JPH0798406A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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Landscapes
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- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 微細パターンが精度よく高歩留で安価に製造
できるカラーフィルタの製造方法を提供する。 【構成】 基板１上に被染色樹脂層２と、その上に遮光
性材料によりなり被染色樹脂層２をフォトレジスト４と
隔離する隔離層３を設け、ついで隔離層３の上にフォト
レジスト４によりマスクパターンを形成し、露出した部
分の隔離層３をエッチングにより除去し、その後、窓明
けした部分の被染色樹脂層２を染色して染色部Ｒ，Ｇ，
Ｂを形成し、エッチングされずに残った隔離層３によ
り、染色部Ｒ，Ｇ，Ｂの形成と同時にブラックストライ
プを形成する。
できるカラーフィルタの製造方法を提供する。 【構成】 基板１上に被染色樹脂層２と、その上に遮光
性材料によりなり被染色樹脂層２をフォトレジスト４と
隔離する隔離層３を設け、ついで隔離層３の上にフォト
レジスト４によりマスクパターンを形成し、露出した部
分の隔離層３をエッチングにより除去し、その後、窓明
けした部分の被染色樹脂層２を染色して染色部Ｒ，Ｇ，
Ｂを形成し、エッチングされずに残った隔離層３によ
り、染色部Ｒ，Ｇ，Ｂの形成と同時にブラックストライ
プを形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は固体撮像素子や液晶表
示素子などに用いられるカラーフィルタの製造方法に関
するものである。
示素子などに用いられるカラーフィルタの製造方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】従来カラ
ーフィルタの製造方法として、固体撮像素子やガラスな
どの基板にゼラチンなどの被染色樹脂上にフォトレジス
トで防染マスクを形成後、染料で上記被染色樹脂を部分
的に染め分ける方法が知られている（特公昭５３−２４
８号、特開昭５７−１３９７１２号）。
ーフィルタの製造方法として、固体撮像素子やガラスな
どの基板にゼラチンなどの被染色樹脂上にフォトレジス
トで防染マスクを形成後、染料で上記被染色樹脂を部分
的に染め分ける方法が知られている（特公昭５３−２４
８号、特開昭５７−１３９７１２号）。
【０００３】上述の従来方法においては、ゼラチンなど
の被染色樹脂上に直接フォトレジストを塗布するため、
被染色樹脂とフォトレジストの密着が悪かったり、ある
いは両材料がたがいに影響しあって、フォトレジストが
本来もっている解像度（数μｍ）とは程遠い１００μｍ
程度の解像度の悪いパターンしかできなかった。しかも
レジストベーク温度や露光量のわずかの工程条件のばら
つきやレジスト塗布後の放置時間などによってパターニ
ングの具合が影響されやすく、歩留りも低かった。
の被染色樹脂上に直接フォトレジストを塗布するため、
被染色樹脂とフォトレジストの密着が悪かったり、ある
いは両材料がたがいに影響しあって、フォトレジストが
本来もっている解像度（数μｍ）とは程遠い１００μｍ
程度の解像度の悪いパターンしかできなかった。しかも
レジストベーク温度や露光量のわずかの工程条件のばら
つきやレジスト塗布後の放置時間などによってパターニ
ングの具合が影響されやすく、歩留りも低かった。
【０００４】またカラーフィルターのパターンの解像度
を向上するための従来技術として特開昭６１−２８５４
０２号がある。これは、まず染料受容層とその上の保護
層との２層からなる積層体上にポジ型レジストを塗布
し、レジストパターンを形成してそののちに染料受容層
の形成してある基板ごと染色浴に浸漬して、そのレジス
トの窓を介してまた保護層を介して染料受容層を染色
し、そののちレジストパターンを除去し色パターンを形
成する。そののち上記ポジ型レジストの塗布からレジス
トパターンの除去までの工程をくり返し、以上により各
色の色パターンを形成して染色層を形成するものであ
る。
を向上するための従来技術として特開昭６１−２８５４
０２号がある。これは、まず染料受容層とその上の保護
層との２層からなる積層体上にポジ型レジストを塗布
し、レジストパターンを形成してそののちに染料受容層
の形成してある基板ごと染色浴に浸漬して、そのレジス
トの窓を介してまた保護層を介して染料受容層を染色
し、そののちレジストパターンを除去し色パターンを形
成する。そののち上記ポジ型レジストの塗布からレジス
