JP2006029831A - 光ファイバプローブ、光検出装置、及び光検出方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源から射出された光を伝搬させるコアを有する光ファイバにおいて、該コア先端から光を射出する光プローブが形成されて成る光ファイバプローブであって、
上記光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、上記光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きいことである。
【選択図】図1−1
Description
この近接場光学顕微鏡では、回折限界以下の寸法の微細構造体をプローブとして用いて該プローブ先端部を照明することにより、その近傍に近接場光を発生させる。この状態でプローブを試料面上で走査させることにより、プローブ近傍に局在している近接場光と試料面との電磁気的な相互作用により散乱、あるいは試料面を透過した近接場光を検出することにより、試料面の光学的情報(光強度、スペクトル、偏光等)を得ることができる。
また、上記近接場光学顕微鏡によって試料の微小領域における物性を測定する場合には、試料表面の光の波長より小さい領域に局在するエバネッセント光を検出して、試料の形状を測定する。そして、全反射条件下で試料に光が照射されることにより生じたエバネッセント光を、上述した光プローブにより散乱させ散乱光に変換する。この散乱光は、光プローブが形成されている突出部を通じ光ファイバのコアに導かれ、光ファイバのもう一方の射出端に接続された検出器により検出される。即ち、この近接場光学顕微鏡は、光プローブにより散乱と検出の双方を行うことができる。
このような近接場光学顕微鏡用プローブについては、特許第3231675号公報、又は特開平11−271339号公報等に記載されている。
近接場光学顕微鏡の分解能は、使用する光プローブの開口径により支配されるため、分解能を変えて物性測定を行う場合には、開口径の異なる低分解能用の光プローブを近接場光学顕微鏡へ別途配設する必要がある。低分解能用の光プローブ(開口径の大きいもの)を使用することで、測定範囲を広げることが可能であるが、光プローブから射出されるビームは大きい広がりを持つ光であるため、光プローブから射出した光を効率的に検出するためには光プローブを試料面に対し常に近接させていなければならず、光プローブと試料との接触の危険性があり、測定時の走査速度を上げることができない。そのため、測定範囲を拡大することは事実上難しい。
この公報に記載された検査装置は、対物レンズによる広範囲測定に基づいて物性測定を必要とする微小領域を特定して、この微小領域に対して近接場光検出用の光プローブを位置合わせした上で、近接場光測定を実施するものである。しかし、この検査装置においては、上述の特定微小領域への位置合わせは非常に困難であり、測定や検査に長時間を要することになる。
また、通常の伝搬光を利用した広範囲測定と、近接場光を利用した高分解能測定の双方を同じ光プローブで実施し得るようにすることにより、困難な光プローブの位置合わせを簡単に行い得るようにすることである。(課題2)
上記課題1を解決するために講じた解決手段1は、光源から射出された光を伝搬させるコアを有する光ファイバにおいて、該コア先端から光を射出する光プローブが形成されて成る光ファイバプローブであって、
上記光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、上記光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きいことである。
〔作 用〕
光ファイバから光プローブに伝搬した光を、光プローブの表面(端面)に対して、全反射角未満であって、かつ0度より大きい入射角度で入射させる構造とすることにより、光プローブから射出される光量を増大させ、光プローブの先端から離れた位置に高い光強度の集光スポットを形成することができる。
上記課題2を解決するために講じた解決手段2は、光源から射出された光を伝搬させるコアを有する光ファイバにおいて、該コア先端から光を射出する光プローブが形成され、かつ該光プローブの表面が遮光性被覆層で被覆されて成る光ファイバプローブであって、
上記光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、上記光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きいことである。
〔作 用〕
