JPS59232304A - カラ−フィルタの製造方法 - Google Patents
カラ−フィルタの製造方法Info
- Publication number
- JPS59232304A JPS59232304A JP58107035A JP10703583A JPS59232304A JP S59232304 A JPS59232304 A JP S59232304A JP 58107035 A JP58107035 A JP 58107035A JP 10703583 A JP10703583 A JP 10703583A JP S59232304 A JPS59232304 A JP S59232304A
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- JP
- Japan
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- color filter
- layer
- absorption layer
- reflection
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- Liquid Crystal (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、カラーフィルタの製造方法、特に固体撮像素
子に用いる色分解用のカラーフィルタおよび液晶ディス
プレー用カラーフィルタの製造方法に関するものである
。
子に用いる色分解用のカラーフィルタおよび液晶ディス
プレー用カラーフィルタの製造方法に関するものである
。
従来例の構成とその問題点
従来、カラーフィルターの製造法には、第１図から第３
図に示す方法が一般に用いられている。
図に示す方法が一般に用いられている。
すなわち光学的に透明な基板１上に染色可能な感光性樹
脂（ゼラチンやカゼインに重クロム酸塩等によシ感光性
を付与）をスピンナーで均一に塗布し、乾燥した後所定
のパターンのマスクラ介シテ１色［１のパターン部分２
だけ光硬化し現像処理を行なって１色目のパターン部分
２を形成し、これを所定の分光特性を有する色素の水溶
液に浸漬して染色を行い、その後水洗を行って基板およ
び必要なパターン部以外に付着した色素を除去し、乾燥
を行なって着色パターンを得る。ついで混色防止のため
の透明中間膜３を全面に塗布する。（第１図） 次に、同様にして第２図に示すように前記と同じ感光性
樹脂を塗布し、乾燥した後所定のパターンのマスクで露
光・現像して、２色目のパターン部分４を形成後、所定
の分光特性を有する第２の色素で染色する。さらに、前
記透明な中間膜６を全面に塗布する。
脂（ゼラチンやカゼインに重クロム酸塩等によシ感光性
を付与）をスピンナーで均一に塗布し、乾燥した後所定
のパターンのマスクラ介シテ１色［１のパターン部分２
だけ光硬化し現像処理を行なって１色目のパターン部分
２を形成し、これを所定の分光特性を有する色素の水溶
液に浸漬して染色を行い、その後水洗を行って基板およ
び必要なパターン部以外に付着した色素を除去し、乾燥
を行なって着色パターンを得る。ついで混色防止のため
の透明中間膜３を全面に塗布する。（第１図） 次に、同様にして第２図に示すように前記と同じ感光性
樹脂を塗布し、乾燥した後所定のパターンのマスクで露
光・現像して、２色目のパターン部分４を形成後、所定
の分光特性を有する第２の色素で染色する。さらに、前
記透明な中間膜６を全面に塗布する。
次に、同様にして、第３図に示すように、前記と同じ感
光性樹脂を均一に塗布し、乾燥した後、所定のパターン
のマスクで露光現像して、３色目のパターン部分６を形
成し、所定の分光特性を有する第３の色素で染色する。
光性樹脂を均一に塗布し、乾燥した後、所定のパターン
のマスクで露光現像して、３色目のパターン部分６を形
成し、所定の分光特性を有する第３の色素で染色する。
最後に、トップコート７を塗布して、第３図に示すよう
なカラーフィルターが製造される。その後、このカラー
フィルターと固体撮像素子を接着剤を用いて、撮像素子
の微細パターンへ位置合せをしながら貼合せる方法がと
られている。また。
なカラーフィルターが製造される。その後、このカラー
フィルターと固体撮像素子を接着剤を用いて、撮像素子
の微細パターンへ位置合せをしながら貼合せる方法がと
られている。また。
上記の工程をへて、固体撮像素子上に直接カラーフィル
