JPS597318A - 色光分解フイルタおよびその製造法 - Google Patents
色光分解フイルタおよびその製造法Info
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- JPS597318A JPS597318A JP57115949A JP11594982A JPS597318A JP S597318 A JPS597318 A JP S597318A JP 57115949 A JP57115949 A JP 57115949A JP 11594982 A JP11594982 A JP 11594982A JP S597318 A JPS597318 A JP S597318A
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- separation filter
- gelatin
- color light
- light separation
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、耐光性を改良したカラーイメージセンサなど
に使用する色光分解フィルタおよびその製造法に関する
。
に使用する色光分解フィルタおよびその製造法に関する
。
従来、これらの色光分解フィルタは、特公昭５２−１７
５７５号公報に記載されているように、ゼラチンやポリ
ビニルアルコールな゛どの水溶性樹脂に感光性を付与し
た感光液をガラス基板等の面上に均一に塗布し乾燥させ
て感光膜を形成する工程、写真製版技術を用いてストラ
イプやモザイク状など所望形状の画像を形成する工程、
該画像部分を所定の分光特性を有する染料を用いて染色
法等で着色する工程、および透明な中間保護膜を被覆す
る工程を順次繰り返し、所望形状の着色画像を形成した
のち最上面に透明な保護膜を形成する製造法が広く採用
されている。
５７５号公報に記載されているように、ゼラチンやポリ
ビニルアルコールな゛どの水溶性樹脂に感光性を付与し
た感光液をガラス基板等の面上に均一に塗布し乾燥させ
て感光膜を形成する工程、写真製版技術を用いてストラ
イプやモザイク状など所望形状の画像を形成する工程、
該画像部分を所定の分光特性を有する染料を用いて染色
法等で着色する工程、および透明な中間保護膜を被覆す
る工程を順次繰り返し、所望形状の着色画像を形成した
のち最上面に透明な保護膜を形成する製造法が広く採用
されている。
カラーイメージセンサ等に使用される色光分解フィルタ
は、一般に赤、緑、青の三原色力）、それらの補色であ
るシアン、マゼンタ、イエロー等に着色されたものが多
く用いられる。また、その色調は鮮明で、かつ所定の分
光特性を有してし゛・ることか第１餞的に要求される。
は、一般に赤、緑、青の三原色力）、それらの補色であ
るシアン、マゼンタ、イエロー等に着色されたものが多
く用いられる。また、その色調は鮮明で、かつ所定の分
光特性を有してし゛・ることか第１餞的に要求される。
しかし、該色光分解フィルタ用の着色材料として広く用
し）られるアゾ系、アントラキノン系、トリフェニルメ
タン系やキサンチン系などの酸性染料のうち、これらの
要求項目を満足するものは一般に耐光性に問題力（あり
、紫外線等の照射により光酸化・還元などの光化学反応
をおこして退色しやすい。従って製品寿命への影響はも
ちろんのこと、前述したごとく同一基板上に数種類の分
光特性をもつ着色画像を作製する場合には用いる着色料
に製造上の制約が生じるためより耐光性のものが望まれ
ている０また固体撮像素子等の表面上に直接色分解フィ
ルタを形成する場合には、最上面の保護膜および中間保
護膜に入出力配線のためのボンディングバット用の穴を
加工する必要がある。そのためには最上面の保護膜上に
ホトレジスト等を塗布し、紫外線露光装置等により画像
を形成しさらにドライエツチング等の手法にて加工する
方法、あるいは保護膜等を紫外線露光装置等により直接
露光し加工する方法がある。しかしながら前者の方法は
工程数が増加すること、さらにはホトレジストは通常有
色であり、色光分解フィルタに用いるには不適である等
の問題を有し、後者の方法は最上面の保護膜ないし中間
保護膜中に選択透過性でない紫外線吸収剤が添加されて
いるために感度が大幅に低下し、生産性が悪化するとい
う問題点が生じる。
し）られるアゾ系、アントラキノン系、トリフェニルメ
タン系やキサンチン系などの酸性染料のうち、これらの
要求項目を満足するものは一般に耐光性に問題力（あり
、紫外線等の照射により光酸化・還元などの光化学反応
をおこして退色しやすい。従って製品寿命への影響はも
ちろんのこと、前述したごとく同一基板上に数種類の分
光特性をもつ着色画像を作製する場合には用いる着色料
に製造上の制約が生じるためより耐光性のものが望まれ
ている０また固体撮像素子等の表面上に直接色分解フィ
ルタを形成する場合には、最上面の保護膜および中間保
護膜に入出力配線のためのボンディングバット用の穴を
加工する必要がある。そのためには最上面の保護膜上に
ホトレジスト等を塗布し、紫外線露光装置等により画像
を形成しさらにドライエツチング等の手法にて加工する
