JPH031643B2 - - Google Patents
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- JPH031643B2 JPH031643B2 JP57204072A JP20407282A JPH031643B2 JP H031643 B2 JPH031643 B2 JP H031643B2 JP 57204072 A JP57204072 A JP 57204072A JP 20407282 A JP20407282 A JP 20407282A JP H031643 B2 JPH031643 B2 JP H031643B2
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 claims description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 23
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 3
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000012137 double-staining Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- -1 gris Polymers 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02162—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はカラーカメラ等に使用する色フイルタ
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
第１図Ａ〜Ｃは一般的に用いられている製造方
法を説明するための断面図であり第１図Ａに示す
如くまず光学研磨を施したガラス基板１上にポリ
ビニルアルコール、グリユー、ゼラチン、カゼイ
ン等に重クロム酸アンモン等で感光性を付与した
感光液を、ローラーコート、デイツピング、スピ
ンナー等で均一に塗布し、乾燥した後マスク露光
法で１色目のパターン部分だけを光硬化させ、現
像して必要なパターン以外を除去して染色ベース
膜２を形成した後に、所定の分光特性を有する染
料で１色目のパターンを染色する。次に染料で染
色されることのない透明な防染膜３を全面に塗布
する（第１図Ａ）。
法を説明するための断面図であり第１図Ａに示す
如くまず光学研磨を施したガラス基板１上にポリ
ビニルアルコール、グリユー、ゼラチン、カゼイ
ン等に重クロム酸アンモン等で感光性を付与した
感光液を、ローラーコート、デイツピング、スピ
ンナー等で均一に塗布し、乾燥した後マスク露光
法で１色目のパターン部分だけを光硬化させ、現
像して必要なパターン以外を除去して染色ベース
膜２を形成した後に、所定の分光特性を有する染
料で１色目のパターンを染色する。次に染料で染
色されることのない透明な防染膜３を全面に塗布
する（第１図Ａ）。
次に同様にして第１図Ｂに示すように前記と同
じ感光液を均一に塗布し、乾燥した後マスク露光
法で露光現像して２色目の染色ベース膜４を形成
後、所定の分光特性を有する第２の染料で染色す
る。さらに前記透明な防染膜５を全面に塗布す
る。
じ感光液を均一に塗布し、乾燥した後マスク露光
法で露光現像して２色目の染色ベース膜４を形成
後、所定の分光特性を有する第２の染料で染色す
る。さらに前記透明な防染膜５を全面に塗布す
る。
次に同様にして第１図Ｃに示すように前記と同
じ感光液を均一に塗布し乾燥した後マスク露光法
で露光現像して３色目の染色ベース膜６を形成後
所定の分光特性を有する第３の染料で染色する。
じ感光液を均一に塗布し乾燥した後マスク露光法
で露光現像して３色目の染色ベース膜６を形成後
所定の分光特性を有する第３の染料で染色する。
最後にトツプコート７を塗布して第１図Ｄに示
すような色フイルタが製造される。
すような色フイルタが製造される。
しかしながら、前記のようにマスクを用いて上
方より露光し、未露光部分を現像除去する従来の
方法では、現像除去によるパターン形成工程が必
要であるとともに、第１図−Ｅに示す如く（第１
図Ｅは第１図Ｂの要部ｈ部分の拡大図）、樹脂パ
ターンエツヂ部でダレ８が生じたり、またパター
ンエツヂのダレで生じた樹脂厚のムラのため、染
色にムラができてしまう等の欠点があつた。ま
た、染色ベース膜間には、二重染色を防ぐための
防染膜を設けており、防染膜は異種の材料から成
つていることから染色ベース膜と防染膜との密着
性も工程管理上の問題となつていた。
方より露光し、未露光部分を現像除去する従来の
方法では、現像除去によるパターン形成工程が必
要であるとともに、第１図−Ｅに示す如く（第１
図Ｅは第１図Ｂの要部ｈ部分の拡大図）、樹脂パ
ターンエツヂ部でダレ８が生じたり、またパター
ンエツヂのダレで生じた樹脂厚のムラのため、染
色にムラができてしまう等の欠点があつた。ま
た、染色ベース膜間には、二重染色を防ぐための
防染膜を設けており、防染膜は異種の材料から成
つていることから染色ベース膜と防染膜との密着
性も工程管理上の問題となつていた。
発明の目的
本発明は、上記問題に鑑みなされたもので、現
像除去工程、防染膜形成工程を不要とし、染色ム
ラも生じにくい色フイルターの形成方法を提供す
ることを目的とする。
像除去工程、防染膜形成工程を不要とし、染色ム
