JPH11160515A - オンチップカラーフィルターの製造方法 - Google Patents
オンチップカラーフィルターの製造方法Info
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- JPH11160515A JPH11160515A JP32823597A JP32823597A JPH11160515A JP H11160515 A JPH11160515 A JP H11160515A JP 32823597 A JP32823597 A JP 32823597A JP 32823597 A JP32823597 A JP 32823597A JP H11160515 A JPH11160515 A JP H11160515A
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- JP
- Japan
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- planarization layer
- flattening film
- color filter
- chip color
- occf
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 オンチップカラーフィルターに感光性顔料分
散型着色レジストを用いた場合、感光性顔料分散型着色
レジストと下地である平坦化膜との密着性を向上させた
オンチップカラーフィルターの製造方法を提供する。 【解決手段】 下地基板１０を準備し、下地基板１０の
上に平坦化膜２を塗布する。次に、平坦化膜２の表面に
Ｏ2 プラズマアッシング処理を施し、平坦化膜２に純水
リンス処理を施す。これにより、平坦化膜２の表面は親
水化処理される。次に、平坦化膜２の上に感光性顔料分
散型着色レジスト（ＣＲ）を塗布し、このＣＲを露光
し、スプレー現像方式により現像する。これを所望の回
数繰り返すことにより、平坦化膜２上に所望の色のカラ
ーフィルターパターンが形成される。従って、ＣＲと平
坦化膜との密着性を向上させることができる。
散型着色レジストを用いた場合、感光性顔料分散型着色
レジストと下地である平坦化膜との密着性を向上させた
オンチップカラーフィルターの製造方法を提供する。 【解決手段】 下地基板１０を準備し、下地基板１０の
上に平坦化膜２を塗布する。次に、平坦化膜２の表面に
Ｏ2 プラズマアッシング処理を施し、平坦化膜２に純水
リンス処理を施す。これにより、平坦化膜２の表面は親
水化処理される。次に、平坦化膜２の上に感光性顔料分
散型着色レジスト（ＣＲ）を塗布し、このＣＲを露光
し、スプレー現像方式により現像する。これを所望の回
数繰り返すことにより、平坦化膜２上に所望の色のカラ
ーフィルターパターンが形成される。従って、ＣＲと平
坦化膜との密着性を向上させることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性顔料分散型
着色レジストを用いてオンチップカラーフィルターを製
造するオンチップカラーフィルターの製造方法に関す
る。
着色レジストを用いてオンチップカラーフィルターを製
造するオンチップカラーフィルターの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＣＣＤ撮像素子又は液晶等のデバ
イスに用いられるオンチップカラーフィルター（以下、
「ＯＣＣＦ」ともいう。）において、耐光性を向上させ
る目的のために、感光性顔料分散型着色レジストが使用
されるようになってきた。
イスに用いられるオンチップカラーフィルター（以下、
「ＯＣＣＦ」ともいう。）において、耐光性を向上させ
る目的のために、感光性顔料分散型着色レジストが使用
されるようになってきた。
【０００３】従来のオンチップカラーフィルターの製造
方法について、図３及び図４を参照しつつ説明する。
方法について、図３及び図４を参照しつつ説明する。
【０００４】先ず、図３に示すように、ＣＣＤ撮像素子
基板（以下、「下地基板」ともいう。）１０を準備す
る。この下地基板１０は、Ｓｉ基板８と、該基板８上に
形成された酸化膜４と、該酸化膜４上に形成されたポリ
電極材３と、該電極材３の相互間に位置する該基板８の
表面に形成された受光部５等から構成されている。
基板（以下、「下地基板」ともいう。）１０を準備す
る。この下地基板１０は、Ｓｉ基板８と、該基板８上に
形成された酸化膜４と、該酸化膜４上に形成されたポリ
電極材３と、該電極材３の相互間に位置する該基板８の
表面に形成された受光部５等から構成されている。
【０００５】この後、下地基板１０の上に有機樹脂から
なる平坦化膜２を塗布する。次に、この平坦化膜２の上
に感光性顔料分散型着色レジスト（以下、ＣＲ（カラー
レジスト）ともいう。）を塗布し、このＣＲを露光し、
スプレー現像方式により現像する。これにより、平坦化
膜２上に所望のカラーフィルターパターン、即ち第１の
ＯＣＣＦ（１色目、例えばＧreen）１が形成される。