光ファイバから光プローブに伝搬した光を、光プローブの表面(端面)に対して、全反射角未満であって、かつ0度より大きい入射角度で入射させる構造とすると共に、該光プローブの表面(端面)を遮光性被覆膜で被覆した構造とすることによって、該光プローブから射出される光量を増大させ、その先端から離れた位置に光強度の高い集光スポットを形成し、かつ、該光プローブの先端近傍に近接場光を発生させることができる。
上記課題1を解決するために講じた解決手段3は、光を射出する光源と、
該光源から射出された光を伝搬させるコアを有する光ファイバにおいて、該コア先端から光を射出する光プローブが形成されて成る光ファイバプローブと、
上記コアを伝搬する伝搬光による光スポットが試料の被測定面に形成されるように、上記光ファイバプローブと上記試料のいずれか一方を他方に対して近接離間する方向へ移動させる移動制御手段と、
上記被測定面からの戻り光を検出する検出手段とを備える光検出装置において、
上記光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、上記光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きいことである。
〔作 用〕
光プローブの先端から離れた位置に集光スポットを形成することができる光ファイバプローブを適用することによって、試料からの戻り光を効率的に取得することができる。また、光プローブを試料の被測定面に対し常に近接させる必要がないので、該光プローブと試料との接触の危険性がなく、測定時の走査速度を上げることができ、測定範囲を拡大することができる。
実施態様1は、上記解決手段3の光検出装置において、光スポットの形状が所望の形状になるように、光源から射出される光の波長を制御する波長制御手段を備えることである。
〔作 用〕
光プローブに入射する光の波長を制御する波長制御手段を備えることにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができる。
実施態様2は、上記解決手段3又は実施態様1の光検出装置において、光スポットの形状が所望の形状になるように、傾斜角が所定の値に設定されている光ファイバプローブを備えていることである。
〔作用〕
光プローブの端面の傾斜角が所定の値に設定されている光ファイバプローブを備えることにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができる。
実施態様3は、上記解決手段3、実施態様1、又は実施態様2の光検出装置において、光スポットの形状が所望の形状になるように、光プローブのコア突出部の根元の径が所定の値に設定されている光ファイバプローブを備えていることである。
〔作 用〕
光プローブのコア突出部の根元の径が所定の値に設定されている光ファイバプローブを備えることにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができる。
上記課題1を解決するために講じた解決手段4は、光源から光を射出し、
光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きく形成されて成る光ファイバプローブのコアに、上記光源から射出された光を伝搬させ、
上記コアを伝搬する伝搬光による光スポットが試料の被測定面に形成されるように、上記光ファイバプローブと上記試料のいずれか一方を他方に対して近接離間する方向へ移動させ、
上記被測定面からの戻り光を検出する光検出方法である。
〔作 用〕
光プローブの先端から離れた位置に集光スポットを形成することによって、試料からの戻り光を効率的に取得することができる。また、光プローブを試料の被測定面に対し常に近接させる必要がないので、該光プローブと試料との接触の危険性がなく、測定時の走査速度を上げることができ、測定範囲を拡大することができる。
実施態様4は、上記解決手段4の光検出方法において、光スポットの形状が所望の形状になるように、光源から射出される光の波長を制御することである。
〔作 用〕
光プローブに入射する光の波長を制御することにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができる。
上記課題2を解決するために講じた解決手段5は、光を射出する光源と、
上記光源から射出された光を伝搬させるコアを有する光ファイバにおいて、該コア先端から光を射出する光プローブが形成され、かつ該光プローブの表面が遮光性被覆層で被覆されて成る光ファイバプローブと、
