JP6034972B2 - レチクル加熱を均一に保つレチクルヒータ - Google Patents
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Description
[0001] 本願は、2012年9月25日に出願した米国仮出願第61/705,426号の優先権を主張し、その全体を本願に参考として組み込む。
・放射ビームを調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
・パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構築され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されたサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
・基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
・パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
Claims (24)
- 温度プロファイルをパターニングデバイスにインプリントする予熱器と、
前記パターニングデバイスの露光中に前記パターニングデバイスを加熱するために複数の放射ビームを生成する複数の放射源と、
前記パターニングデバイスの露光中に前記パターニングデバイスにわたって前記温度プロファイルを一定に保つことによって前記パターニングデバイスにおいて所望の熱パターンを生成するために、前記パターニングデバイスの動作中に前記放射ビームと実質的に垂直である平面と時間とのうちの少なくとも1つで、前記パターニングデバイスを出入りする熱流束がバランスをとる熱パターンに基づいて、前記複数の放射源からの放射ビームの強度を変調するコントローラと、を備える、加熱システム。 - 前記複数の放射源は赤外レーザを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記複数の放射源からの選択された源は個別に制御可能である、請求項1に記載のシステム。
- 前記放射源からそれぞれの前記放射ビームを受けかつ前記放射ビームを前記パターニングデバイスに供給する複数の光学系と、
前記パターニングデバイスの温度分布を決定する熱センサアレイと、をさらに備える、請求項1に記載のシステム。 - フィードフォワードおよびフィードバックシステムのうちの少なくとも1つを含む制御システムをさらに備え、
前記制御システムは、前記パターニングデバイスの空間温度分布を制御するように前記熱センサおよび前記放射源の動作を制御する、請求項4に記載のシステム。 - 前記複数の放射源は、前記放射ビームを二次元空間分布の形態で供給する、請求項1に記載のシステム。
- 二次元分布は、前記パターニングデバイス上のクロムパターンの外側の領域のみに前記放射ビームを供給するように構成される、請求項6に記載のシステム。
- 抵抗型加熱システムであって、
複数の抵抗加熱源であって、各抵抗加熱源は、パターニングデバイスの露光前と前記パターニングデバイスの露光中とのうちの少なくとも1つにおいて、印加した電圧または電流に応答して熱を生成しかつ前記熱を前記パターニングデバイスに供給する、複数の抵抗加熱源と、
電流および/または電圧を前記抵抗加熱源のうちの少なくとも1つに提供する制御システムと、を備え、
前記制御システムは、前記パターニングデバイスにわたって一定の温度プロファイルを保つことによって前記パターニングデバイスにおいて所望の熱パターンを生成するために、前記パターニングデバイスの動作中に放射ビームと実質的に垂直である平面と時間とのうちの少なくとも1つで、前記パターニングデバイスを出入りする熱流束がバランスをとる熱パターンに基づいて、前記複数の抵抗加熱源からの放射の強度を変調する、抵抗型加熱システム。 - 前記複数の抵抗加熱源の各々は、電圧または電流源に接続された1つ以上のレジスタを含む、請求項8に記載のシステム。
- 前記複数の抵抗加熱源からの選択された源は個別に制御可能である、請求項8に記載のシステム。
- 前記パターニングデバイスの温度分布を決定する熱センサアレイをさらに備える、請求項8に記載のシステム。
- 前記制御システムはフィードフォワードおよびフィードバックシステムのうちの少なくとも1つを含み、
前記制御システムは、前記パターニングデバイスの空間温度分布を制御するように前記熱センサおよび前記抵抗加熱源の動作を制御する、請求項11に記載のシステム。 - 前記制御システムは、露光光の存在下で前記パターニングデバイスによって得られる定常温度分布に近づけるように前記パターニングデバイスの前記空間温度分布を制御する、請求項12に記載のシステム。
- 前記複数の抵抗加熱源は、熱を二次元分布の形態で供給する、請求項8に記載のシステム。
- 前記二次元分布は、前記パターニングデバイス上のクロムパターンの外側の領域のみに前記放射を供給するように構成される、請求項14に記載のシステム。
- 放射ビームを調整する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するように構成されたパターニングデバイスを支持するサポートと、
露光のために前記パターニングデバイスを前記サポート上にロードする前に、空間依存する加熱プロファイルを前記パターニングデバイスに取り込む第1加熱デバイスと、
前記パターニングデバイスの露光中に、前記パターニングデバイスを出入りする熱流束がバランスをとる熱パターンに基づいて、前記パターニングデバイスにわたって前記加熱プロファイルを一定に保つ第2加熱デバイスと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、を備える、リソグラフィ装置。 - パターニングデバイスを加熱する方法であって、
複数の放射ビームをパターニングデバイスに誘導することと、
露光のために前記パターニングデバイスをロードする前および前記パターニングデバイスの露光中に熱を前記パターニングデバイスに供給することと、
前記パターニングデバイスの露光中に前記パターニングデバイスにわたって温度プロファイルを一定に保つことによって前記パターニングデバイスにおいて所望の熱パターンを生成するために、前記パターニングデバイスの動作中に前記放射ビームと実質的に垂直である平面と時間とのうちの少なくとも1つで、前記パターニングデバイスを出入りする熱流束がバランスをとる熱パターンに基づいて、前記複数の放射ビームからの放射の強度を変調することと、を含む、方法。 - 前記パターニングデバイスの空間温度分布を測定することと、
前記パターニングデバイスの特定の空間温度分布を与えるように前記放射ビームを制御することと、をさらに含む、請求項17に記載の方法。 - パターニングデバイスを加熱する方法であって、
複数の抵抗加熱源をパターニングデバイスに極めて接近させることと、
熱を生成するように電流および/または電圧を前記抵抗加熱源のうちの少なくとも1つに提供することと、
前記パターニングデバイスにわたって一定の温度プロファイルを保つことによって前記パターニングデバイスにおいて所望の熱パターンを生成するために、前記パターニングデバイスの動作中に放射ビームと実質的に垂直である平面と時間とのうちの少なくとも1つで、前記パターニングデバイスを出入りする熱流束がバランスをとる熱パターンに基づいて、前記複数の抵抗加熱源からの放射の強度を変調することと、を含む、方法。 - 前記パターニングデバイスの空間温度分布を測定することと、
前記パターニングデバイスの特定の空間温度分布を与えるように抵抗加熱源を制御することと、をさらに含む、請求項19に記載の方法。 - 前記コントローラは、前記パターニングデバイスの感知された熱分布に基づいて前記複数の放射源の前記放射ビームの強度を変化させる、請求項4に記載のシステム。
- 前記制御システムは、前記パターニングデバイスの感知された熱分布に基づいて前記複数の抵抗加熱源の前記放射の強度を変化させる、請求項11に記載のシステム。
- 前記パターニングデバイスを周期的にアンクランプしてそこから応力を解放させることをさらに含む、請求項17又は19に記載の方法。
- ウェーハをパターニングした後に前記パターニングデバイスを再クランプすることと、
必要に応じて前記パターニングデバイスを再アラインすることと、をさらに含む、請求項23に記載の方法。
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