なる平坦化膜２を塗布する。次に、この平坦化膜２の上
に感光性顔料分散型着色レジスト（以下、ＣＲ（カラー
レジスト）ともいう。）を塗布し、このＣＲを露光し、
スプレー現像方式により現像する。これにより、平坦化
膜２上に所望のカラーフィルターパターン、即ち第１の
ＯＣＣＦ（１色目、例えばＧreen）１が形成される。
【０００６】次に、図４に示すように、平坦化膜２の上
にＣＲを塗布し、このＣＲを露光しスプレー現像方式に
より現像する。これにより、平坦化膜２上に所望のカラ
ーフィルターパターン、即ち第２のＯＣＣＦ（２色目、
例えばＲed）６が形成される。
にＣＲを塗布し、このＣＲを露光しスプレー現像方式に
より現像する。これにより、平坦化膜２上に所望のカラ
ーフィルターパターン、即ち第２のＯＣＣＦ（２色目、
例えばＲed）６が形成される。
【０００７】この後、平坦化膜２の上にＣＲを塗布し、
このＣＲを露光しスプレー現像方式により現像する。こ
れにより、平坦化膜２上に所望のカラーフィルターパタ
ーン、即ち第３のＯＣＣＦ（３色目、例えばＢlue ）７
が形成される。
このＣＲを露光しスプレー現像方式により現像する。こ
れにより、平坦化膜２上に所望のカラーフィルターパタ
ーン、即ち第３のＯＣＣＦ（３色目、例えばＢlue ）７
が形成される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述したようにＣＲの
現像は、通常スプレー現像方式が用いられる。この現像
方式では、ＣＲに高圧でスプレーするため、カラーフィ
ルターのパターン剥がれが懸念される。パターン剥がれ
は、スプレー圧力、流量、温度、時間などの現像条件に
強く依存する。
現像は、通常スプレー現像方式が用いられる。この現像
方式では、ＣＲに高圧でスプレーするため、カラーフィ
ルターのパターン剥がれが懸念される。パターン剥がれ
は、スプレー圧力、流量、温度、時間などの現像条件に
強く依存する。
【０００９】パターン剥がれが起こる原因としては、Ｏ
ＣＣＦ１，６，７と平坦化膜２との密着性の劣化が挙げ
られる。つまり、ＣＣＤ撮像素子等のデバイスでは、高
画素化が進み、受光部面積が減少し、パターンが微細化
してきている。このようにパターンが微細化してくる
と、ＯＣＣＦと下地である平坦化膜との密着性が劣化
し、パターン剥がれが際立ってくる。その結果、このよ
うな密着性不良に起因する撮像点欠陥が増加することと
なる。
ＣＣＦ１，６，７と平坦化膜２との密着性の劣化が挙げ
られる。つまり、ＣＣＤ撮像素子等のデバイスでは、高
画素化が進み、受光部面積が減少し、パターンが微細化
してきている。このようにパターンが微細化してくる
と、ＯＣＣＦと下地である平坦化膜との密着性が劣化
し、パターン剥がれが際立ってくる。その結果、このよ
うな密着性不良に起因する撮像点欠陥が増加することと
なる。
【００１０】本発明は上記のような事情を考慮してなさ
れたものであり、その目的は、オンチップカラーフィル
ターに感光性顔料分散型着色レジストを用いた場合、感
光性顔料分散型着色レジストと下地である平坦化膜との
密着性を向上させたオンチップカラーフィルターの製造
方法を提供することにある。
れたものであり、その目的は、オンチップカラーフィル
ターに感光性顔料分散型着色レジストを用いた場合、感
光性顔料分散型着色レジストと下地である平坦化膜との
密着性を向上させたオンチップカラーフィルターの製造
方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係るオンチップカラーフィルターの製造方
法は、感光性顔料分散型着色レジストを用いてオンチッ
プカラーフィルターを製造する製造方法であって、平坦
化膜の表面を親水化処理する工程と、該平坦化膜の表面
上に感光性顔料分散型着色レジストを塗布する工程と、
を具備することを特徴とする。また、上記親水化処理す
る工程が、該平坦化膜をアッシングし、純水リンスする
ものであることが好ましい。
め、本発明に係るオンチップカラーフィルターの製造方
法は、感光性顔料分散型着色レジストを用いてオンチッ
プカラーフィルターを製造する製造方法であって、平坦
化膜の表面を親水化処理する工程と、該平坦化膜の表面
上に感光性顔料分散型着色レジストを塗布する工程と、
を具備することを特徴とする。また、上記親水化処理す
る工程が、該平坦化膜をアッシングし、純水リンスする
ものであることが好ましい。
【００１２】上記オンチップカラーフィルターの製造方
法では、平坦化膜の表面を親水化処理してるため、該平
坦化膜とその表面上に塗布する感光性顔料分散型着色レ
ジストとの密着性を向上させることができる。
法では、平坦化膜の表面を親水化処理してるため、該平
坦化膜とその表面上に塗布する感光性顔料分散型着色レ
ジストとの密着性を向上させることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施の形態について説明する。図１〜図４は、本発明の
実施の形態によるオンチップカラーフィルターの製造方
