JP2012028528A - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】レチクルを温度調整する。
【解決手段】ギャップセンサ８７_１，８７_２からの計測結果に基づいて温度調整装置駆動系を制御してレチクルＲに対する温度調整装置８６_１の離間距離と傾斜を調整することにより、レチクルＲを保持したレチクルステージＲＳＴの走査方向の移動中に、レチクルＲの上面と温度調整装置とのクリアランスを調整する。そして、温度調整装置８６_１をレチクルに接触させることなく温度調整装置を用いてレチクルＲを温度調整しつつ、そのレチクルＲを用いてパターンをウエハ上に転写する。
【選択図】図６

Description

本発明は、露光装置及びデバイス製造方法に係り、特に、半導体素子（集積回路）、液晶表示素子等の電子デバイスを製造するためのリソグラフィ工程で用いられる露光装置、及び該露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。

半導体素子（集積回路）、液晶表示素子等の電子デバイスを製造するためのリソグラフィ工程で用いられる投影露光装置では、集積回路の微細化に対応して、高解像度を実現するため、その露光波長をより短波長側にシフトしてきた。現在、その波長はＫｒＦエキシマレーザの２４８ｎｍ、又はこれより短波長の真空紫外域に属するＡｒＦエキシマレーザの１９３ｎｍが主流となっている。

投影露光装置では、回路素子のレイヤ（層）間の位置合わせ（重ね合わせ）に関して、非常に高い精度が要求されるとともに、高いスループットが要求される。このため、露光光の照度は次第に大きくなる傾向にある。今や、積極的にパターン原版であるマスク（レチクル）の温度調整を行わないと、マスクの熱膨張による変形により、要求される重ね合わせ精度を満たすことが困難になっている。

また、近年では、高解像度を得るため、高ＮＡ化及び低収差化が容易な小視野の投影光学系を用いて実質的に大きな露光フィールドを得ることができる走査型投影露光装置（例えばいわゆるスキャナなど）が主流となっている。

従来においても、例えば露光光の照射とレチクルの温度との関係を予め求めておき、露光光の照射回数が予め定めた閾値を超えたとき、その直後の露光停止時、例えばウエハ交換時などに停止状態にあるマスクを冷却する方法、例えば温度制御された空気（気体）を吹き付ける方法（例えば、特許文献１参照）などが提案されている。しかるに、スキャナにおいても、スループット向上の観点から、レチクルステージは高速化かつ高加速度化する傾向にあり、そのため、単位時間にレチクルに照射される露光エネルギ量は増大化している。このため、例えばウエハ交換時間などの限られた時間でレチクルを十分に冷却するには、温度差の大きい冷却装置で急激に冷却することが必要となるが、この場合雰囲気の温度変化が周辺の計測器などに対する外乱となる。

特開２０１０−８０８５５号公報

本発明の第１の態様によれば、パターンが形成されたマスクを照明光で照明して前記マスクと物体とを同期して走査方向に移動し、前記パターンを前記物体上に転写する露光装置であって、前記マスクを保持して前記走査方向である所定平面内の一軸方向に移動する移動体と；前記一軸方向に関して前記照明光の照射領域の少なくとも一側に設定された温度調整領域に対応して配置され、前記温度調整領域において前記移動体に保持された前記マスクに対向して前記マスクを温度調整する温度調整装置と；前記温度調整領域について前記マスクの前記温度調整装置に対向する側の面の前記所定平面に直交する方向及び前記所定平面に対する傾斜方向の位置情報を計測する計測装置と；前記温度調整装置を前記所定平面に直交する方向及び前記所定平面に対する傾斜方向に駆動する駆動装置と；前記計測装置による計測情報に基づいて前記駆動装置を制御することにより、前記マスクの前記温度調整装置に対向する側の面と前記温度調整装置とのクリアランスを調整する制御装置とを備える露光装置が、提供される。

