JPS5917512A - 色フイルタの製造方法 - Google Patents
色フイルタの製造方法Info
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光学的に透明な基板あるいは固体撮像素子上
に、任意のパターンで複数の色分解フィルタを形成した
フィルタの製造方法に関するものである。
に、任意のパターンで複数の色分解フィルタを形成した
フィルタの製造方法に関するものである。
従来この種の色フィルタの製造方法には、第１図に示す
ような多層型の方法が一般的に用いられていた。すなわ
ち、光学研磨を施したガラス基板１上に、ポリビニルア
ルコール、グリユー、ゼラチン・ カゼイン等に、重ク
ロム酸アンモン等で感光性を付与した感光液を、ローラ
ーコート、ディッピング、スピンナー等で、均一に塗布
し、乾燥した後マスク露光法で１色目のパターン部分２
だけ光硬化させ、現像して必要なパターン以外を除去し
た後に、所定の分光特性を有する染料で１色目のパター
ンを染色する。次に、染料で染色され３ベージ ることの無い透明な中間膜３を全面に塗布する（第１図
（ａ））。
ような多層型の方法が一般的に用いられていた。すなわ
ち、光学研磨を施したガラス基板１上に、ポリビニルア
ルコール、グリユー、ゼラチン・ カゼイン等に、重ク
ロム酸アンモン等で感光性を付与した感光液を、ローラ
ーコート、ディッピング、スピンナー等で、均一に塗布
し、乾燥した後マスク露光法で１色目のパターン部分２
だけ光硬化させ、現像して必要なパターン以外を除去し
た後に、所定の分光特性を有する染料で１色目のパター
ンを染色する。次に、染料で染色され３ベージ ることの無い透明な中間膜３を全面に塗布する（第１図
（ａ））。
次に、同様にして第１図（ｂ）に示すように前記と同じ
感光液を均一に塗布し、乾燥した後マスク露光法で露光
・現像して、２色目のパターン部分４を形成後、所定の
分光特性を有する第２の染料で染色する。さらに、前記
透明な中間膜５を全面に塗布する。
感光液を均一に塗布し、乾燥した後マスク露光法で露光
・現像して、２色目のパターン部分４を形成後、所定の
分光特性を有する第２の染料で染色する。さらに、前記
透明な中間膜５を全面に塗布する。
次に、同様にして、第１図（Ｃ）に示すように、前記と
同じ感光液を均一に塗布し、乾燥した後、−マスク露光
法で露光現像して、３色目のパターン部分６を形成し、
所定の分光特性を有する第３の染料で染色する。
同じ感光液を均一に塗布し、乾燥した後、−マスク露光
法で露光現像して、３色目のパターン部分６を形成し、
所定の分光特性を有する第３の染料で染色する。
最後に、トップコート７を塗布して、第１図（ｄ）に示
すような色フィルタが製造されている。
すような色フィルタが製造されている。
しかしながら、この方法では、１色目の着色パターン部
分２と２色目の着色パターン部分４と３色目の着色パタ
ーン部分６を形成する場合、それぞれ基板条件が異って
いる。すなわち、第１図（Ｃ）に示す」：うに、１色目
は直接ガラス基板−ヒに形成されており、３色目は、中
間膜３と５」二に形成されている。
分２と２色目の着色パターン部分４と３色目の着色パタ
ーン部分６を形成する場合、それぞれ基板条件が異って
いる。すなわち、第１図（Ｃ）に示す」：うに、１色目
は直接ガラス基板−ヒに形成されており、３色目は、中
間膜３と５」二に形成されている。
一方、感光液の密着力が、ガラス基板１と中間膜３，５
とで異なる。従って、ガラス基板に密着力の良い感光液
を使用すると中間膜の界面でハクリが生じやすく、現状
では、ハクリ不良が多量に発生している。さらにまだ、
中間膜３，５が存在するだめ、１，２．３色目の着色パ
ターンにそれぞれ段差があり、２色目、３色目と形成し
てゆくに従って、パターンの解像度が悪くなる。すなわ
ち、２色目、３色目の着色パターン部分がボケる等の欠
点があった。
とで異なる。従って、ガラス基板に密着力の良い感光液
を使用すると中間膜の界面でハクリが生じやすく、現状
では、ハクリ不良が多量に発生している。さらにまだ、