方法、あるいは保護膜等を紫外線露光装置等により直接
露光し加工する方法がある。しかしながら前者の方法は
工程数が増加すること、さらにはホトレジストは通常有
色であり、色光分解フィルタに用いるには不適である等
の問題を有し、後者の方法は最上面の保護膜ないし中間
保護膜中に選択透過性でない紫外線吸収剤が添加されて
いるために感度が大幅に低下し、生産性が悪化するとい
う問題点が生じる。
本発明はかかる問題点に鑑みなされたものであり、色光
分解フィルタにおいて着色層間および最上面に形成され
る透明な絶縁材料等からなる保護膜のうち少なくとも最
上面の保護膜中に波長３３０ｎｍ以下の遠紫外線（通常
Ｄｅｅｐ ＵＶと呼ばれる）を透過し、それ以外の紫外
線を吸収する紫外線吸収剤を導入することにより、着色
画像に対して有害な作用をする紫外線等を除去し耐光性
を達成するとともに、固体撮像素子等の表面上に直接色
分解フィルタを形成する場合には、上述の遠赤外線によ
り中間保護膜および最上面の保護膜を直接露光して穴あ
け加工を行なうことによって、製造工程を増加させずま
た量産性を損うことのない色光分解フィルタおよびその
製造法を提供するものである。
分解フィルタにおいて着色層間および最上面に形成され
る透明な絶縁材料等からなる保護膜のうち少なくとも最
上面の保護膜中に波長３３０ｎｍ以下の遠紫外線（通常
Ｄｅｅｐ ＵＶと呼ばれる）を透過し、それ以外の紫外
線を吸収する紫外線吸収剤を導入することにより、着色
画像に対して有害な作用をする紫外線等を除去し耐光性
を達成するとともに、固体撮像素子等の表面上に直接色
分解フィルタを形成する場合には、上述の遠赤外線によ
り中間保護膜および最上面の保護膜を直接露光して穴あ
け加工を行なうことによって、製造工程を増加させずま
た量産性を損うことのない色光分解フィルタおよびその
製造法を提供するものである。
本発明の色光分解フィルタの感光材料には、染色特性等
がすぐれているゼラチン・重クロム酸塩感光材料が好ま
しく、さらに該ゼラチンは数平均分子量が２０．０００
以下、好ましくは２．０００〜２０．０００の範囲に調
整された低分子量ゼラチンが室温で容易に水に溶解し、
濾過特性や画像形成特性がすぐれているなどの利点をも
つので使用に適している。
がすぐれているゼラチン・重クロム酸塩感光材料が好ま
しく、さらに該ゼラチンは数平均分子量が２０．０００
以下、好ましくは２．０００〜２０．０００の範囲に調
整された低分子量ゼラチンが室温で容易に水に溶解し、
濾過特性や画像形成特性がすぐれているなどの利点をも
つので使用に適している。
数平均分子量が２，０００以下になると塗膜形成能が低
下するので好ましくない。
下するので好ましくない。
また本発明で用いられる透明絶縁材料としては、７回転
塗布法が使用でき、形成された保護膜の加工の容易さの
点から、遠紫外線に対してポジ型である材料たとえばポ
リメチルメタクリレート、ボリメチルイソプロペニルケ
トン、ポリグリシジルメタクリレート等やこれらの共重
合体でかつ光透過性の良好なポリメタクリレート類が好
ましい。
塗布法が使用でき、形成された保護膜の加工の容易さの
点から、遠紫外線に対してポジ型である材料たとえばポ
リメチルメタクリレート、ボリメチルイソプロペニルケ
トン、ポリグリシジルメタクリレート等やこれらの共重
合体でかつ光透過性の良好なポリメタクリレート類が好
ましい。
さらに中間保護膜または最上面の保護膜は波長３３０ｍ
ｍ程度以下の遠紫外線を透過する紫外線吸収剤を含んだ
透明絶縁材料からなる溶液を回転法等により塗布し、加
熱して形成することが工程簡略化の点からもきわめて有
利である。すなわち、これらの中間保護膜や最上面の保
護膜はＣＶＤ法、蒸着法、スパッタリング法やプラズマ
重合法などの気相法で形成することも可能であるが、紫
外線吸収剤を含んだ保護膜を形成するのはこれら気相法
では困難なためである。
ｍ程度以下の遠紫外線を透過する紫外線吸収剤を含んだ
透明絶縁材料からなる溶液を回転法等により塗布し、加
熱して形成することが工程簡略化の点からもきわめて有
利である。すなわち、これらの中間保護膜や最上面の保
護膜はＣＶＤ法、蒸着法、スパッタリング法やプラズマ
重合法などの気相法で形成することも可能であるが、紫
外線吸収剤を含んだ保護膜を形成するのはこれら気相法
では困難なためである。
本発明で使用される波長３３０ｎｍ程度以下の紫外線を
透過しつる紫外線吸収剤としてはベンゾトリアゾール系
のものがあげられ、たとえば２−（２’−ヒドロキシ−
５′−ｔ−オクチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジー七−アミル
ーフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロ
キシ−５７＋ ｔ−ブチル−フェニル）−トリアゾール
および２−（２’−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５
′−メチル−７エエル）−５−り四ロベンゾトリアゾー
ル等があるが、これらの紫外線吸収剤のみに限定される
ものではない。
