JP2000066019A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 感光性着色レジストの露光処理を不都合なく
行うことができ、これによりカラーフィルタを良好に製
造することのできる、カラーフィルタの製造方法の提供
が望まれている。 【解決手段】 矩形状のチップパターンＰを縦横に多数
配列形成してなる基板４上に感光性着色レジスト層を設
け、この感光性着色レジスト層を縮小投影露光装置で露
光処理することによってパターニングされてなるカラー
フィルタを製造するカラーフィルタの製造方法である。
露光処理の１ショットの形状を矩形状とし、その一方の
寸法をチップパターンの寸法のａ倍（ただし、ａは２以
上の正の整数）とする。ステップピッチをチップパター
ンの寸法のｃ倍（ただし、ｃはａの約数であり、かつａ
より小さい正の整数）とし、１ショットＳの露光量を、
感光性着色レジスト層が必要とする露光量のｃ／ａとし
て露光処理を行う。
行うことができ、これによりカラーフィルタを良好に製
造することのできる、カラーフィルタの製造方法の提供
が望まれている。 【解決手段】 矩形状のチップパターンＰを縦横に多数
配列形成してなる基板４上に感光性着色レジスト層を設
け、この感光性着色レジスト層を縮小投影露光装置で露
光処理することによってパターニングされてなるカラー
フィルタを製造するカラーフィルタの製造方法である。
露光処理の１ショットの形状を矩形状とし、その一方の
寸法をチップパターンの寸法のａ倍（ただし、ａは２以
上の正の整数）とする。ステップピッチをチップパター
ンの寸法のｃ倍（ただし、ｃはａの約数であり、かつａ
より小さい正の整数）とし、１ショットＳの露光量を、
感光性着色レジスト層が必要とする露光量のｃ／ａとし
て露光処理を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーＣＣＤ固体
撮像素子やカラー液晶表示素子等に設けられるカラーフ
ィルタの製造方法に関する。
撮像素子やカラー液晶表示素子等に設けられるカラーフ
ィルタの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＣＣＤ固体撮像素子や液晶表示素
子ではフルカラー化が進められている。これら素子のフ
ルカラー化を可能にする手法としては、オンチップカラ
ーフィルタ（以下、ＯＣＣＦと称する）材として感光性
着色レジストを用い、これを予め多数のチップパターン
を形成したウエハ（基板）の上に塗布してレジスト層を
形成し、さらにこのレジスト層をステッパーと称される
縮小投影露光装置でリソグラフィー的にパターニング
し、ＯＣＣＦ（オンチップカラーフィルタ）を作製する
といった方法が一般的である。
子ではフルカラー化が進められている。これら素子のフ
ルカラー化を可能にする手法としては、オンチップカラ
ーフィルタ（以下、ＯＣＣＦと称する）材として感光性
着色レジストを用い、これを予め多数のチップパターン
を形成したウエハ（基板）の上に塗布してレジスト層を
形成し、さらにこのレジスト層をステッパーと称される
縮小投影露光装置でリソグラフィー的にパターニング
し、ＯＣＣＦ（オンチップカラーフィルタ）を作製する
といった方法が一般的である。
【０００３】ステッパーは、図３に示すように光源やコ
リメータレンズからなる露光光学系１と、最終寸法の数
倍に拡大されたマスクであるレチクル２と、縮小投影レ
ンズからなる投影光学系３とを備えて構成されたもの
で、レチクル２のマスクパターンを投影光学系３で縮小
してウエハ４上に投影するものである。ウエハ４は、予
め矩形状のチップパターンを縦横に多数形成し、その表
面上に感光性着色レジスト層（図示略）を形成したもの
である。
リメータレンズからなる露光光学系１と、最終寸法の数
倍に拡大されたマスクであるレチクル２と、縮小投影レ
ンズからなる投影光学系３とを備えて構成されたもの
で、レチクル２のマスクパターンを投影光学系３で縮小
してウエハ４上に投影するものである。ウエハ４は、予
め矩形状のチップパターンを縦横に多数形成し、その表
面上に感光性着色レジスト層（図示略）を形成したもの
である。
【０００４】そして、このウエハ４は、Ｘ−Ｙステージ
５上に載置され、かつＸ−Ｙステージ５の位置出し機構
（図示略）により正確に位置出しがなされた状態のもと
で、１ショットを前記チップパターンの複数個分に相当
する大きさ（寸法）とする処理によって露光される。な
お、この露光処理は、ウエハ４上をステップ・アンド・