法を示す断面図である。
実施の形態について説明する。図１〜図４は、本発明の
実施の形態によるオンチップカラーフィルターの製造方
法を示す断面図である。
【００１４】先ず、図１に示すように、ＣＣＤ撮像素子
基板（以下、「下地基板」ともいう。）１０を準備す
る。この下地基板１０は、Ｓｉ基板８と、該基板８上に
形成された酸化膜４と、該酸化膜４上に形成されたポリ
電極材３と、該電極材３の相互間の下に位置する該基板
８の表面に形成された受光部５等から構成されている。
基板（以下、「下地基板」ともいう。）１０を準備す
る。この下地基板１０は、Ｓｉ基板８と、該基板８上に
形成された酸化膜４と、該酸化膜４上に形成されたポリ
電極材３と、該電極材３の相互間の下に位置する該基板
８の表面に形成された受光部５等から構成されている。
【００１５】この後、下地基板１０の上に有機樹脂から
なる平坦化膜２を塗布する。次に、この平坦化膜２の表
面にプラズマアッシング処理を施す。この際、アッシン
グガスとしては例えばＯ2 を用いる。
なる平坦化膜２を塗布する。次に、この平坦化膜２の表
面にプラズマアッシング処理を施す。この際、アッシン
グガスとしては例えばＯ2 を用いる。
【００１６】次に、図２に示すように、平坦化膜２に純
水リンス処理（通常のスクラバー処理）を施す。これに
より、平坦化膜２の表面は親水化処理される。つまり、
このようにプラズマ放電後に純水リンスを行うことによ
り、平坦化膜２の表面に親水基が生じ、後述するオンチ
ップカラーフィルター（以下、ＯＣＣＦともいう。）と
の密着性を向上させることができる。
水リンス処理（通常のスクラバー処理）を施す。これに
より、平坦化膜２の表面は親水化処理される。つまり、
このようにプラズマ放電後に純水リンスを行うことによ
り、平坦化膜２の表面に親水基が生じ、後述するオンチ
ップカラーフィルター（以下、ＯＣＣＦともいう。）と
の密着性を向上させることができる。
【００１７】この後、図３に示すように、この平坦化膜
２の上に感光性顔料分散型着色レジスト（以下、ＣＲ
（カラーレジスト）ともいう。）を塗布する。このＣＲ
はべースポリマー樹脂にアクリル酸系エステルを使用し
たものである。次に、このＣＲを露光し、スプレー現像
方式により現像する。これにより、平坦化膜２上に所望
のカラーフィルターパターン、即ち第１のＯＣＣＦ（１
色目、例えばＧreen）１が形成される。
２の上に感光性顔料分散型着色レジスト（以下、ＣＲ
（カラーレジスト）ともいう。）を塗布する。このＣＲ
はべースポリマー樹脂にアクリル酸系エステルを使用し
たものである。次に、このＣＲを露光し、スプレー現像
方式により現像する。これにより、平坦化膜２上に所望
のカラーフィルターパターン、即ち第１のＯＣＣＦ（１
色目、例えばＧreen）１が形成される。
【００１８】次に、図４に示すように、平坦化膜２の上
にＣＲを塗布し、このＣＲを露光しスプレー現像方式に
より現像する。これにより、平坦化膜２上に所望のカラ
ーフィルターパターン、即ち第２のＯＣＣＦ（２色目、
例えばＲed）６が形成される。
にＣＲを塗布し、このＣＲを露光しスプレー現像方式に
より現像する。これにより、平坦化膜２上に所望のカラ
ーフィルターパターン、即ち第２のＯＣＣＦ（２色目、
例えばＲed）６が形成される。
【００１９】この後、平坦化膜２の上にＣＲを塗布し、
このＣＲを露光しスプレー現像方式により現像する。こ
れにより、平坦化膜２上に所望のカラーフィルターパタ
ーン、即ち第３のＯＣＣＦ（３色目、例えばＢlue ）７
が形成される。
このＣＲを露光しスプレー現像方式により現像する。こ
れにより、平坦化膜２上に所望のカラーフィルターパタ
ーン、即ち第３のＯＣＣＦ（３色目、例えばＢlue ）７
が形成される。
【００２０】上記実施の形態によれば、平坦化膜２上に
ＯＣＣＦを形成する前の平坦化プロセスにおいて、下地
基板１０上に平坦化膜２を塗布した後、平坦化膜２の表
面をアッシングし、純水リンスして親水化することによ
り、平坦化膜２とその上に塗布されるＣＲとの密着性を
向上させることができる。その結果、下地である平坦化
膜２からＯＣＣＦが剥がれるのを防止でき、密着性不良
に起因する撮像点欠陥の不良を低減することができる。
ＯＣＣＦを形成する前の平坦化プロセスにおいて、下地
基板１０上に平坦化膜２を塗布した後、平坦化膜２の表
面をアッシングし、純水リンスして親水化することによ
り、平坦化膜２とその上に塗布されるＣＲとの密着性を
向上させることができる。その結果、下地である平坦化
膜２からＯＣＣＦが剥がれるのを防止でき、密着性不良
に起因する撮像点欠陥の不良を低減することができる。
【００２１】また、平坦化膜２の表面をアッシングした
後、純水リンスするため、平坦化膜２を塗布した後に生
じたダストもしくはアッシング後に生じたダストをリン
スすることができる。従って、このようなダストに起因
する撮像点欠陥を低減することができる。
後、純水リンスするため、平坦化膜２を塗布した後に生
じたダストもしくはアッシング後に生じたダストをリン