上記コアを伝搬する伝搬光、又は上記コア先端から滲出する近接場光のいずれかによる光スポットが、試料の被測定面に形成されるように、上記光ファイバプローブと上記試料のいずれか一方を他方に対して近接離間する方向へ移動させる移動制御手段と、
上記被測定面からの戻り光を検出する検出手段とを備える光検出装置において、
上記光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、上記光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きいことである。
〔作 用〕
上記光ファイバプローブを適用することによって、光プローブの先端から離れた位置にコアを伝搬する伝搬光による光スポットを形成することができると共に、該光プローブの先端近傍に近接場光による光スポットを形成することができる。また、移動制御手段により上記光ファイバプローブと試料を相対的に近接離間させて、伝搬光による光スポットと近接場光による光スポットを、試料の被測定面に形成させることができるので、伝搬光を利用する伝搬光測定(低分解能・広範囲測定)と近接場光を利用する近接場光測定(高分解能測定)の双方を一本のプローブにより行うことができる。
実施態様5は、上記解決手段5の光検出装置において、光源から射出される光の波長を、少なくとも遮光性被覆層又は傾斜角に応じて設定すべき値に制御する波長制御手段を備えることである。
〔作 用〕
光プローブに入射される光の波長が、遮光性被覆層又は傾斜角に応じて上記波長制御手段により制御されるので、伝搬光測定時において、所望の光スポット径、光強度、及び集光位置を得ることができる。また、近接場光測定時においては、高い近接場光強度を得ることができる。
実施態様6は、上記実施態様5の光検出装置において、波長制御手段により制御された光の波長が、遮光性被覆層の光透過率を最大値又はその近傍の値とする波長であることである。
〔作 用〕
上記実施態様5の作用と同じである。
実施態様7は、上記解決手段5、実施態様5、又は実施態様6の光検出装置において、光スポットの形状が所望の形状になるように、傾斜角が所定の値に設定されている光ファイバプローブを備えていることである。
〔作 用〕
光プローブの端面の傾斜角を所定の値に設定することにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができる。
実施態様8は、上記解決手段5、又は実施態様5〜実施態様7のいずれかの光検出装置において、光スポットの形状が所望の形状になるように、光プローブのコア突出部の根元の径が所定の値に設定されている光ファイバプローブを備えていることである。
〔作 用〕
光プローブのコア突出部の根元の径を所定の値に設定することにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができる。
上記課題2を解決するために講じた解決手段6は、光源から光を射出し、
光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きく形成され、さらに光プローブの表面が遮光性被覆層で被覆されて成る光ファイバプローブのコアに、上記光源から射出された光を伝搬させ、
上記コアを伝搬する伝搬光、又は上記コア表面から滲出する近接場光のいずれかによる光スポットが、試料の被測定面に形成されるように、上記光ファイバプローブと上記試料のいずれか一方を他方に対して近接離間する方向へ移動させ、
上記被測定面からの戻り光を検出する光検出方法である。
〔作 用〕
光源から射出された光を光ファイバプローブのコアに伝搬させて、光プローブの先端から離れた位置にコアを伝搬する伝搬光による光スポットを形成することができると共に、該光プローブの先端近傍に近接場光による光スポットを形成することができる。また、上記光ファイバプローブと試料を相対的に近接離間させて、伝搬光による光スポットと近接場光による光スポットを、上記試料の被測定面に形成されることができるので、伝搬光を利用する伝搬光測定(低分解能・広範囲測定)と近接場光を利用する近接場光測定(高分解能測定)を一本のプローブにより行うことができる。
実施態様9は、上記解決手段6の光検出方法において、光源から射出される光の波長を、少なくとも遮光性被覆層又は傾斜角に応じて設定すべき値に制御することである。
〔作 用〕
光プローブに入射する光の波長を遮光性被覆層又は傾斜角に応じて設定すべき値に制御するので、伝搬光測定時において、所望する光スポット径、光強度、及び集光位置を得ることができ、また近接場光測定時において高い近接場光強度を得ることができる。
