JPH045163B2 - - Google Patents
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- JPH045163B2 JPH045163B2 JP58107035A JP10703583A JPH045163B2 JP H045163 B2 JPH045163 B2 JP H045163B2 JP 58107035 A JP58107035 A JP 58107035A JP 10703583 A JP10703583 A JP 10703583A JP H045163 B2 JPH045163 B2 JP H045163B2
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、カラーフイルタの製造方法、特に固
体撮像素子に用いる色分解用のカラーフイルタお
よび液晶デイスプレー用カラーフイルタの製造方
法に関するものである。
体撮像素子に用いる色分解用のカラーフイルタお
よび液晶デイスプレー用カラーフイルタの製造方
法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
従来、カラーフイルターの製造法には、第１図
から第３図に示す方法が一般に用いられている。
すなわち光学的に透明な基板１上に染色可能な感
光性樹脂（ゼラチンやカゼインに重クロム酸塩等
により感光性を付与）をスピンナーで均一に塗布
し、乾燥した後所定のパターンのマスクを介して
１色目のパターン部分２だけ光硬化し現像処理を
行つて１色目のパターン部分２を形成し、これを
所定の分光特性を有する色素の水溶液に浸漬して
染色を行い、その後水洗を行つて基板および必要
なパターン部以外に付着した色素を除去し、乾燥
を行つて着色パターンを得る。ついで混色防止の
ための透明中間膜３を全面に塗布する。（第１図） 次に、同様にして第２図に示すように前記と同
じ感光性樹脂を塗布し、乾燥した後所定のパター
ンのマスクで露光・現像して、２色目のパターン
部分４を形成後、所定の分光特性を有する第２の
色素で染色する。さらに、前記透明な中間膜５を
全面に塗布する。
から第３図に示す方法が一般に用いられている。
すなわち光学的に透明な基板１上に染色可能な感
光性樹脂（ゼラチンやカゼインに重クロム酸塩等
により感光性を付与）をスピンナーで均一に塗布
し、乾燥した後所定のパターンのマスクを介して
１色目のパターン部分２だけ光硬化し現像処理を
行つて１色目のパターン部分２を形成し、これを
所定の分光特性を有する色素の水溶液に浸漬して
染色を行い、その後水洗を行つて基板および必要
なパターン部以外に付着した色素を除去し、乾燥
を行つて着色パターンを得る。ついで混色防止の
ための透明中間膜３を全面に塗布する。（第１図） 次に、同様にして第２図に示すように前記と同
じ感光性樹脂を塗布し、乾燥した後所定のパター
ンのマスクで露光・現像して、２色目のパターン
部分４を形成後、所定の分光特性を有する第２の
色素で染色する。さらに、前記透明な中間膜５を
全面に塗布する。
次に、同様にして、第３図に示すように、前記
と同じ感光性樹脂を均一に塗布し、乾燥した後、
所定のパターンのマスクで露光現像して、３色目
のパターン部分６を形成し、所定の分光特性を有
する第３の色素で染色する。
と同じ感光性樹脂を均一に塗布し、乾燥した後、
所定のパターンのマスクで露光現像して、３色目
のパターン部分６を形成し、所定の分光特性を有
する第３の色素で染色する。
最後に、トツプコート７を塗布して、第３図に
示すようなカラーフイルターが製造される。その
後、このカラーフイルターと固体撮像素子を接着
剤を用いて、撮像素子の微細パターンへ位置合せ
をしながら貼合せる方法がとられている。また、
上記の工程をへて、固体撮像素子上に直接カラー
フイルターを積層する方法が行なわれている。
示すようなカラーフイルターが製造される。その
後、このカラーフイルターと固体撮像素子を接着
剤を用いて、撮像素子の微細パターンへ位置合せ
をしながら貼合せる方法がとられている。また、
上記の工程をへて、固体撮像素子上に直接カラー
フイルターを積層する方法が行なわれている。
この様なカラーフイルタ製造方法において、中
間膜（保護膜）の材料としては、透明性の良い
（300nｍ以上の波長を透明）ポリメチルメタクリ
レート（以下PMMA）やポリグリシジルメタク
リレート（以下PGMA）などが使用されていた。
保護膜３として、PMMAやPGMAを使用する
と、近紫外光で感光する染色可能な感光性樹脂の
パターン寸法が、基板と保護膜からの散乱および
反射により変化する。このことは、積層型の第一
染色層とその上の染色層の露光条件のちがいに表
われてくる。さらに、染色可能な感光性樹脂のパ
ターン・エツジの有する傾斜した壁の角度がなだ
らかになり、隣接のパターンとのオーバラツプが
おこり、異なる色の染色層間の混色の原因とな
る。
間膜（保護膜）の材料としては、透明性の良い
（300nｍ以上の波長を透明）ポリメチルメタクリ
レート（以下PMMA）やポリグリシジルメタク