ラも生じにくい色フイルターの形成方法を提供す
ることを目的とする。
発明の構成
本発明は、基板上に形成した感光性を付与した
染色ベース膜を、ホトマスクにより選択的に過剰
露光し前記ベース膜の染色されない状態とする工
程と、前記ベース膜を染色に適正な露光量で全面
露光する工程と、前記選択露光時の未露光部分を
染色する工程とを具備することにより、前記問題
を解決した薄膜のフイルタ製造を容易に可能にし
フイルタの光学特性の向上をはかるものである。
染色ベース膜を、ホトマスクにより選択的に過剰
露光し前記ベース膜の染色されない状態とする工
程と、前記ベース膜を染色に適正な露光量で全面
露光する工程と、前記選択露光時の未露光部分を
染色する工程とを具備することにより、前記問題
を解決した薄膜のフイルタ製造を容易に可能にし
フイルタの光学特性の向上をはかるものである。
実施例の説明
本発明の色フイルタの製造方法について第２図
Ａ〜Ｉに示す実施例を用いて説明する。
Ａ〜Ｉに示す実施例を用いて説明する。
まず第２図Ａに示す如く、ガラス基板１上に全
面感光性とするために、重クロム酸アンモンを入
れたカゼインの膜１０を0.5〜2.0μmに均一塗布
し、乾燥した後マスク露光法によりホトマスク１
１を用いて１色目の必要なパターン以外を過剰に
露光する。１２は光の非透過部分、１３は露光用
の光である。こうしたのち、さらに、第２図Ｂの
如く光１４により染色に支障のない適正露光量で
全面露光することによつて１層目に重合度の異な
る部分をつくつた後、余分の重クロム酸アンモン
を水で洗い出す。カゼインの膜において、露光さ
れず重合が生じない部分が存在すると、この部分
は水で現像除去されるが、全面露光により全体を
重合させるとこの水洗で消失することなく全体が
残存する。又、過剰に露光を行うと高重合領域と
なり染料での染色がされない状態となる。
面感光性とするために、重クロム酸アンモンを入
れたカゼインの膜１０を0.5〜2.0μmに均一塗布
し、乾燥した後マスク露光法によりホトマスク１
１を用いて１色目の必要なパターン以外を過剰に
露光する。１２は光の非透過部分、１３は露光用
の光である。こうしたのち、さらに、第２図Ｂの
如く光１４により染色に支障のない適正露光量で
全面露光することによつて１層目に重合度の異な
る部分をつくつた後、余分の重クロム酸アンモン
を水で洗い出す。カゼインの膜において、露光さ
れず重合が生じない部分が存在すると、この部分
は水で現像除去されるが、全面露光により全体を
重合させるとこの水洗で消失することなく全体が
残存する。又、過剰に露光を行うと高重合領域と
なり染料での染色がされない状態となる。
次にポストベークの後、所定の分光特性を有す
る着色剤例えば染料で１回目の光１３の未露光部
分のみを染色し１色目のパターン１５を染色する
（第２図Ｃ）。このとき、２回露光により過剰に露
光された領域すなわち高重合度領域１０は前述し
たごとく染色性を失い染料で染色されることはな
い。
る着色剤例えば染料で１回目の光１３の未露光部
分のみを染色し１色目のパターン１５を染色する
（第２図Ｃ）。このとき、２回露光により過剰に露
光された領域すなわち高重合度領域１０は前述し
たごとく染色性を失い染料で染色されることはな
い。
同様にして第２図Ｄに示す如く前記と同じ感光
液を均一に塗布し乾燥した後、光１６、マスク１
７を用いたマスク露光法により必要なパターン以
外に過剰に露光して過剰露光部１８を形成し、さ
らに第２図Ｅの如く光１９により適正露光量で全
面露光することによつて２層目に重合度の異なる
部分２０をつくり、余分の重クロム酸アンモンを
水で洗い出し、ポストベークの後、所定の分光特
性を有する第２の染料で部分２１を染色し２色目
のパターン２１を染色する（第２図Ｆ）。
液を均一に塗布し乾燥した後、光１６、マスク１
７を用いたマスク露光法により必要なパターン以
外に過剰に露光して過剰露光部１８を形成し、さ
らに第２図Ｅの如く光１９により適正露光量で全
面露光することによつて２層目に重合度の異なる
部分２０をつくり、余分の重クロム酸アンモンを
水で洗い出し、ポストベークの後、所定の分光特
性を有する第２の染料で部分２１を染色し２色目
のパターン２１を染色する（第２図Ｆ）。
次に同様にして、第２図Ｇに示す如く、前記と
同じ感光液を均一に塗布し乾燥した後マスク２
２、光２３によりマスク露光法により３層目の必
要なパターン以外の部分２４を過剰に露光し、さ
らに第２図Ｈの如く光２５で適正露光量で全面露
光することによつて３層目に重合度の異なる部分
をつくり、余分の重クロム酸アンモンを水で洗い
出し、ポストベークの後所定の分光特性を有する
第２の染料で３色目のパターン２６を染色する。
同じ感光液を均一に塗布し乾燥した後マスク２
２、光２３によりマスク露光法により３層目の必
要なパターン以外の部分２４を過剰に露光し、さ
らに第２図Ｈの如く光２５で適正露光量で全面露
光することによつて３層目に重合度の異なる部分
をつくり、余分の重クロム酸アンモンを水で洗い
出し、ポストベークの後所定の分光特性を有する
第２の染料で３色目のパターン２６を染色する。
最後にトツプコート２７を塗布して第２図Ｉに
示すような色フイルタが製造される。
示すような色フイルタが製造される。
以上述べてきた実施例ではストライプフイルタ
を例に示したがモザイク状フイルタでも同じ方法
が使用できることは言うまでもない。さらにまた
ガラス基板の代わりに固体撮像素子が複数個形成
されたシリコン基板を用いると直接素子上に色フ