これによれば、制御装置により計測装置による計測情報（マスクの温度調整装置に対向する側の面の所定平面に直交する方向及び所定平面に対する傾斜方向の位置情報）に基づいて駆動装置が制御され、これにより、マスクを保持した移動体の走査方向の移動中に、マスクの温度調整装置に対向する側の面と温度調整装置とのクリアランスが調整される。従って、温度調整装置との接触によるマスクの損傷を事前に回避することができるとともに、走査露光中にも温度調整するので、限られた時間に温度調整を行う場合と異なり、急激な温度調整は不要である。従って、雰囲気の温度変化を招くことなく、温度調整装置によりマスクを十分に温度調整することが可能になる。

本発明の第２の態様によれば、本発明の露光装置を用いて物体上に前記パターンを転写することと；前記パターンが転写された前記物体を現像することと；を含むデバイス製造方法が、提供される。

一実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図である。 図１のレチクルステージ装置の外観を示す斜視図である。 天板及び８本の支持脚を取り去った状態のレチクルステージ装置を示す斜視図である。 図４（Ａ）はレチクルステージを示す平面図、図４（Ｂ）はレチクルステージ装置をＸＺ平面にて断面した断面図である。 図１の露光装置のレチクルステージ装置近傍を示す縦断面図である。 図６は、温度調整装置アッセンブリ及び温度調整装置搬送系の構成を説明するためのレチクルステージ装置の一部省略した断面図である。 温度調整装置の構成を示す斜視図である。 レチクルエンコーダシステムの構成を説明するための図である。 図９（Ａ）は、レチクル搬送系の構成並びにレチクルのロード開始時の状態を示す図、図９（Ｂ）は、レチクルがレチクルステージ上へロードされた直後の状態を示す図である。 図１の露光装置の制御系を中心的に構成する主制御装置の入出力関係を示すブロック図である。 ウエハ交換時のレチクル退避位置でのレチクルの温度調整を説明するための図である。

以下、本発明の一実施形態を図１〜図１１に基づいて説明する。

図１には、一実施形態の露光装置１００の構成が概略的に示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる）である。後述するように本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ方向をＺ軸方向、これに直交する平面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＸ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。

露光装置１００は、照明ユニットＩＯＰ、レチクルＲを保持してＸＹ平面に平行な面内で移動するレチクルステージＲＳＴを含むレチクルステージ装置２０、投影光学系ＰＬ、ウエハＷをＸＹ２次元方向に駆動するウエハステージＷＳＴ、及びこれらの制御系、並びにレチクルステージ装置２０及び投影光学系ＰＬを保持するコラム３４等を備えている。

照明ユニットＩＯＰは、光源及び照明光学系を含み、その内部に配置された視野絞り（マスクキングブレード又はレチクルブラインドとも呼ばれる）により設定される矩形又は円弧状の照明領域に照明光（露光光）ＩＬを照射し、回路パターン等が形成されたレチクルＲを均一な照度で照明する。照明ユニットＩＯＰと同様の構成は、例えば米国特許第５，５３４，９７０号明細書などに開示されている。ここでは、一例として照明光ＩＬとして、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられるものとする。

レチクルステージ装置２０は、照明ユニットＩＯＰの下方に所定間隔を隔ててほぼ水平に配置されたレチクルステージ定盤ＲＢＳ、該レチクルステージ定盤ＲＢＳ上に配置されたレチクルステージＲＳＴ、該レチクルステージＲＳＴを取り囲む状態でレチクルステージ定盤ＲＢＳ上に配置された枠状部材から成るカウンタマス１８、レチクルステージＲＳＴを駆動するレチクルステージ駆動系３４０（図１０参照）、及びカウンタマス１８の上に所定のクリアランスを介して略水平に配置された天板（カバー部材）８０等を備えている。

レチクルステージ定盤ＲＢＳは、図１に示されるように、コラム３４の天板部３２ａ上に複数（例えば３つ）の防振ユニット１４（図１における紙面奥側の防振ユニットは不図示）を介して略水平に支持されている。レチクルステージ定盤ＲＢＳ上に、レチクルステージＲＳＴが配置され、レチクルステージＲＳＴ上にレチクルＲが保持されている。なお、レチクルステージ装置２０の具体的な構成等については後にさらに詳述する。