中間膜３，５が存在するだめ、１，２．３色目の着色パ
ターンにそれぞれ段差があり、２色目、３色目と形成し
てゆくに従って、パターンの解像度が悪くなる。すなわ
ち、２色目、３色目の着色パターン部分がボケる等の欠
点があった。
以上述べて来た従来の色フィルタの製造方法の欠点に鑑
み、本発明の目的は、２色目、３色目の着色パターン下
部に中間膜を形成するとと々く、色フィルタを製造して
、２色目、３色目の着色パターン部のボケを無くシ、高
精度の色フィルタを製造する方法を提供することである
。
み、本発明の目的は、２色目、３色目の着色パターン下
部に中間膜を形成するとと々く、色フィルタを製造して
、２色目、３色目の着色パターン部のボケを無くシ、高
精度の色フィルタを製造する方法を提供することである
。
さらに詳しくは、本発明は染色用ベース膜として動物タ
ンパク（ゼラチン、グリユー、カゼイン５未−） 等）を重合させたものを用い、それぞれの色に対応する
部分のみを、水を通さないレジストでカバーし薬品処理
する。例えば、酸性染料で染色したい部分は、その部分
をカバーして、他の部分はアルデヒド類（例えば、アセ
トアルデヒド等）の水溶液で処理反応させ、タンパク質
の−ＮＨ２基を−Ｎ−ＣＨ２基に変化させ、酸性染料に
不活性とする。
ンパク（ゼラチン、グリユー、カゼイン５未−） 等）を重合させたものを用い、それぞれの色に対応する
部分のみを、水を通さないレジストでカバーし薬品処理
する。例えば、酸性染料で染色したい部分は、その部分
をカバーして、他の部分はアルデヒド類（例えば、アセ
トアルデヒド等）の水溶液で処理反応させ、タンパク質
の−ＮＨ２基を−Ｎ−ＣＨ２基に変化させ、酸性染料に
不活性とする。
一方、カチオン染料で染色したい部分は、同じようにそ
の部分をレジストでカバーし、他の部分はフェノール類
（例えば石炭酸等）の水溶液で処理反応させ、−〇〇〇
Ｈ基とフェノール性−〇Ｈ基で水素結合を生じさせてカ
チオン染料に対して不活性化させ、最後に酸性染浴ある
いはカチオン染浴にそれぞれ別々に浸漬して、アルデヒ
ドに処理されてない部分は酸性染料で、フェノールに処
理されてない部分はカチオン染料でそれぞれ染色して染
わけることを特徴としだ色フィルタの製造方法を提供す
るものである。
の部分をレジストでカバーし、他の部分はフェノール類
（例えば石炭酸等）の水溶液で処理反応させ、−〇〇〇
Ｈ基とフェノール性−〇Ｈ基で水素結合を生じさせてカ
チオン染料に対して不活性化させ、最後に酸性染浴ある
いはカチオン染浴にそれぞれ別々に浸漬して、アルデヒ
ドに処理されてない部分は酸性染料で、フェノールに処
理されてない部分はカチオン染料でそれぞれ染色して染
わけることを特徴としだ色フィルタの製造方法を提供す
るものである。
以下、実施例として、第２図を用いて本発明の詳細な説
明する。
明する。
６ベージ
壕ず、あらかじめ製造された固体撮像素子あるいは透明
ガラス等よりなる基板１１上へ、ゼラチン・重クロム酸
系の染色用ベース膜１２となる感光液を塗布する。次に
、所定のＣｒパターン１３を有するホトマスク１４を重
ねて紫外線を矢印Ａ方向より照射した後、温水で現像し
例えば島状パターン（モザイク状もしくはストライプ状
）を有する染色用ベース膜１２を形成する（第２図ａ）
。
ガラス等よりなる基板１１上へ、ゼラチン・重クロム酸
系の染色用ベース膜１２となる感光液を塗布する。次に
、所定のＣｒパターン１３を有するホトマスク１４を重
ねて紫外線を矢印Ａ方向より照射した後、温水で現像し
例えば島状パターン（モザイク状もしくはストライプ状
）を有する染色用ベース膜１２を形成する（第２図ａ）
。
次に、水を通さない感光性レジスト（例えば、Ｋ Ｍ
Ｒ−７４７，コダノク社商品名）を塗布し、所定のパタ
ーンすなわち特定の領域が露出するように第１のホトマ
スクを用いて露光・現像し、第１のレジストパターン１
６を形成し、５％アセトアルデヒド水溶液に浸漬して、
前記レジストパターン１６の開口部１６の染色用ベース
膜１２′のゼラチンの−ＮＨ２基を−Ｎ＝（Ｈ２基に反