透過しつる紫外線吸収剤としてはベンゾトリアゾール系
のものがあげられ、たとえば２−（２’−ヒドロキシ−
５′−ｔ−オクチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジー七−アミル
ーフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロ
キシ−５７＋ ｔ−ブチル−フェニル）−トリアゾール
および２−（２’−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５
′−メチル−７エエル）−５−り四ロベンゾトリアゾー
ル等があるが、これらの紫外線吸収剤のみに限定される
ものではない。
これらの紫外線吸収剤の添加量は中間保護膜および最上
面の保護膜の厚さに密接に依存するが、Ｑ、０１〜１Ｑ
ＰＨＲ（Ｐｅｒ Ｈｕｎｄｒｅｄ Ｒｅ５ｉｎ ）でよ
く、後工程を考慮すれば好ましくは０．０５〜５ＰＨＨ
の範囲である。
面の保護膜の厚さに密接に依存するが、Ｑ、０１〜１Ｑ
ＰＨＲ（Ｐｅｒ Ｈｕｎｄｒｅｄ Ｒｅ５ｉｎ ）でよ
く、後工程を考慮すれば好ましくは０．０５〜５ＰＨＨ
の範囲である。
以下実施例をあげて本発明をより詳細に説明するが、本
発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
実施例１
数平均分子量が約２０．０００の低分子量ゼラチンを用
いて、ゼラチン−重クロム酸アンモニウム感光液を調合
し、該感光液を゛スピナを用いて０ＯＤ（Ｏｈａｒｇ＠
ｄ ０ｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｏｅ ）による２次元撮
像素子を有するシリコンウェハ上に均一に塗布し、７０
００で１５分間乾燥して感光膜を形成した。所定の画像
形状を有するクロムマスクを通して紫外線露光をし、光
硬化させたのち、温水現像にて画像形成を行なった。つ
いで所定の分光特性を有する染料を用いて該画像部分を
染色し、タンニン酸と酢酸混合水溶液にて硬膜処理を行
なった。２９０〜３７０ｎｍの光を吸収する紫外線吸収
剤として２−（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔ
−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾール（第１図にそ
の吸収スペクトルを示す）を用い、これをポリメチルイ
ソプロペニルケトン（ＰＭ工ＰＫ）溶液に添加して濃度
５ＰＨＨの溶液とし、これを塗布乾燥して保護膜を形成
し色光分解フィルタを作製し、加速試験装置を使用して
耐光性を調べた。さらにボンディングバット等のための
保護膜穴あけ加工を遠紫外線露光装置を用いて行ない画
像形成性をテストした。結果を第１表に示す。第１表に
おいてＯ印は試験結果が良好であること、Δ印は普通程
度であること、×印は結果が好ましくないことを表わす
。
いて、ゼラチン−重クロム酸アンモニウム感光液を調合
し、該感光液を゛スピナを用いて０ＯＤ（Ｏｈａｒｇ＠
ｄ ０ｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｏｅ ）による２次元撮
像素子を有するシリコンウェハ上に均一に塗布し、７０
００で１５分間乾燥して感光膜を形成した。所定の画像
形状を有するクロムマスクを通して紫外線露光をし、光
硬化させたのち、温水現像にて画像形成を行なった。つ
いで所定の分光特性を有する染料を用いて該画像部分を
染色し、タンニン酸と酢酸混合水溶液にて硬膜処理を行
なった。２９０〜３７０ｎｍの光を吸収する紫外線吸収
剤として２−（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔ
−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾール（第１図にそ
の吸収スペクトルを示す）を用い、これをポリメチルイ
ソプロペニルケトン（ＰＭ工ＰＫ）溶液に添加して濃度
５ＰＨＨの溶液とし、これを塗布乾燥して保護膜を形成
し色光分解フィルタを作製し、加速試験装置を使用して
耐光性を調べた。さらにボンディングバット等のための
保護膜穴あけ加工を遠紫外線露光装置を用いて行ない画
像形成性をテストした。結果を第１表に示す。第１表に
おいてＯ印は試験結果が良好であること、Δ印は普通程
度であること、×印は結果が好ましくないことを表わす
。
実施例２
紫外線吸収剤として２−（２’−ヒドロキシ−３’ 、
５’ −シーｔ−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾ
ールを用い、これをポリメチルメタクリレ−）（ＰＭＭ
人）溶液に添加して濃度２．５ＰＩ（Ｈの溶液としたほ
かは実施例１と同様にして実験を行なった。結果を第１
表に示す。
５’ −シーｔ−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾ
ールを用い、これをポリメチルメタクリレ−）（ＰＭＭ
人）溶液に添加して濃度２．５ＰＩ（Ｈの溶液としたほ
