電極と同一の
材料で形成される。このためこの給電線１０上にもＲ，
Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層が形成され光照射によるブラ
ックマトリックスの形成を行なったとき、Ｒ，Ｇ、Ｂの
画素電極の部分のみならず給電線１０の部分にも黒色の
高分子。
膜が形成されない。このため、このカラーフィルターを
表示装置に組込んだとき給電線１０の領域での光漏れが
発生し、コントラストが低下するという欠点があった。
表示装置に組込んだとき給電線１０の領域での光漏れが
発生し、コントラストが低下するという欠点があった。
この発明は、以上述べた画素領域以外のカラーフィルタ
上の光漏れを減少させ、コントラストの高い液晶ディス
プレイを得ることのできるカラーフィルタの製造方法を
提供することを目的とする。
上の光漏れを減少させ、コントラストの高い液晶ディス
プレイを得ることのできるカラーフィルタの製造方法を
提供することを目的とする。
本発明の製造方法は、透明導電膜上にホト・エッチング
によって窓を有するレジストパターンを形成することと
、上記透明導電膜を一方の電極として、高分子電着を行
なうことにより、上記窓の部分に１つの色の画素フィル
タ層を形成することとをくり返すこととにより異なる色
の画素フィルタ層を順次形成することと、ホト・エッチ
ングによりブラックマトリックス層を形成することとを
含むことを特徴とするものである。
によって窓を有するレジストパターンを形成することと
、上記透明導電膜を一方の電極として、高分子電着を行
なうことにより、上記窓の部分に１つの色の画素フィル
タ層を形成することとをくり返すこととにより異なる色
の画素フィルタ層を順次形成することと、ホト・エッチ
ングによりブラックマトリックス層を形成することとを
含むことを特徴とするものである。
上記のような製造方法によれば、画素フィルタ層の形成
にあたっては、透明導電膜が画素電極として作用すると
ともに給電線としても作用する。
にあたっては、透明導電膜が画素電極として作用すると
ともに給電線としても作用する。
従って、従来のように、画素電極および給電線のパター
ンを形成する必要がない。従って、画素を形成する領域
以外には、すべてブラックマトリックス層を形成するこ
とができる。このため、光漏れを減少させることができ
る。この結果、このフィルタを液晶ディスプレイに用い
た場合、コントラストが良好となる。
ンを形成する必要がない。従って、画素を形成する領域
以外には、すべてブラックマトリックス層を形成するこ
とができる。このため、光漏れを減少させることができ
る。この結果、このフィルタを液晶ディスプレイに用い
た場合、コントラストが良好となる。
第１図および第４図は、本発明一実施例の製造方法の各
工程を示す平面図および断面図である。
工程を示す平面図および断面図である。
まず、ガラス基板５０上に、従来技術と同様にして透明
導電膜５２を形成する。次に該透明導電膜５２上にＮｉ
Ｃｒ、Ｃｒ、Ｔａ等より成る金属膜を真空蒸着法また
はスパッタ法により０．０５〜０．２μｍの膜厚で被着
しく第４図（ａ））、ホト・エッチングにより所定のブ
ラックマトリックスパターン５４を形成する（第１図（
ａ）、第４図（ｂ））。
導電膜５２を形成する。次に該透明導電膜５２上にＮｉ
Ｃｒ、Ｃｒ、Ｔａ等より成る金属膜を真空蒸着法また
はスパッタ法により０．０５〜０．２μｍの膜厚で被着
しく第４図（ａ））、ホト・エッチングにより所定のブ
ラックマトリックスパターン５４を形成する（第１図（
ａ）、第４図（ｂ））。
次に、ホトレジスト６０を全面に形成しく第４図（Ｃ）
）、ホト・エッチングにより１つの色、例えば青（Ｂ）
画素フィルタを形成すべき箇所に窓（開口）６２ａを有
するレジストパターン６２を形成する（第４図（ｄ））
。そして透明導電膜５２を一方の電極として、青（Ｂ）
用の色素を分散させた水溶性高分子液を用いて、高分子
電着を行ない、青（Ｂ）の画素フィルタ層Ｂをレジスト
パターン６２の窓６２ａの部分の透明導電膜５２上に形
成する（第１図（ｂ）、第４図（ｅ））。
）、ホト・エッチングにより１つの色、例えば青（Ｂ）
画素フィルタを形成すべき箇所に窓（開口）６２ａを有
するレジストパターン６２を形成する（第４図（ｄ））
。そして透明導電膜５２を一方の電極として、青（Ｂ）
用の色素を分散させた水溶性高分子液を用いて、高分子
電着を行ない、青（Ｂ）の画素フィルタ層Ｂをレジスト
パターン６２の窓６２ａの部分の透明導電膜５２上に形
成する（第１図（ｂ）、第４図（ｅ））。
次に、いったんレジストを除去し、再びレジストを全面
に塗布し、ホト・エッチングにより、他の色、例えば赤
（Ｒ＞の画素フィルタ層を形成すべき箇所に窓７２ａを
有するレジストパターン７２を形成する（第４図（ｆ）
）。
に塗布し、ホト・エッチングにより、他の色、例えば赤
（Ｒ＞の画素フィルタ層を形成すべき箇所に窓７２ａを
有するレジストパターン７２を形成する（第４図（ｆ）
）。
尚、この際上記の、青（Ｂ）の画素フィルタ層の形成に
用いたのと同じホトマスクを用い、これを所定の距離だ
けずらすことによって、赤（Ｒ）の画素フィルタ形成用
のレジストパターン７２を形成することとすれば便宜で
ある。
用いたのと同じホトマスクを用い、これを所定の距離だ
けずらすことによって、赤（Ｒ）の画素フィルタ形成用
のレジストパターン７２を形成することとすれば便宜で