応変化させ、酸性染料に対して不活性化する（第２図ｂ
）。
Ｒ−７４７，コダノク社商品名）を塗布し、所定のパタ
ーンすなわち特定の領域が露出するように第１のホトマ
スクを用いて露光・現像し、第１のレジストパターン１
６を形成し、５％アセトアルデヒド水溶液に浸漬して、
前記レジストパターン１６の開口部１６の染色用ベース
膜１２′のゼラチンの−ＮＨ２基を−Ｎ＝（Ｈ２基に反
応変化させ、酸性染料に対して不活性化する（第２図ｂ
）。
さらに、第１のレジストパターン１６をトリクレンを用
い、加温・溶解除去した後、もう一度、感光性レジスト
を塗布し、第２のホトマスクを用７ページ いて露光・現像し、第２のレジストパターン１５′を形
成する。その後、フェノール類たとえば５襲石炭酸水溶
液に浸漬して、前記レジストパターン１６′の開口部１
６′の染色用ベース膜１２″のゼラチン中−〇〇〇Ｈ基
と反応させ、−ＣＯＯＨ基をカチオン染料に対して不活
性化する（第２図Ｃ）。ここで再び第２のレジストパタ
ーン１５′をトリクレンで溶解除去すると、アルデヒド
にもフェノールにも処理されて無い染色用ベース膜１２
Ｇ、フェノールに処理された染色用ベース膜１２Ｙ、ア
ルデヒドに処理された染色用ベース膜１２０Ｙ、および
フェノールとアルデヒドに処理された染色用ベース膜１
２Ｗが形成できる。
い、加温・溶解除去した後、もう一度、感光性レジスト
を塗布し、第２のホトマスクを用７ページ いて露光・現像し、第２のレジストパターン１５′を形
成する。その後、フェノール類たとえば５襲石炭酸水溶
液に浸漬して、前記レジストパターン１６′の開口部１
６′の染色用ベース膜１２″のゼラチン中−〇〇〇Ｈ基
と反応させ、−ＣＯＯＨ基をカチオン染料に対して不活
性化する（第２図Ｃ）。ここで再び第２のレジストパタ
ーン１５′をトリクレンで溶解除去すると、アルデヒド
にもフェノールにも処理されて無い染色用ベース膜１２
Ｇ、フェノールに処理された染色用ベース膜１２Ｙ、ア
ルデヒドに処理された染色用ベース膜１２０Ｙ、および
フェノールとアルデヒドに処理された染色用ベース膜１
２Ｗが形成できる。
さらに、酸性染料であるＳｕｍｉｎｏｌ ｍｉｌｌｉｎ
ｇ −ｙｅｌｌｏｗ Ｏ（住友化学製品）２％ｌ Ｐ
Ｈ３，００゜８ｏ′Ｃの染浴に数分浸漬し、続いて、水
洗後、カチオン染料である人１ｚｅｎ Ｃａｔｈｉｌｏ
ｎ ＴｕｒｑｎｏｉｓｅＢｌｕｅ ＬＨ（保土谷化学製
品）２％、ＰＨ７〜８゜８０℃の染浴に１ｏ〜２０分浸
漬すると、染色用ベース膜の１２Ｇは緑色に、１２Ｙは
黄色に、１２Ｃｙはシアン色にそれぞれ染色され、１２
Ｗは全く染色されない。
ｇ −ｙｅｌｌｏｗ Ｏ（住友化学製品）２％ｌ Ｐ
Ｈ３，００゜８ｏ′Ｃの染浴に数分浸漬し、続いて、水
洗後、カチオン染料である人１ｚｅｎ Ｃａｔｈｉｌｏ
ｎ ＴｕｒｑｎｏｉｓｅＢｌｕｅ ＬＨ（保土谷化学製
品）２％、ＰＨ７〜８゜８０℃の染浴に１ｏ〜２０分浸
漬すると、染色用ベース膜の１２Ｇは緑色に、１２Ｙは
黄色に、１２Ｃｙはシアン色にそれぞれ染色され、１２
Ｗは全く染色されない。
最後に、よく水洗した後ベーキングを行ない、透明性樹
脂でトップコート膜１７を形成して、撮像素子用色フィ
ルタが完成された（第２図ｄ）。
脂でトップコート膜１７を形成して、撮像素子用色フィ
ルタが完成された（第２図ｄ）。
すなわち、アルデヒドで処理された染色用ベース膜は、
カチオン染料、すなわち、この場合はシアン色にのみ染
色され、フェノールで処理された染色用ベース膜は、酸
性染料、すなわちこの場合は黄色にのみ染色され、アル
デヒド及びフェノール両方で処理された染色用ベース膜
は、酸性、カチオン両染料にも染色されず透明なままで
残り、アルデヒド及びフェノール共に処理されていない
染色用ベース膜は、酸性及びカチオン染料の両方で染色
されるだめ、シアン色プラス黄色で緑色に染色される。
カチオン染料、すなわち、この場合はシアン色にのみ染
色され、フェノールで処理された染色用ベース膜は、酸
性染料、すなわちこの場合は黄色にのみ染色され、アル
デヒド及びフェノール両方で処理された染色用ベース膜
