JPH031643B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH031643B2 JPH031643B2 JP57204072A JP20407282A JPH031643B2 JP H031643 B2 JPH031643 B2 JP H031643B2 JP 57204072 A JP57204072 A JP 57204072A JP 20407282 A JP20407282 A JP 20407282A JP H031643 B2 JPH031643 B2 JP H031643B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dyed
- base film
- color filter
- film
- dyeing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 claims description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 23
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 5
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 3
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000012137 double-staining Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- -1 gris Polymers 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02162—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はカラーカメラ等に使用する色フイルタ
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
第1図A〜Cは一般的に用いられている製造方
法を説明するための断面図であり第1図Aに示す
如くまず光学研磨を施したガラス基板1上にポリ
ビニルアルコール、グリユー、ゼラチン、カゼイ
ン等に重クロム酸アンモン等で感光性を付与した
感光液を、ローラーコート、デイツピング、スピ
ンナー等で均一に塗布し、乾燥した後マスク露光
法で1色目のパターン部分だけを光硬化させ、現
像して必要なパターン以外を除去して染色ベース
膜2を形成した後に、所定の分光特性を有する染
料で1色目のパターンを染色する。次に染料で染
色されることのない透明な防染膜3を全面に塗布
する(第1図A)。
法を説明するための断面図であり第1図Aに示す
如くまず光学研磨を施したガラス基板1上にポリ
ビニルアルコール、グリユー、ゼラチン、カゼイ
ン等に重クロム酸アンモン等で感光性を付与した
感光液を、ローラーコート、デイツピング、スピ
ンナー等で均一に塗布し、乾燥した後マスク露光
法で1色目のパターン部分だけを光硬化させ、現
像して必要なパターン以外を除去して染色ベース
膜2を形成した後に、所定の分光特性を有する染
料で1色目のパターンを染色する。次に染料で染
色されることのない透明な防染膜3を全面に塗布
する(第1図A)。
次に同様にして第1図Bに示すように前記と同
じ感光液を均一に塗布し、乾燥した後マスク露光
法で露光現像して2色目の染色ベース膜4を形成
後、所定の分光特性を有する第2の染料で染色す
る。さらに前記透明な防染膜5を全面に塗布す
る。
じ感光液を均一に塗布し、乾燥した後マスク露光
法で露光現像して2色目の染色ベース膜4を形成
後、所定の分光特性を有する第2の染料で染色す
る。さらに前記透明な防染膜5を全面に塗布す
る。
次に同様にして第1図Cに示すように前記と同
じ感光液を均一に塗布し乾燥した後マスク露光法
で露光現像して3色目の染色ベース膜6を形成後
所定の分光特性を有する第3の染料で染色する。
じ感光液を均一に塗布し乾燥した後マスク露光法
で露光現像して3色目の染色ベース膜6を形成後
所定の分光特性を有する第3の染料で染色する。
最後にトツプコート7を塗布して第1図Dに示
すような色フイルタが製造される。
すような色フイルタが製造される。
しかしながら、前記のようにマスクを用いて上
方より露光し、未露光部分を現像除去する従来の
方法では、現像除去によるパターン形成工程が必
要であるとともに、第1図−Eに示す如く(第1
図Eは第1図Bの要部h部分の拡大図)、樹脂パ
ターンエツヂ部でダレ8が生じたり、またパター
ンエツヂのダレで生じた樹脂厚のムラのため、染