ターを積層する方法が行なわれている。
ターを積層する方法が行なわれている。
この様なカラーフィルタ製造方法において一中間膜（保
護膜）の材料としては、透明性の良い（ｓｏｏｎｍ以上
の波長を透過）ポリメチルメタクリレート（以下ＰＭＭ
Ａ ）やポリグリシジルメタクリレート（以下ＰＧＭＡ
）などが使用されていた。保護膜３として、ＰＭＭＡや
ＰＧＭＡを使用すると、近紫外光で感光する染色可能な
感光性樹脂のパターン寸法が、基板と保護膜からの散乱
および反射により変化する。このことは、積層型の第一
染色層とその上の染色層の露光条件のちがいに表われて
くる。さらに、染色可能な感光性樹脂のパターン・エツ
ジの有する傾斜した壁の角度がなだらかになり、隣接の
パターンとのオーバラクプがおこり、異なる色の染色層
間の混色の原因となる。
護膜）の材料としては、透明性の良い（ｓｏｏｎｍ以上
の波長を透過）ポリメチルメタクリレート（以下ＰＭＭ
Ａ ）やポリグリシジルメタクリレート（以下ＰＧＭＡ
）などが使用されていた。保護膜３として、ＰＭＭＡや
ＰＧＭＡを使用すると、近紫外光で感光する染色可能な
感光性樹脂のパターン寸法が、基板と保護膜からの散乱
および反射により変化する。このことは、積層型の第一
染色層とその上の染色層の露光条件のちがいに表われて
くる。さらに、染色可能な感光性樹脂のパターン・エツ
ジの有する傾斜した壁の角度がなだらかになり、隣接の
パターンとのオーバラクプがおこり、異なる色の染色層
間の混色の原因となる。
発明の目的
本発明は、カラーフィルタ製造工程において。
基板からの反射を防止し、フィルタ用のパターンの精度
を上げ、パターン・エツジの広がりを防止する。さらに
、積層方式によりフィルタを形成するだめの各染色層間
の露光条件の変動をおさえ。
を上げ、パターン・エツジの広がりを防止する。さらに
、積層方式によりフィルタを形成するだめの各染色層間
の露光条件の変動をおさえ。
パターンの精度を上げ、パターン・エツジの広がりを防
止し、フィルタ各染色層間の混色を防止するためになさ
れたものである。
止し、フィルタ各染色層間の混色を防止するためになさ
れたものである。
発明の構成
本発明は、染色層の下部に可視光域よりも短波長たとえ
ば３００ｎｍから４００ ｎｍの波長の光を吸収する物
質を塗布してなる吸収層をもうけることを特徴とする。
ば３００ｎｍから４００ ｎｍの波長の光を吸収する物
質を塗布してなる吸収層をもうけることを特徴とする。
その物質は、たとえば３００ ｎｍ〜４０ｏｎｍに吸収
を有する化合物（たとえば、ベンゾフェノン系、サリシ
レート系あるいはベンゾトリアゾール系などの紫外線吸
収剤）を高分子中に練り混んだ物等を塗布する。あるい
は、高分子のペンダントに、前述の紫外線吸収剤を結合
した高分子を塗布しても良い。さらに、この吸収層自体
感光性を有する高分子でも良い。特に、その感光基とし
て、シンナモイル基、シナミリデンアセチル基、ベンザ
ルアセトフェノン基（カルコン基）、スチリルピリジン
基、α−フェニルマレイミド基などが有効である。さら
に、これら感光基の誘導体でも良いＯ 実施例の説明 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
を有する化合物（たとえば、ベンゾフェノン系、サリシ
レート系あるいはベンゾトリアゾール系などの紫外線吸
収剤）を高分子中に練り混んだ物等を塗布する。あるい
は、高分子のペンダントに、前述の紫外線吸収剤を結合
した高分子を塗布しても良い。さらに、この吸収層自体
感光性を有する高分子でも良い。特に、その感光基とし
て、シンナモイル基、シナミリデンアセチル基、ベンザ
ルアセトフェノン基（カルコン基）、スチリルピリジン
基、α−フェニルマレイミド基などが有効である。さら
に、これら感光基の誘導体でも良いＯ 実施例の説明 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
めの吸収層９として、ベンザルアセトフェノン基を有す
る高分子（４メトキシ４′メタクリロイロキシカルコン
とグリシジルメタクリレートの共重合物二以下４Ｍ８０
−４’ＭＯ−ＧＭ Ａ ） ｉｌ μｍの厚みに塗布
する。その後、紫外光を面照度４．５ｍＷ外法で５分間
照射する。この時の照射時間は、４分間の照射でａＭ８
０−４’ＭＯ−ＧＭＡの３６５ ｎｍにおける吸光度は
０．３であり、６分間照射しても吸光度に変化が見られ
なかった時間に設定した。次に、この基板上にゼラチン