スすることができる。従って、このようなダストに起因
する撮像点欠陥を低減することができる。
【００２２】また、平坦化膜とＯＣＣＦとの密着性をさ
らに良くするため、露光前ベーク温度（通常プリベーク
と呼ばれる）、露光時間、現像時間及び現像条件を最適
化する、通常のパターン密着不良を防止する方法も上記
実施の形態と併せて適用することが好ましい。
らに良くするため、露光前ベーク温度（通常プリベーク
と呼ばれる）、露光時間、現像時間及び現像条件を最適
化する、通常のパターン密着不良を防止する方法も上記
実施の形態と併せて適用することが好ましい。
【００２３】尚、上記実施の形態では、ＣＲの塗布、露
光、現像を３回行い、平坦化膜２上に３色のＯＣＣＦ
１，６，７を形成しているが、ＣＲを所望の色の回数だ
け塗布、露光、現像することにより、平坦化膜２上に所
望の色の数（即ち１色、２色又は４色以上）のＯＣＣＦ
を形成することも可能である。
光、現像を３回行い、平坦化膜２上に３色のＯＣＣＦ
１，６，７を形成しているが、ＣＲを所望の色の回数だ
け塗布、露光、現像することにより、平坦化膜２上に所
望の色の数（即ち１色、２色又は４色以上）のＯＣＣＦ
を形成することも可能である。
【００２４】また、緑、赤、青色のＯＣＣＦ１，６，７
を用いているが、ＯＣＣＦの色の種類は限定されず、他
の色（補色系、原色系、黒）のＯＣＣＦを用いることも
可能である。
を用いているが、ＯＣＣＦの色の種類は限定されず、他
の色（補色系、原色系、黒）のＯＣＣＦを用いることも
可能である。
【００２５】また、アッシングガスとしてＯ2 を用いて
いるが、他の種類のアッシングガスを用いることも可能
である。
いるが、他の種類のアッシングガスを用いることも可能
である。
【００２６】また、本発明においてＯＣＣＦの配列は限
定されず、例えば市松パターン、ストライプパターンな
ど種々の配列を有するＯＣＣＦに本発明を適用すること
が可能である。
定されず、例えば市松パターン、ストライプパターンな
ど種々の配列を有するＯＣＣＦに本発明を適用すること
が可能である。
【００２７】また、本発明において平坦化膜の種類は限
定されず、種々の平坦化膜に本発明を適用することが可
能である。
定されず、種々の平坦化膜に本発明を適用することが可
能である。
【００２８】また、本発明において感光性顔料分散型着
色レジストの種類は限定されず、ポジ型のレジスト、ネ
ガ型のレジストであっても本発明を適用することが可能
である。
色レジストの種類は限定されず、ポジ型のレジスト、ネ
ガ型のレジストであっても本発明を適用することが可能
である。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、平
坦化膜の表面を親水化処理している。したがって、オン
チップカラーフィルターに感光性顔料分散型着色レジス
トを用いた場合、感光性顔料分散型着色レジストと下地
である平坦化膜との密着性を向上させることができる。
坦化膜の表面を親水化処理している。したがって、オン
チップカラーフィルターに感光性顔料分散型着色レジス
トを用いた場合、感光性顔料分散型着色レジストと下地
である平坦化膜との密着性を向上させることができる。
【図１】本発明の実施の形態によるオンチップカラーフ
ィルターの製造方法を示すものであり、アッシング工程
を示す断面図である。
ィルターの製造方法を示すものであり、アッシング工程
を示す断面図である。
【図２】本発明の実施の形態によるオンチップカラーフ
ィルターの製造方法を示すものであり、図１の次の工程
の純水リンス工程を示す断面図である。
ィルターの製造方法を示すものであり、図１の次の工程
の純水リンス工程を示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態によるオンチップカラーフ
ィルターの製造方法を示すものであり、図２の次の工程
を示す断面図である。
ィルターの製造方法を示すものであり、図２の次の工程
を示す断面図である。
【図４】本発明の実施の形態によるオンチップカラーフ
ィルターの製造方法を示すものであり、図３の次の工程
を示す断面図である。
ィルターの製造方法を示すものであり、図３の次の工程
を示す断面図である。
１…第１のＯＣＣＦ、２…平坦化膜、３…ポリ電極材、
４…酸化膜、５…受光部、６…第２のＯＣＣＦ、７…第
３のＯＣＣＦ、８…Ｓｉ基板、１０…ＣＣＤ撮像素子基
板（下地基板）。
４…酸化膜、５…受光部、６…第２のＯＣＣＦ、７…第
３のＯＣＣＦ、８…Ｓｉ基板、１０…ＣＣＤ撮像素子基
板（下地基板）。
Claims (2)
- 【請求項１】 感光性顔料分散型着色レジストを用いて
オンチップカラーフィルターを製造する製造方法であっ
て、 平坦化膜の表面を親水化処理する工程と、 該平坦化膜の表面上に感光性顔料分散型着色レジストを
塗布する工程と、 を具備することを特徴とするオンチップカラーフィルタ
ーの製造方法。 - 【請求項２】 上記親水化処理する工程が、該平坦化膜
をアッシングし、純水リンスするものであることを特徴