トパターンの除去までの工程をくり返し、以上により各
色の色パターンを形成して染色層を形成するものであ
る。
【０００５】保護層の製法としては、架橋したポリビニ
ルアルコールと重クロム酸アンモニウムによりなる塗布
液を染料受容層の上に塗布し、全面に紫外線を照射して
光硬化させ保護層を形成している。ここで保護層の材料
として架橋したポリビニルアルコールを使用しているの
は、保護層を介して染料受容層を染色するため染料受容
層を効率よく染色するためである。
ルアルコールと重クロム酸アンモニウムによりなる塗布
液を染料受容層の上に塗布し、全面に紫外線を照射して
光硬化させ保護層を形成している。ここで保護層の材料
として架橋したポリビニルアルコールを使用しているの
は、保護層を介して染料受容層を染色するため染料受容
層を効率よく染色するためである。
【０００６】しかしこの従来技術によるとレジストの窓
と保護層とを介して染料受容層を染色するときに、基板
ごと染色浴に浸漬して染色するからレジストの窓に対向
する保護層の部分には染料が浸透し、そのときレジスト
の窓に対向しない保護層の部分にも染料が拡がり、レジ
ストの窓に対向しない染料受容層の部分も染色され解像
度の悪いパターンが形成されるおそれがある。またその
ように拡がった染料は、そののちの別の色の色パターン
形成において基板ごと浸漬した染料に混じって各色パタ
ーンの色に悪影響が出るおそれがある。
と保護層とを介して染料受容層を染色するときに、基板
ごと染色浴に浸漬して染色するからレジストの窓に対向
する保護層の部分には染料が浸透し、そのときレジスト
の窓に対向しない保護層の部分にも染料が拡がり、レジ
ストの窓に対向しない染料受容層の部分も染色され解像
度の悪いパターンが形成されるおそれがある。またその
ように拡がった染料は、そののちの別の色の色パターン
形成において基板ごと浸漬した染料に混じって各色パタ
ーンの色に悪影響が出るおそれがある。
【０００７】また保護層に架橋したポリビニルアルコー
ルを使用する必要があり、保護層の材料が限られるとい
う欠点がある。
ルを使用する必要があり、保護層の材料が限られるとい
う欠点がある。
【０００８】この発明は上記従来技術の欠点を解決する
ことを目的とする。
ことを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明によるカラーフィルタの製造方法は、基板上
に被染色樹脂層と、その上に遮光性材料によりなり被染
色樹脂層をフォトレジストと隔離する隔離層を設け、つ
いで上記隔離層の上にフォトレジストによりマスクパタ
ーンを形成し、露出した部分の隔離層をエッチングによ
り除去し、その後、窓明けした部分の被染色樹脂層を染
色して染色部を形成し、エッチングされずに残った隔離
層によりブラックストライプを形成することを特徴とす
る。
め、本発明によるカラーフィルタの製造方法は、基板上
に被染色樹脂層と、その上に遮光性材料によりなり被染
色樹脂層をフォトレジストと隔離する隔離層を設け、つ
いで上記隔離層の上にフォトレジストによりマスクパタ
ーンを形成し、露出した部分の隔離層をエッチングによ
り除去し、その後、窓明けした部分の被染色樹脂層を染
色して染色部を形成し、エッチングされずに残った隔離
層によりブラックストライプを形成することを特徴とす
る。
【００１０】
【実施例】図１においてガラスなどの基板１の上にゼラ
チンなどの被染色樹脂層２をスピンコートにより１μｍ
程度の厚さに設け、その上にこの被染色樹脂の溶剤に対
して安定であり、かつエッチングができる材料で隔離層
３をスパッタにより０．１μｍ程の厚さに設ける。この
隔離層３の材料としては具体的にはクロムＣｒ、アルミ
ニュウムＡｌなどの金属のほか酸化イットリゥムＹ2 Ｏ
3 、酸化インジゥムＩｎ2 Ｏ3 などの透明材料でもよ
い。固体撮像素子上にカラーフィルタを形成する場合の
ように基板上のパターンとカラーフィルタの位置を合わ
す必要がある場合は酸化イットリゥムのような透明な隔
離層のほうが好ましい。
チンなどの被染色樹脂層２をスピンコートにより１μｍ
程度の厚さに設け、その上にこの被染色樹脂の溶剤に対
して安定であり、かつエッチングができる材料で隔離層
３をスパッタにより０．１μｍ程の厚さに設ける。この
隔離層３の材料としては具体的にはクロムＣｒ、アルミ
ニュウムＡｌなどの金属のほか酸化イットリゥムＹ2 Ｏ
3 、酸化インジゥムＩｎ2 Ｏ3 などの透明材料でもよ
い。固体撮像素子上にカラーフィルタを形成する場合の
ように基板上のパターンとカラーフィルタの位置を合わ
す必要がある場合は酸化イットリゥムのような透明な隔
離層のほうが好ましい。
【００１１】つぎに隔離層３の上にポジ型フォトレジス
ト４をスピンコートにより１μｍ程度設ける。そしてフ
ォトマスク５を用いて露光する（図２）。