実施態様10は、上記解決手段6又は実施態様9の光検出方法において、光源から射出される光の波長を、遮光性被覆層の光透過率を最大値又はその近傍の値とする波長に制御することである。
〔作 用〕
上記実施態様9の作用と同じである。
(1) 請求項1に係る発明
光ファイバから光プローブに伝搬した光の該光プローブ表面(端面)に対する入射角度を限定することにより、該光プローブから射出された光はその先端から離れた位置において、高い光強度の集光スポットを形成することができる。
(2) 請求項2に係る発明
光ファイバから光プローブに伝搬した光の該光プローブ表面(端面)に対する入射角度を限定すると共に、該光プローブの表面(端面)を遮光性被覆膜で被覆したことによって、該光プローブから射出された光はその先端から離れた位置において高い光強度の集光スポットを形成し、かつ、該光プローブ先端近傍において近接場光を発生させることができる。
光プローブの先端から離れた位置に集光スポットを形成できる光ファイバプローブの適用により、試料からの戻り光を効率的に取得することができる。また、光プローブを試料の被測定面に対し常に近接させる必要がなく、該光プローブと試料との接触の危険性がないので、測定時の走査速度を上げることができ、測定範囲の拡大や測定時間の短縮が可能になる。
(4) 請求項4に係る発明
光プローブに入射する光の波長を制御することにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができるので、適切な測定分解能を選択することが可能である。
光プローブの端面の傾斜角が所定の値に設定されることにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができるので、適切な測定分解能を選択することが可能である。
(6) 請求項6に係る発明
光プローブのコア突出部の根元の径が所定の値に設定されることにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができるので、適切な測定分解能を選択することが可能である。
光プローブ先端から離れた位置に集光スポットを形成できるので、試料からの戻り光を効率的に取得することができる。また、光プローブを試料の被測定面に対し常に近接させる必要がなく、該光プローブと試料との接触の危険性がないので、測定時の走査速度を上げることができ、測定範囲の拡大や測定時間の短縮が可能になる。
(8) 請求項8に係る発明
光プローブに入射する光の波長を制御することにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができるので、適切な測定分解能を選択することが可能である。
光プローブの先端から離れた位置に伝搬光による光スポットを形成し、該光プローブの先端近傍に近接場光による光スポットを形成すると共に、光ファイバプローブと試料を相対的に近接離間させて、伝搬光による光スポットと近接場光による光スポットを、該試料の被測定面に形成させることができるので、伝搬光を利用する伝搬光測定と近接場光を利用する近接場光測定の双方を一本の光プローブで切り替えて行うことができるので、切り換えに時における光プローブの困難な位置合わせが不要であり、測定・検査の高速化を実現することが可能である。
上記伝搬光測定においては、試料からの戻り光を効率的に取得することができると共に、測定時の走査速度を上げることができるので、測定範囲の拡大や測定時間の短縮が可能になる。また、近接場光測定においては、高分解能の測定を行うことができる。
光プローブに入射する光の波長が、遮光性被覆層又は傾斜角に応じて制御されることにより、伝搬光測定時において、所望の光スポット径、光強度、及び集光位置を得ることができ、また、近接場光測定時においては、高い近接場光強度を得ることができる。これにより、伝搬光測定時に適切な測定分解能を選択することができ、また、近接場光測定時にS/Nの高い検出信号を得ることができる。
(11) 請求項12に係る発明
光プローブの端面の傾斜角を所定の値に設定することにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができるので、適切な測定分解能を選択することが可能である。
(12) 請求項13に係る発明
光プローブのコア突出部の根元の径を所定の値に設定することにより、所望する光スポット径や集光位置を得ることができるので、適切な測定分解能を選択することが可能である。
光源から射出された光を光ファイバプローブのコアに伝搬させて、光プローブの先端から離れた位置に伝搬光による光スポットを形成することができると共に、該光プローブの先端近傍に近接場光による光スポットを形成することができる。また、上記光ファイバプローブと試料を相対的に近接離間させて、伝搬光による光スポットと近接場光による光スポットを、上記試料の被測定面に形成させることができるので、伝搬光を利用する伝搬光測定(低分解能・広範囲測定)と近接場光を利用する近接場光測定(高分解能測定)の双方を一本のプローブにより行うことができる。これにより、伝搬光測定から近接場光測定へ切り換える時、光プローブの困難な位置合わせが不要であり、測定・検査の高速化を実現することが可能である。
上記伝搬光測定においては、試料からの戻り光を効率的に取得することができると共に、測定時の走査速度を上げることができるので、測定範囲の拡大や測定時間の短縮が可能になる。また、近接場光測定においては、高分解能の測定を行うことができる。
光プローブに入射する光の波長を遮光性被覆層又は傾斜角に応じて設定すべき値に制御することにより、伝搬光測定時において、所望する光スポット径、光強度、及び集光位置を得ることができるので、適切な測定分解能を選択することができる。また、近接場光測定時において、高い近接場光強度を得ることができるので、S/Nの高い検出信号を得ることが可能である。
図1−1は光ファイバプローブを用いた光検出装置の模式図であり、図1−2は光ファイバプローブの拡大断面図である。また、図2及び図3は光ファイバプローブの特性を示すグラフである。
図1−1に示されている光検出装置1は、例えば試料の微小領域における光学物性を測定する近接場光学顕微鏡等に適用され、光を射出する光源11と、該光源11から射出された光の光路中に配置された偏光ビームスプリッタ12と、該偏光ビームスプリッタ12を透過した光の光路中に配置された1/4波長板18と、該1/4波長板18を通過した光を集光して試料2の被測定面2aに照射する光ファイバプローブ13と、該被測定面2aからの戻り光を検出する光検出器14とを備えている。
上記偏光ビームスプリッタ12は、光源11から射出された光を透過させて、1/4波長板18を経て試料2の被測定面2aへ導くと共に、該被測定面2aからの戻り光を反射させて光検出器14へ導くものである。
上記光源11から射出された直線偏光の光は、1/4波長板18を通過して円偏光となり、光プローブのコア31へ入射される。また、被測定面2aから反射して戻ってくる円偏光の光は、再び1/4波長板18を通過した場合に、光源から射出された光の偏光方向と異なる直線偏光となるため、上述したように偏光ビームスプリッタ12で反射されることになる。因みに、この偏光ビームスプリッタ12の代替として、通常のビームスプリッタを用いても良い。
上記突出部22は光導波部21の一端においてクラッド32から突出させたコア20aにて構成されている。この突出させたコア20aは、図1−1に示すように先端に至るまで徐々に先細りになるような勾配が設けられている円錐形状となっている。
コア31内を伝搬する光41(以下、伝搬光という)は、光プローブ13に達した後、突出部22を介して光プローブ外に射出される。ここで、光プローブ13の表面22aは、円錐テーパ形状であり、表面22aの法線43と伝搬光の光軸42との成す角θ(以下、傾斜角θという)が、伝搬光における全反射角未満であり、かつ0度より大きい形状に形成されている。このことにより、光プローブ13に入射した伝搬光41の大部分が屈折光として光プローブ13の外部に射出され、射出された光は光プローブ13の先端から数100nm〜数μm程度離れた位置において集光し、高い光強度を有する光スポットを形成する。
また、図1−2(a)に示されている円錐テーパ形状を成す光プローブの代替として、図1−2(b)に示すように、光プローブ13の表面22aが、その表面22aの法線43と伝搬光41の光軸42との成す角θ(以下、傾斜角θという)が、伝搬光における全反射角未満であり、かつ0度より大きい曲面形状を成す光プローブとしてもよい。
図2において、光プローブ13の各傾斜角に対応する、光プローブ先端と集光スポットとの距離の推移についてその一例を示す。この図に示されている特性は、コア20aの根元の径Dが2μm、屈折率が1.53で射出媒質が空気であり、全反射角40°を境にそれを下回る入射角度(傾斜角)においては、光プローブ13の先端から数100nm〜数μm程度離れた位置において集光することを表している。
光スポット径を小さくする場合は、上記コア20aの根元の径Dを小さくし、傾斜角θを大きくすると共に、伝搬光に波長の短い光を用いることにより実現することができる。逆に、光スポット径を大きくする場合には、コア20aの根元の径Dを大きく、傾斜角θを小さくして、伝搬光に波長の長い光を用いればよい。
