JPS6086504A - カラ−固体撮像装置の製造方法 - Google Patents
カラ−固体撮像装置の製造方法Info
- Publication number
- JPS6086504A JPS6086504A JP58195531A JP19553183A JPS6086504A JP S6086504 A JPS6086504 A JP S6086504A JP 58195531 A JP58195531 A JP 58195531A JP 19553183 A JP19553183 A JP 19553183A JP S6086504 A JPS6086504 A JP S6086504A
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- Japan
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- mask
- color filter
- array
- color
- colors
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明はカラー固体撮像装置の製造方法に係り、特に
その受光素子群の各受光素子に対応してその前面に置か
れるカラーフィルタからなるカラーフィルタアレイの製
造方法の改良に関するものである。
その受光素子群の各受光素子に対応してその前面に置か
れるカラーフィルタからなるカラーフィルタアレイの製
造方法の改良に関するものである。
第1図はここで対象とするカラー固体撮像装置の一例の
概略を示し、第1図Aはその平面図、第1図Bはその側
面図で、半導体基板(1)の表面には受光素子(2)の
アレイ(詳細は第3図以下で説明する。)が形成され、
その表面上Gこは各受光素子に対応したカラーフィルタ
からなるカラーフィルタアレイが設けられている。第2
図は第1図Aにおいて一点鎖線で囲んだ口部のフイルタ
ノ(ターンを拡大して示す拡大部分平面図で、Rは赤色
フィルタ、Gは緑色フィルタ、Bは青色フィルタで、こ
の例では、この三色のフィルタが規則正しく平等に分布
している。
概略を示し、第1図Aはその平面図、第1図Bはその側
面図で、半導体基板(1)の表面には受光素子(2)の
アレイ(詳細は第3図以下で説明する。)が形成され、
その表面上Gこは各受光素子に対応したカラーフィルタ
からなるカラーフィルタアレイが設けられている。第2
図は第1図Aにおいて一点鎖線で囲んだ口部のフイルタ
ノ(ターンを拡大して示す拡大部分平面図で、Rは赤色
フィルタ、Gは緑色フィルタ、Bは青色フィルタで、こ
の例では、この三色のフィルタが規則正しく平等に分布
している。
第3図はこのようなカラーフィルタアレイの従来の製造
方法を説明するためにその主要段階における状態を示す
断面図で、まず、第3図Aに示すように半導体基板il
+の表面に形成された受光素子(2)のアレイの上に、
第3図Bに示すようにフィルタとなるべき例えばゼラチ
ンのような染色担体膜(3)を形成する。次に、第3図
Cに示すようにその上にホトレジスト膜(4)を形成す
る。この例ではホトレジスト膜(4)はネガタイプのホ
トレジスト材で構成される。つづいて、第3図りに示す
ように所要のマスク(5)を介して矢印りで示すように
露光させた後、現像工程を経て、第3図Eに示すように
χ ホトレジスト膜f4)KQi!)のパターンとする。し
か、 る後に、このパターニングされたホトレジスト膜
(4)をマスクとして染色担体膜(3)にエツチングを
施し、第3図Fに示すように受光素子(2)の2個おき
にその上に染色担体(3a)を残し、これに第1の色、
例えば赤色の染色を施して第1の色のフィルタを完成さ
せる。
方法を説明するためにその主要段階における状態を示す
断面図で、まず、第3図Aに示すように半導体基板il
+の表面に形成された受光素子(2)のアレイの上に、
第3図Bに示すようにフィルタとなるべき例えばゼラチ
ンのような染色担体膜(3)を形成する。次に、第3図
Cに示すようにその上にホトレジスト膜(4)を形成す
る。この例ではホトレジスト膜(4)はネガタイプのホ
トレジスト材で構成される。つづいて、第3図りに示す
ように所要のマスク(5)を介して矢印りで示すように
露光させた後、現像工程を経て、第3図Eに示すように
χ ホトレジスト膜f4)KQi!)のパターンとする。し
か、 る後に、このパターニングされたホトレジスト膜
(4)をマスクとして染色担体膜(3)にエツチングを
施し、第3図Fに示すように受光素子(2)の2個おき
