JPH0713681B2 - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
- Publication number
- JPH0713681B2 JPH0713681B2 JP30954386A JP30954386A JPH0713681B2 JP H0713681 B2 JPH0713681 B2 JP H0713681B2 JP 30954386 A JP30954386 A JP 30954386A JP 30954386 A JP30954386 A JP 30954386A JP H0713681 B2 JPH0713681 B2 JP H0713681B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dyed
- layer
- isolation layer
- photoresist
- color filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Liquid Crystal (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は固体撮像素子や液晶表示素子などに用いられ
るカラーフィルタの製造方法に関するものである。
るカラーフィルタの製造方法に関するものである。
［従来の技術と発明が解決しようとする問題点］ 従来カラーフィルタの製造方法として、固体撮像素子や
ガラスなどの基板にゼラチンなどの被染色樹脂上にフォ
トレジストで防染マスクを形成後、染料で上記被染色樹
脂を部分的に染め分ける方法が知られている（特公昭53
−248号、特開昭57−139712号）。
ガラスなどの基板にゼラチンなどの被染色樹脂上にフォ
トレジストで防染マスクを形成後、染料で上記被染色樹
脂を部分的に染め分ける方法が知られている（特公昭53
−248号、特開昭57−139712号）。
上述の従来方法においては、ゼラチンなどの被染色樹脂
上に直接フォトレジストを塗布するため、被染色樹脂と
フォトレジストの密着が悪かったり、あるいは両材料が
たがいに影響しあって、フォトレジストが本来もってい
る解像度（数μｍ）とは程違い100μｍ程度の解像度の
悪いパターンしかできなかった。しかもレジストベーク
温度や露光量のわずかの工程条件のばらつきやレジスト
塗布後の放置時間などによってパターニングの具合が影
響されやすく、歩留りも低かった。
上に直接フォトレジストを塗布するため、被染色樹脂と
フォトレジストの密着が悪かったり、あるいは両材料が
たがいに影響しあって、フォトレジストが本来もってい
る解像度（数μｍ）とは程違い100μｍ程度の解像度の
悪いパターンしかできなかった。しかもレジストベーク
温度や露光量のわずかの工程条件のばらつきやレジスト
塗布後の放置時間などによってパターニングの具合が影
響されやすく、歩留りも低かった。
またカラーフィルターのパターンの解像度を向上するた
めの従来技術として特開昭61−285402号がある。これ
は、まず染料受容層とその上の保護層との２層からなる
積層体上にポジ型レジストを塗布し、レジストパターン
を形成してそののちに染料受容層の形成してある基板ご
と染色浴に浸漬して、そのレジストの窓を介してまた保
護層を介して染料受容層を染色し、そののちレジストパ
ターンを除去し色パターンを形成する。そののち上記ポ
ジ型レジストの塗布からレジストパターンの除去までの
工程をくり返し、以上により各色の色パターンを形成し
て染色層を形成するものである。
めの従来技術として特開昭61−285402号がある。これ
は、まず染料受容層とその上の保護層との２層からなる
積層体上にポジ型レジストを塗布し、レジストパターン
を形成してそののちに染料受容層の形成してある基板ご
と染色浴に浸漬して、そのレジストの窓を介してまた保
護層を介して染料受容層を染色し、そののちレジストパ
ターンを除去し色パターンを形成する。そののち上記ポ
ジ型レジストの塗布からレジストパターンの除去までの
工程をくり返し、以上により各色の色パターンを形成し
て染色層を形成するものである。
保護層の製法としては、架橋したポリビニルアルコール
と重クロム酸アンモニウムによりなる塗布液を染料受容
層の上に塗布し、全面に紫外線を照射して光硬化させ保
護層を形成している。ここで保護層の材料として架橋し