リピートすることによってなされる。
５上に載置され、かつＸ−Ｙステージ５の位置出し機構
（図示略）により正確に位置出しがなされた状態のもと
で、１ショットを前記チップパターンの複数個分に相当
する大きさ（寸法）とする処理によって露光される。な
お、この露光処理は、ウエハ４上をステップ・アンド・
リピートすることによってなされる。
【０００５】ここで、露光処理の１ショットＳとして
は、例えば図４に示すように矩形状のチップパターンＰ
が、縦に２個分、横に２個分の計４個分の大きさ（寸
法）でなされる。そして、このような大きさの１ショッ
トＳをもつステッパーにより、例えば図５（ａ）〜
（ｃ）に示すようにウエハ４上に形成された縦２個分、
横６個分のチップパターンＰ1 〜Ｐ6 上の被露光処理領
域６を露光するには、従来、まず図５（ａ）に示すよう
に被露光処理領域６の最側部の縦２個分、横２個分から
なる計４個分のチップパターンＰ1 、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ2
の上を１ショットＳで露光する。
は、例えば図４に示すように矩形状のチップパターンＰ
が、縦に２個分、横に２個分の計４個分の大きさ（寸
法）でなされる。そして、このような大きさの１ショッ
トＳをもつステッパーにより、例えば図５（ａ）〜
（ｃ）に示すようにウエハ４上に形成された縦２個分、
横６個分のチップパターンＰ1 〜Ｐ6 上の被露光処理領
域６を露光するには、従来、まず図５（ａ）に示すよう
に被露光処理領域６の最側部の縦２個分、横２個分から
なる計４個分のチップパターンＰ1 、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ2
の上を１ショットＳで露光する。
【０００６】次いで、ステップピッチをチップパターン
Ｐの横２個分、すなわち１ショットの横寸法分としてＸ
−Ｙステージ５の移動機構（図示略）によってステップ
し、図５（ｂ）に示すように真ん中の縦２個分、横２個
分からなる計４個分のチップパターンＰ3 、Ｐ3 、
Ｐ4 、Ｐ4 の上を１ショットで露光する。その後、同様
にステップピッチを１ショットの横寸法分としてステッ
プし、図５（ｃ）に示すように残りの縦２個分、横２個
分からなる計４個分のチップパターンＰ5 、Ｐ5 、
Ｐ6 、Ｐ6 の上を１ショットで露光する。ここで、各シ
ョットにおける露光量としては、当然ながらウエハ４表
面上の感光性着色レジスト層が必要とする量（Ｅｔｈ）
とされる。そして、このようにして露光処理を行った
ら、続いて現像処理を行い、パターニングされてなるカ
ラーフィルタを得る。
Ｐの横２個分、すなわち１ショットの横寸法分としてＸ
−Ｙステージ５の移動機構（図示略）によってステップ
し、図５（ｂ）に示すように真ん中の縦２個分、横２個
分からなる計４個分のチップパターンＰ3 、Ｐ3 、
Ｐ4 、Ｐ4 の上を１ショットで露光する。その後、同様
にステップピッチを１ショットの横寸法分としてステッ
プし、図５（ｃ）に示すように残りの縦２個分、横２個
分からなる計４個分のチップパターンＰ5 、Ｐ5 、
Ｐ6 、Ｐ6 の上を１ショットで露光する。ここで、各シ
ョットにおける露光量としては、当然ながらウエハ４表
面上の感光性着色レジスト層が必要とする量（Ｅｔｈ）
とされる。そして、このようにして露光処理を行った
ら、続いて現像処理を行い、パターニングされてなるカ
ラーフィルタを得る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、感光性着色
レジストは、通常、顔料分散型と染料分散型とに分けら
れるが、いずれも顔料や染料の影響によってレジストの
感度が低いものとなっている。例えば、染料分散型Ｙｅ
レジストのＥｔｈ（所望のパターンを得るために必要な
露光量）は約１０００ｍＪ／□、Ｇｒｅｅｎは約３００
０ｍＪ／□であり、また顔料分散型Ｂｌｕｅレジストの
Ｅｔｈは約７００ｍＪ／□である。このように、感光性
着色レジストでは、顔料や染料が添加されていないレジ
ストに比べＥｔｈが増大しているのである。
レジストは、通常、顔料分散型と染料分散型とに分けら
れるが、いずれも顔料や染料の影響によってレジストの
感度が低いものとなっている。例えば、染料分散型Ｙｅ
レジストのＥｔｈ（所望のパターンを得るために必要な
露光量）は約１０００ｍＪ／□、Ｇｒｅｅｎは約３００
０ｍＪ／□であり、また顔料分散型Ｂｌｕｅレジストの
Ｅｔｈは約７００ｍＪ／□である。このように、感光性