にその上に染色担体(3a)を残し、これに第1の色、
例えば赤色の染色を施して第1の色のフィルタを完成さ
せる。
以上のような操作を繰返して、第3図Gに示すように第
1の色のフィルタ(3a)の片側に隣接して第2の色例
えば緑色のフィルタ(3b)を形成し、更に同様の操作
によって、第3図11に示すように第3の色例えば青色
のフィルタ(3c)を形成する。
1の色のフィルタ(3a)の片側に隣接して第2の色例
えば緑色のフィルタ(3b)を形成し、更に同様の操作
によって、第3図11に示すように第3の色例えば青色
のフィルタ(3c)を形成する。
このようにして三色のフィルタアレイを有するカラー固
体撮像装置は完成する。
体撮像装置は完成する。
第4図は第3図Fの第1の色のフィルタ(3a)の形成
後のバリヤ層の形成状況を示す拡大断面図で、第3図G
では単純化してg lの色のフィルタ(3a)と第2の
色のフィルタ(3b)とを面接接して形成するように示
したが、それでは相互間に色素の拡散が生じるので、第
4図に示すように、第1の色のフィルタ(3a)を形成
した後にバリア層(6)で表面を覆い、その上で第1の
色のフィルタ(3a)の間に新しく染色担体膜(3)を
形成し、第3図Gに示した第2の色のフィルタ(3b)
の形成工程に入る。第2の色のフィルタ(3))形成後
の第3の色のフィルタ(3c)の形成工程に入る^IJ
にも、上述に準じた作業が行われる。
後のバリヤ層の形成状況を示す拡大断面図で、第3図G
では単純化してg lの色のフィルタ(3a)と第2の
色のフィルタ(3b)とを面接接して形成するように示
したが、それでは相互間に色素の拡散が生じるので、第
4図に示すように、第1の色のフィルタ(3a)を形成
した後にバリア層(6)で表面を覆い、その上で第1の
色のフィルタ(3a)の間に新しく染色担体膜(3)を
形成し、第3図Gに示した第2の色のフィルタ(3b)
の形成工程に入る。第2の色のフィルタ(3))形成後
の第3の色のフィルタ(3c)の形成工程に入る^IJ
にも、上述に準じた作業が行われる。
ところで、従来の製造方法では各色毎に写真製版用のマ
スク(5)を準備してこれをいちいち取替えて、各色の
フィルタ(3a)l (3b)、 Cr5C)を形成し
ていたので、マスクの枚数が多くなり、史に、その取替
えの煩雑さ、作業時間の長大化など問題があつ〔発明の
劾壜〕 この発明は以上のような点に鑑みてなされたもので、マ
スク合わせ用マークを形成すべき色フイルタアレイのピ
ッチに対応した間隔で複数個設け、このマークを使い別
けることによって1枚のマスクで複数色の色フイルタア
レイを形成する方法を提供するものである。
スク(5)を準備してこれをいちいち取替えて、各色の
フィルタ(3a)l (3b)、 Cr5C)を形成し
ていたので、マスクの枚数が多くなり、史に、その取替
えの煩雑さ、作業時間の長大化など問題があつ〔発明の
劾壜〕 この発明は以上のような点に鑑みてなされたもので、マ
スク合わせ用マークを形成すべき色フイルタアレイのピ
ッチに対応した間隔で複数個設け、このマークを使い別
けることによって1枚のマスクで複数色の色フイルタア
レイを形成する方法を提供するものである。
第5図はこの発明の一実施例に用いる写真製版用マスク
を示す平面図で、第6図は第5図の一点鎖線で囲んだW
部のマスクパターン拡大図、第7図は第5図の一点鎖線
で囲んだV1部のマスク合わせ用マークの拡大図である
。このマスク(5)は第3図りの段階で用いたものとマ
スクパターンは同一を であり色フイルタアレイの繰返しピッ−MS−とすると
、マスク合わせ用マーク(イ)、(ロ)、(ハ)の間隔
ptはpa /aとなっている。従って、第1の色のフ
ィルタの形成にはマーク(イ)を用い、第2.第3の色
のフィルタの形成にはそれぞれマーク(ロ)、ヒ→を用
いれは1枚のマスク(5)で3色の色フイルタアレイの
形成が可能である。
を示す平面図で、第6図は第5図の一点鎖線で囲んだW
部のマスクパターン拡大図、第7図は第5図の一点鎖線
で囲んだV1部のマスク合わせ用マークの拡大図である
。このマスク(5)は第3図りの段階で用いたものとマ
スクパターンは同一を であり色フイルタアレイの繰返しピッ−MS−とすると
、マスク合わせ用マーク(イ)、(ロ)、(ハ)の間隔
ptはpa /aとなっている。従って、第1の色のフ
ィルタの形成にはマーク(イ)を用い、第2.第3の色
のフィルタの形成にはそれぞれマーク(ロ)、ヒ→を用
いれは1枚のマスク(5)で3色の色フイルタアレイの
形成が可能である。
上例ではマスク合わせマークの間隔ptを3色の色フイ
ルタアレイの繰返しヒツチp、の1/3、すなわち色フ