たポリビニルアルコールを使用しているのは、保護層を
介して染料受容層を染色するため染料受容層を効率よく
染色するためである。
と重クロム酸アンモニウムによりなる塗布液を染料受容
層の上に塗布し、全面に紫外線を照射して光硬化させ保
護層を形成している。ここで保護層の材料として架橋し
たポリビニルアルコールを使用しているのは、保護層を
介して染料受容層を染色するため染料受容層を効率よく
染色するためである。
しかしこの従来技術によるとレジストの窓と保護層とを
介して染料受容層を染色するときに、基板ごと染色浴に
浸漬して染色するからレジストの窓に対向する保護層の
部分には染料が浸透し、そのときレジストの窓に対向し
ない保護層の部分にも染料が拡がり、レジストの窓に対
向しない染料受容層の部分も染色され解像度の悪いパタ
ーンが形成されるおそれがある。またそのように拡がっ
た染料は、そののちの別の色の色パターン形成において
基板ごと浸漬した染料に混じって各色パターンの色に悪
影響が出るおそれがある。
介して染料受容層を染色するときに、基板ごと染色浴に
浸漬して染色するからレジストの窓に対向する保護層の
部分には染料が浸透し、そのときレジストの窓に対向し
ない保護層の部分にも染料が拡がり、レジストの窓に対
向しない染料受容層の部分も染色され解像度の悪いパタ
ーンが形成されるおそれがある。またそのように拡がっ
た染料は、そののちの別の色の色パターン形成において
基板ごと浸漬した染料に混じって各色パターンの色に悪
影響が出るおそれがある。
また保護層に架橋したポリビニルアルコールを使用する
必要があり、保護層の材料が限られるという欠点があ
る。
必要があり、保護層の材料が限られるという欠点があ
る。
［問題点を解決するための手段］ この発明は上記従来技術の欠点を解決するためのもの
で、基板上に被染色樹脂層と、その上に被染色樹脂層を
フォトレジストと隔離する隔離層を設け、ついで隔離層
の上にフォトレジストによりマスクパターンを形成し、
露出した部分の隔離層をエッチングにより除去し、その
後、窓明けした部分の被染色樹脂層を染色して染色部を
形成することによりカラーフィルタを製造するものであ
る。
で、基板上に被染色樹脂層と、その上に被染色樹脂層を
フォトレジストと隔離する隔離層を設け、ついで隔離層
の上にフォトレジストによりマスクパターンを形成し、
露出した部分の隔離層をエッチングにより除去し、その
後、窓明けした部分の被染色樹脂層を染色して染色部を
形成することによりカラーフィルタを製造するものであ
る。
またフォトレジストによるマスクパターンの形成から染
色部の形成までの工程を繰返して複数の異なる色の染色
部をパターン形成することも可能である。
色部の形成までの工程を繰返して複数の異なる色の染色
部をパターン形成することも可能である。
さらに隔離層を遮光性材料とし、染色部を所定の間隔を
おいてパターン形成し、エッチングされずに残った隔離
層によりブラックストライプを形成することも可能であ
る。
おいてパターン形成し、エッチングされずに残った隔離
層によりブラックストライプを形成することも可能であ
る。
［実施例］ 第１図においてガラスなどの基板１の上にゼラチンなど
の被染色樹脂層２をスピンコートにより１μｍ程度の厚
さに設け、その上にこの被染色樹脂の溶剤に対して安定
であり、かつエッチングができる材料で隔離層３をスパ
ッタにより0.1μｍ程の厚さに設ける。この隔離層３の
材料としては具体的にはクロムCr、アルミニュウムAlな
どの金属のほか酸化イットリゥムY2O3、酸化インジゥム
In2O3などの透明材料でもよい。固体撮像素子上にカラ
ーフィルタを形成する場合のように基板上のパターンと
カラーフィルタの位置を合わす必要がある場合は酸化イ
ットリゥムのような透明な隔離層のほうが好ましい。
の被染色樹脂層２をスピンコートにより１μｍ程度の厚
さに設け、その上にこの被染色樹脂の溶剤に対して安定
であり、かつエッチングができる材料で隔離層３をスパ
ッタにより0.1μｍ程の厚さに設ける。この隔離層３の
材料としては具体的にはクロムCr、アルミニュウムAlな
どの金属のほか酸化イットリゥムY2O3、酸化インジゥム
In2O3などの透明材料でもよい。固体撮像素子上にカラ
ーフィルタを形成する場合のように基板上のパターンと
カラーフィルタの位置を合わす必要がある場合は酸化イ