色にムラができてしまう等の欠点があつた。ま
た、染色ベース膜間には、二重染色を防ぐための
防染膜を設けており、防染膜は異種の材料から成
つていることから染色ベース膜と防染膜との密着
性も工程管理上の問題となつていた。
方より露光し、未露光部分を現像除去する従来の
方法では、現像除去によるパターン形成工程が必
要であるとともに、第1図−Eに示す如く(第1
図Eは第1図Bの要部h部分の拡大図)、樹脂パ
ターンエツヂ部でダレ8が生じたり、またパター
ンエツヂのダレで生じた樹脂厚のムラのため、染
色にムラができてしまう等の欠点があつた。ま
た、染色ベース膜間には、二重染色を防ぐための
防染膜を設けており、防染膜は異種の材料から成
つていることから染色ベース膜と防染膜との密着
性も工程管理上の問題となつていた。
発明の目的
本発明は、上記問題に鑑みなされたもので、現
像除去工程、防染膜形成工程を不要とし、染色ム
ラも生じにくい色フイルターの形成方法を提供す
ることを目的とする。
像除去工程、防染膜形成工程を不要とし、染色ム
ラも生じにくい色フイルターの形成方法を提供す
ることを目的とする。
発明の構成
本発明は、基板上に形成した感光性を付与した
染色ベース膜を、ホトマスクにより選択的に過剰
露光し前記ベース膜の染色されない状態とする工
程と、前記ベース膜を染色に適正な露光量で全面
露光する工程と、前記選択露光時の未露光部分を
染色する工程とを具備することにより、前記問題
を解決した薄膜のフイルタ製造を容易に可能にし
フイルタの光学特性の向上をはかるものである。
染色ベース膜を、ホトマスクにより選択的に過剰
露光し前記ベース膜の染色されない状態とする工
程と、前記ベース膜を染色に適正な露光量で全面
露光する工程と、前記選択露光時の未露光部分を
染色する工程とを具備することにより、前記問題
を解決した薄膜のフイルタ製造を容易に可能にし
フイルタの光学特性の向上をはかるものである。
実施例の説明
本発明の色フイルタの製造方法について第2図
A〜Iに示す実施例を用いて説明する。
A〜Iに示す実施例を用いて説明する。
まず第2図Aに示す如く、ガラス基板1上に全
面感光性とするために、重クロム酸アンモンを入
れたカゼインの膜10を0.5〜2.0μmに均一塗布
し、乾燥した後マスク露光法によりホトマスク1
1を用いて1色目の必要なパターン以外を過剰に
露光する。12は光の非透過部分、13は露光用
の光である。こうしたのち、さらに、第2図Bの
如く光14により染色に支障のない適正露光量で
全面露光することによつて1層目に重合度の異な
る部分をつくつた後、余分の重クロム酸アンモン
を水で洗い出す。カゼインの膜において、露光さ
れず重合が生じない部分が存在すると、この部分
は水で現像除去されるが、全面露光により全体を
重合させるとこの水洗で消失することなく全体が
残存する。又、過剰に露光を行うと高重合領域と
なり染料での染色がされない状態となる。
面感光性とするために、重クロム酸アンモンを入
れたカゼインの膜10を0.5〜2.0μmに均一塗布
し、乾燥した後マスク露光法によりホトマスク1
1を用いて1色目の必要なパターン以外を過剰に
露光する。12は光の非透過部分、13は露光用
の光である。こうしたのち、さらに、第2図Bの
如く光14により染色に支障のない適正露光量で
全面露光することによつて1層目に重合度の異な
る部分をつくつた後、余分の重クロム酸アンモン
を水で洗い出す。カゼインの膜において、露光さ
れず重合が生じない部分が存在すると、この部分
は水で現像除去されるが、全面露光により全体を
重合させるとこの水洗で消失することなく全体が
残存する。又、過剰に露光を行うと高重合領域と
なり染料での染色がされない状態となる。
次にポストベークの後、所定の分光特性を有す
る着色剤例えば染料で1回目の光13の未露光部
分のみを染色し1色目のパターン15を染色する
(第2図C)。このとき、2回露光により過剰に露
光された領域すなわち高重合度領域10は前述し
たごとく染色性を失い染料で染色されることはな
い。
る着色剤例えば染料で1回目の光13の未露光部
分のみを染色し1色目のパターン15を染色する
(第2図C)。このとき、2回露光により過剰に露
光された領域すなわち高重合度領域10は前述し
たごとく染色性を失い染料で染色されることはな
い。
同様にして第2図Dに示す如く前記と同じ感光
液を均一に塗布し乾燥した後、光16、マスク1
7を用いたマスク露光法により必要なパターン以
外に過剰に露光して過剰露光部18を形成し、さ
らに第2図Eの如く光19により適正露光量で全
面露光することによつて2層目に重合度の異なる
部分20をつくり、余分の重クロム酸アンモンを
水で洗い出し、ポストベークの後、所定の分光特
性を有する第2の染料で部分21を染色し2色目
のパターン21を染色する(第2図F)。