ィルタのピッチに叫しくしたが、色フィルタのピッチの
整数倍にしてもよい。更に上例のマスクはネガタイプの
ホトレジスト材を用いる場合のもので、ホジタイプのホ
トレジスト栃の場合は上例とは反転させたマスクパター
ンを用いるべきである。また、上例では牛場体基板側に
ある1個のマークに対してマスク側に3個のマスク合わ
せマークを設けて順次マスク合わせするようにしたが、
マスク側を1個にして半導体基板側に3個設けてもよい
。なお、上側は3色の場合について説明したもので一般
に複数色の場合にこの発明は適用できる。
ルタアレイの繰返しヒツチp、の1/3、すなわち色フ
ィルタのピッチに叫しくしたが、色フィルタのピッチの
整数倍にしてもよい。更に上例のマスクはネガタイプの
ホトレジスト材を用いる場合のもので、ホジタイプのホ
トレジスト栃の場合は上例とは反転させたマスクパター
ンを用いるべきである。また、上例では牛場体基板側に
ある1個のマークに対してマスク側に3個のマスク合わ
せマークを設けて順次マスク合わせするようにしたが、
マスク側を1個にして半導体基板側に3個設けてもよい
。なお、上側は3色の場合について説明したもので一般
に複数色の場合にこの発明は適用できる。
以上説明したように、この発明では受光素子アレイの表
面上に複数色の光フィルタが繰返して規則正しく分布し
たカラーフィルタアレイを形成してカラー固体撮像装置
を製造するに際して用いる写真製版用マスクとして、上
記複数色のうちの1色の光フイルタ形成用マスクを用い
、上記受光素子プレイとのマスク合わせのためのマーク
として上記受光素子プレイのピッチの整数倍の間隔をお
いて上記複数色の色数に応じた数のマークを設けるよう
にしたので上記1枚のマスクのみで複数色のカラーフィ
ルタプレイを形成することができる。
面上に複数色の光フィルタが繰返して規則正しく分布し
たカラーフィルタアレイを形成してカラー固体撮像装置
を製造するに際して用いる写真製版用マスクとして、上
記複数色のうちの1色の光フイルタ形成用マスクを用い
、上記受光素子プレイとのマスク合わせのためのマーク
として上記受光素子プレイのピッチの整数倍の間隔をお
いて上記複数色の色数に応じた数のマークを設けるよう
にしたので上記1枚のマスクのみで複数色のカラーフィ
ルタプレイを形成することができる。
第1図はここで対象とするカラー固体撮像装置の一例の
概略を示し、第1図Aはその平面図、第1図Bはその側
面図、第2図は第1図Aの一点鎖線で囲んだ0部のフィ
ルタパターンを示す拡大部分平面図、第3図はこのよう
なカラーフィルタアレイの従来の製造方法を説明するた
めにその主要段階における状態を示す断面図、第4図は
第1の色のフィルタ形成後のバリア層の形成状況を示す
拡大断面図、第5図はこの発明の一実施例に用いる写真
製版用マスクを示す平面図、第6図は第5図の一点鎖線
で囲んだ1部のマスクパターンの拡大図、第9図は第5
図の一点鎖線で囲んだ1部のマスク合わせ用マークの拡
大図である。 図において、(1)は半導体基板、(21は受光素子ア
レイ、(3a)、 (sb)、 (3c)はカラーフィ
ルタ、(4)はホトレジストM、(51はマスク、(イ
)、(ロ)、(ハ)はマスク合わせ用マークである。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す0 代理人 大 岩 増 雄 第1図 第2(4 第:3図
概略を示し、第1図Aはその平面図、第1図Bはその側
面図、第2図は第1図Aの一点鎖線で囲んだ0部のフィ
ルタパターンを示す拡大部分平面図、第3図はこのよう
なカラーフィルタアレイの従来の製造方法を説明するた
めにその主要段階における状態を示す断面図、第4図は
第1の色のフィルタ形成後のバリア層の形成状況を示す
拡大断面図、第5図はこの発明の一実施例に用いる写真
製版用マスクを示す平面図、第6図は第5図の一点鎖線
で囲んだ1部のマスクパターンの拡大図、第9図は第5
図の一点鎖線で囲んだ1部のマスク合わせ用マークの拡
大図である。 図において、(1)は半導体基板、(21は受光素子ア
レイ、(3a)、 (sb)、 (3c)はカラーフィ
ルタ、(4)はホトレジストM、(51はマスク、(イ
)、(ロ)、(ハ)はマスク合わせ用マークである。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す0 代理人 大 岩 増 雄 第1図 第2(4 第:3図
Claims (3)
- (1)半導体基板の表面部に形成された受光素子アレイ
の表面上に、複数色の光フィルタが繰返して規則正しく