任意のスポット径を形成する一例として数値の具体例を示すと、屈折率が1.5のコア20aから空気中に光が射出される場合において、光スポット径を0.4μm(半値全幅)に制御したいときは、コア20aの根元の径Dを2μm、傾斜角20°、伝搬光の波長を0.4μmとすれば良い。因みに、この場合においては、光プローブ先端と集光スポットとの距離は1.2μmとなる。
上記光検出器14は、被測定面2aからの戻り光を受光し光電変換することにより、輝度信号を生成する。この光検出器14により生成された輝度信号を基に作成した画像は、表示装置(図示せず)上に表示される。ユーザは、この表示装置上に表示される画像に基づき、被測定面2aの詳細を測定又は観察することができる。
但し、被測定面2aからの戻り光の検出に関して、試料2が光透過性を有している場合には、光検出器14を試料2に対して光プローブ13の反対側に配置して、光を検出するように構成しても良い。
光源11から射出された直線偏光成分を有する波長λの光は、偏光ビームスプリッタ12を透過し、1/4波長板18により偏光成分を制御された上で、光プローブ13へ入射される。光プローブ13に入射された光は、そのままコア31内を伝搬し、光プローブ13から射出された光は、光プローブ13の先端から離れた位置で集光し、光スポットを形成する。
ここで、プローブ制御部15により、光プローブ13を試料2の被測定面2aに対して近接離間させる方向に移動させて、前述した集光により形成された光スポットの位置に被測定面2aの位置を一致させる。この際に用いられる光プローブ先端と集光スポットとの距離の情報については、予め実験等によって取得しておく。
次に、プローブ制御部15により、光プローブ13を被測定面2aに対して水平方向に走査することによって、先に説明した光プローブ13から射出された光により生じる被測定面2aからの戻り光を光検出器14において受光する。これによって、ユーザは、被測定面2aの詳細な光学物性情報を表示装置(図示せず)上に表示される画像から得ることができる。
更に、光プローブ13からの射出光が集光していない場合と比較して、被測定面2aからより多くの戻り光を得ることができ、その結果、S/Nの向上に伴う高コントラストな測定結果をユーザに提供することができる。
以上のことにより、効率的な光検出、及び高速かつ広範囲測定が可能である光検出装置を実現することができる。
この実施例2の光検出装置3は、伝搬光測定と近接場光測定の双方を可能にしたものであり、この構成要素においては、光プローブ19が遮光性被覆層33で被覆されている点が、上記実施例1の光検出装置1(図1−1参照)と異なる構成である。この構成の違いによって、伝搬光測定に加えて近接場光測定も可能となっている。
光源11から射出された直線偏光成分を有する光は、偏光ビームスプリッタ12を透過し、1/4波長板18により偏光成分を制御された上で、光プローブ19へ入射される。光プローブ19に入射された光は、そのままコア31内を伝搬して、光プローブ19の遮光性被覆層33に入射する。このとき、遮光性被覆層33の射出端側にエバネッセント波としての近接場光が滲出する。近接場光が滲出している状態で、プローブ制御部15により、光プローブ19を試料2の被測定面2aに対し近接する方向に移動させる。このとき、光プローブ19の先端と被測定面2aとの距離が、光源から射出される光の波長λの1/4以下となる場合において、光プローブ19から滲出した近接場光が被測定面2a上に照射され、被測定面2a上には近接場光による微小な光スポットが形成される。光スポットを形成した近接場光は、遮光性被覆層33を透過してコア31を経て光検出器14に導かれる。このようにして、被測定面2aの高分解能測定を行うことができる。
ここで、遮光性被覆層33は、如何なる材質であってもよいが、表面プラズモン共鳴による近接場光の増強効果が得られること、及び化学的安定性に優れていることからAu薄膜とすることが望ましい。Au薄膜の場合、光源11から射出される波長を選択することによって、近接場光の増強効果が得られ、その結果、近接場光発生効率とS/Nの向上を図ることができる。一般に、近接場光増強効果が顕著に現れる波長としては、例えばAuにおいては500〜600nm程度である。
遮光性被覆層33を有している光プローブ19においても、該遮光性被覆層33の材質、層厚さ、又は光源11から射出される波長を選定することによって、先に示した遮光性被覆層を有しない光プローブ13の場合(上記実施例1と図1−1を参照)と同様の伝搬光測定が可能である。