着色レジストでは、顔料や染料が添加されていないレジ
ストに比べＥｔｈが増大しているのである。
【０００８】一方、ステッパーでは、１ショットあたり
に多大な露光エネルギーを照射し続けると、投影光学系
３の縮小投影レンズが熱を帯びて負荷が大きくなること
から、強制的にクーリング状態に移行してしまう。そし
て、このようにクーリング状態に移行し、ステッパーが
待機状態になってしまうと、当然作業が中断し、露光処
理ができなくなってしまう。
に多大な露光エネルギーを照射し続けると、投影光学系
３の縮小投影レンズが熱を帯びて負荷が大きくなること
から、強制的にクーリング状態に移行してしまう。そし
て、このようにクーリング状態に移行し、ステッパーが
待機状態になってしまうと、当然作業が中断し、露光処
理ができなくなってしまう。
【０００９】したがって、図５（ａ）〜（ｃ）に示した
ような露光処理による従来のカラーフィルタの製造方法
では、感光性着色レジストの露光処理に必要な露光エネ
ルギーが増大していることにより、ステッパーでの１シ
ョットあたりの露光エネルギーも増大していることか
ら、前述したように投影光学系の負荷が大きくなって強
制的にクーリング状態に移行してしまうといった不都合
が起こり易くなっているのである。
ような露光処理による従来のカラーフィルタの製造方法
では、感光性着色レジストの露光処理に必要な露光エネ
ルギーが増大していることにより、ステッパーでの１シ
ョットあたりの露光エネルギーも増大していることか
ら、前述したように投影光学系の負荷が大きくなって強
制的にクーリング状態に移行してしまうといった不都合
が起こり易くなっているのである。
【００１０】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、感光性着色レジストの露
光処理を、強制的にクーリング状態に移行してしまうと
いった不都合を起こすことなく行うことができ、したが
ってカラーフィルタを良好に製造することのできる、カ
ラーフィルタの製造方法を提供することにある。
で、その目的とするところは、感光性着色レジストの露
光処理を、強制的にクーリング状態に移行してしまうと
いった不都合を起こすことなく行うことができ、したが
ってカラーフィルタを良好に製造することのできる、カ
ラーフィルタの製造方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
の製造方法では、矩形状のチップパターンを縦横に多数
配列形成してなる基板上に感光性着色レジスト層を設
け、この感光性着色レジスト層を縮小投影露光装置で露
光処理することによってパターニングされてなるカラー
フィルタを製造するに際して、前記露光処理の１ショッ
トの形状を矩形状とし、かつその縦横のうちの一方の寸
法を前記チップパターンの縦横のうちの一方の寸法のａ
倍（ただし、ａは２以上の正の整数）とするとともに、
他方の寸法をチップパターンの縦横のうちの他方の寸法
のｂ倍（ただし、ｂは正の整数）とし、前記露光処理に
おける各ショットを、該１ショットの形状の縦横のうち
の一方の方向に沿って行うとともに、ステップピッチを
前記チップパターンの縦横のうちの一方の寸法のｃ倍
（ただし、ｃはａの約数であり、かつａより小さい正の
整数）とし、１ショットの露光量を、前記感光性着色レ
ジスト層が必要とする露光量のｃ／ａとして、露光処理
を行うことを前記課題の解決手段とした。
の製造方法では、矩形状のチップパターンを縦横に多数
配列形成してなる基板上に感光性着色レジスト層を設
け、この感光性着色レジスト層を縮小投影露光装置で露
光処理することによってパターニングされてなるカラー
フィルタを製造するに際して、前記露光処理の１ショッ
トの形状を矩形状とし、かつその縦横のうちの一方の寸
法を前記チップパターンの縦横のうちの一方の寸法のａ
倍（ただし、ａは２以上の正の整数）とするとともに、
他方の寸法をチップパターンの縦横のうちの他方の寸法
のｂ倍（ただし、ｂは正の整数）とし、前記露光処理に
おける各ショットを、該１ショットの形状の縦横のうち
の一方の方向に沿って行うとともに、ステップピッチを
前記チップパターンの縦横のうちの一方の寸法のｃ倍
（ただし、ｃはａの約数であり、かつａより小さい正の
整数）とし、１ショットの露光量を、前記感光性着色レ
ジスト層が必要とする露光量のｃ／ａとして、露光処理
を行うことを前記課題の解決手段とした。
【００１２】このカラーフィルタの製造方法によれば、
露光処理の１ショットの形状を矩形状とし、かつその縦