ットリゥムのような透明な隔離層のほうが好ましい。
つぎに隔離層３の上にポジ型のフォトレジスト４をスピ
ンコートにより１μｍ程度設ける。そしてフォトマスク
５を用いて露光する。（第２図）。
ンコートにより１μｍ程度設ける。そしてフォトマスク
５を用いて露光する。（第２図）。
上記レジスト４を現像する（第３図）。
窓開けした部分の隔離層３をエッチングにより、除去
し、その部分の被染色樹脂層２を所定の色、たとえば赤
色に染色して赤色染色部Ｒを設ける（第４図）。
し、その部分の被染色樹脂層２を所定の色、たとえば赤
色に染色して赤色染色部Ｒを設ける（第４図）。
再びポジ型レジスト４を塗布してマスク５をずらして露
光する（第５図）。
光する（第５図）。
そしてこれを現像する（第６図）。
露出した隔離層３の部分をエッチングにより除去した
後、被染色樹脂層２を２色目の色、たとえば緑色に染色
して緑色染色部Ｇを設ける（第７図）。
後、被染色樹脂層２を２色目の色、たとえば緑色に染色
して緑色染色部Ｇを設ける（第７図）。
再びその上にポジ型フォトレジスト４を塗布して、フォ
トマスク５をずらして露光する（第８図）。レジスト４
を現像して、隔離層３をエッチングして、窓開けした部
分の被染色樹脂層２を３番目の色、たとえば青色に染色
して青色染色部Ｂを設ける（第９図）。
トマスク５をずらして露光する（第８図）。レジスト４
を現像して、隔離層３をエッチングして、窓開けした部
分の被染色樹脂層２を３番目の色、たとえば青色に染色
して青色染色部Ｂを設ける（第９図）。
最後にフォトレジスト４を剥離して、その上にポリアミ
ド、ポリイミドなどの透明保護膜６をコートした（第10
図）。
ド、ポリイミドなどの透明保護膜６をコートした（第10
図）。
本発明によればフォトレジストの窓を介して隔離層をエ
ッチングにより除去するので、被染色樹脂層の染色にお
いて、レジストの窓に対向しない隔離層の部分に染料が
拡がるということはなく、レジストの窓に対向しない被
染色樹脂層が染色されるのが防止されるからフォトレジ
ストが本来もっている解像度を有効に生かせ微細パター
ンが精度よく高歩留で製造できる。
ッチングにより除去するので、被染色樹脂層の染色にお
いて、レジストの窓に対向しない隔離層の部分に染料が
拡がるということはなく、レジストの窓に対向しない被
染色樹脂層が染色されるのが防止されるからフォトレジ
ストが本来もっている解像度を有効に生かせ微細パター
ンが精度よく高歩留で製造できる。
上記実施例では１色目を染色後、染色部の上にポジ型フ
ォトレジスト４をあらためて塗布しているが、染色後、
タンニン酸および酒石酸アンチモニュムカリウム水溶液
などにより防染処理をすることにより、フォトレジスト
を新たに塗布しないで最初に塗布したレジストに２色
目、３色目のための露光、現像をして２色目、３色目を
染めるようにしてもよい。
ォトレジスト４をあらためて塗布しているが、染色後、
タンニン酸および酒石酸アンチモニュムカリウム水溶液
などにより防染処理をすることにより、フォトレジスト
を新たに塗布しないで最初に塗布したレジストに２色
目、３色目のための露光、現像をして２色目、３色目を
染めるようにしてもよい。
また上記隔離層３をクロムCr、アルミニュウムAlなどの
遮光性膜で形成することにより、いわゆるブラックスト
ライプを従来のように別工程で製造しなくてもカラーフ
ィルタの製造と同時に形成できる。すなわち、第10図に
おいて各染色部Ｒ、Ｇ、Ｂの間の隔離層３の部分はブラ
ックストライプとして機能させることができる。
遮光性膜で形成することにより、いわゆるブラックスト
ライプを従来のように別工程で製造しなくてもカラーフ
ィルタの製造と同時に形成できる。すなわち、第10図に
おいて各染色部Ｒ、Ｇ、Ｂの間の隔離層３の部分はブラ
ックストライプとして機能させることができる。
［発明の効果］ 本発明は被染色樹脂層とフォトレジストとの間に隔離層
を設け、フォトレジスト，隔離層に窓をあけ、露出した
部分の被染色樹脂層を染色して染色部を形成するもの
で、被染色樹脂層と隔離層および隔離層とフォトレジス
トとの密着がよく、フォトレジストが本来もっている解
像度を有効に生かせるので微細パターンが精度よく高歩
留で製造できるという効果を有する。
を設け、フォトレジスト，隔離層に窓をあけ、露出した
部分の被染色樹脂層を染色して染色部を形成するもの
で、被染色樹脂層と隔離層および隔離層とフォトレジス