投影光学系ＰＬとしては、例えば、Ｚ軸方向の共通の光軸を有する複数のレンズ（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬは、例えば、両側テレセントリックで所定の投影倍率（例えば１／４あるいは１／５）を有する。このため、照明ユニットＩＯＰからの照明光ＩＬによって照明領域が照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬを介してその照明領域内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の投影像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置され、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上の照明領域に共役な領域（露光領域）に形成される。

そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期駆動によって、照明領域（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動するとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動することで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では、照明ユニットＩＯＰ及び投影光学系ＰＬによって、ウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。

投影光学系ＰＬの鏡筒の高さ方向のほぼ中央には、フランジＦＬＧが設けられている。

コラム３４は、床面Ｆにその下端部が固定された複数（例えば３本）の脚部３２ｂ（図１における紙面奥側の脚部は不図示）と、３本の脚部３２ｂにより略水平に支持された天板部３２ａとを含んでいる。天板部３２ａの中央部には、上下方向（Ｚ軸方向）に貫通した開口３４ａが形成されている。開口３４ａ内に投影光学系ＰＬの上端部が挿入されている。

天板部３２ａの下面側に一端が固定された３つの吊り下げ支持機構１３７（ただし紙面奥側の吊り下げ支持機構は不図示）の他端がフランジＦＬＧに接続され、これにより投影光学系ＰＬが天板部３２ａに吊り下げ支持されている。３つの吊り下げ支持機構１３７のそれぞれは、柔構造の連結部材であるコイルばね１３６とワイヤ１３５とを含む。コイルばね１３６は、投影光学系ＰＬの光軸（Ｚ軸）に垂直な方向には振り子のように振動するため、投影光学系ＰＬの光軸に垂直な方向の除振性能（床の振動が投影光学系ＰＬに伝達するのを防止する性能）を有している。また、光軸に平行な方向に関しても、高い除振性能を有している。

また、コラム３４の各脚部３２ｂのＺ軸方向に関する中央部近傍には凸部１３４ａが内側に突設され、各凸部１３４ａと投影光学系ＰＬのフランジＦＬＧの外周部との間には、駆動系４４０が設けられている。駆動系４４０は、投影光学系ＰＬを鏡筒の半径方向に駆動するボイスコイルモータと、投影光学系ＰＬを光軸方向（Ｚ軸方向）に駆動するボイスコイルモータとを含んでいる。３本の脚部３２ｂに設けられた３つの駆動系４４０により投影光学系ＰＬを６自由度方向に変位させることができる。

投影光学系ＰＬのフランジＦＬＧには、投影光学系ＰＬの６自由度方向の加速度を検出するための加速度センサ２３４（図１では不図示、図１０参照）が設けられており、加速度センサ２３４で検出される加速度情報に基づいて、主制御装置５０（図１では不図示、図１０参照）が、投影光学系ＰＬがコラム３４及び床面Ｆに対して静止した状態となるように３つの駆動系４４０のボイスコイルモータの駆動を制御する。

投影光学系ＰＬのフランジＦＬＧの下面からは、リング状の計測マウント５１が複数（ここでは例えば３本）の支持部材５３（ただし、紙面奥側の支持部材は不図示）を介して吊り下げ支持されている。３本の支持部材５３は、実際には、その両端部に支持部材５３の長手方向以外の５自由度方向の変位が可能なフレクシャ部を有するリンク部材を含んで構成され、計測マウント５１とフランジＦＬＧとの間に応力が殆ど生じることなく計測マウント５１を支持することができるようになっている。

計測マウント５１には、ウエハ干渉計５８、ウエハアライメント系（以下、アライメント系と称する）ＡＬＧ（図１では不図示、図１０参照）、及び不図示の多点焦点位置検出系などが保持されている。アライメント系ＡＬＧとしては、例えば米国特許第５，７２１，６０５号明細書などに開示される画像処理方式のＦＩＡ系を用いることができる。また、多点焦点位置検出系としては、例えば米国特許第５，４４８，３３２号明細書等に開示される多点焦点位置検出系を用いることができる。

ウエハステージＷＳＴは、投影光学系ＰＬの下方に水平に配置されたステージ定盤ＢＳの上面に、その底面に設けられたエアベアリングなどを介して浮上支持されている。

ここで、ステージ定盤ＢＳは、直接的に床面Ｆ上に据え付けられており、その＋Ｚ側の面（上面）は、その平坦度が非常に高くなるように加工されており、ウエハステージＷＳＴの移動基準面（ガイド面）とされている。