とする請求項１記載のオンチップカラーフィルターの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32823597A JPH11160515A (ja) | 1997-11-28 | 1997-11-28 | オンチップカラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32823597A JPH11160515A (ja) | 1997-11-28 | 1997-11-28 | オンチップカラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11160515A true JPH11160515A (ja) | 1999-06-18 |
Family
ID=18207960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32823597A Pending JPH11160515A (ja) | 1997-11-28 | 1997-11-28 | オンチップカラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11160515A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000068330A1 (fr) * | 1999-05-10 | 2000-11-16 | Shunichi Haruyama | Film organique-inorganique, composition liquide de depart afferente et son procede de preparation et ses applications et leur procede de preparation |
| JP2002122722A (ja) * | 2000-10-12 | 2002-04-26 | Canon Inc | 光学素子とその製造方法、液晶素子 |
| JP2002207114A (ja) * | 2001-01-10 | 2002-07-26 | Canon Inc | 光学素子とその製造方法、該光学素子を用いた液晶素子 |
| US6870584B2 (en) | 2001-06-29 | 2005-03-22 | Seiko Epson Corporation | Color filter substrate, method for manufacturing color filter substrate, liquid crystal display device, electro-optical device, method for manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus |
-
1997
- 1997-11-28 JP JP32823597A patent/JPH11160515A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000068330A1 (fr) * | 1999-05-10 | 2000-11-16 | Shunichi Haruyama | Film organique-inorganique, composition liquide de depart afferente et son procede de preparation et ses applications et leur procede de preparation |
| JP2002122722A (ja) * | 2000-10-12 | 2002-04-26 | Canon Inc | 光学素子とその製造方法、液晶素子 |
| JP4677085B2 (ja) * | 2000-10-12 | 2011-04-27 | キヤノン株式会社 | 光学素子の製造方法 |
| JP2002207114A (ja) * | 2001-01-10 | 2002-07-26 | Canon Inc | 光学素子とその製造方法、該光学素子を用いた液晶素子 |
| JP4612773B2 (ja) * | 2001-01-10 | 2011-01-12 | キヤノン株式会社 | 光学素子の製造方法 |
| US6870584B2 (en) | 2001-06-29 | 2005-03-22 | Seiko Epson Corporation | Color filter substrate, method for manufacturing color filter substrate, liquid crystal display device, electro-optical device, method for manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus |
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