分布したカラーフィルタアレイを形成してカラー固体撮
像装置を製造するに際して、上記複数色のうちの1色の
光フィルタの形成工程における写真製版用マスクを用い
、上記半導体基板とのマスク合わせのために、上記受光
素子アレイのピッチの整数倍の間隔をおいて上記複数色
の色数に応じた数のマスク合わせ用マークを設けること
によって、1枚の上記写真製版用マスクのみで上記複数
色のカラーフィルタアレイを形成することを特徴とする
カラー固体撮像装置の製造方法。 - (2) 複数色の色数に応じた数のマスク合わせ用マー
クを写真製版用マスク側に設けることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のカラー固体撮像装置の製造方法
。 - (3)複数色の色数に応じた数のマスク合わせ用マーク
を半導体基板側に設けることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のカラー固体撮像装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58195531A JPS6086504A (ja) | 1983-10-17 | 1983-10-17 | カラ−固体撮像装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58195531A JPS6086504A (ja) | 1983-10-17 | 1983-10-17 | カラ−固体撮像装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6086504A true JPS6086504A (ja) | 1985-05-16 |
Family
ID=16342635
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58195531A Pending JPS6086504A (ja) | 1983-10-17 | 1983-10-17 | カラ−固体撮像装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6086504A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61219901A (ja) * | 1985-03-26 | 1986-09-30 | Stanley Electric Co Ltd | 多色カラ−表示素子の製造方法 |
JPS61295503A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Seikosha Co Ltd | カラ−フィルタの製造方法 |
JPS61295505A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
JPS6214102A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Seikosha Co Ltd | カラーフイルタ製造用フオトマスク |
-
1983
- 1983-10-17 JP JP58195531A patent/JPS6086504A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61219901A (ja) * | 1985-03-26 | 1986-09-30 | Stanley Electric Co Ltd | 多色カラ−表示素子の製造方法 |
JPS61295503A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Seikosha Co Ltd | カラ−フィルタの製造方法 |
JPS61295505A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
JPH0443562B2 (ja) * | 1985-06-25 | 1992-07-17 | Seikosha Kk | |
JPS6214102A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Seikosha Co Ltd | カラーフイルタ製造用フオトマスク |
JPH0466346B2 (ja) * | 1985-07-11 | 1992-10-22 | Seikosha Kk |
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