イルタを形成できることも明らかである。
を例に示したがモザイク状フイルタでも同じ方法
が使用できることは言うまでもない。さらにまた
ガラス基板の代わりに固体撮像素子が複数個形成
されたシリコン基板を用いると直接素子上に色フ
イルタを形成できることも明らかである。
発明の効果
このようにして本発明により製造された色フイ
ルタは、従来のごとくマスク露光後一部を現像除
去して、部分的にベース膜パターンそのものを形
成しないためパターン周辺のダレを生じず各層が
平坦であり、染色膜厚にムラがないため均一に染
色ができる。また二重露光によつて重合度を増し
た膜は染色性を失いその非染色部分が壁となつて
おり、染色時に染料が縦、横方向に拡がるのを完
全に阻止することが可能である。さらに各層間に
防染膜を必要としないため薄膜フイルタの製造が
可能であるうえ同じ感光膜を重ねることが可能と
なるため密着力の高い色フイルタを得ることがで
きる。
ルタは、従来のごとくマスク露光後一部を現像除
去して、部分的にベース膜パターンそのものを形
成しないためパターン周辺のダレを生じず各層が
平坦であり、染色膜厚にムラがないため均一に染
色ができる。また二重露光によつて重合度を増し
た膜は染色性を失いその非染色部分が壁となつて
おり、染色時に染料が縦、横方向に拡がるのを完
全に阻止することが可能である。さらに各層間に
防染膜を必要としないため薄膜フイルタの製造が
可能であるうえ同じ感光膜を重ねることが可能と
なるため密着力の高い色フイルタを得ることがで
きる。
第１図Ａ〜Ｃは従来の色フイルタの製造方法を
示す工程断面図、第１図Ｄは同方法により製造さ
れた色フイルタの平面図、第１図Ｅは第１図Ｂの
要部ｈの拡大図、第２図Ａ〜Ｉは本発明の一実施
例における色フイルタの製造方法を説明するため
の工程断面図である。 １……ガラス基板、２，４，６，１２，１４，
防６……染色ベース膜、３，５……防染膜、７，
１７……トツプコート、１１……パターンマス
ク、１１……パターンマスク、１８……光。
示す工程断面図、第１図Ｄは同方法により製造さ
れた色フイルタの平面図、第１図Ｅは第１図Ｂの
要部ｈの拡大図、第２図Ａ〜Ｉは本発明の一実施
例における色フイルタの製造方法を説明するため
の工程断面図である。 １……ガラス基板、２，４，６，１２，１４，
防６……染色ベース膜、３，５……防染膜、７，
１７……トツプコート、１１……パターンマス
ク、１１……パターンマスク、１８……光。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基板上に形成した感光性を付与した染色ベー
ス膜を、ホトマスクにより選択的に過剰露光し前
記ベース膜を染色されない状態とする工程と、前
記ベース膜を染色に適正な露光量で全面露光する
工程と、前記ベース膜の前記選択露光時の未露光
部分を染色する工程とを備えたことを特徴とした
色フイルタの製造方法。 ２ 基板が透光性基板であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の色フイルタの製造方
法。 ３ 基板が固体撮像素子であることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の色フイルタの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57204072A JPS5993408A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 色フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57204072A JPS5993408A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 色フイルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5993408A JPS5993408A (ja) | 1984-05-29 |
| JPH031643B2 true JPH031643B2 (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=16484296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57204072A Granted JPS5993408A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 色フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5993408A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60216306A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-10-29 | Seiko Epson Corp | カラ−フイルタ− |
-
1982
- 1982-11-19 JP JP57204072A patent/JPS5993408A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5993408A (ja) | 1984-05-29 |
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