ある。
次に、透明導電膜５２を一方の電極として赤（Ｒ）用の
色素を分散させた水溶性高分子液を用いて、高分子電着
を行ない、赤（Ｒ）の画素フィルタ層Ｒをレジストパタ
ーン７０の窓の部分の透明導電膜５２上に形成する（第
１図（Ｃ）、第４図（ｇ））。
色素を分散させた水溶性高分子液を用いて、高分子電着
を行ない、赤（Ｒ）の画素フィルタ層Ｒをレジストパタ
ーン７０の窓の部分の透明導電膜５２上に形成する（第
１図（Ｃ）、第４図（ｇ））。
次にレジストを除去し、再びレジストを全面に塗布し、
ホト・エッチングにより、ざらに他の色、例えば緑（Ｇ
）の画素フィルタ層を形成すべき箇所に窓８２ａを有す
るレジストパターン８２を形成する（第４図（ｈ））。
ホト・エッチングにより、ざらに他の色、例えば緑（Ｇ
）の画素フィルタ層を形成すべき箇所に窓８２ａを有す
るレジストパターン８２を形成する（第４図（ｈ））。
尚この時も上記と同一のフォトマスクをずらして用いる
こととしてもよい。
こととしてもよい。
次に透明導電膜５２を一方の電極として、緑（Ｇ）用の
色素を分散させた水溶性高分子液を用いて、高分子電着
を行ない、緑の画素フィルタＧをレジストパターン８２
の窓８２ａの部分の透明導電膜５２上に形成する（第１
図（ｄ）、第４図（１））。
色素を分散させた水溶性高分子液を用いて、高分子電着
を行ない、緑の画素フィルタＧをレジストパターン８２
の窓８２ａの部分の透明導電膜５２上に形成する（第１
図（ｄ）、第４図（１））。
次に、レジストを除去しく第１図（ｅ）、第４図（ｊ）
）、熱処理をすることでカラーフィルタが完成する。
）、熱処理をすることでカラーフィルタが完成する。
尚、上記の実施例ではブラックマトリックスを先に形成
し、その後で画素フィルタ層を形成しているが、逆に光
に画素フィルタ層を形成し、その後でブラックマトリッ
クスを形成することとしてもよい。
し、その後で画素フィルタ層を形成しているが、逆に光
に画素フィルタ層を形成し、その後でブラックマトリッ
クスを形成することとしてもよい。
（発明の効果〕
以上のように、本発明によれば、ブラックマトリックス
層をホト・エッチングにより形成することとし、また画
素フィルタ層の形成に際し、透明導電膜のうちレジスト
パターンの窓を通して露出されている部分を電極とし、
透明導電膜全体を給電線として利用してている。従って
、従来のように画素電極と給電線のパターンを形成する
必要がなく、給電線パターンの部分にブラックマトリッ
クス層が形成されないことによる、光漏れをなくすこと
ができ、この結果コントラストが良好となる。
層をホト・エッチングにより形成することとし、また画
素フィルタ層の形成に際し、透明導電膜のうちレジスト
パターンの窓を通して露出されている部分を電極とし、
透明導電膜全体を給電線として利用してている。従って
、従来のように画素電極と給電線のパターンを形成する
必要がなく、給電線パターンの部分にブラックマトリッ
クス層が形成されないことによる、光漏れをなくすこと
ができ、この結果コントラストが良好となる。
第１図は本発明一実施例の製造方法の各工程の平面図、
。 第２図は従来の製造方法における透明導電膜のパターン
を示す平面図、 第３図は従来の製造方法における着色膜の電着後の状態
を示す断面図、 第４図は第１図の実施例の各工程の断面図である。 ５０・・・ガラス基板、５２・・・透明導電膜、５４・
・・ブラックマトリックスパターン、６２，７２．８２
・・・レジストパターン、Ｂ・・・青の画素フィルタ層
、Ｒ・・・赤の画素フィルタ層、Ｇ・・・緑の画素フィ
ルタ層。 ｊ２：倉明輯電虐 Ｂ：＆ｉｆ：フメルタ眉 一実施ｆｉ＋各工程の半面図 第 ｆ 図 一実施例１４−工符ＯＶａ因 手 ｌ 目 ｌ：〃ラス＆猟 ｔＯ：翻【し陳 茶２ 図 ｆ二力゛ラス基玖 Ｒ１σ、Ｂ；刀う−フイノＬり眉 従来法によるフィルり 某 ３ 劇 ６２ａ：定。 一臭にイタリ各工８０訪ｍ 因 第４ 図 ５０７Ｗラス基猥 一大方自ヒイθグリ１５−工１呟Ｅ ／） ｄフを面Ｃ
シ１第４ 図 ６２ニレジストパターン 一実施１１］８−工［／）ｌＩｇｒ面邑争 ４ 図
。 第２図は従来の製造方法における透明導電膜のパターン
を示す平面図、 第３図は従来の製造方法における着色膜の電着後の状態
を示す断面図、 第４図は第１図の実施例の各工程の断面図である。 ５０・・・ガラス基板、５２・・・透明導電膜、５４・
・・ブラックマトリックスパターン、６２，７２．８２
・・・レジストパターン、Ｂ・・・青の画素フィルタ層
、Ｒ・・・赤の画素フィルタ層、Ｇ・・・緑の画素フィ
ルタ層。 ｊ２：倉明輯電虐 Ｂ：＆ｉｆ：フメルタ眉 一実施ｆｉ＋各工程の半面図 第 ｆ 図 一実施例１４−工符ＯＶａ因 手 ｌ 目 ｌ：〃ラス＆猟 ｔＯ：翻【し陳 茶２ 図 ｆ二力゛ラス基玖 Ｒ１σ、Ｂ；刀う−フイノＬり眉 従来法によるフィルり 某 ３ 劇 ６２ａ：定。 一臭にイタリ各工８０訪ｍ 因 第４ 図 ５０７Ｗラス基猥 一大方自ヒイθグリ１５−工１呟Ｅ ／） ｄフを面Ｃ
シ１第４ 図 ６２ニレジストパターン 一実施１１］８−工［／）ｌＩｇｒ面邑争 ４ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、異なる色の画素フィルタ層が混在したカラーフィル
タの製造方法において、 透明導電膜上にホト・エッチングによって窓を有するレ
ジストパターンを形成することと、上記透明導電膜を一