横のうちの一方の寸法を前記チップパターンの縦横のう
ちの一方の寸法のａ倍（ただし、ａは２以上の正の整
数）とし、前記露光処理における各ショットを、該１シ
ョットの形状の縦横のうちの一方の方向に沿って行うと
ともに、ステップピッチを前記チップパターンの縦横の
うちの一方の寸法のｃ倍（ただし、ｃはａの約数であ
り、かつａより小さい正の整数）として露光処理を行う
ので、チップパターンの縦横のうちの一方の寸法をｐと
すれば、露光処理の１ショットの縦横のうちの一方の寸
法が（ａ×ｐ）となり、ステップピッチの寸法が（ｃ×
ｐ）となる。
露光処理の１ショットの形状を矩形状とし、かつその縦
横のうちの一方の寸法を前記チップパターンの縦横のう
ちの一方の寸法のａ倍（ただし、ａは２以上の正の整
数）とし、前記露光処理における各ショットを、該１シ
ョットの形状の縦横のうちの一方の方向に沿って行うと
ともに、ステップピッチを前記チップパターンの縦横の
うちの一方の寸法のｃ倍（ただし、ｃはａの約数であ
り、かつａより小さい正の整数）として露光処理を行う
ので、チップパターンの縦横のうちの一方の寸法をｐと
すれば、露光処理の１ショットの縦横のうちの一方の寸
法が（ａ×ｐ）となり、ステップピッチの寸法が（ｃ×
ｐ）となる。
【００１３】したがって、各チップパターン上の感光性
着色レジスト層からなる被露光処理面の露光ショット回
数は、１ショットの寸法（ａ×ｐ）をステップピッチの
寸法（ｃ×ｐ）で割った値、すなわち２回以上の正の整
数回である（ａ／ｃ）回となる。
着色レジスト層からなる被露光処理面の露光ショット回
数は、１ショットの寸法（ａ×ｐ）をステップピッチの
寸法（ｃ×ｐ）で割った値、すなわち２回以上の正の整
数回である（ａ／ｃ）回となる。
【００１４】しかして、１ショットの露光量を、前記感
光性着色レジスト層が必要とする露光量（Ｅｔｈ）の
（ｃ／ａ）としているので、各チップパターン上の感光
性着色レジスト層からなる被露光処理面は、（ｃ／ａ）
の露光量で（ａ／ｃ）回露光処理がなされることによ
り、結果として感光性着色レジスト層が必要とする露光
量（Ｅｔｈ）で露光処理されることになる。
光性着色レジスト層が必要とする露光量（Ｅｔｈ）の
（ｃ／ａ）としているので、各チップパターン上の感光
性着色レジスト層からなる被露光処理面は、（ｃ／ａ）
の露光量で（ａ／ｃ）回露光処理がなされることによ
り、結果として感光性着色レジスト層が必要とする露光
量（Ｅｔｈ）で露光処理されることになる。
【００１５】よって、１ショットの露光量が必要とする
露光量（Ｅｔｈ）の（ｃ／ａ）で行われることにより、
投影光学系の負荷が大きくなって強制的にクーリング状
態に移行してしまうといったことが防止され、しかも最
終的には感光性着色レジスト層が必要とする露光量で露
光処理がなされることになる。
露光量（Ｅｔｈ）の（ｃ／ａ）で行われることにより、
投影光学系の負荷が大きくなって強制的にクーリング状
態に移行してしまうといったことが防止され、しかも最
終的には感光性着色レジスト層が必要とする露光量で露
光処理がなされることになる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明のカラーフィルタの
製造方法を詳しく説明する。図１（ａ）〜（ｄ）、図２
（ａ）〜（ｃ）は、本発明のカラーフィルタの製造方法
を、図５（ａ）〜（ｃ）に示した場合と同様に、ウエハ
４上に形成された縦２個分、横６個分のチップパターン
Ｐ1 〜Ｐ6 上の感光性着色レジスト層からなる被露光処
理領域６を露光し、カラーフィルタを形成する場合に適
用した例を示す図である。
製造方法を詳しく説明する。図１（ａ）〜（ｄ）、図２
（ａ）〜（ｃ）は、本発明のカラーフィルタの製造方法
を、図５（ａ）〜（ｃ）に示した場合と同様に、ウエハ
４上に形成された縦２個分、横６個分のチップパターン
Ｐ1 〜Ｐ6 上の感光性着色レジスト層からなる被露光処
理領域６を露光し、カラーフィルタを形成する場合に適
用した例を示す図である。
【００１７】なお、本例においても、露光処理の１ショ
ットＳについては、図４に示したように、矩形状のチッ
プパターンＰが縦に２個分、横に２個分の計４個分の大
きさ（寸法）とする。また、本例においては、露光処理
を図１（ａ）中の横方向に行うものとし、チップパター
ンＰの横の寸法をｐとする。そして、１ショットＳの形
状の横の寸法（ａ×ｐ）を２ｐ（すなわちａ＝２）、縦
の寸法（ｂ×ｐ）を２ｐ（すなわちｂ＝２）とし、ステ