は、酸性、カチオン両染料にも染色されず透明なままで
残り、アルデヒド及びフェノール共に処理されていない
染色用ベース膜は、酸性及びカチオン染料の両方で染色
されるだめ、シアン色プラス黄色で緑色に染色される。
すなわち、本発明の方法は、黄クシアン、緑、透明型方
式の色フィルタに好都合な製造方法であると言える。ま
た、上記実施例では、酸性染料の黄色とカチオン染料の
シアン色を用いたが、酸性染料のシアン色とカチオン染
料の黄色９・・−ジ を用いても同じことが実現できることは明らかである。
式の色フィルタに好都合な製造方法であると言える。ま
た、上記実施例では、酸性染料の黄色とカチオン染料の
シアン色を用いたが、酸性染料のシアン色とカチオン染
料の黄色９・・−ジ を用いても同じことが実現できることは明らかである。
なお、上記実施例では、染色ベース膜を島状に分離しで
ある例を示したが、高精度の色フィルタを必要としない
場合には、分離は必らずしも必要としない。また、第４
図に示すようにベース膜間の分離領域を光遮蔽膜パター
ン１８上で行っておけば、光のもれの無いより高精度々
色フィルタを製造できる。第４図で、第３図と同じ番号
は、第３図と同じものを示している。
ある例を示したが、高精度の色フィルタを必要としない
場合には、分離は必らずしも必要としない。また、第４
図に示すようにベース膜間の分離領域を光遮蔽膜パター
ン１８上で行っておけば、光のもれの無いより高精度々
色フィルタを製造できる。第４図で、第３図と同じ番号
は、第３図と同じものを示している。
以上述べてきた、本発明の方法によると、２色の染色に
より、四つの領域すなわち黄、緑、シアン、透明部の染
料が可能であり・（分光特性を第１図に示す）、シかも
各色部品の染色ベース膜は、はじめのたソ一層のみの形
成工程で良いので、従来の多層型に比べ高密度、高精度
の色フィルタを製造できる。
より、四つの領域すなわち黄、緑、シアン、透明部の染
料が可能であり・（分光特性を第１図に示す）、シかも
各色部品の染色ベース膜は、はじめのたソ一層のみの形
成工程で良いので、従来の多層型に比べ高密度、高精度
の色フィルタを製造できる。
第１図（→〜（０）は従来の多層型色フィルタの製造工
程を説明するだめの工程断面図、第１図（ｄ）は同１ｏ
、−ツ フィルタの平面図、第２図（ａ）〜（ｄ）は本発明の一
実施例にかかる一層型色フィルタの製造工程を説明する
だめの工程断面図、第３図は本発明の方法により製造さ
れだ色フィルタの各色（シアン・・・・・１２ａｙ、黄
・・・・・１２Ｙ、緑・・・・・１２Ｇ、透明・・団・
１２Ｗ）の分光特性を示す図、第４図はさらに高精度な
色フィルタの他の実施例の断面図である。 １１・・・・・・基板、１２．１２’、１２”・・・・
・染色用ベース膜、１５． １５’・・・・・レジスト
パターン、１６゜１６′・・・・・・開口部。
程を説明するだめの工程断面図、第１図（ｄ）は同１ｏ
、−ツ フィルタの平面図、第２図（ａ）〜（ｄ）は本発明の一
実施例にかかる一層型色フィルタの製造工程を説明する
だめの工程断面図、第３図は本発明の方法により製造さ
れだ色フィルタの各色（シアン・・・・・１２ａｙ、黄
・・・・・１２Ｙ、緑・・・・・１２Ｇ、透明・・団・
１２Ｗ）の分光特性を示す図、第４図はさらに高精度な
色フィルタの他の実施例の断面図である。 １１・・・・・・基板、１２．１２’、１２”・・・・
・染色用ベース膜、１５． １５’・・・・・レジスト
パターン、１６゜１６′・・・・・・開口部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）所定の基板上へ−ＮＨ２基および−ｃｏｏＨ基を
有する染色用ベース膜を形成する工程と、前記染色用ベ
ース膜上に水を通さない第１のレジストパターンを形成
し、このレジストパターン開口部の前記染色用ベース膜
をアルデヒド類の水溶液で処理反応させる工程と前記レ
ジストパターンを除去した後、再び第２のレジストパタ
ーンを形成し、この第２のレジストパターンの開口部の
前記染色用ベース膜をフェノール類の水溶液で処理する