ウエハステージＷＳＴは、ウエハホルダ１２５を介してウエハＷを例えば真空吸着等により保持し、主制御装置５０により、ウエハステージ駆動系１２２（図１では不図示、図１０参照）を介して、ステージ定盤ＢＳの上面に沿ってＸＹ平面内で自在に駆動されるようになっている。

次に、レチクルステージ装置２０及びその近傍の構成部分について詳述する。

図２には、レチクルステージ装置２０の外観が斜視図にて示されている。カウンタマス１８の上面と僅かな間隙を介してカウンタマス１８の全面を覆う天板８０が、コラム３４の天板部３２ａ上に、８本の支持脚８０_０を介して略水平に支持されている。天板８０のほぼ中央には、照明光ＩＬの通路となる開口８０ａが形成されている。開口８０ａの周囲部分の天板８０の上面に、後述するパージカバー８２の下端が接続されている（図５参照）。天板８０の−Ｙ側の端部近傍には、図２に示されるように、レチクルＲの搬出入口８８ａが形成されている。搬出入口８８ａは、スライド式の開閉部材（シャッタ）８８によって開閉される。

図３には、天板８０及び８本の支持脚８０_０を取り去った状態のレチクルステージ装置が斜視図にて示されている。レチクルステージ定盤ＲＢＳは、平面視（上方から見て）略長方形の板状部材から成り、その中央部には、照明光ＩＬの通路となる開口ＲＢＳａ（図１及び図４（Ｂ）等参照）が形成されている。開口ＲＢＳａは、前述した天板部３２ａの開口３４ａとＺ軸方向に連通した状態となっている。また、レチクルステージ定盤ＲＢＳの上面の、中心から−Ｘ方向及び＋Ｘ方向に等距離離れた位置には、凸状部分ＲＢＳｂ、ＲＢＳｃ（図４（Ｂ）参照）がＹ軸方向に延設されている。凸状部分ＲＢＳｂ，ＲＢＳｃの上面（＋Ｚ側の面）は、平坦度が非常に高くなるように加工され、レチクルステージＲＳＴの移動の際のガイド面が形成されている。

また、レチクルステージ定盤ＲＢＳの上面の外周部近傍には、不図示ではあるが、所定間隔で複数のエアパッドが固定されている。これらの複数のエアパッド上にカウンタマス１８が配置されている。これらの複数のエアパッドの一部、例えばレチクルステージ定盤ＲＢＳの４隅にあるエアパッドは、カウンタマス１８の自重をレチクルステージ定盤ＲＢＳの上面（＋Ｚ側の面）上で非接触で支持している。残りのエアパッドは、真空吸引力と吹き出し圧力とのバランスの調整が可能であり、カウンタマス１８の下面とレチクルステージ定盤ＲＢＳの上面との間を所定間隔に維持している。

レチクルステージ定盤ＲＢＳと天板部３２ａとの間に設けられた図１に示される複数（例えば３つ）の防振ユニット１４は、それぞれがエアダンパ又は油圧式のダンパ等の機械式のダンパを含んでいる。この防振ユニット１４により、エアダンパ又は油圧式のダンパによって比較的高周波の振動がレチクルステージＲＳＴへ伝達するのを回避することができる。また、レチクルステージ定盤ＲＢＳと天板部３２ａとの間には、レチクルステージ定盤ＲＢＳにＸ軸方向の駆動力を作用させるＸボイスコイルモータ６６Ｘ、Ｙ軸方向の駆動力を作用させるＹボイスコイルモータ６６Ｙ、及びＺ軸方向の駆動力を作用させるＺボイスコイルモータ６６Ｚ（いずれも、図３では不図示、図１０参照）が設けられている。