液を均一に塗布し乾燥した後、光16、マスク1
7を用いたマスク露光法により必要なパターン以
外に過剰に露光して過剰露光部18を形成し、さ
らに第2図Eの如く光19により適正露光量で全
面露光することによつて2層目に重合度の異なる
部分20をつくり、余分の重クロム酸アンモンを
水で洗い出し、ポストベークの後、所定の分光特
性を有する第2の染料で部分21を染色し2色目
のパターン21を染色する(第2図F)。
次に同様にして、第2図Gに示す如く、前記と
同じ感光液を均一に塗布し乾燥した後マスク2
2、光23によりマスク露光法により3層目の必
要なパターン以外の部分24を過剰に露光し、さ
らに第2図Hの如く光25で適正露光量で全面露
光することによつて3層目に重合度の異なる部分
をつくり、余分の重クロム酸アンモンを水で洗い
出し、ポストベークの後所定の分光特性を有する
第2の染料で3色目のパターン26を染色する。
同じ感光液を均一に塗布し乾燥した後マスク2
2、光23によりマスク露光法により3層目の必
要なパターン以外の部分24を過剰に露光し、さ
らに第2図Hの如く光25で適正露光量で全面露
光することによつて3層目に重合度の異なる部分
をつくり、余分の重クロム酸アンモンを水で洗い
出し、ポストベークの後所定の分光特性を有する
第2の染料で3色目のパターン26を染色する。
最後にトツプコート27を塗布して第2図Iに
示すような色フイルタが製造される。
示すような色フイルタが製造される。
以上述べてきた実施例ではストライプフイルタ
を例に示したがモザイク状フイルタでも同じ方法
が使用できることは言うまでもない。さらにまた
ガラス基板の代わりに固体撮像素子が複数個形成
されたシリコン基板を用いると直接素子上に色フ
イルタを形成できることも明らかである。
を例に示したがモザイク状フイルタでも同じ方法
が使用できることは言うまでもない。さらにまた
ガラス基板の代わりに固体撮像素子が複数個形成
されたシリコン基板を用いると直接素子上に色フ
イルタを形成できることも明らかである。
発明の効果
このようにして本発明により製造された色フイ
ルタは、従来のごとくマスク露光後一部を現像除
去して、部分的にベース膜パターンそのものを形
成しないためパターン周辺のダレを生じず各層が
平坦であり、染色膜厚にムラがないため均一に染
色ができる。また二重露光によつて重合度を増し
た膜は染色性を失いその非染色部分が壁となつて
おり、染色時に染料が縦、横方向に拡がるのを完
全に阻止することが可能である。さらに各層間に
防染膜を必要としないため薄膜フイルタの製造が
可能であるうえ同じ感光膜を重ねることが可能と
なるため密着力の高い色フイルタを得ることがで
きる。
ルタは、従来のごとくマスク露光後一部を現像除
去して、部分的にベース膜パターンそのものを形
成しないためパターン周辺のダレを生じず各層が
平坦であり、染色膜厚にムラがないため均一に染
色ができる。また二重露光によつて重合度を増し
た膜は染色性を失いその非染色部分が壁となつて
おり、染色時に染料が縦、横方向に拡がるのを完
全に阻止することが可能である。さらに各層間に
防染膜を必要としないため薄膜フイルタの製造が
可能であるうえ同じ感光膜を重ねることが可能と
なるため密着力の高い色フイルタを得ることがで
きる。
第1図A〜Cは従来の色フイルタの製造方法を
示す工程断面図、第1図Dは同方法により製造さ
れた色フイルタの平面図、第1図Eは第1図Bの
要部hの拡大図、第2図A〜Iは本発明の一実施
例における色フイルタの製造方法を説明するため
の工程断面図である。 1……ガラス基板、2,4,6,12,14,
防6……染色ベース膜、3,5……防染膜、7,
17……トツプコート、11……パターンマス
ク、11……パターンマスク、18……光。
示す工程断面図、第1図Dは同方法により製造さ
れた色フイルタの平面図、第1図Eは第1図Bの
要部hの拡大図、第2図A〜Iは本発明の一実施
例における色フイルタの製造方法を説明するため
の工程断面図である。 1……ガラス基板、2,4,6,12,14,
防6……染色ベース膜、3,5……防染膜、7,
17……トツプコート、11……パターンマス
ク、11……パターンマスク、18……光。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 基板上に形成した感光性を付与した染色ベー
ス膜を、ホトマスクにより選択的に過剰露光し前
記ベース膜を染色されない状態とする工程と、前
記ベース膜を染色に適正な露光量で全面露光する
工程と、前記ベース膜の前記選択露光時の未露光
部分を染色する工程とを備えたことを特徴とした
色フイルタの製造方法。 2 基板が透光性基板であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の色フイルタの製造方