ップピッチの寸法（ｃ×ｐ）をｐ（すなわちｃ＝１）と
する。具体的には、１ショットＳの横の寸法が１２００
０μｍである場合、従来ではステップピッチを１２００
０μｍとしていたのを、本例においては６０００μｍと
する。なお、ｃ＝１とするのは、ｃがａの約数であり、
かつａより小さい正の整数であるからであり、すなわち
本例においては、２の約数でありかつ２より小さい正の
整数は１しかないからである。
ットＳについては、図４に示したように、矩形状のチッ
プパターンＰが縦に２個分、横に２個分の計４個分の大
きさ（寸法）とする。また、本例においては、露光処理
を図１（ａ）中の横方向に行うものとし、チップパター
ンＰの横の寸法をｐとする。そして、１ショットＳの形
状の横の寸法（ａ×ｐ）を２ｐ（すなわちａ＝２）、縦
の寸法（ｂ×ｐ）を２ｐ（すなわちｂ＝２）とし、ステ
ップピッチの寸法（ｃ×ｐ）をｐ（すなわちｃ＝１）と
する。具体的には、１ショットＳの横の寸法が１２００
０μｍである場合、従来ではステップピッチを１２００
０μｍとしていたのを、本例においては６０００μｍと
する。なお、ｃ＝１とするのは、ｃがａの約数であり、
かつａより小さい正の整数であるからであり、すなわち
本例においては、２の約数でありかつ２より小さい正の
整数は１しかないからである。
【００１８】本例においては、まず、矩形状のチップパ
ターンＰ1 〜Ｐ6 を縦横に多数配列形成し、さらにその
上に感光性着色レジスト層を形成したウエハ（基板）４
を、図３に示したステッパーのＸ−Ｙステージ５上に載
置し、位置決めする。そして、この状態のもとで、図１
（ａ）に示すように被露光処理領域６の最側部の縦２個
分、横１個分からなる計２個分のチップパターンＰ1 、
Ｐ1 の上にかかり、かつ残り半分は被露光処理領域６の
側方に位置するようにして、１ショットＳで露光する。
ここで、このときの露光量、すなわち１ショットＳの露
光量としては、前記感光性着色レジスト層が必要とする
露光量（Ｅｔｈ）の（ｃ／ａ）、すなわち（１／２）の
露光量で行う。具体的には、Ｅｔｈが１０００ｍＪ／□
である場合、本例では露光量をその（１／２）の５００
ｍＪ／□とする。
ターンＰ1 〜Ｐ6 を縦横に多数配列形成し、さらにその
上に感光性着色レジスト層を形成したウエハ（基板）４
を、図３に示したステッパーのＸ−Ｙステージ５上に載
置し、位置決めする。そして、この状態のもとで、図１
（ａ）に示すように被露光処理領域６の最側部の縦２個
分、横１個分からなる計２個分のチップパターンＰ1 、
Ｐ1 の上にかかり、かつ残り半分は被露光処理領域６の
側方に位置するようにして、１ショットＳで露光する。
ここで、このときの露光量、すなわち１ショットＳの露
光量としては、前記感光性着色レジスト層が必要とする
露光量（Ｅｔｈ）の（ｃ／ａ）、すなわち（１／２）の
露光量で行う。具体的には、Ｅｔｈが１０００ｍＪ／□
である場合、本例では露光量をその（１／２）の５００
ｍＪ／□とする。
【００１９】続いて、チップパターンＰの横寸法ｐ分の
ステップピッチでウエハ４をＸ−Ｙステージ５の移動機
構（図示略）によってステップし、その状態で図１
（ｂ）に示すように左側の縦２個分、横２個分からなる
計４個分のチップパターンＰ1 、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ2 の上
を１ショットＳでかつ必要露光量の（１／２）の露光量
で露光する。
ステップピッチでウエハ４をＸ−Ｙステージ５の移動機
構（図示略）によってステップし、その状態で図１
（ｂ）に示すように左側の縦２個分、横２個分からなる
計４個分のチップパターンＰ1 、Ｐ1 、Ｐ2 、Ｐ2 の上
を１ショットＳでかつ必要露光量の（１／２）の露光量
で露光する。
【００２０】このようにして露光を行うと、本例におい
て最も左側に位置する二個のチップパターンＰ1 、Ｐ1
では、先の露光に続いて２回目（２ショット目）の露光
を受けることになる。しかして、各ショットの露光量は
いずれも必要露光量（Ｅｔｈ）の（１／２）であるの
で、チップパターンＰ1 に対してのトータルの露光量は
（１／２）×２＝１となって必要露光量の１倍、すなわ
ち必要露光量（Ｅｔｈ）そのもので行ったことになって
いる。
て最も左側に位置する二個のチップパターンＰ1 、Ｐ1
では、先の露光に続いて２回目（２ショット目）の露光
を受けることになる。しかして、各ショットの露光量は
いずれも必要露光量（Ｅｔｈ）の（１／２）であるの
で、チップパターンＰ1 に対してのトータルの露光量は