工程と、前記第２のレジストパターン除去後、酸性染料
及びカチオン染料で前記染色用ベース膜をそれぞれ染色
する工程を有することを特徴としだ色フィルタの製造方
法、（２）染色用ベース膜が、モザイク状もしくはスト
ライプ状に分離されていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項に記載の色フィルタの製造２ページ 方法。 （３）ベース膜間の分離領域が、光遮蔽膜パターン上で
行なわれていることを特徴とする特許請求の範囲第１項
に記載の色フィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57126898A JPS5917512A (ja) | 1982-07-20 | 1982-07-20 | 色フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57126898A JPS5917512A (ja) | 1982-07-20 | 1982-07-20 | 色フイルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5917512A true JPS5917512A (ja) | 1984-01-28 |
Family
ID=14946603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57126898A Pending JPS5917512A (ja) | 1982-07-20 | 1982-07-20 | 色フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5917512A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS613120A (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-09 | Dainippon Ink & Chem Inc | カラ−液晶表示用装置 |
| JPS6132846A (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-15 | Hoechst Japan Kk | カラ−マトリツクス及びその製造方法 |
| JPS62158182A (ja) * | 1986-01-07 | 1987-07-14 | 大成建設株式会社 | 発熱型枠 |
| JPS6429802A (en) * | 1987-07-24 | 1989-01-31 | Toppan Printing Co Ltd | Color filter |
-
1982
- 1982-07-20 JP JP57126898A patent/JPS5917512A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS613120A (ja) * | 1984-06-15 | 1986-01-09 | Dainippon Ink & Chem Inc | カラ−液晶表示用装置 |
| JPH0542649B2 (ja) * | 1984-06-15 | 1993-06-29 | Dainippon Ink & Chemicals | |
| JPS6132846A (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-15 | Hoechst Japan Kk | カラ−マトリツクス及びその製造方法 |
| JPS62158182A (ja) * | 1986-01-07 | 1987-07-14 | 大成建設株式会社 | 発熱型枠 |
| JPS6429802A (en) * | 1987-07-24 | 1989-01-31 | Toppan Printing Co Ltd | Color filter |
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