これらボイスコイルモータとしては、例えば、Ｘボイスコイルモータ６６ＸとＹボイスコイルモータ６６Ｙの少なくとも一方を２つ、Ｚボイスコイルモータ６６Ｚを３つ設けることとすることができる。すなわち、Ｘボイスコイルモータ６６ＸとＹボイスコイルモータ６６Ｙとの少なくとも一方を２つ設けることで、レチクルステージ定盤ＲＢＳをＸ軸方向及びＹ軸方向のみならず、θｚ方向にも微小駆動することが可能であり、また、Ｚボイスコイルモータ６６Ｚを３つ設けることで、レチクルステージ定盤ＲＢＳをＺ軸方向のみならず、θｘ方向及びθｙ方向にも微小移動することが可能である。従って、ボイスコイルモータ６６Ｘ，６６Ｙ，６６Ｚにより、レチクルステージ定盤ＲＢＳを６自由度方向に微小駆動することが可能である。なお、レチクルステージ定盤ＲＢＳの位置は、定盤干渉計２４０及びＺエンコーダ８１（いずれも図１０参照）により投影光学系ＰＬを基準として計測される。

ここで、例えば３つのＺボイスコイルモータ６６Ｚは、レチクルステージ定盤ＲＢＳと天板部３２ａとの間の一直線上に無い３箇所に設けられている。この３つのＺボイスコイルモータ６６Ｚに加えて、レチクルステージ定盤ＲＢＳと天板部３２ａとの間に、変形抑制部材（例えばボイスコイルモータなど）を複数配置しても良い。このようにすると、Ｚボイスコイルモータ６６Ｚのみにより、レチクルステージ定盤ＲＢＳをＺ軸方向、θｘ方向、θｙ方向に駆動した（変位させた）場合に、Ｚボイスコイルモータ６６Ｚの推力の作用点同士が離れていることに起因してレチクルステージ定盤ＲＢＳに撓みあるいはねじれが発生するような場合でも、主制御装置５０が、３つのＺボイスコイルモータ６６Ｚの発生推力に応じて、その複数の変形抑制部材の発生する推力を制御（推力分配）することで、レチクルステージ定盤ＲＢＳを、その変形が極力抑制された状態でＺ、θｘ、θｙ方向に駆動する（変位させる）ことが可能となる。

レチクルステージＲＳＴは、図３に示されるように、レチクルステージ本体２２と、レチクルステージ本体２２のＸ軸方向の両端部に固定された一対の可動子３０Ａ，３０Ｂとを備えている。

レチクルステージ本体２２は、図４（Ａ）に拡大して示されるように、平面視（上方から見て）矩形状の板状部２２_０と、板状部２２_０の±Ｘ端にそれぞれ固定されたＹ軸方向を長手方向とする直方体状のエアスライダ部２２_１，２２_２とを有している。ここで、板状部２２_０のほぼ中央には、照明光ＩＬの通路となる開口２２ａ（図４（Ｂ）参照）が形成されている。

板状部２２_０上面の開口２２ａのＸ軸方向の両側の部分には、レチクルＲの裏面を吸着保持する一対のバキュームチャック９５，９６が配置されている。

また、板状部２２_０上面の開口２２ａの−Ｙ側の部分には、一対のストッパ（位置決め部材）９３，９４が、Ｘ軸方向に関して所定距離（レチクルＲのＸ軸方向に関する幅より幾分短い距離）隔てて配置され、固定されている。これらのストッパ９３，９４は、レチクルＲの−Ｙ側の端面（側面）に当接してそのレチクルＲを位置決めする。

また、板状部２２_０上面の開口２２ａの＋Ｙ側の部分には、一対の回動アームから成るクランパ（押圧部材）９１、９２が取り付けられている。クランパ９１、９２は、それぞれストッパ９３、９４と組を成し、レチクルＲをＹ軸方向の一側と他側から挟持するクランプ装置を、それぞれ構成する。

一方のクランパ９１は、Ｘ軸方向を長手方向とし、その−Ｘ端を支点（回転中心）として回動可能に板状部２２_０に取り付けられている。また、このクランパ９１の−Ｙ側の面の＋Ｘ端部には、ストッパ９３に対向してほぼ半球状の凸部が設けられている。そして、このクランパ９１は、その凸部がレチクルＲの＋Ｙ側の端面に圧接するように、不図示のゼンマイバネなどから成る付勢部材によって時計回りに常に付勢されている。他方のクランパ９２は、左右対称ではあるが、クランパ９１と同様に構成されている。