−重クロム酸系の感光液１０を塗布し、乾燥後（膜厚１
μｍ）、１Ｑμｍ角のパターンを持つマスク１１を弄し
て、紫外光ｌを面照射度１．６ｍＷ／ｃＡ で９０秒照
射後、現像を行なって露光領域１２のみを感光パターン
として残した。その後、形成されたパターンの広がりを
測定するとパターン上部と下部の差は０．２μｍであっ
た。比較のため、ガラス板上に前述の感光液を塗布し、
同様のパターン出しを行ない上部と下部の差を測定する
と０．７μｍであった○この結果よシ、吸収層９をもう
けることにより、基板からの反射を吸収しパターンの広
がりを防止することができる。
る高分子（４メトキシ４′メタクリロイロキシカルコン
とグリシジルメタクリレートの共重合物二以下４Ｍ８０
−４’ＭＯ−ＧＭ Ａ ） ｉｌ μｍの厚みに塗布
する。その後、紫外光を面照度４．５ｍＷ外法で５分間
照射する。この時の照射時間は、４分間の照射でａＭ８
０−４’ＭＯ−ＧＭＡの３６５ ｎｍにおける吸光度は
０．３であり、６分間照射しても吸光度に変化が見られ
なかった時間に設定した。次に、この基板上にゼラチン
−重クロム酸系の感光液１０を塗布し、乾燥後（膜厚１
μｍ）、１Ｑμｍ角のパターンを持つマスク１１を弄し
て、紫外光ｌを面照射度１．６ｍＷ／ｃＡ で９０秒照
射後、現像を行なって露光領域１２のみを感光パターン
として残した。その後、形成されたパターンの広がりを
測定するとパターン上部と下部の差は０．２μｍであっ
た。比較のため、ガラス板上に前述の感光液を塗布し、
同様のパターン出しを行ない上部と下部の差を測定する
と０．７μｍであった○この結果よシ、吸収層９をもう
けることにより、基板からの反射を吸収しパターンの広
がりを防止することができる。
実施例２
次に、第６図〜第８図は固体撮像素子上にカラーフィル
タを形成する工程を示す。
タを形成する工程を示す。
まず、３ｏ６ｎｍ〜４００ ｎｍ 波長の吸収膜とし
て４ ＭｅＯ−４’ＭＣ−Ｇ Ｍ Ａ共重合物を、固体
撮像素子１３上に回転塗布機を用いて均一に塗布し、基
板からの反射を吸収する吸収層１６を形成する。
て４ ＭｅＯ−４’ＭＣ−Ｇ Ｍ Ａ共重合物を、固体
撮像素子１３上に回転塗布機を用いて均一に塗布し、基
板からの反射を吸収する吸収層１６を形成する。
（第６図）
次にゼラチン−重クロム酸系感光性樹脂を塗布し、乾燥
する。その後マスク露光法により赤色を感じるべき部分
である１層目のパターン部分だけを面照度１．６ｍＷ／
ｃ４ で９０秒間露光し、現像する。ついで、この残
された感光性樹脂を赤色染料で染色し、第１層着色パタ
ーン１６を形成する。
する。その後マスク露光法により赤色を感じるべき部分
である１層目のパターン部分だけを面照度１．６ｍＷ／
ｃ４ で９０秒間露光し、現像する。ついで、この残
された感光性樹脂を赤色染料で染色し、第１層着色パタ
ーン１６を形成する。
この上部に、第１層の保護膜および第２層の吸収層とし
て一４Ｍθ０・４’ＭＯ−ＧＭＡ共重合物膜１７を塗布
する。（第６図） 次いで、前記感光性樹脂を塗布しマスク露光法で緑色を
感じるべき部分に２層目のパターン部分全面照度１．６
ｍ Ｗ／ｃＪＨで９０秒間露光し、現像する。残され
た感光性樹脂を緑色染料で染色し、２層目の着色パター
ン１８を形成する。さらにこの上部に、第２層の保護膜
および第３層の吸収膜として−ａ ＭａＯ−４’Ｍ Ｏ
−Ｇ Ｍ Ａ共重合物膜１９を塗布する。（第７図） 同様に感光性樹脂を塗布後、同様の露光条件（面照度：
１．５ ｍＷ／ｃ４ 、９０秒）で露光・現像後。
て一４Ｍθ０・４’ＭＯ−ＧＭＡ共重合物膜１７を塗布
する。（第６図） 次いで、前記感光性樹脂を塗布しマスク露光法で緑色を
感じるべき部分に２層目のパターン部分全面照度１．６
ｍ Ｗ／ｃＪＨで９０秒間露光し、現像する。残され
た感光性樹脂を緑色染料で染色し、２層目の着色パター
ン１８を形成する。さらにこの上部に、第２層の保護膜
および第３層の吸収膜として−ａ ＭａＯ−４’Ｍ Ｏ
−Ｇ Ｍ Ａ共重合物膜１９を塗布する。（第７図） 同様に感光性樹脂を塗布後、同様の露光条件（面照度：
１．５ ｍＷ／ｃ４ 、９０秒）で露光・現像後。
青色染料溶液で染色し、３層目の着色パターン２０’Ｑ
形成する０その後、トクブコート２１の形成を行なう。
形成する０その後、トクブコート２１の形成を行なう。
（第８図）
比較のため、従来のように中間膜３としてＰＭＭＭＡを
用いた場合のフィルタ各層間の露光条件は、第１層目は
７６秒、第２層目は８０秒、第３層目は８６秒であった
。各層間のパターン幅の変動は０．３μｍ−０，５μｍ
であった０これは吸収層がもうけられていないため、
基板からの反射により変動している。前述の様に、吸収
層をもうけることにより、変動をおさえるとともに、パ
ターンのひろがシは０．１μｍとなり染色層間のかさな
りをおさえることができる。
用いた場合のフィルタ各層間の露光条件は、第１層目は
７６秒、第２層目は８０秒、第３層目は８６秒であった
。各層間のパターン幅の変動は０．３μｍ−０，５μｍ
であった０これは吸収層がもうけられていないため、
基板からの反射により変動している。前述の様に、吸収
層をもうけることにより、変動をおさえるとともに、パ
ターンのひろがシは０．１μｍとなり染色層間のかさな
りをおさえることができる。
発明の効果
本発明は、カラーフィルタ製造時における下部層からの
反射を防止することにより一上部層形成時における露光
条件の変動をおさえ製造条件を安定化をはかる。さらに
、染色可能な感光性樹脂のパターン・エツジがシャープ
になり隣接するパターンとのオーバラクプがなくなり、
フィルタ各色間の混色を防止することができる０
反射を防止することにより一上部層形成時における露光
条件の変動をおさえ製造条件を安定化をはかる。さらに
、染色可能な感光性樹脂のパターン・エツジがシャープ
になり隣接するパターンとのオーバラクプがなくなり、
フィルタ各色間の混色を防止することができる０
第１図、第２図、第３図は従来のカラーフィルり製造工
程を示す図、第４図は本発明の一実施例の露光モデルを
示す図、第６図、第６図、第７図。 第８図は本発明の実施例のカラーフィルタ製造工程を示
す図である。 ８・・・・・・ガラス基板−９，１５，１９・・・・・
・ａＭｔ３０・４’Ｍ Ｏ−Ｇ Ｍ Ａ吸収層−１０・
・・・・・ゼラチン感光層。 １１・・・・・・マスク、１２・・・・・・露光領域、
ｌ・・・・・・紫外光、１３・・−・・・固体撮像素子
、１６・・・・−・第１着色層。 １８・・・・・・第２着色層、２Ｑ・・・・・・第３着
色層Ｑ代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１
名第１図 ３ ２／２ 第２図 ２／２ 第３図 第４図
程を示す図、第４図は本発明の一実施例の露光モデルを
示す図、第６図、第６図、第７図。 第８図は本発明の実施例のカラーフィルタ製造工程を示
す図である。 ８・・・・・・ガラス基板−９，１５，１９・・・・・
・ａＭｔ３０・４’Ｍ Ｏ−Ｇ Ｍ Ａ吸収層−１０・
・・・・・ゼラチン感光層。 １１・・・・・・マスク、１２・・・・・・露光領域、
ｌ・・・・・・紫外光、１３・・−・・・固体撮像素子
、１６・・・・−・第１着色層。 １８・・・・・・第２着色層、２Ｑ・・・・・・第３着
色層Ｑ代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１
名第１図 ３ ２／２ 第２図 ２／２ 第３図 第４図
Claims (4)
- （１）基板上に、可視光域よりも短波長の光に吸収を有
する物質を塗布して吸収層を形成する工程。 前記吸収層上に染色可能な感光性樹脂を塗布する工程、
前記工程により形成された感光性樹脂に所定のパターン
を露光し、現像によって所定のパターンを得る工程、前
記パターンを染料によシ染色して、染色された所定の着
色パターンを形成する工程とを有するカラーフィルタの
製造方法。 - （２）基板として、固体撮像素子を用いることを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のカラーフィルタの製造
方法。 - （３）吸収層を形成する物質として、４メトキシ４′メ
タク１１０イロキシカルコンとグリシジルメタクリレー
トの共重合物を用いたことを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載のカラーフィルタの製造方法。 - （４）吸収層を形成する物質として、４′メトキシ４メ
タクリロイロギシカルコンとグリシジルメタクリレート
の共重合物を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58107035A JPS59232304A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | カラ−フィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58107035A JPS59232304A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | カラ−フィルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59232304A true JPS59232304A (ja) | 1984-12-27 |
| JPH045163B2 JPH045163B2 (ja) | 1992-01-30 |
Family
ID=14448864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58107035A Granted JPS59232304A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | カラ−フィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59232304A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01142605A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-05 | Toppan Printing Co Ltd | 固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法 |
| JPH03142402A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-18 | Konica Corp | カラーフィルター |
| JPH04235504A (ja) * | 1991-01-10 | 1992-08-24 | Matsushita Electron Corp | カラー固体撮像装置の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5638040A (en) * | 1979-09-05 | 1981-04-13 | Hitachi Ltd | Pattern forming method |
| JPS5651183A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-08 | Hitachi Ltd | Color solid image pickup element |
-
1983
- 1983-06-15 JP JP58107035A patent/JPS59232304A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5638040A (en) * | 1979-09-05 | 1981-04-13 | Hitachi Ltd | Pattern forming method |
| JPS5651183A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-08 | Hitachi Ltd | Color solid image pickup element |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01142605A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-05 | Toppan Printing Co Ltd | 固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法 |
| JPH03142402A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-18 | Konica Corp | カラーフィルター |
| JPH04235504A (ja) * | 1991-01-10 | 1992-08-24 | Matsushita Electron Corp | カラー固体撮像装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH045163B2 (ja) | 1992-01-30 |
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