JP2006024941A5

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Publication number: JP2006024941A5
Application number: JP2005198439A
Authority: JP
Filing date: 2005-07-07
Publication date: 2007-10-18
Anticipated expiration: 2025-07-07

Claims

リソグラフィ投影装置であって、
選択されたパターンを放射線ビームに付与するためのパターニング・デバイスを支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
前記パターニングされたビームを前記基板の対象部分上に投影し、イメージを形成するための投影システムと、
測定した収差値に対して時間経過による投影システムの収差の変化を予測するための予測システムと、
前記選択されたパターン用の少なくとも１つの前記イメージのパラメータへの、前記予測した投影システムの収差の変化による使い方に固有の影響を決定するためのモデル化システムと、
前記予測した投影システムの収差変化、及び少なくとも１つの前記イメージのパラメータへのその使い方に固有の影響に従って、前記選択されたパターンに固有の制御信号を生成するための制御システムと、
前記制御信号に応答し、前記予測した投影システムの収差変化の前記イメージへの前記使い方固有の影響を補償するためのイメージ調節システムとを含む、リソグラフィ投影装置。
前記制御信号が、前記イメージの面上の２つの方向の投影システムの収差に対する前記選択されたパターンの既知の感度によって、前記２つの方向の１つで前記イメージのフィーチャーの予測した変化を優先的に補償する、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
前記制御システムが、前記イメージ面に垂直な方向の投影システムの収差に対する前記選択されたパターンの既知の感度によって、前記方向で前記イメージのフィーチャーの予測した変化を優先的に補償する、制御信号を生成するように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
前記制御信号が、前記イメージの少なくとも１つのパラメータへの投影システムの収差の前記影響に与える相対的重みを決定する、定義されたメリット関数にさらに依存する、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
前記予測した変化が、レンズの加熱又は冷却の結果生じた時間経過による少なくとも１つの収差値の変化を予測する、レンズ熱作用モデルに基づき予測される、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
前記モデル化システムが、前記選択されたパターン及び前記投影システムの照明モードの設定を表すデータに基づき、前記投影システムの収差変化の前記使い方固有の影響を決定するように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
前記制御信号が、前記調節システムの転写用調節の変化と前記収差変化の間の既知の対応関係に依存する、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
前の層用のオーバーレイ測定目標に対して測定された現在の層用のオーバーレイ測定目標のシフトを、修正するように構築され構成され、
前記シフトが、前記予測した投影システムの収差変化及び前記イメージ調節システムから生じており、
前記イメージが最も敏感な前記収差の前記変化を、定義されたメリット関数によって補償するために設けられた最適化プロシージャに基づく、オーバーレイ測定フィードバック・システムをさらに含む、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
前記対象部分に適用する、イメージの連続する層の各層の前記位置合わせ用に設けられた個々のウェハの位置合わせマークのシフトの影響を補償するように、前記イメージが最も敏感な前記収差の前記変化を、定義されたメリット関数によって補償するための最適化プロシージャに基づき、構築され構成された位置合わせシステムをさらに含み、
前記シフトが、前記予測した投影システムの収差変化及び前記イメージ調節システムから生じる、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
前記対象部分に適用する、イメージの連続する層の各層の前記位置合わせ用に設けられた個々のマスク位置合わせマークのシフトの影響を修正するように、前記イメージが最も敏感な前記収差の前記変化を定義されたメリット関数によって補償するための最適化プロシージャに基づき、構築され構成された位置合わせシステムを含み、
