JPS62218903A - 色フイルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は色フィルタの製造方法に関する。

（口）従来の技術 従来の色フィルタの製造方法は、第２図Ａに示すように
固体撮像素子またはガラス板よりなる基板１０１上に、
全面青色用ベース膜１０２をコートする。次に、ポジ型
ホトレジスト〔例えばＡＺ１３５０Ｊ（シブレー社）等
〕１０３をコートして、所定のパターンを有するホトマ
スク１０４を用いてアライメント後、矢印ａの方向より
露光して現像し、遮光領域形成部に相当する部分１０６
のレジストを除去する。なお、ここで、１０５は遮光領
域形成部以外を覆うＣｒ等のマスクパターンを示す。ま
た、着色用ベース膜１０２は重クロム酸アンモニウム等
で感光性を付与したゼラチンやカゼインを用いておくと
、ポジ型レジスト露光の際、レジスト開口部下部の着色
用ベース膜も露光・硬化される。

続いて、前記ホトレジスト開口部の着色用ベース膜１０
７を黒色の酸性染料を用いて青色して遮光領域とし、さ
らに、トリクレン等の溶剤で残されたホトレジストパタ
ーン１０３Ａを除去する（第２図Ｂ）。

続いて、全面に矢印ｂの方向より、赤外線等を照射して
、着色用ベース膜を焼き固める。なお、このとき、マス
クパターン１０５の間に対応ずる着色用ベース膜１０７
は、すでに黒色に着色されているため、染色きれてない
部分の着色用ベース膜１０Ｂに比べて熱線をよく吸収し
、非常に高密度に焼き固められ高重合のゼラチンやカゼ
インになる（第２図Ｃ）。

その後、前面をよく水洗して着色用ベース膜中の重クロ
ム酸アンモニウム等の感光性付与物質を除去し、再びホ
トレジスト１０３Ｂを塗布し、（このときは、−回目と
異りポジ型、ネガ型、どちらでも良い）、所定のパター
ンを有するホトマスクを用いて露光現像し、第１の着色
部１０８Ｒを開口して、例えば赤色染料で着色する（第
２図Ｄ）。

次に、ホトレジスト１０３Ｂを除去し、再びホトレジス
ト１０３Ｃをコートシ、他の着色したい部分１０８Ｇを
開口し、例えば緑色に着色する（第２図Ｅ）。

以下、同じような着色工程をくり返して他の部分１０８
ＣＹをシアン色に着色し、最後に表面に透明樹脂よりな
るトップコート［１０９を形成して、色フィルタを完成
する（第２図Ｆ）。

上述した技術は特公昭ａ１−３４ｏｚ秀公報に記載され
ている。

（ハ）発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上述した色フィルタの製造方法でＲ，Ｇ
、Ｂ色に着色する着色用ベース膜を形成する場合、第２
図Ａおよび第２図Ｂの如く、ガラス基板上に着色用ベー
ス膜を塗布し、ポジレジストを塗布した後、所定のマス
クを用いてガラス基板の表面から露光して遮光膜となる
領域を形成し、その部分に黒色染料を用いて着色した後
、他のポジレジストを除去してＲ，Ｇ、Ｂとなる着色用
ベース膜を形成しなければならないので工程数の増加が
問題となっていた。また従来ではマスクを用いて露光す
るため、そのマスクが位置ズレなどを起こす危惧を有し
ていた。

（ニ）問題点を解決するための手段 本発明は上述した点に鑑みてなされたものであり、第１
図Ａに示す如く、ガラス基板（１）上へ金属からなる遮
光膜（２）を格子状に形成し、次に第１図Ｂに示す如く
、ガラス基板（１）上へネガ型の染色基材（３）を塗布
し、ガラス基板（１）の裏面から露光し遮光膜り２）間
にフィルタ領域膜（４Ｒ）　（４Ｇ）　（４Ｂ）を形成
して解決する。

（ネ）作用 この様にガラス基板（１）上に金属からなる遮光膜（２
）を形成しその上にネガ型の染色基材（３）を塗布して
ガラス基板（１）の裏面から露光することにより、遮光
膜（２）がマスクの代りとなるためにマスクを使用せず
にＲ，Ｇ、Ｂとなるフィルタ領域膜（４Ｒ）＜４Ｇ）（
４Ｂ＞を形成することができる。

（へ）実施例 以下に図面に示した実施例に基づいて本発明の詳細な説
明する。

第１図Ａ乃至第１図■は本発明の実施例を示す色フィル
タの製造方法である。

先ず第１図Ａに示す如く、ガラス基板（１）上にＣｒ等
の金属を蒸看等の手段で厚さ０．２〜０．３μに形成し
、該金属が格子状に残る様にフォトリソグラフィー技術
を使用してエツチング除去し遮光膜（２）を形成する。

次に第１図Ｂに示す如く、ガラス基板（１）上に染色基
材（３）、例えば、ゼラチンと重クロム酸アンモンとの
混合薬品又はあらかじめ合成きれた合成染色基材等をロ
ールコート又はスピンコード等を用いて厚さ０．５〜１
．０μに塗布し、乾燥きせた後、ガラス基材（１）の裏
面から露光する。すると遮光膜（２）によって光が当ら
ない部分が感光されないので、その部分が現像時に除去
きれて遮光膜（２）間にフィルタ領域膜（４Ｒ）（４Ｇ
＞（４Ｂ＞が形成される。

次に第１図Ｃに示す如く、ガラス基板（１）上に形成し
た遮光膜（２〉および夫々のフィルタ領域膜（４Ｒ）（
４Ｇ）　（４Ｂ＞全面に耐防染性および耐薬品性を有す
るポジ型レジスト（５）を厚さ０．３μに形成する。

次に第１図りに示す如く、ポジ型レジスト（５）上にＲ
，Ｇ、Ｂフィルタの配列に対応し、単一色のフィルタに
相当する部分が光を通し、他の部分が遮光するパターン
に形成きれたマスク（６）を用いて、例えば赤色のフィ
ルタとなるフィルタ領域膜（４Ｒ）にアライメントした
後、矢印の方向より露光する。それを現像し露光きれた
レジストを除去し赤色フィルタとなるフィルタ領域膜（
４Ｒ）を露出する。

次に第１図Ｅに示す如く、露出されたフィルタ領域膜（
４Ｒ）に赤色染料を用いて染色する。その後、他の染料
が侵入しない様にファイフィックスＳＬ（大日本製薬）
等の薬品を用いて、その表面を固着処理する。

次に第１図Ｆに示す如く、第１図りで使用したマスク（
６）を１ピツチシフトさせて、第１図りと同様に緑色フ
ィルタとなるフィルタ領域膜（４Ｇ）上に残っている未
感光のレジストを露光し現像処理すると露光されたレジ
ストが除去され、緑色となるフィルタ領域膜（４Ｇ）が
露出される。

次に第１図Ｇに示す如く、露出したフィルタ領域膜（４
Ｇ）に緑色染料を用いて染色する。この時、赤色に染色
されたフィルタは第１図Ｅによって固着処理されている
ために緑の染料は侵入しない。

緑色の染色後、フィルタ領域膜（４Ｇ）上に固着処理す
る。

次に第１図Ｈに示す如く、残りのフィルタ領域膜（４Ｂ
）のレジストを露光して現像除去し青色が染色されるべ
きフィルタ領域膜（４Ｂ）を露出する。

最後に第１図Ｉに示す如く、フィルタ領域膜（４Ｂ）に
青色染料を用いて染色する。この場合にも赤と緑に染色
されたフィルタ領域膜（４Ｒ）（４Ｇ）には固着処理が
施されているため青の染料は侵入しない。その後、ガラ
ス基板（１）全面に高分子材料からなる材料を用いて厚
ａ　０．３〜０．４μのオーバーコート膜（７）を形成
する。

斯る本発明に依れば、ガラス基板上に遮光膜を形成して
、その上にネガ型の染色基材を塗布してガラス基板の裏
面から露光することにより、遮光膜がマスク化りとなり
、マスクを使用せずにＲｌＧ、Ｂとなるフィルタ領域膜
が形成できるので、従来の様にレジスト工程、マスク工
程、遮光膜着色工程を必要としないので、製造工程数を
減少することができる。それによって歩留が向上し低価
格のフィルタが提供できる。

（ト）発明の効果 上述の如く、本発明に依れば、ガラス基板上に形成した
遮光膜およびネガ型染色基材を形成してガラス基板の裏
面から露光することにより、遮光膜がマスク化りとなる
ために製造工程数を減少することができ、歩留が向上し
、且つ低価格の色フィルタが提供できる利点を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図Ａ乃至第１図Ｉは本発明の実施例を示す製造工程
断面図、第２図Ａ乃至第２図Ｆは従来例を示す製造工程
断面図である。 （１）・・・ガラス基板、　（２）・・・遮光膜、　（
３）・・・ネガ型レジスト、（４Ｒ）（４Ｇ＞（４Ｂ＞
・・・フィルタ領域膜、（６）・・・マスク、（７）・
・・オーバーコート膜。 出願人　三洋電機株式会社外１名 代理人　弁理士　西野卓嗣　外１名 第１図Ａ 第１図Ｂ ↑　ｔ　↑　↑　↑　↑　↑　↑　↑　↑第１図Ｃ 第　１　図　Ｄ 第１図Ｅ 第１図Ｆ 第１図Ｇ 第１図Ｈ 第１図１ 第２図Ａ 第２図Ｂ 第２１２１１Ｃ 第２閃り 第２図Ｅ 第２図Ｆ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）ガラス基板上へ金属からなる遮光膜を格子状に形
   成する工程と、前記ガラス基板へ染色基材を塗布し、前
   記ガラス基板の裏面から露出し、前記遮光膜間にフィル
   タ領域膜を形成する工程と、該フィルタ領域膜全面にポ
   ジ型レジストを塗布する工程と、該ポジ型レジスト上に
   所定のパターンを有するマスクを用いて露光・現像を行
   ない前記所定のパターン状に前記フィルタ領域膜を露出
   する工程と、露出した該フィルタ領域膜に染色を行なう
   ことを特徴とする色フィルタの製造方法。