トとの密着がよく、フォトレジストが本来もっている解
像度を有効に生かせるので微細パターンが精度よく高歩
留で製造できるという効果を有する。
また隔離層の窓を介して被染色樹脂層を染色するもので
あり、隔離層を介して被染色樹脂層を染色するものでな
いため、隔離層の材料の選定に特別な制限がないという
利点がある。また、隔離層を遮光性材料とすることによ
り、カラーフィルタの製造と同時にブラックストライプ
を形成することができるので、ブラックストライプ用の
フォトマスクが不要となり、安価に製造することができ
る。
あり、隔離層を介して被染色樹脂層を染色するものでな
いため、隔離層の材料の選定に特別な制限がないという
利点がある。また、隔離層を遮光性材料とすることによ
り、カラーフィルタの製造と同時にブラックストライプ
を形成することができるので、ブラックストライプ用の
フォトマスクが不要となり、安価に製造することができ
る。
図面はこの発明の実施例を示し、第１図〜第10図は製造
工程順に示す断面説明図である。 １……基板、２……被染色樹脂層、３……隔離層、４…
…フォトレジスト、Ｒ……赤色染色部、Ｇ……緑色染色
部、Ｂ……青色染色部。
工程順に示す断面説明図である。 １……基板、２……被染色樹脂層、３……隔離層、４…
…フォトレジスト、Ｒ……赤色染色部、Ｇ……緑色染色
部、Ｂ……青色染色部。
Claims (3)
- 【請求項１】基板上に被染色樹脂層と、その上に上記被
染色樹脂層をフォトレジストと隔離する隔離層を設け、 ついで上記隔離層の上にフォトレジストによりマスクパ
ターンを形成し、 露出した部分の隔離層をエッチングにより除去し、 その後、窓明けした部分の被染色樹脂層を染色して染色
部を形成する ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項２】請求項１において、上記フォトレジストに
よる上記マスクパターンの形成から上記染色部の形成ま
での工程を繰返して複数の異なる色の染色部をパターン
形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項３】請求項２において、上記隔離層を遮光性材
料とし、上記染色部を所定の間隔をおいてパターン形成
し、エッチングされずに残った隔離層によりブラックス
トライプを形成したカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30954386A JPH0713681B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30954386A JPH0713681B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6091439A Division JPH0798406A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63159809A JPS63159809A (ja) | 1988-07-02 |
| JPH0713681B2 true JPH0713681B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=17994282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30954386A Expired - Lifetime JPH0713681B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0713681B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0650361B2 (ja) * | 1985-06-12 | 1994-06-29 | 日本合成ゴム株式会社 | カラ−フイルタ−およびその製造方法 |
-
1986
- 1986-12-24 JP JP30954386A patent/JPH0713681B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63159809A (ja) | 1988-07-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |