JPS60103342A - カラ−フイルタ用レジスト組成物 - Google Patents
カラ−フイルタ用レジスト組成物Info
- Publication number
- JPS60103342A JPS60103342A JP58211868A JP21186883A JPS60103342A JP S60103342 A JPS60103342 A JP S60103342A JP 58211868 A JP58211868 A JP 58211868A JP 21186883 A JP21186883 A JP 21186883A JP S60103342 A JPS60103342 A JP S60103342A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/093—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antistatic means, e.g. for charge depletion
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はカラーフィルタ用レジスト組成物に関する。
カラー固体撮像素子は、小型軽量、低消費１ｕ力、高信
頼性、長寿命などのすぐれた特徴を有し、多くの用途が
期待されている。そして、ＶＴＲカメラ用として大きな
需要が存在しているため、開発が精力的になされている
。カラー固体撮像素子は、カメラの光学系を介して入射
された光を、赤、青、緑あるいはこれらの補色等に色分
離し、カラー信号（電気信号として）を取シ出すもので
ある。
頼性、長寿命などのすぐれた特徴を有し、多くの用途が
期待されている。そして、ＶＴＲカメラ用として大きな
需要が存在しているため、開発が精力的になされている
。カラー固体撮像素子は、カメラの光学系を介して入射
された光を、赤、青、緑あるいはこれらの補色等に色分
離し、カラー信号（電気信号として）を取シ出すもので
ある。
上述したカラー固体撮像素子は第１図〜第４図に示す方
法によシ製造されている。まず半導体基板１に入射され
た光信号を電気信号に変換する光ダイオード２を形成し
、それらを図示しない走査回路によってつなぐ。その上
に絶縁膜（例えばＳｔＯ，膜）３を介して素子を保護す
る／こめのパッシベーション膜（例えばＰＳＧ膜）４を
堆積し、その上に受光面を平滑化するための平滑層（例
えば透明感光性高分子樹脂層）５全形成する。つづいて
、平滑層５の上にフ第１・レノストロを塗布する。ここ
で、フオトレノスト材料としては、ゼラチンやカゼイン
等の蛋白質またはポリビニルアルコール（以下ｒ ＰＶ
Ａ Ｊという）に、感光剤として重クロム酸アンモニウ
ム（以下ｒＡＤＣＪという）を添加したものがある（第
１図図示）。
法によシ製造されている。まず半導体基板１に入射され
た光信号を電気信号に変換する光ダイオード２を形成し
、それらを図示しない走査回路によってつなぐ。その上
に絶縁膜（例えばＳｔＯ，膜）３を介して素子を保護す
る／こめのパッシベーション膜（例えばＰＳＧ膜）４を
堆積し、その上に受光面を平滑化するための平滑層（例
えば透明感光性高分子樹脂層）５全形成する。つづいて
、平滑層５の上にフ第１・レノストロを塗布する。ここ
で、フオトレノスト材料としては、ゼラチンやカゼイン
等の蛋白質またはポリビニルアルコール（以下ｒ ＰＶ
Ａ Ｊという）に、感光剤として重クロム酸アンモニウ
ム（以下ｒＡＤＣＪという）を添加したものがある（第
１図図示）。
次いで、フォトレノストロを所定の形状に７９ターニン
グし、染色するだめの領域を残したのちシアンで染色し
、第１の染色層７とする（第２図図示）。
グし、染色するだめの領域を残したのちシアンで染色し
、第１の染色層７とする（第２図図示）。
次いで、透明感光性高分子樹脂からなる混色防止膜（中
間層）８を設ける（第３図図示）。
間層）８を設ける（第３図図示）。
以下同様にして、第２の染色層９および透明感光性高分
子樹脂からなるオーバーコート（保護層）１０を形成し
、多色用のカラ−１ｉ！ｊ体撮像累子とする（第４図図
示）。
子樹脂からなるオーバーコート（保護層）１０を形成し
、多色用のカラ−１ｉ！ｊ体撮像累子とする（第４図図
示）。
ところで、前記製造工程で使用される透明感光性高分子
樹脂（レジスト）としては、従来よジアクリル系、ケイ
皮酸系１．コム系、工ｄｅキ７系、ノブラック系のもの
が知られている。
樹脂（レジスト）としては、従来よジアクリル系、ケイ
皮酸系１．コム系、工ｄｅキ７系、ノブラック系のもの
が知られている。
〔背景技術の問題点〕
しかしながら、上述したレゾストは静電気の帯電が起こ
シ易いため、レジスト塗布、露光、現像、ベーキング、
染色などの多くの工程を繰り返すカラーフィルタの製造
工程中において、ゴミが付着する。こうしたゴミが固体
撮像素子に付着すると、黒点、白点などの画像欠陥の原
因となる。従って、カラー固体撮像素子の歩留シも低下
することになる。
シ易いため、レジスト塗布、露光、現像、ベーキング、
染色などの多くの工程を繰り返すカラーフィルタの製造
工程中において、ゴミが付着する。こうしたゴミが固体
撮像素子に付着すると、黒点、白点などの画像欠陥の原
因となる。従って、カラー固体撮像素子の歩留シも低下
することになる。
本発り」はカラーフィルタ形成工程中でのゴミの付着を
防止し、カラー固体撮像素子の歩留りを向上し得るカラ
ーフィルタ用レノスト組成物を提供しようとするもので
ある。
防止し、カラー固体撮像素子の歩留りを向上し得るカラ
ーフィルタ用レノスト組成物を提供しようとするもので
ある。
本光ＬｌｌＪｆｄ冶機高分子材料中に導電性高分子全台
む組成からなシ、これをカラーフィルタを＋１／７成す
る平滑層、中間層及び保護層のうち少なくとも１層を形
成するために用いることにより、既述したゴミ付着を防
止した力２−フィルタを造ることを骨子とするものであ
る。
む組成からなシ、これをカラーフィルタを＋１／７成す
る平滑層、中間層及び保護層のうち少なくとも１層を形
成するために用いることにより、既述したゴミ付着を防
止した力２−フィルタを造ることを骨子とするものであ
る。
本発明に係るレジスト組成物としては、例えば、一般式
〔但し、式中のＲはメチル基、エチル基、又はグロビル
基、Ｘは塩素、臭素、ヨウ素、過塩素酸、酢酸、メチル
硫酸、硫酸、ｐ−）ルエンスルホン酸を示す〕 又は一般式 〔但し、式中のＲ，Ｘは前記一般式（Ｉ）と同様〕又は
一般式 ％式％ （） 〔但し、式中のＹはＮ−カルバゾール環、アク１１、ν
、７謁１−俸７カーフ１７磯 リー山１力＋ｚ＋＋Ｔδ
ビレレ項を示す〕にて表わされる導電性高分子とポリダ
リシジルメタクリレート、ポリケイ皮酸ビニルなどの感
光性高分子樹脂との共重合体を挙げることができる。こ
うした感光性高分子樹脂と共重合される導電性高分子の
割合は５〜５０モルチにすることが望ましい。なお、か
かるレノスト組成物を塗布するには例えばキシレン、ト
ルエン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサン等の
有機溶媒に５〜２０チの濃度範囲で溶解したものを用い
ればよい。
基、Ｘは塩素、臭素、ヨウ素、過塩素酸、酢酸、メチル
硫酸、硫酸、ｐ−）ルエンスルホン酸を示す〕 又は一般式 〔但し、式中のＲ，Ｘは前記一般式（Ｉ）と同様〕又は
一般式 ％式％ （） 〔但し、式中のＹはＮ−カルバゾール環、アク１１、ν
、７謁１−俸７カーフ１７磯 リー山１力＋ｚ＋＋Ｔδ
ビレレ項を示す〕にて表わされる導電性高分子とポリダ
リシジルメタクリレート、ポリケイ皮酸ビニルなどの感
光性高分子樹脂との共重合体を挙げることができる。こ
うした感光性高分子樹脂と共重合される導電性高分子の
割合は５〜５０モルチにすることが望ましい。なお、か
かるレノスト組成物を塗布するには例えばキシレン、ト
ルエン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサン等の
有機溶媒に５〜２０チの濃度範囲で溶解したものを用い
ればよい。
次に、本発明の詳細な説明する。
まず、グリシジルメタクリレートとＮ−ビニルカルバゾ
ールの共重合体（共重合比８０：２０）をシクロヘキサ
ンに１０重量饅溶解してレノストを調製した後、このレ
ノストをＣＣＤ撮像素子の表面上にスピンナーを用いて
１．５μｍの膜厚で塗布した。つづいて、６０℃で３０
分間ノリベーク処理した後、レゾスト層に所定パターン
のマスクを用いて遠紫外線露光した。ひきつづき、ＣＣ
Ｄ撮像素子をメチルエチルケトン中に６０秒間浸漬して
現像処理した後、メチルイソブチルケトン中に３０秒間
浸漬してリンス処理し、更に１００℃で３０分間乾燥し
て素子表面に平滑層を形成した。
ールの共重合体（共重合比８０：２０）をシクロヘキサ
ンに１０重量饅溶解してレノストを調製した後、このレ
ノストをＣＣＤ撮像素子の表面上にスピンナーを用いて
１．５μｍの膜厚で塗布した。つづいて、６０℃で３０
分間ノリベーク処理した後、レゾスト層に所定パターン
のマスクを用いて遠紫外線露光した。ひきつづき、ＣＣ
Ｄ撮像素子をメチルエチルケトン中に６０秒間浸漬して
現像処理した後、メチルイソブチルケトン中に３０秒間
浸漬してリンス処理し、更に１００℃で３０分間乾燥し
て素子表面に平滑層を形成した。
次いで、前記平滑層上に１重量裂の重クロム酸アンモニ
ウムを含むカゼインをスピンナにて１．０μｍの膜厚で
塗布した後、７０Ｃで４０分間グリベークし、更に染色
用レノスト層に所定・やターンのマスクを用いて露光し
た。つづいて、ＣＣＤ撮像素子を純水中に２０秒間浸漬
し一〇現像した後、メタノール中に１０秒間浸漬してリ
ンス処理を施し、１２０℃で３０分間乾燥して平滑層上
に染色用レジストハターンを形成した。
ウムを含むカゼインをスピンナにて１．０μｍの膜厚で
塗布した後、７０Ｃで４０分間グリベークし、更に染色
用レノスト層に所定・やターンのマスクを用いて露光し
た。つづいて、ＣＣＤ撮像素子を純水中に２０秒間浸漬
し一〇現像した後、メタノール中に１０秒間浸漬してリ
ンス処理を施し、１２０℃で３０分間乾燥して平滑層上