（１／２）×２＝１となって必要露光量の１倍、すなわ
ち必要露光量（Ｅｔｈ）そのもので行ったことになって
いる。
【００２１】次いで、先と同様にしてチップパターンＰ
の横寸法ｐ分のステップピッチでウエハ４をステップ
し、その状態で図１（ｃ）に示すようにチップパターン
Ｐ2 、Ｐ2 、Ｐ3 、Ｐ3 の上を１ショットＳでかつ必要
露光量の１／２の露光量で露光する。これにより、チッ
プパターンＰ2 についても、そのトータルの露光量が必
要露光量（Ｅｔｈ）そのものとなる。
の横寸法ｐ分のステップピッチでウエハ４をステップ
し、その状態で図１（ｃ）に示すようにチップパターン
Ｐ2 、Ｐ2 、Ｐ3 、Ｐ3 の上を１ショットＳでかつ必要
露光量の１／２の露光量で露光する。これにより、チッ
プパターンＰ2 についても、そのトータルの露光量が必
要露光量（Ｅｔｈ）そのものとなる。
【００２２】以下、同様にして図１（ｄ）、図２
（ａ）、図２（ｂ）、図２（ｃ）の順に示すようにウエ
ハ４を順次ステップしてチップパターンＰ3 〜Ｐ6 をそ
れぞれ２ショットずつ露光し、各チップパターンＰ3 〜
Ｐ6 についてそれぞれトータルの露光量を必要露光量
（Ｅｔｈ）そのものにする。そして、このようにして露
光処理を行ったら、続いて現像処理を行い、パターニン
グされてなるカラーフィルタを得る。なお、複数の色表
示を可能にするべく、２色あるいは３色以上のカラーフ
ィルタを形成する場合には、それぞれに対応する感光性
着色レジストを用い、前記の処理を繰り返すことによっ
て複数色のカラーフィルタを得るようにすればよい。
（ａ）、図２（ｂ）、図２（ｃ）の順に示すようにウエ
ハ４を順次ステップしてチップパターンＰ3 〜Ｐ6 をそ
れぞれ２ショットずつ露光し、各チップパターンＰ3 〜
Ｐ6 についてそれぞれトータルの露光量を必要露光量
（Ｅｔｈ）そのものにする。そして、このようにして露
光処理を行ったら、続いて現像処理を行い、パターニン
グされてなるカラーフィルタを得る。なお、複数の色表
示を可能にするべく、２色あるいは３色以上のカラーフ
ィルタを形成する場合には、それぞれに対応する感光性
着色レジストを用い、前記の処理を繰り返すことによっ
て複数色のカラーフィルタを得るようにすればよい。
【００２３】このようなカラーフィルタの製造方法にあ
っては、感光性着色レジスト層を露光するに際して、ス
テップピッチの寸法を１ショットＳの横寸法の（１／
２）にし、これにより被露光処理領域６をそれぞれ２回
（２ショット）ずつ露光処理するとともに、各ショット
の露光量を必要露光量（Ｅｔｈ）の（１／２）にしたの
で、結果的に被露光処理領域６を必要露光量（Ｅｔｈ）
そのもので行うことができ、これによりカラーフィルタ
のパターニングを良好に行うことができる。
っては、感光性着色レジスト層を露光するに際して、ス
テップピッチの寸法を１ショットＳの横寸法の（１／
２）にし、これにより被露光処理領域６をそれぞれ２回
（２ショット）ずつ露光処理するとともに、各ショット
の露光量を必要露光量（Ｅｔｈ）の（１／２）にしたの
で、結果的に被露光処理領域６を必要露光量（Ｅｔｈ）
そのもので行うことができ、これによりカラーフィルタ
のパターニングを良好に行うことができる。
【００２４】また、顔料や染料の添加によって感光性着
色レジストはその必要露光量（Ｅｔｈ）が大きくなって
いるものの、本例においては各ショットを必要露光量
（Ｅｔｈ）の（１／２）にしているので、投影光学系３
の縮小投影レンズに過大な負荷を与えるといったことを
回避することができ、これにより強制的にクーリング状
態に移行してしまい、ステッパーが待機状態になってし
まうといった不都合を防止することができる。
色レジストはその必要露光量（Ｅｔｈ）が大きくなって
いるものの、本例においては各ショットを必要露光量
（Ｅｔｈ）の（１／２）にしているので、投影光学系３
の縮小投影レンズに過大な負荷を与えるといったことを
回避することができ、これにより強制的にクーリング状
態に移行してしまい、ステッパーが待機状態になってし
まうといった不都合を防止することができる。
【００２５】なお、各チップパターン上の感光性着色レ
ジスト層は、結果的に複数回（本例では２回）ずつ露光
処理されるため、露光に際しては合わせズレが起こる可
能性があるものの、一般的にカラーフィルタパターンは
５．０〜１０．０μｍ□のパターンであるため、少々の
ズレは許容範囲であり、実際には支障はない。
ジスト層は、結果的に複数回（本例では２回）ずつ露光