ト４をスピンコートにより１μｍ程度設ける。そしてフ
ォトマスク５を用いて露光する（図２）。
【００１２】上記レジスト４を現像する（図３）。
【００１３】窓開けした部分の隔離層３をエッチングに
より、除去し、その部分の被染色樹脂層２を所定の色、
たとえば赤色に染色して赤色染色部Ｒを設ける（図
４）。
より、除去し、その部分の被染色樹脂層２を所定の色、
たとえば赤色に染色して赤色染色部Ｒを設ける（図
４）。
【００１４】再びポジ型レジスト４を塗布してマスク５
をずらして露光する（図５）。
をずらして露光する（図５）。
【００１５】そしてこれを現像する（図６）。
【００１６】露出した隔離層３の部分をエッチングによ
り除去した後、被染色樹脂層２を２色目の色、たとえば
緑色に染色して緑色染色部Ｇを設ける（図７）。
り除去した後、被染色樹脂層２を２色目の色、たとえば
緑色に染色して緑色染色部Ｇを設ける（図７）。
【００１７】再びその上にポジ型フォトレジスト４を塗
布して、フォトマスク５をずらして露光する（図８）。
布して、フォトマスク５をずらして露光する（図８）。
【００１８】レジスト４を現像して、隔離層３をエッチ
ングして、窓開けした部分の被染色樹脂層２を３番目の
色、たとえば青色に染色して青色染色部Ｂを設ける（図
９）。
ングして、窓開けした部分の被染色樹脂層２を３番目の
色、たとえば青色に染色して青色染色部Ｂを設ける（図
９）。
【００１９】最後にフォトレジスト４を剥離して、その
上にポリアミド、ポリイミドなどの透明保護膜６をコー
トした（図１０）。
上にポリアミド、ポリイミドなどの透明保護膜６をコー
トした（図１０）。
【００２０】本発明によればフォトレジストの窓を介し
て隔離層をエッチングにより除去するので、被染色樹脂
層の染色において、レジストの窓に対向しない隔離層の
部分に染料が拡がるということはなく、レジストの窓に
対向しない被染色樹脂層が染色されるのが防止されるか
らフォトレジストが本来もっている解像度を有効に生か
せ微細パターンが精度よく高歩留で製造できる。
て隔離層をエッチングにより除去するので、被染色樹脂
層の染色において、レジストの窓に対向しない隔離層の
部分に染料が拡がるということはなく、レジストの窓に
対向しない被染色樹脂層が染色されるのが防止されるか
らフォトレジストが本来もっている解像度を有効に生か
せ微細パターンが精度よく高歩留で製造できる。
【００２１】上記実施例では１色目を染色後、染色部の
上にポジ型フォトレジスト４をあらためて塗布している
が、染色後、タンニン酸および酒石酸アンチモニュムカ
リウム水溶液などにより防染処理をすることにより、フ
ォトレジストを新たに塗布しないで最初に塗布したレジ
ストに２色目、３色目のための露光、現像をして２色
目、３色目を染めるようにしてもよい。
上にポジ型フォトレジスト４をあらためて塗布している
が、染色後、タンニン酸および酒石酸アンチモニュムカ
リウム水溶液などにより防染処理をすることにより、フ
ォトレジストを新たに塗布しないで最初に塗布したレジ
ストに２色目、３色目のための露光、現像をして２色
目、３色目を染めるようにしてもよい。
【００２２】また上記隔離層３をクロムＣｒ、アルミニ
ュウムＡｌなどの遮光性膜で形成することにより、いわ
ゆるブラックストライプを従来のように別工程で製造し
なくてもカラーフィルタの製造と同時に形成できる。す
なわち、図１０において各染色部Ｒ、Ｇ、Ｂの間の隔離
層３の部分はブラックストライプとして機能させること
ができる。
ュウムＡｌなどの遮光性膜で形成することにより、いわ
ゆるブラックストライプを従来のように別工程で製造し
なくてもカラーフィルタの製造と同時に形成できる。す
なわち、図１０において各染色部Ｒ、Ｇ、Ｂの間の隔離
層３の部分はブラックストライプとして機能させること
ができる。
【００２３】
【発明の効果】本発明は被染色樹脂層とフォトレジスト
との間に隔離層を設け、フォトレジスト，隔離層に窓を
あけ、露出した部分の被染色樹脂層を染色して染色部を
形成するもので、被染色樹脂層と隔離層および隔離層と
フォトレジストとの密着がよく、フォトレジストが本来
もっている解像度を有効に生かせるので微細パターンが
精度よく高歩留で製造できるという効果を有する。
との間に隔離層を設け、フォトレジスト，隔離層に窓を
あけ、露出した部分の被染色樹脂層を染色して染色部を
形成するもので、被染色樹脂層と隔離層および隔離層と
フォトレジストとの密着がよく、フォトレジストが本来
もっている解像度を有効に生かせるので微細パターンが
精度よく高歩留で製造できるという効果を有する。
【００２４】また隔離層の窓を介して被染色樹脂層を染
色するものであり、隔離層を介して被染色樹脂層を染色
するものでないため、隔離層の材料の選定に特別な制限