かは実施例１と同様にして実験を行なった。結果を第１
表に示す。
実施例６
紫外線吸収剤として２−（２’−ヒドロキシ−５′−メ
チル−フェニル）ベンゾトリアゾール（第１図にその吸
収スペクトルを示す）を用いこれをポリメチルイソプロ
ペニルケトン（ＰＭ工ＰＫ）溶液に添加して濃度５ＰＨ
Ｈの溶液としたほかは実施例１と同様にして実験を行な
った。結果を第１表に示す。
チル−フェニル）ベンゾトリアゾール（第１図にその吸
収スペクトルを示す）を用いこれをポリメチルイソプロ
ペニルケトン（ＰＭ工ＰＫ）溶液に添加して濃度５ＰＨ
Ｈの溶液としたほかは実施例１と同様にして実験を行な
った。結果を第１表に示す。
実施例４
紫外線吸収剤として２−（２’−ヒドロキシ−５′−メ
チル−フェニル）ベンゾトリアゾールを用い、これをポ
リメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）に添加して濃度１
．ＱＰＨＨの溶液としたほかは実施例１と同様にして実
験を行なった。結果を第１表に示す。
チル−フェニル）ベンゾトリアゾールを用い、これをポ
リメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）に添加して濃度１
．ＱＰＨＨの溶液としたほかは実施例１と同様にして実
験を行なった。結果を第１表に示す。
実施例５
紫外線吸収剤として２−（２’−ヒドロキシ−５′−メ
チル−フェニル）ベンゾトリアゾールを用い、これをポ
リグリシジルメタクリレ−） （ＰＣ）ＭＡ）に添加し
て濃度ｉ、ＱＰＨＲの溶液としたほかは実施例１と同様
にして実験を行なった。結果を第１表に示す。
チル−フェニル）ベンゾトリアゾールを用い、これをポ
リグリシジルメタクリレ−） （ＰＣ）ＭＡ）に添加し
て濃度ｉ、ＱＰＨＲの溶液としたほかは実施例１と同様
にして実験を行なった。結果を第１表に示す。
比較例１
紫外線吸収剤として通常の２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン（第１図にその吸収スペクトルを示す）を用い
、これをポリメチルイソプロペニルケトン（ＰＭ工ＰＫ
）に添加して濃度５ＰＨＨの溶液としたほかは実施例１
と同様にして実験を行なった。結果を第１表に示す。
フェノン（第１図にその吸収スペクトルを示す）を用い
、これをポリメチルイソプロペニルケトン（ＰＭ工ＰＫ
）に添加して濃度５ＰＨＨの溶液としたほかは実施例１
と同様にして実験を行なった。結果を第１表に示す。
比較例２
紫外線吸収剤を添加しないポリメチルメタクリレート（
ＰＭＭＡ）溶液を用いたほかは実施例１と同様にして実
験を行なった。結果を第１表に示す。
ＰＭＭＡ）溶液を用いたほかは実施例１と同様にして実
験を行なった。結果を第１表に示す。
比較例６
紫外線吸収剤として２−（２’−ヒドロキシ−５，’
５’ −ジ−ｔ−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾー
ルを用い、これをホトレジスト（ＡＺ−１３５０、シプ
レー社製）に添加して濃度５ＰＨＨの溶液としたほかは
実施例１と同様にして実験を行なった。結果を第１表に
示す。
５’ −ジ−ｔ−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾー
ルを用い、これをホトレジスト（ＡＺ−１３５０、シプ
レー社製）に添加して濃度５ＰＨＨの溶液としたほかは
実施例１と同様にして実験を行なった。結果を第１表に
示す。
第１表から明らかなように中間保護膜および最上面の保
護膜中に紫外線吸収剤を含むものと含まないもの（比較
例２）との耐光性を加速試験装置を使用して比較検討し
たところ、前者の方が２倍以上退色劣化速度が遅く、色
光分解フィルタとしての性能を保持していた。しかしな
がら通常の紫外線吸収剤を混入した比較例１では後工程
のための露光時間が非常に長くなるなど、画像形成性の
低下が目立ち、また比較例３では画像形成性の低下はそ
れほど著しいものではなかったが、ホトレジスト基材が
有色であるため、カラーフィルタ性能に悪影響が現われ
た。他方第１図に示す３３０ｍｍ程度以下の遠紫外線を
透過する紫外線吸収剤を中間保護膜および最上面の保護
膜中に含み、かつ遠紫外線により画像形成を行なった実
施例１〜５は画像形成性、耐光性およびカラーフィルタ
特性も良好であった なお、第１図において（１）は２−（２’−ヒドロキシ
−３’、５’−ジーｔ−７ミルーフエニル）ベンゾトリ
アゾール（２−５ｍｇ／１００ｍｐエタノールで測定）
、（２）は２−（２’−ヒドロキシ−５′−メチル−
フェニル）ベンゾトリアゾール（１，２５ｍｇ／ｌ ０
０ｍｇエタノールで測定）および（３）は２．４−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン（２，５１１１９７１００町イ
ンプロパツールで測定）したグラフである。
護膜中に紫外線吸収剤を含むものと含まないもの（比較
例２）との耐光性を加速試験装置を使用して比較検討し
たところ、前者の方が２倍以上退色劣化速度が遅く、色
光分解フィルタとしての性能を保持していた。しかしな
がら通常の紫外線吸収剤を混入した比較例１では後工程
のための露光時間が非常に長くなるなど、画像形成性の
低下が目立ち、また比較例３では画像形成性の低下はそ
れほど著しいものではなかったが、ホトレジスト基材が
有色であるため、カラーフィルタ性能に悪影響が現われ
た。他方第１図に示す３３０ｍｍ程度以下の遠紫外線を
透過する紫外線吸収剤を中間保護膜および最上面の保護
膜中に含み、かつ遠紫外線により画像形成を行なった実
施例１〜５は画像形成性、耐光性およびカラーフィルタ
特性も良好であった なお、第１図において（１）は２−（２’−ヒドロキシ
−３’、５’−ジーｔ−７ミルーフエニル）ベンゾトリ
アゾール（２−５ｍｇ／１００ｍｐエタノールで測定）
、（２）は２−（２’−ヒドロキシ−５′−メチル−
フェニル）ベンゾトリアゾール（１，２５ｍｇ／ｌ ０
０ｍｇエタノールで測定）および（３）は２．４−ジヒ
ドロキシベンゾフェノン（２，５１１１９７１００町イ
ンプロパツールで測定）したグラフである。
実施例６
数平均分子成約５．０００の低分子量ゼラチンを用いて
ゼラチン・重クロム酸アンモニウム感光液を調合し、該
感光液全ＭＯ３（Ｍｅｔａｌ ０ｘ１ｄｅ ５ｉｌｉｏ
ｏ＠による２次元撮像素子を有するシリコンウェハ上に
０．８μｍ厚になるよう塗布、乾燥したのち、所定の形
状をもつマスクを位置合せして紫外線露光し、温水によ
る現像、乾燥後赤色染色溶液で染色して第１着色層を形
成した。ついで３％ホルマリン水溶液で硬膜処理したの
ち、ポリグリシジルメタクリレ−） （ＰＧＭＡ）の無
色透明な絶縁材料よりなる溶液を０．６μｍ厚に塗布し
、１５０°Ｃで乾燥させて透明中間層を形成した。以下
同様な方法でゼラチン・重クロム酸アンモニウム感光液
を１．２μｍ厚に塗布し、乾燥、位置合せ、露光、現像
、染色して緑色の第２色着色層を形成し、再び硬膜処理
を行なったのち透明中間層膜を形成した。さらに同じ工
程を繰返して青色の第６着色層を形成し、２次元撮像素
子面上におのおの赤、緑、青色に着色したゼラチン画像
を配列した。該ウエノ１に紫外線吸収剤として２−（２
’−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチル−フ
ェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールヲ用イ、これ
をポリグリシジルメタクリレ−） （ＰＧＭＡ）に添加
して濃度２．０ＰＨＲ溶液とし、これを塗布乾燥して最
上面の保護膜とした。この試料を実施例１と同様に耐光
性および保護膜の加工性を比較検討した。
ゼラチン・重クロム酸アンモニウム感光液を調合し、該
感光液全ＭＯ３（Ｍｅｔａｌ ０ｘ１ｄｅ ５ｉｌｉｏ
ｏ＠による２次元撮像素子を有するシリコンウェハ上に
０．８μｍ厚になるよう塗布、乾燥したのち、所定の形
状をもつマスクを位置合せして紫外線露光し、温水によ
る現像、乾燥後赤色染色溶液で染色して第１着色層を形
成した。ついで３％ホルマリン水溶液で硬膜処理したの
ち、ポリグリシジルメタクリレ−） （ＰＧＭＡ）の無
色透明な絶縁材料よりなる溶液を０．６μｍ厚に塗布し
、１５０°Ｃで乾燥させて透明中間層を形成した。以下
同様な方法でゼラチン・重クロム酸アンモニウム感光液
を１．２μｍ厚に塗布し、乾燥、位置合せ、露光、現像
、染色して緑色の第２色着色層を形成し、再び硬膜処理
を行なったのち透明中間層膜を形成した。さらに同じ工
程を繰返して青色の第６着色層を形成し、２次元撮像素
子面上におのおの赤、緑、青色に着色したゼラチン画像
を配列した。該ウエノ１に紫外線吸収剤として２−（２
’−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチル−フ
ェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールヲ用イ、これ
をポリグリシジルメタクリレ−） （ＰＧＭＡ）に添加
して濃度２．０ＰＨＲ溶液とし、これを塗布乾燥して最
上面の保護膜とした。この試料を実施例１と同様に耐光
性および保護膜の加工性を比較検討した。
その結果を第２表に示す。第２表において○印は試験結
果が良好であること、Δ印は普通程度であること、×印
は結果が好ましくないことを表わす。
果が良好であること、Δ印は普通程度であること、×印
は結果が好ましくないことを表わす。
実施例７
絶縁材料としてポリメチルイソプロペニルケトン（ＰＭ
ｌＰＫ）を用い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤とし
ての２−（２’−ヒドロキシ−３′−七−ブチル−５′
−メチルーフエニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
をポリメチルイソプロペニルケトン（ＰＭｌＰＫ）に添
加して濃度５．ＱＰＨＲの溶液とし最上面の保護膜を形
成した以外は実施例６と同様にして実験を行なった。結
果を第２表に示す。
ｌＰＫ）を用い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤とし
ての２−（２’−ヒドロキシ−３′−七−ブチル−５′
−メチルーフエニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
をポリメチルイソプロペニルケトン（ＰＭｌＰＫ）に添
加して濃度５．ＱＰＨＲの溶液とし最上面の保護膜を形
成した以外は実施例６と同様にして実験を行なった。結
果を第２表に示す。
実施例８
絶縁材料としてポリメチルメタクリレート（八μ）を用
い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤としての２− （
２’−ヒドロキシ−３′−七−ブチル−５′−メチル−
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールをポリメチ
ルメタクリレート（ＰＭＭＡ ）に添加して濃度０．５
ＰＨＨの溶液とし最上面の保護膜を形成した以外は実施
例６と同様にして実験を行なった。結果を第２表に示す
。
い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤としての２− （
２’−ヒドロキシ−３′−七−ブチル−５′−メチル−
フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾールをポリメチ
ルメタクリレート（ＰＭＭＡ ）に添加して濃度０．５
ＰＨＨの溶液とし最上面の保護膜を形成した以外は実施
例６と同様にして実験を行なった。結果を第２表に示す
。
実施例９
絶縁材料としてポリグリシジルメタクリレート（ＰＧＭ
Ａ）を用い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤としての
２− （２’−ヒト四キシー３ｚ５ｉ−ジーｔ−アミル
−フェニル）ベンゾトリアゾールをポリグリシジルメタ
クリレート（ＰＧＭＡ）に添加して濃度２，０ＰＨＨの
溶液とし最上面の保護膜を形成した以外は実施例６と同
様にして実験を行なった。結果を第２表に示す。
Ａ）を用い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤としての
２− （２’−ヒト四キシー３ｚ５ｉ−ジーｔ−アミル
−フェニル）ベンゾトリアゾールをポリグリシジルメタ
クリレート（ＰＧＭＡ）に添加して濃度２，０ＰＨＨの
溶液とし最上面の保護膜を形成した以外は実施例６と同
様にして実験を行なった。結果を第２表に示す。
絶縁材料としてポリメチルイソプロペニルケトン（ＰＭ
ｌＰＫ）を用い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤とし
ての２− （２’−ヒドロキシ−３’ 、 ５’−ジ−
ｔ−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾールをポリグリ
シジルメタクリレ−） （ＰＧＭＡ）に添加して濃度０
，１ＰＨＲ（実施例１０の場合）、濃度０．０５ＰＨＲ
（実施例１１の場合）の溶液とし最上面の保護膜を形成
した以外は実施例６と同様にして実験を行なった。結果
を第２表に示す。
ｌＰＫ）を用い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤とし
ての２− （２’−ヒドロキシ−３’ 、 ５’−ジ−
ｔ−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾールをポリグリ
シジルメタクリレ−） （ＰＧＭＡ）に添加して濃度０
，１ＰＨＲ（実施例１０の場合）、濃度０．０５ＰＨＲ
（実施例１１の場合）の溶液とし最上面の保護膜を形成
した以外は実施例６と同様にして実験を行なった。結果
を第２表に示す。
実施例１２
絶縁材料としてポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）
全用い中間保護膜を形成し、紫外＠吸収剤としての２−
（２’−ヒドロキシ−５’、５’−ジ−ｔ−アミル−７
エ二ル）ベンゾトリアゾールをポリメチルメタクリレ−
） （ＰＭＭＡ）に添加゛して濃度Ｑ、５ＰＨＲの溶液
とし最上面の保護膜を形成した以外は実施例６と同様に
して実験を行なった。結果を第２表に示す。
全用い中間保護膜を形成し、紫外＠吸収剤としての２−
（２’−ヒドロキシ−５’、５’−ジ−ｔ−アミル−７
エ二ル）ベンゾトリアゾールをポリメチルメタクリレ−
） （ＰＭＭＡ）に添加゛して濃度Ｑ、５ＰＨＲの溶液
とし最上面の保護膜を形成した以外は実施例６と同様に
して実験を行なった。結果を第２表に示す。
比較例４
絶縁材料としてポリメチルメタクリレ−） （Ｒａｉｌ
Ａ）を用い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤として通
常の２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンをポ
リメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）に添加して濃度０
．５ＰＨＨの溶液とし最上面の保護膜を形成した以外は
実施例６と同様にして実験を行なった。結果を第２表に
示す。
Ａ）を用い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤として通
常の２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンをポ
リメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）に添加して濃度０
．５ＰＨＨの溶液とし最上面の保護膜を形成した以外は
実施例６と同様にして実験を行なった。結果を第２表に
示す。
比較例５
絶縁材料としてポリメチルイソプロペニルケトン（ＰＭ
工ｐＫ）を用い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤とし
て通常の２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
をポリメチルイソプロペニルケトン（ＰＭ工ＰＫ）に添
加して濃度２．０ＰＨＲの溶液とし最上面の保護膜を形
成した以外は実施例６と同様にして実験を行なった。結
果を第２表に示す。
工ｐＫ）を用い中間保護膜を形成し、紫外線吸収剤とし
て通常の２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
をポリメチルイソプロペニルケトン（ＰＭ工ＰＫ）に添
加して濃度２．０ＰＨＲの溶液とし最上面の保護膜を形
成した以外は実施例６と同様にして実験を行なった。結
果を第２表に示す。
第２表に示したように紫外線吸収剤を含む保護膜を有す
るものは比較例４〜５−１実施例６〜１２のいずれにお
いても耐光性は良好であったが、ボンディングバット形
成等のための保護膜加工における画像形成性には明らか
な差が認められた。すなわち、通常の紫外線吸収剤を添
加した保護膜を遠紫外線露光装置にて露光、して画像形
成することは感度の低下が著しく、困難であった（参考
例４〜５）。しかしながら本発明による遠紫外線を透過
可能な紫外線吸収剤を添加した保護膜を遠紫外線露光装
置にて露光する方法にて画像形成することは、感度の低
下もなく、作業性や量産性等も良好であった（実施例６
〜１２）。また最終的にえられた′色光分解フィルタを
有する固体撮像素子の性能は良好であり、該紫外線吸収
剤を添加したことによる悪影響はまったく認められなか
った。
るものは比較例４〜５−１実施例６〜１２のいずれにお
いても耐光性は良好であったが、ボンディングバット形
成等のための保護膜加工における画像形成性には明らか
な差が認められた。すなわち、通常の紫外線吸収剤を添
加した保護膜を遠紫外線露光装置にて露光、して画像形
成することは感度の低下が著しく、困難であった（参考
例４〜５）。しかしながら本発明による遠紫外線を透過
可能な紫外線吸収剤を添加した保護膜を遠紫外線露光装
置にて露光する方法にて画像形成することは、感度の低
下もなく、作業性や量産性等も良好であった（実施例６
〜１２）。また最終的にえられた′色光分解フィルタを
有する固体撮像素子の性能は良好であり、該紫外線吸収
剤を添加したことによる悪影響はまったく認められなか
った。
第１図は本発明に使用される波長３３０ｎｍ以下の遠紫
外線を透過する紫外線吸収剤、および通常の紫外線口ψ
収剤のアルコール溶液の紫外線吸収スペクトルである。
外線を透過する紫外線吸収剤、および通常の紫外線口ψ
収剤のアルコール溶液の紫外線吸収スペクトルである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）水溶性樹脂に感光性を付与した感光材料を基板上
に塗布し、所望の形状に形成したのち染料にて染色して
えられる色光分解フィルタにおいて、着色層間および最
上面に形成される透明な保護膜のうち少なくとも最上面
の保護膜中に波長３３０ｎｍ以下の遠紫外線を透過し、
それ以外の紫外線を吸収する紫外線吸収剤が導入されて
いることを特徴とする色光分解フィルタ。 （２）前記感光材料がゼラチン・重クロム酸塩からなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の色光
分解フィルタ。 （８）前記ゼラチンの数平均分子量が２０．０００以下
の低分子量ゼラチンであることを特徴とする特許請求の
範囲第（２）項記載の色光分解フィルタ。 （４）前記ゼラチンの数平均分子量が２．０００〜２０
、０００であることを特徴とする特許請求の範囲第（２
）項記載の色光分解フィルタ （５）前記基板が固体撮像素子であることを特徴とする
特許請求の範囲第（１）項記載の色光分解フィルタ０ （６）水溶性樹脂に感光性を付与した感光材料を基板上
に塗布し、所望形状に形成したのち染料にて染色してえ
られる色光分解フィルタにおいて、着色層間および最上
面に形成される透明な絶縁材料からなる保護膜のうち少
なくとも最上面の保護膜中に波長３３０ｍｍ以下の遠紫
外線を透過し、それ以外の紫外線を吸収する紫外線吸収
剤を導入し、かつこれらの中間保護膜または最上面の保
護膜を回転法などにより溶液を塗布し、加熱して成膜す