処理されるため、露光に際しては合わせズレが起こる可
能性があるものの、一般的にカラーフィルタパターンは
５．０〜１０．０μｍ□のパターンであるため、少々の
ズレは許容範囲であり、実際には支障はない。
【００２６】また、前記例においては、１ショットＳの
形状の横の寸法（ａ×ｐ）を２ｐ（すなわちａ＝２）、
縦の寸法（ｂ×ｐ）を２ｐ（すなわちｂ＝２）とし、ス
テップピッチの寸法（ｃ×ｐ）をｐとしたが、本発明は
これに限定されることなく、チップパターンＰの寸法等
に応じて適宜なものとすることができる。そして、例え
ば１ショットＳの形状の横の寸法（ａ×ｐ）を４ｐ（す
なわちａ＝４）とした場合、ステップピッチの寸法（ｃ
×ｐ）をｐ（すなわち＝１）あるいは２ｐ（すなわちｃ
＝２）とすればよく、同様にａ＝６とした場合、ｃ＝
１、ｃ＝２、ｃ＝３のいずれかとすればよい。
形状の横の寸法（ａ×ｐ）を２ｐ（すなわちａ＝２）、
縦の寸法（ｂ×ｐ）を２ｐ（すなわちｂ＝２）とし、ス
テップピッチの寸法（ｃ×ｐ）をｐとしたが、本発明は
これに限定されることなく、チップパターンＰの寸法等
に応じて適宜なものとすることができる。そして、例え
ば１ショットＳの形状の横の寸法（ａ×ｐ）を４ｐ（す
なわちａ＝４）とした場合、ステップピッチの寸法（ｃ
×ｐ）をｐ（すなわち＝１）あるいは２ｐ（すなわちｃ
＝２）とすればよく、同様にａ＝６とした場合、ｃ＝
１、ｃ＝２、ｃ＝３のいずれかとすればよい。
【００２７】また、本発明においては、感光性着色レジ
ストの種類について、顔料分散型であるか染料分散型で
あるか等について何ら制限されることなく、もちろんそ
の色が原色系であるか補色系であるか等についても制限
されることはない。また、この感光性着色レジストにつ
いては、ポジ型でもネガ型でも使用可能なのはもちろん
である。また、ステッパーの露光光学系１における光源
についても、ｇ線、ｉ線のいずれも使用可能である。
ストの種類について、顔料分散型であるか染料分散型で
あるか等について何ら制限されることなく、もちろんそ
の色が原色系であるか補色系であるか等についても制限
されることはない。また、この感光性着色レジストにつ
いては、ポジ型でもネガ型でも使用可能なのはもちろん
である。また、ステッパーの露光光学系１における光源
についても、ｇ線、ｉ線のいずれも使用可能である。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明のカラーフィ
ルタの製造方法は、露光ショット回数を、１ショットの
寸法（ａ×ｐ）をステップピッチの寸法（ｃ×ｐ）で割
った値である（ａ／ｃ）回となるようにし、１ショット
の露光量を、前記感光性着色レジスト層が必要とする露
光量（Ｅｔｈ）の（ｃ／ａ）として、各チップパターン
上の感光性着色レジスト層からなる被露光処理面の露光
を行うようにしたものであるから、感光性着色レジスト
層を必要とする露光量（Ｅｔｈ）で露光処理することが
でき、これによりカラーフィルタのパターニングを良好
に行うことができる。
ルタの製造方法は、露光ショット回数を、１ショットの
寸法（ａ×ｐ）をステップピッチの寸法（ｃ×ｐ）で割
った値である（ａ／ｃ）回となるようにし、１ショット
の露光量を、前記感光性着色レジスト層が必要とする露
光量（Ｅｔｈ）の（ｃ／ａ）として、各チップパターン
上の感光性着色レジスト層からなる被露光処理面の露光
を行うようにしたものであるから、感光性着色レジスト
層を必要とする露光量（Ｅｔｈ）で露光処理することが
でき、これによりカラーフィルタのパターニングを良好
に行うことができる。
【００２９】また、各ショットを必要露光量（Ｅｔｈ）
の（ｃ／ａ）にしているので、縮小投影露光装置の縮小
投影レンズに熱によって過大な負荷がかかることを回避
することができ、これにより強制的にクーリング状態に
移行してしまい、縮小投影露光装置が待機状態になって
しまうといった不都合を防止することができる。そし
て、このような不都合を防止することができることか
ら、感光性着色レジストとして、感度が低くそのため必
要露光量が大きいものについても、これを使用してカラ
ーフィルタを製造することができる。
の（ｃ／ａ）にしているので、縮小投影露光装置の縮小
投影レンズに熱によって過大な負荷がかかることを回避
することができ、これにより強制的にクーリング状態に
移行してしまい、縮小投影露光装置が待機状態になって
しまうといった不都合を防止することができる。そし
て、このような不都合を防止することができることか
ら、感光性着色レジストとして、感度が低くそのため必