がないという利点がある。また、隔離層を遮光性材料と
することにより、カラーフィルタの製造と同時にブラッ
クストライプを形成することができるので、ブラックス
トライプ用のフォトマスクが不要となり、安価に製造す
ることができる。
色するものであり、隔離層を介して被染色樹脂層を染色
するものでないため、隔離層の材料の選定に特別な制限
がないという利点がある。また、隔離層を遮光性材料と
することにより、カラーフィルタの製造と同時にブラッ
クストライプを形成することができるので、ブラックス
トライプ用のフォトマスクが不要となり、安価に製造す
ることができる。
【図１】本発明の一実施例の、基板上に被染色樹脂層と
隔離層とを形成する工程を表す断面図である。
隔離層とを形成する工程を表す断面図である。
【図２】同上の隔離層上のフォトレジストをパターン露
光する工程を表す断面図である。
光する工程を表す断面図である。
【図３】同上のフォトレジストのマスクパターンを形成
する工程を表す断面図である。
する工程を表す断面図である。
【図４】同上の染色部を形成する工程を表す断面図であ
る。
る。
【図５】同上の隔離層上のフォトレジストをパターン露
光する工程を表す断面図である。
光する工程を表す断面図である。
【図６】同上のフォトレジストのマスクパターンを形成
する工程を表す断面図である。
する工程を表す断面図である。
【図７】同上の染色部を形成する工程を表す断面図であ
る。
る。
【図８】同上の隔離層上のフォトレジストをパターン露
光する工程を表す断面図である。
光する工程を表す断面図である。
【図９】同上の染色部を形成する工程を表す断面図であ
る。
る。
【図１０】同上のフォトレジストを剥離したのち保護膜
を形成する工程を表す断面図である。
を形成する工程を表す断面図である。
１ 基板 ２ 被染色樹脂層 ３ 隔離層 ４ フォトレジスト Ｒ 赤色染色部 Ｇ 緑色染色部 Ｂ 青色染色部
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上に被染色樹脂層と、その上に遮光
性材料によりなり上記被染色樹脂層をフォトレジストと
隔離する隔離層を設け、 ついで上記隔離層の上にフォトレジストによりマスクパ
ターンを形成し、 露出した部分の隔離層をエッチングにより除去し、 その後、窓明けした部分の被染色樹脂層を染色して染色
部を形成し、 エッチングされずに残った隔離層によりブラックストラ
イプを形成したことを特徴とするカラーフィルタの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6091439A JPH0798406A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6091439A JPH0798406A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | カラーフィルタの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30954386A Division JPH0713681B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0798406A true JPH0798406A (ja) | 1995-04-11 |
Family
ID=14026411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6091439A Pending JPH0798406A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0798406A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH071368A (ja) * | 1993-06-17 | 1995-01-06 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | ロボットの位置・姿勢認識方法及び装置 |
-
1994
- 1994-04-28 JP JP6091439A patent/JPH0798406A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH071368A (ja) * | 1993-06-17 | 1995-01-06 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | ロボットの位置・姿勢認識方法及び装置 |
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