前記シフトが、前記予測した投影システムの収差変化及び前記イメージ調節システムから生じる、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
時間経過による前記少なくとも１つのイメージ・パラメータへの前記モデル化された影響が、対応する閾値より大きいとき、前記制御システムが、少なくとも１つの収差値を再測定するように構築され構成された測定システムを含む、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
前記イメージ調節システムが、スキャン位置に応じて前記イメージを最適化するために、前記基板の広さにわたり前記スキャンされるイメージの変動を可能にするように、前記基板をスキャンしながらの露光中、連続するスキャン位置についてさらに転写用調節を実行するように構成された、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
リソグラフィ投影装置を使用するデバイス製造方法であって、
要求されたパターニングの用途によって、パターニング・デバイスを選択するステップと、
放射線ビームを用いてパターニング・デバイスを照射して、パターニングされたビームを生成するステップと、
前記対象部分上に前記パターニングされたビームを投影して、その上にイメージを形成するステップと、
測定した収差値に対して時間経過による投影の収差の変化を予測するステップと、
少なくとも１つの前記イメージのパラメータへの前記予測した投影の収差変化の使い方に固有の影響を決定するステップと、
前記予測した投影システムの収差変化及びその使い方固有の影響によって、前記要求されたパターニング用途に固有の制御信号を生成するステップと、
前記制御信号に基づき前記転写するステップを調節するステップとを含む方法。
前記生成するステップが、前記イメージの面上で２つの方向の投影システムの収差に対する前記選択されたパターニング・デバイスの既知の感度によって、前記２つの方向のうちの１つで前記イメージのフィーチャーの予測した変化を優先的に補償するステップをさらに含む、請求項１３に記載のデバイス製造方法。
前記生成するステップが、前記イメージの面に垂直な方向の投影システムの収差に対する前記選択されたパターニング・デバイスの既知の感度によって、前記方向で前記イメージのフィーチャーの変化を優先的に補償するステップをさらに含む、請求項１３に記載のデバイス製造方法。
前記制御信号が、様々な前記イメージのパラメータへの投影システムの収差の選択された影響に与える相対的重みを決定する、定義されたメリット関数をさらに考慮に入れる、請求項１３に記載のデバイス製造方法。
前記予測するステップが、レンズ加熱又は冷却の結果生じる時間経過による少なくとも１つの収差値の変化を予測する、レンズ熱作用モデルに基づき実施される、請求項１３に記載のデバイス製造方法。
前記使い方固有の影響が、前記選択されたパターニング・デバイス及び前記照射するステップ中で使用される照明モードを表すデータに基づき決定される、請求項１３に記載のデバイス製造方法。
前記生成するステップが、前記調節システムの転写用調節の変化とその転写用調節によって補償される収差変化の間の既知の対応関係に基づき実施される、請求項１３に記載のデバイス製造方法。
前記イメージが最も敏感な収差の変化を定義されたメリット関数によって補償するために設けられた最適化プロシージャに基づき、前記予測した変化及び前記調節の結果生じた、前の層用のオーバーレイ測定目標に対して測定された現在の層用のオーバーレイ測定目標のシフトを修正するために、オーバーレイ測定情報をフィードバックするステップをさらに含む、請求項１３に記載のデバイス製造方法。
前記少なくとも１つのパラメータへの前記予測した影響が、対応する閾値より大きいとき、少なくとも１つの収差値を再測定するステップをさらに含む、請求項１３に記載のデバイス製造方法。
前記調節するステップが、スキャン位置に応じて前記イメージを最適化するために、前記基板の広さにわたり前記スキャンされるイメージの変動を可能にするように、前記基板をスキャンしながらの露光中、連続するスキャン位置について実行される、請求項１３に記載のデバイス製造方法。
方法を実施するための機械実行可能な命令によって符号化された機械読み出し可能な媒体であって、該方法が、
リソグラフィ投影装置について要求されたパターニングの用途のために測定した収差値に対して時間経過による投影の収差の変化を予測するステップと、
少なくとも１つのイメージのパラメータへの前記予測した投影の収差変化の使い方に固有の影響を決定するステップと、
前記予測した投影システムの収差変化及びその使い方固有の影響によって、前記要求されたパターン生成の用途に固有の制御信号を生成するステップと、
前記制御信号に基づき前記転写するステップを調節するステップとを含む媒体。