要露光量が大きいものについても、これを使用してカラ
ーフィルタを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）〜（ｄ）は、本発明のカラーフィルタの
製造方法の一実施形態例を工程順に説明するための平面
図である。
製造方法の一実施形態例を工程順に説明するための平面
図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、本発明のカラーフィルタの
製造方法の一実施形態例を工程順に説明するための図で
あり、図１（ｄ）に続く工程を説明するための平面図で
ある。
製造方法の一実施形態例を工程順に説明するための図で
あり、図１（ｄ）に続く工程を説明するための平面図で
ある。
【図３】縮小投影露光装置（ステッパー）の概略構成図
である。
である。
【図４】露光処理の１ショットの形状説明図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）は、従来のカラーフィルタの製
造方法の一例を工程順に説明するための平面図である。
造方法の一例を工程順に説明するための平面図である。
４…ウエハ（基板）、６…被露光処理領域、Ｐ1 〜Ｐ6
…チップパターン、Ｓ…１ショット
…チップパターン、Ｓ…１ショット
Claims (1)
- 【請求項１】 矩形状のチップパターンを縦横に多数配
列形成してなる基板上に感光性着色レジスト層を設け、
この感光性着色レジスト層を縮小投影露光装置で露光処
理することによってパターニングされてなるカラーフィ
ルタを製造するカラーフィルタの製造方法において、 前記露光処理の１ショットの形状を矩形状とし、かつそ
の縦横のうちの一方の寸法を前記チップパターンの縦横
のうちの一方の寸法のａ倍（ただし、ａは２以上の正の
整数）とするとともに、他方の寸法をチップパターンの
縦横のうちの他方の寸法のｂ倍（ただし、ｂは正の整
数）とし、 前記露光処理における各ショットを、該１ショットの形
状の縦横のうちの一方の方向に沿って行うとともに、ス
テップピッチを前記チップパターンの縦横のうちの一方
の寸法のｃ倍（ただし、ｃはａの約数であり、かつａよ
り小さい正の整数）とし、１ショットの露光量を、前記
感光性着色レジスト層が必要とする露光量のｃ／ａとし
て、露光処理を行うことを特徴とするカラーフィルタの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23806198A JP2000066019A (ja) | 1998-08-25 | 1998-08-25 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23806198A JP2000066019A (ja) | 1998-08-25 | 1998-08-25 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000066019A true JP2000066019A (ja) | 2000-03-03 |
Family
ID=17024582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23806198A Pending JP2000066019A (ja) | 1998-08-25 | 1998-08-25 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000066019A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8142750B2 (en) | 2009-03-16 | 2012-03-27 | Tdk Corporation | Method of manufacturing active material |
-
1998
- 1998-08-25 JP JP23806198A patent/JP2000066019A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8142750B2 (en) | 2009-03-16 | 2012-03-27 | Tdk Corporation | Method of manufacturing active material |
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