ることを特徴とする色光分解フィルタの製造法。 （７）前記感光桐材がゼラチン・重クロム酸塩からなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第（６）項記載の色光
分解フィルタの製造法。 （８）前記ゼラチンの数平均分子量が２０．０００以下
の低分子量ゼラチンであることを特徴とする特許請求の
範囲第（７）項記載の色光分解フィルタの製造法。 （９）前記ゼラチンの数平均分子量が２．０００〜２０
．０００であることを特徴とする特許請求の範囲第（７
）項記載の色光分解フィルタの製造法。 ００）前記基板が固体撮像素子であることを特徴とする
特許請求の範囲第（０）項記載の色光分解フィルタの製
造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115949A JPS597318A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 色光分解フイルタおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57115949A JPS597318A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 色光分解フイルタおよびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS597318A true JPS597318A (ja) | 1984-01-14 |
Family
ID=14675140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57115949A Pending JPS597318A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 色光分解フイルタおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS597318A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61292604A (ja) * | 1985-06-20 | 1986-12-23 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
| JPS6286303A (ja) * | 1985-10-11 | 1987-04-20 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 有機カラ−フイルタ− |
| JPS63163802A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-07 | Matsushita Electronics Corp | カラ−固体撮像装置 |
| JPH03142402A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-18 | Konica Corp | カラーフィルター |
| TWI410736B (zh) * | 2008-06-27 | 2013-10-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 色輪及數位光處理投影儀 |
-
1982
- 1982-07-02 JP JP57115949A patent/JPS597318A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61292604A (ja) * | 1985-06-20 | 1986-12-23 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | カラ−フイルタ−の製造方法 |
| JPH0658443B2 (ja) * | 1985-06-20 | 1994-08-03 | 日本合成ゴム株式会社 | カラ−フイルタ−の製造方法 |
| JPS6286303A (ja) * | 1985-10-11 | 1987-04-20 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 有機カラ−フイルタ− |
| JPS63163802A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-07 | Matsushita Electronics Corp | カラ−固体撮像装置 |
| JPH03142402A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-18 | Konica Corp | カラーフィルター |
| TWI410736B (zh) * | 2008-06-27 | 2013-10-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 色輪及數位光處理投影儀 |
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