リレート（以下PGMA）などが使用されていた。
保護膜３として、PMMAやPGMAを使用する
と、近紫外光で感光する染色可能な感光性樹脂の
パターン寸法が、基板と保護膜からの散乱および
反射により変化する。このことは、積層型の第一
染色層とその上の染色層の露光条件のちがいに表
われてくる。さらに、染色可能な感光性樹脂のパ
ターン・エツジの有する傾斜した壁の角度がなだ
らかになり、隣接のパターンとのオーバラツプが
おこり、異なる色の染色層間の混色の原因とな
る。
発明の目的
本発明は、カラーフイルタ製造工程において、
基板からの反射を防止し、フイルタ用のパターン
の精度を上げ、パターン・エツジの広がりを防止
する。さらに、積層方式によりフイルタを形成す
るための各染色層間の露光条件の変動をおさえ、
パターンの精度を上げ、パターン・エツジの広が
りを防止し、フイルタ各染色層間の混色を防止す
るためになされたものである。
基板からの反射を防止し、フイルタ用のパターン
の精度を上げ、パターン・エツジの広がりを防止
する。さらに、積層方式によりフイルタを形成す
るための各染色層間の露光条件の変動をおさえ、
パターンの精度を上げ、パターン・エツジの広が
りを防止し、フイルタ各染色層間の混色を防止す
るためになされたものである。
発明の構成
本発明は、染色層の下部に可視光域よりも短波
長たとえば300nｍから400nｍの波長の光を吸収
する物質を塗布してなる吸収層をもうけることを
特徴とする」を「波長光を吸収しかつ、フイルタ
ーの要求特性である可視光域400nｍ以上の光を
透過する物質を塗布することを特徴とするその物
質として、高分子のペンダントにベンザルアセト
フエノン基を結合した高分子を用いる。
長たとえば300nｍから400nｍの波長の光を吸収
する物質を塗布してなる吸収層をもうけることを
特徴とする」を「波長光を吸収しかつ、フイルタ
ーの要求特性である可視光域400nｍ以上の光を
透過する物質を塗布することを特徴とするその物
質として、高分子のペンダントにベンザルアセト
フエノン基を結合した高分子を用いる。
実施例の説明
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例 １
第４図に示すように、ガラス基板８上に、基板
からの反射を減ずるための吸収層９として、ベン
ザルアセトフエノン基を有する高分子（４メトキ
シ4′メタクリロイロキシカルコンとグリシジルメ
タクリレートの共重合物：以下4MeO・4′MC−
GMA）を1μｍの厚みに塗布する。その後、紫外
光を面照度4.5ｍＷ／cm2で５分間照射する。この
時の照射時間は、４分間の照射で4MeO・4′MC
−GMAの365nｍにおける吸光度は0.3であり、５
分間照射しても吸光度に変化が見られなかつた時
間に設定した。次に、この基板上にゼラチン一重
クロム酸系の感光液１０を塗布し、乾燥後（膜厚
1μｍ）、10μｍ角のパターンを持つマスク１１を
介して、紫外光ｌを面照射度1.5ｍＷ／cm2で90秒
照射後、現像を行なつて露光領域１２のみを感光
パターンとして残した。その後、形成されたパタ
ーンの広がりを測定するとパターン上部と下部の
差は0.2μｍであつた。比較のため、ガラス板上に
前述の感光液を塗布し、同様のパターン出しを行
ない上部と下部の差を測定すると0.7μｍであつ
た。この結果より、吸収層９をもうけることによ
り、基板からの反射を吸収しパターンの広がりを
防止することができる。
からの反射を減ずるための吸収層９として、ベン
ザルアセトフエノン基を有する高分子（４メトキ
シ4′メタクリロイロキシカルコンとグリシジルメ
タクリレートの共重合物：以下4MeO・4′MC−
GMA）を1μｍの厚みに塗布する。その後、紫外
光を面照度4.5ｍＷ／cm2で５分間照射する。この
時の照射時間は、４分間の照射で4MeO・4′MC
−GMAの365nｍにおける吸光度は0.3であり、５
分間照射しても吸光度に変化が見られなかつた時
間に設定した。次に、この基板上にゼラチン一重
クロム酸系の感光液１０を塗布し、乾燥後（膜厚
1μｍ）、10μｍ角のパターンを持つマスク１１を
介して、紫外光ｌを面照射度1.5ｍＷ／cm2で90秒
照射後、現像を行なつて露光領域１２のみを感光
パターンとして残した。その後、形成されたパタ
ーンの広がりを測定するとパターン上部と下部の
差は0.2μｍであつた。比較のため、ガラス板上に
前述の感光液を塗布し、同様のパターン出しを行
ない上部と下部の差を測定すると0.7μｍであつ
た。この結果より、吸収層９をもうけることによ
り、基板からの反射を吸収しパターンの広がりを
防止することができる。
実施例 ２
次に、第５図〜第８図は固体撮像素子上にカラ
ーフイルタを形成する工程を示す。
ーフイルタを形成する工程を示す。
まず、300nｍ〜400nｍ波長の吸収膜として
4MeO・4′MC−GMA共重合物を、固体撮像素子
１３上に回転塗布機を用いて均一に塗布し、基板
からの反射を吸収する吸収層１５を形成する。
（第５図） 次にゼラチン一重クロム酸系感光性樹脂を塗布
し、乾燥する。その後マスク露光法により赤色を