に染色用レジストハターンを形成した。
ひきつづき、ＣＣＤ撮像素子をシアン染料（日本化薬社
製商品名：カヤノールターキスプルー）の２重量％水溶
液（液温６０Ｃ）に３分間浸漬して染色した後、１００
℃で３０分間乾燥して平滑層上にシアン染色層（第１染
色層）を形成した。
製商品名：カヤノールターキスプルー）の２重量％水溶
液（液温６０Ｃ）に３分間浸漬して染色した後、１００
℃で３０分間乾燥して平滑層上にシアン染色層（第１染
色層）を形成した。
次に、シアン染色層を含む全面に前記と・同様なグリシ
ゾルメタクリレート−Ｎ−ビニルカルバゾール共重合体
からなるレノストを１．０μｍの膜厚で塗布した後、プ
リーベーク、露光、現像、リンス、乾燥を行なって中間
層を形成した。つづいて、この中間層上に前記と同様な
１重最チの重クロム酸アンモニウムを含むカゼインを１
．０μｍｎの膜厚で塗布した後、グリベーク、露光、現
像、リンス、乾燥を行なつ゛Ｃ中間層上に染色用レゾス
）ｔ？ターンを形成した。ひきつづき、ＣＣＤ撮像素子
を黄色染料（住友化学社製曲品名；スミノールミーリン
グイエローＭＲ）ノ２重Ｍチ水溶液（液温６０℃）に２
分間浸漬して染色した後１００℃で３０分間乾燥し、中
間層上に黄色染色層（第２染色層）を形成した。
ゾルメタクリレート−Ｎ−ビニルカルバゾール共重合体
からなるレノストを１．０μｍの膜厚で塗布した後、プ
リーベーク、露光、現像、リンス、乾燥を行なって中間
層を形成した。つづいて、この中間層上に前記と同様な
１重最チの重クロム酸アンモニウムを含むカゼインを１
．０μｍｎの膜厚で塗布した後、グリベーク、露光、現
像、リンス、乾燥を行なつ゛Ｃ中間層上に染色用レゾス
）ｔ？ターンを形成した。ひきつづき、ＣＣＤ撮像素子
を黄色染料（住友化学社製曲品名；スミノールミーリン
グイエローＭＲ）ノ２重Ｍチ水溶液（液温６０℃）に２
分間浸漬して染色した後１００℃で３０分間乾燥し、中
間層上に黄色染色層（第２染色層）を形成した。
次いで、黄色染色層を含む全面に前記と同様なグリシジ
ルメタクリレート−Ｎ−ビニルカルバゾール共重合体か
らなるレノストを１．０μｍの膜厚で塗布した後、ノリ
ベーク、露光、現像、リンス、乾燥を行なって保護層を
形成しカラー固体撮像素子を製造した。
ルメタクリレート−Ｎ−ビニルカルバゾール共重合体か
らなるレノストを１．０μｍの膜厚で塗布した後、ノリ
ベーク、露光、現像、リンス、乾燥を行なって保護層を
形成しカラー固体撮像素子を製造した。
し力・して、本発明によれば導電性を有す′るＮ−ビニ
ルカルバゾールとグリシジルメタクリレートの共重合体
であるレノストを用いることによシ、静電気の帯電が起
とシ難い平滑層、中間層及び保護層を形成できるため、
カラーフィルタの製造中でのゴミの付着を防止でき、ひ
いては黒点、白点などの画像欠陥のない良好なカラー固
体撮像素子を得ることができる。
ルカルバゾールとグリシジルメタクリレートの共重合体
であるレノストを用いることによシ、静電気の帯電が起
とシ難い平滑層、中間層及び保護層を形成できるため、
カラーフィルタの製造中でのゴミの付着を防止でき、ひ
いては黒点、白点などの画像欠陥のない良好なカラー固
体撮像素子を得ることができる。
なお、上記実施例では２ＪＶ４の染色層を有するカラー
固体撮像素子の製造を例にして説ゆ］したが、赤、青、
緑の３色の染色層からなるカラーフィルタを有する固体
撮像素子であっても同様に製造できる。
固体撮像素子の製造を例にして説ゆ］したが、赤、青、
緑の３色の染色層からなるカラーフィルタを有する固体
撮像素子であっても同様に製造できる。
以上詳述した如く、本発明によればカラーフィルタを構
成する平滑層、中間層及び保護層のうち少なくとも１層
以上の形成に適用することによシ、静電気の帯電による
ゴミ付着が防止でき、黒点、白点などの画像欠陥のない
良好なカラー固体撮像素子等を高歩留りで製造し得るカ
ラーフィルタ用レノスト組成物を提供できる。
成する平滑層、中間層及び保護層のうち少なくとも１層
以上の形成に適用することによシ、静電気の帯電による
ゴミ付着が防止でき、黒点、白点などの画像欠陥のない
良好なカラー固体撮像素子等を高歩留りで製造し得るカ
ラーフィルタ用レノスト組成物を提供できる。
第１図〜第４図はカラー固体撮像素子の製造工程を示す
断面図である。 １・・・半導体基板、２・・・フォトダイオード、３・
・・ｅＲＨ１４・・・・９ツシベーシヨン膜、５・・・
平滑層、７・・・第１染色層、８・・・中間層、９・・
・第２染色層、１０・・・保護層。
断面図である。 １・・・半導体基板、２・・・フォトダイオード、３・
・・ｅＲＨ１４・・・・９ツシベーシヨン膜、５・・・
平滑層、７・・・第１染色層、８・・・中間層、９・・
・第２染色層、１０・・・保護層。
Claims (2)
- （１）複数の光電変換部を少なくとも有する半導体基板
上に染色法によシカラーフイルりを形成する際に用いら
れるレノスト組成物において、感光性高分子樹脂中に導
電性高分子を含むことを特−徴とするカラーフィルタ用
レジスト組成物。 - （２） カラーフィルタが平滑層、中間層及び保護層か