例えば、遮光性被覆層33の材質をAuとし、薄膜を80nm以下とした場合、遮光性被覆層が無い場合と比較して多少の光強度の低下は伴うものの、光プローブ19の先端から数100nm〜数μm程度離れた位置において、集光及び高い光強度を有する光スポットの形成を確認することができる。
例えば、遮光性被覆層33がAuの場合には、480〜700nm程度の波長帯に収まる波長の光を選択することが望ましい。
光プローブ19の表面のコア20aにおける傾斜角及び根元径Dと、光スポット径との相関については、遮光性被覆層を有しない光プローブ13(図1−1参照)とほぼ同様であるため、先の実施例1に示した内容に準じる。
また、測定過程についても上記実施例1において説明した動作と同様であって、伝搬光測定においては、上記実施例1と同様に、効率的な光検出、及び高速かつ広範囲測定が可能である。
上述のように、近接場光を利用した高分解能測定を実現し得る測定システムにおいて、広範囲測定のみに使用する光プローブを別途配置する必要がなくなるから、装置の規模、又は台数の縮減を図ることが可能となり、ひいては製造コストを大幅に削減することも可能となる。
光源11から射出された直線偏光成分を有する波長λの光は、偏光ビームスプリッタ12を透過して、1/4波長板18により偏光成分を制御された上で、光プローブ19へ入射される。光プローブ19に入射された光は、そのままコア31内を伝搬し、該光プローブ19から射出された光は、該光プローブ19の先端から離れた位置において集光して、光スポットを形成する。
ここで、プローブ制御部15により、光プローブ19を試料2の被測定面2aに対して近接離間させる方向に移動させて、前述した集光により形成された光スポットの位置に被測定面2aを一致させる。この際に用いられる光プローブ先端と集光スポットとの距離の情報については、予め実験等により取得しておくものである。
そして、ユーザは、表示装置(図示せず)上の画像から得た被測定面2aの光学物性情報から、より詳細な物性測定を必要とする微小領域を特定して、当該領域へ光プローブ19を水平方向に走査させて位置合わせを行い、当該領域のみを対象として、先に説明した近接場光測定(高分解能測定)を実施する。
以上の動作により、伝搬光を利用した広範囲の測定から近接場光を利用した高分解能の測定へ切り替えて、同一試料の測定を継続して行う場合において、利用する光プローブを付け替えることなく、広範囲の測定と同軸での高分解能の測定が可能となるため、ユーザは煩雑な作業を強いられることなく、所望の微小領域に対して既に位置合わせ済みの光プローブの位置において、高分解能測定を実現することができる。
2a‥‥試料の被測定面
11‥‥光源 12‥‥偏光ビームスプリッタ
13,19‥‥光ファイバプローブ(光プローブ)
14‥‥光検出器 15‥‥プローブ制御部
17‥‥光波長変換部 18‥‥1/4波長板
20a‥‥クラッドから突出させたコア 21‥‥光導波部
22‥‥突出部 22a‥‥光プローブの表面
31‥‥コア 32‥‥クラッド
33‥‥遮光性被覆層
41‥‥光(伝搬光) 42‥‥伝搬光の光軸
43‥‥法線
D‥‥突出させたコアの根元の径
Claims (16)
- 光源から射出された光を伝搬させるコアを有する光ファイバにおいて、該コア先端から光を射出する光プローブが形成されて成る光ファイバプローブであって、
上記光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、上記光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きいことを特徴とする光ファイバプローブ。 - 光源から射出された光を伝搬させるコアを有する光ファイバにおいて、該コア先端から光を射出する光プローブが形成され、かつ該光プローブの表面が遮光性被覆層で被覆されて成る光ファイバプローブであって、
上記光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、上記光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きいことを特徴とする光ファイバプローブ。 - 光を射出する光源と、
上記光源から射出された光を伝搬させるコアを有する光ファイバにおいて、該コア先端から光を射出する光プローブが形成されて成る光ファイバプローブと、
上記コアを伝搬する伝搬光による光スポットが試料の被測定面に形成されるように、上記光ファイバプローブと上記試料のいずれか一方を他方に対して近接離間する方向へ移動させる移動制御手段と、
上記被測定面からの戻り光を検出する検出手段とを備える光検出装置において、