法。 3 基板が固体撮像素子であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の色フイルタの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57204072A JPS5993408A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 色フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57204072A JPS5993408A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 色フイルタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5993408A JPS5993408A (ja) | 1984-05-29 |
JPH031643B2 true JPH031643B2 (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=16484296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57204072A Granted JPS5993408A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 色フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5993408A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60216306A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-10-29 | Seiko Epson Corp | カラ−フイルタ− |
-
1982
- 1982-11-19 JP JP57204072A patent/JPS5993408A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5993408A (ja) | 1984-05-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH04115515A (ja) | パターン形成方法 | |
JPH0661464A (ja) | 半導体イメージセンサの製造方法及びイメージセンサアセンブリ | |
JPS6177014A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
JPH031643B2 (ja) | ||
JPS59226305A (ja) | 光学フイルタの製造方法 | |
JP2786647B2 (ja) | カラー固体撮像装置の製造方法 | |
US5260153A (en) | Aperture pattern printing plate | |
JPH03255404A (ja) | カラー固体撮像装置の製造方法 | |
JPS60114807A (ja) | 微細色フイルタ−作製法 | |
JP3021907B2 (ja) | カラーフィルターパターンの形成方法 | |
JPH045162B2 (ja) | ||
KR0139578B1 (ko) | 리소그래피 공정에 의한 감광막 패턴 형성방법 | |
JPH03287102A (ja) | 色フィルタの製造方法 | |
JPH02220002A (ja) | カラーフィルター及びその製造方法 | |
JPS62131202A (ja) | カラ−フイルタの形成方法 | |
JPS5888705A (ja) | 色フイルタの製造方法 | |
JPS5950411A (ja) | 色フイルタの製造方法 | |
US1287594A (en) | Color moving pictures. | |
JPS62215901A (ja) | 色フイルタの製造方法 | |
JPS6358402A (ja) | 色分解フイルタの製造方法 | |
JPS62257104A (ja) | カラ−フイルタ | |
JPH01239928A (ja) | パターン形成方法 | |
JPH01142606A (ja) | 固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法 | |
JPS6358403A (ja) | 色分解フイルタの製造方法 | |
JPS5942281B2 (ja) | 微細パタ−ンの色フイルタ膜の成形方法 |