感じるべき部分である１層目のパターン部分だけ
を面照度1.5ｍＷ／cm2で90秒間露光し、現像する。
ついで、この残された感光性樹脂を赤色染料で染
色し、第１層着色パターン１６を形成する。この
上部に、第１層の保護膜および第２層の吸収層と
して、4MeO・4′MC−GMA共重合物膜１７を塗
布する（第６図） 次いで、前記感光性樹脂を塗布しマスク露光法
で縁色を感じるべき部分に２層目のパターン部分
を面照度1.5ｍＷ／cm2で90秒間露光し、現像する。
残された感光性樹脂を縁色染料で染色し、２層目
の着色パターン１８を形成する。さらにこの上部
に、第２層の保護膜および第３層の吸収膜とし
て、4MeO・4′MC−GMA共重合物膜１９を塗布
する（第７図） 同様に感光性樹脂を塗布後、同様の露光条件
（面照度：1.5ｍＷ／cm2、90秒）で露光・現像後、
青色染料溶液で染色し、３層目の着色パターン２
０を形成する。その後、トツプコート２１の形成
を行なう。（第８図） 比較のため、従来のように中間膜３として
PMMMAを用いた場合のフイルタ各層間の露光
条件は、第１層目は75秒、第２層目は80秒、第３
層目は85秒であつた。各層間のパターン幅の変動
は0.3μｍ〜0.5μｍであつた。これは吸収層がもう
けられていないため、基板からの反射により変動
している。前述の様に、吸収層をもうけることに
より、変動をおさえるとともに、パターンのひろ
がりは0.1μｍとなり染色層間のかさなりをおさえ
ることができる。
4MeO・4′MC−GMA共重合物を、固体撮像素子
１３上に回転塗布機を用いて均一に塗布し、基板
からの反射を吸収する吸収層１５を形成する。
（第５図） 次にゼラチン一重クロム酸系感光性樹脂を塗布
し、乾燥する。その後マスク露光法により赤色を
感じるべき部分である１層目のパターン部分だけ
を面照度1.5ｍＷ／cm2で90秒間露光し、現像する。
ついで、この残された感光性樹脂を赤色染料で染
色し、第１層着色パターン１６を形成する。この
上部に、第１層の保護膜および第２層の吸収層と
して、4MeO・4′MC−GMA共重合物膜１７を塗
布する（第６図） 次いで、前記感光性樹脂を塗布しマスク露光法
で縁色を感じるべき部分に２層目のパターン部分
を面照度1.5ｍＷ／cm2で90秒間露光し、現像する。
残された感光性樹脂を縁色染料で染色し、２層目
の着色パターン１８を形成する。さらにこの上部
に、第２層の保護膜および第３層の吸収膜とし
て、4MeO・4′MC−GMA共重合物膜１９を塗布
する（第７図） 同様に感光性樹脂を塗布後、同様の露光条件
（面照度：1.5ｍＷ／cm2、90秒）で露光・現像後、
青色染料溶液で染色し、３層目の着色パターン２
０を形成する。その後、トツプコート２１の形成
を行なう。（第８図） 比較のため、従来のように中間膜３として
PMMMAを用いた場合のフイルタ各層間の露光
条件は、第１層目は75秒、第２層目は80秒、第３
層目は85秒であつた。各層間のパターン幅の変動
は0.3μｍ〜0.5μｍであつた。これは吸収層がもう
けられていないため、基板からの反射により変動
している。前述の様に、吸収層をもうけることに
より、変動をおさえるとともに、パターンのひろ
がりは0.1μｍとなり染色層間のかさなりをおさえ
ることができる。
発明の効果
本発明は、カラーフイルタ製造時における下部
層からの反射を防止することにより、上部層形成
時における露光条件の変動をおさえ製造条件を安
定化をはかる。さらに、染色可能な感光性樹脂の
パターン・エツジがシヤープになり隣接するパタ
ーンとのオーバラツプがなくなり、フイルタ各色
間の混色を防止することができる。
層からの反射を防止することにより、上部層形成
時における露光条件の変動をおさえ製造条件を安
定化をはかる。さらに、染色可能な感光性樹脂の
パターン・エツジがシヤープになり隣接するパタ
ーンとのオーバラツプがなくなり、フイルタ各色
間の混色を防止することができる。
第１図、第２図、第３図は従来のカラーフイル
タ製造工程を示す図、第４図は本発明の一実施例
の露光モデルを示す図、第５図、第６図、第７
図、第８図は本発明の実施例のカラーフイルタ製
造工程を示す図である。 ８……ガラス基板、９，１５，１９……
4MeO・4′MC−GMA吸収層、１０……ゼラチン
感光層、１１……マスク、１２……露光領域、ｌ
……紫外光、１３……固体撮像素子、１６……第
１着色層、１８……第２着色層、２０……第３着
色層。
タ製造工程を示す図、第４図は本発明の一実施例
の露光モデルを示す図、第５図、第６図、第７
図、第８図は本発明の実施例のカラーフイルタ製
造工程を示す図である。 ８……ガラス基板、９，１５，１９……
4MeO・4′MC−GMA吸収層、１０……ゼラチン
感光層、１１……マスク、１２……露光領域、ｌ
……紫外光、１３……固体撮像素子、１６……第
１着色層、１８……第２着色層、２０……第３着
色層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基板上に、可視光域よりも短波長の光に吸収
を有する物質としてベンゼルアセトフエノン基を
有する高分子を塗布して吸収層を形成する工程、
前記吸収層上に染色可能な感光性樹脂を塗布する
工程、前記工程により形成された感光性樹脂に所
定のパターンを露光し、現像によつて所定のパタ
ーンを得る工程、前記パターンを染料により染色
して、染色された所定の着色パターンを形成する
工程とを有するカラーフイルタの製造方法。 ２ 基板として、固体撮像素子を用いることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載のカラーフイ
ルタの製造方法。 ３ ベンゼルアセトフエノン基を有する高分子と
して、４メトキシ4′メタクリロイロキシカルコン
とグリシジルメタクリレートの共重合物を用いた
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のカ
ラーフイルタの製造方法。 ４ ベンゼルアセトフエノン基を有する高分子と
して、4′メトキシ４メタクリロイロキシカルコン
とグリシジルメタクリレートの共重合物を用いた
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のカ
ラーフイルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58107035A JPS59232304A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | カラ−フィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58107035A JPS59232304A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | カラ−フィルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59232304A JPS59232304A (ja) | 1984-12-27 |
| JPH045163B2 true JPH045163B2 (ja) | 1992-01-30 |
Family
ID=14448864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58107035A Granted JPS59232304A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | カラ−フィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59232304A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01142605A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-05 | Toppan Printing Co Ltd | 固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法 |
| JPH03142402A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-18 | Konica Corp | カラーフィルター |
| JPH04235504A (ja) * | 1991-01-10 | 1992-08-24 | Matsushita Electron Corp | カラー固体撮像装置の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5638040A (en) * | 1979-09-05 | 1981-04-13 | Hitachi Ltd | Pattern forming method |
| JPS5651183A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-08 | Hitachi Ltd | Color solid image pickup element |
-
1983
- 1983-06-15 JP JP58107035A patent/JPS59232304A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5638040A (en) * | 1979-09-05 | 1981-04-13 | Hitachi Ltd | Pattern forming method |
| JPS5651183A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-08 | Hitachi Ltd | Color solid image pickup element |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59232304A (ja) | 1984-12-27 |
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