上記光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、上記光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きいことを特徴とする光検出装置。 - 上記光スポットの形状が所望の形状になるように、上記光源から射出される光の波長を制御する波長制御手段を備えることを特徴とする請求項3に記載の光検出装置。
- 上記光スポットの形状が所望の形状になるように、上記傾斜角が所定の値に設定されている光ファイバプローブを備えていることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の光検出装置。
- 上記光スポットの形状が所望の形状になるように、上記光プローブのコア突出部の根元の径が所定の値に設定されている光ファイバプローブを備えていることを特徴とする請求項3〜請求項5のいずれかに記載の光検出装置。
- 光源から光を射出し、
光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きく形成されて成る光ファイバプローブのコアに、上記光源から射出された光を伝搬させ、
上記コアを伝搬する伝搬光による光スポットが試料の被測定面に形成されるように、上記光ファイバプローブと上記試料のいずれか一方を他方に対して近接離間する方向へ移動させ、
上記被測定面からの戻り光を検出することを特徴とする光検出方法。 - 上記光スポットの形状が所望の形状になるように、上記光源から射出される光の波長を制御することを特徴とする請求項7に記載の光検出方法。
- 光を射出する光源と、
上記光源から射出された光を伝搬させるコアを有する光ファイバにおいて、該コア先端から光を射出する光プローブが形成され、かつ該光プローブの表面が、該表面に近接場光を滲出させるための遮光性被覆層で被覆されて成る光ファイバプローブと、
上記コアを伝搬する伝搬光、又は上記コア先端から滲出する近接場光のいずれかによる光スポットが、試料の被測定面に形成されるように、上記光ファイバプローブと上記試料のいずれか一方を他方に対して近接離間する方向へ移動させる移動制御手段と、
上記被測定面からの戻り光を検出する検出手段とを備える光検出装置において、
上記光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、上記光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きいことを特徴とする光検出装置。 - 上記光源から射出される光の波長を、少なくとも上記遮光性被覆層又は上記傾斜角に応じて設定すべき値に制御する波長制御手段を備えることを特徴とする請求項9に記載の光検出装置。
- 上記波長制御手段により制御された光の波長が、上記遮光性被覆層の光透過率を最大値又はその近傍の値とする波長であることを特徴とする請求項10に記載の光検出装置。
- 上記光スポットの形状が所望の形状になるように、上記傾斜角が所定の値に設定されている光ファイバプローブを備えていることを特徴とする請求項9〜請求項11のいずれかに記載の光検出装置。
- 上記光スポットの形状が所望の形状になるように、上記光プローブのコア突出部の根元の径が所定の値に設定されている光ファイバプローブを備えていることを特徴とする請求項9〜請求項12のいずれかに記載の光検出装置。
- 光源から光を射出し、
光ファイバを伝搬する伝搬光の光軸に対する、光プローブの表面の一部又は全面における法線の傾斜角が、上記伝搬光の全反射角未満で、かつ0度より大きく形成され、さらに光プローブの表面が遮光性被覆層で被覆されて成る光ファイバプローブのコアに、上記光源から射出された光を伝搬させ、
上記コアを伝搬する伝搬光、又は上記コア表面から滲出する近接場光のいずれかによる光スポットが、試料の被測定面に形成されるように、上記光ファイバプローブと上記試料のいずれか一方を他方に対して近接離間する方向へ移動させ、
上記被測定面からの戻り光を検出することを特徴とする光検出方法。 - 上記光源から射出される光の波長を、少なくとも上記遮光性被覆層又は上記傾斜角に応じて設定すべき値に制御することを特徴とする請求項14に記載の光検出方法。
- 上記光源から射出される光の波長を、上記遮光性被覆層の光透過率を最大値又はその近傍の値とする波長に制御することを特徴とする請求項14又は請求項15に記載の光検出方法。
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