方の電極として、高分子電着を行なうことにより、上記
窓の部分に１つの色の画素フィルタ層を形成することと
をくり返すことにより異なる色の画素フィルタ層を順次
形成することと、 ホト・エッチングによりブラックマトリックス層を形成
することと を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 ２、画素フィルタ層の形成の前に、上記ブラックマトリ
ックス層を形成することとし、画素フィルタ層の形成予
定領域以外の部分に上記ブラックマトリックス層を形成
することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法
。 ３、上記透明導電膜上に真空蒸着またはスパッタリング
により、金属膜を形成し、ホト・エッチングによりパタ
ーニングして上記ブラックマトリックス層を得ることを
特徴とする特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４、上記金属膜がＮｉＣｒ、ＣｒまたはＴａの膜である
ことを特徴とする特許請求の範囲第３項記載の方法。 ５、上記異なる色の画素フィルタ層は互いに同一の規則
的くり返しの配列を有し、上記ホト・エッチングにおい
て、すべての色の画素フィルタ層について同一のホト・
マスクが、各色ごとに所定距離ずつずらして用いられる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62082985A JPS63249107A (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | カラ−フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62082985A JPS63249107A (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | カラ−フイルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63249107A true JPS63249107A (ja) | 1988-10-17 |
Family
ID=13789509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62082985A Pending JPS63249107A (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | カラ−フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63249107A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0459832A2 (en) * | 1990-05-31 | 1991-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal colour display device and method for producing the same |
| EP0485092A2 (en) * | 1990-11-07 | 1992-05-13 | International Business Machines Corporation | Method for fabricating colour filter |
| JP2010134353A (ja) * | 2008-12-08 | 2010-06-17 | Fujifilm Corp | カラーフィルタの製造方法及び固体撮像装置 |
-
1987
- 1987-04-06 JP JP62082985A patent/JPS63249107A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0459832A2 (en) * | 1990-05-31 | 1991-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal colour display device and method for producing the same |
| US5181132A (en) * | 1990-05-31 | 1993-01-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal device and method for producing the same with metal spacer in hole of thin film device's insulator |
| EP0485092A2 (en) * | 1990-11-07 | 1992-05-13 | International Business Machines Corporation | Method for fabricating colour filter |
| JP2010134353A (ja) * | 2008-12-08 | 2010-06-17 | Fujifilm Corp | カラーフィルタの製造方法及び固体撮像装置 |
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