らなシ、これら各層のうち少なくとも１層の形成に適用
されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の力
２−フィルタ用レノスト組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58211868A JPS60103342A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | カラ−フイルタ用レジスト組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58211868A JPS60103342A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | カラ−フイルタ用レジスト組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60103342A true JPS60103342A (ja) | 1985-06-07 |
Family
ID=16612939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58211868A Pending JPS60103342A (ja) | 1983-11-11 | 1983-11-11 | カラ−フイルタ用レジスト組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60103342A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01176181A (ja) * | 1987-12-29 | 1989-07-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 固体カラー撮像素子及びその製造方法 |
| JPH02973A (ja) * | 1988-03-15 | 1990-01-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
| EP0350873A2 (en) * | 1988-07-11 | 1990-01-17 | Hitachi, Ltd. | Method for forming pattern and method for making semiconductor device |
| JPH02101461A (ja) * | 1988-10-11 | 1990-04-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 微細パターン形成材料およびパターン形成方法 |
| JPH085819A (ja) * | 1994-06-21 | 1996-01-12 | Toray Ind Inc | カラーフィルタ基板および着色膜用ペースト |
-
1983
- 1983-11-11 JP JP58211868A patent/JPS60103342A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01176181A (ja) * | 1987-12-29 | 1989-07-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 固体カラー撮像素子及びその製造方法 |
| JPH02973A (ja) * | 1988-03-15 | 1990-01-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
| EP0350873A2 (en) * | 1988-07-11 | 1990-01-17 | Hitachi, Ltd. | Method for forming pattern and method for making semiconductor device |
| US5441849A (en) * | 1988-07-11 | 1995-08-15 | Hitachi, Ltd. | Method of forming pattern and making semiconductor device using radiation-induced conductive resin bottom resist layer |
| JPH02101461A (ja) * | 1988-10-11 | 1990-04-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 微細パターン形成材料およびパターン形成方法 |
| JPH085819A (ja) * | 1994-06-21 | 1996-01-12 | Toray Ind Inc | カラーフィルタ基板および着色膜用ペースト |
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