レチクルＲは、開口２２ａを上方から塞ぐ状態で、板状部２２_０（レチクルステージＲＳＴ）上に載置されている。そして、レチクルＲは、その−Ｙ側の面がストッパ９３，９４に接触して位置決めされ、クランパ９１，９２により＋Ｙ側の面に所定の押圧力が加えられて固定される。レチクルＲは、このようにしてクランパ９１，９２及びストッパ９３，９４によって固定された後、バキュームチャック９５，９６により、その下面のＸ軸方向両端部が吸着される。レチクルＲをレチクルステージＲＳＴ上からアンロードする場合には、吸着を解除した後、クランパ９１，９２を付勢力に抗して、レチクルＲから離し、例えば上方から吸盤等でレチクルＲの上面（パターン面と反対側の面）を吸着して持ち上げる。あるいは、レチクルＲのパターン領域の外部をフック等で引っ掛けて持ち上げる。あるいは、レチクルＲの下面のパターン領域の外部を複数本の上下動部材で下方から一旦持ち上げ、上下動部材から搬送アームに渡すなどしても良い。なお、クランパ９１，９２を常時付勢する構成に換えて、アクチュエータ（例えばモータあるいはエアシリンダなど）により、クランパ９１，９２の半球状凸部が、レチクルＲに当接する第１位置と、レチクルＲから離間する第２位置とで切り替え可能な構成を採用しても良い。また、回動式に限らず、スライド式のクランパを用いることもできる。

その他、板状部２２_０上には、各種計測部材が設けられている。例えば、板状部２２_０の開口２２ａの±Ｙ側には、Ｘ軸方向を長手方向とする矩形状の開口がそれぞれ形成されている。これらの開口を上方から塞ぐ状態で、空間像計測用基準マークが形成されたレチクルフィデューシャルマーク板（以下、「レチクルマーク板」と略述する）ＬＦ１，ＬＦ２が、レチクルＲと並ぶように配置され、板状部２２_０に固定されている。このレチクルマーク板ＬＦ１，ＬＦ２は、レチクルＲと同材質のガラス素材、例えば合成石英やホタル石、フッ化リチウムその他のフッ化物結晶などから構成されている。レチクルマーク板の詳細については、例えば米国特許出願公開第２００２／００４１３７７号明細書等に開示されている。

本実施形態では、図４（Ｂ）から分かるように、レチクルＲは、そのパターン面（下面）がレチクルステージ本体２２（レチクルステージＲＳＴ）の中立面（レチクルステージ本体２２の重心を通るＸＹ平面に平行な面）に略一致する状態で支持される。

エアスライダ部２２_１，２２_２は、図４（Ａ）にエアスライダ部２２_１について、その上面の一部を破砕して示されるように、その内部に強度を維持するための格子状のリブが設けられ、この格子状のリブによってその内部空間が区画された中空部材から成る。換言すれば、エアスライダ部２２_１，２２_２は、軽量化を図るべく、リブ部のみが残るように肉抜きされた直方体状の部材から成る。

エアスライダ部２２_１，２２_２の底面のＸ軸方向の外側半部、すなわち図４（Ｂ）に示されるようにレチクルステージ定盤ＲＢＳの前述の凸状部分ＲＢＳｃ、ＲＢＳｂに対向する部分には、表面絞り溝を有する給気溝と排気溝（いずれも不図示）とが、Ｙ軸方向の全長に渡って形成されている。また、給気溝と排気溝とのそれぞれの少なくとも一部に対向してレチクルステージ定盤ＲＢＳの凸状部分ＲＢＳｃ、ＲＢＳｂの上面に、給気口と排気口とがそれぞれ形成されている。このように、本実施形態では、いわゆる定盤給気タイプの差動排気型気体静圧軸受が用いられている。定盤給気タイプの差動排気型気体静圧軸受の詳細は、例えば米国特許第７，４８９，３８９号明細書などに詳細に開示されている。

本実施形態では、給気口を介して供給され表面絞り溝から凸状部分ＲＢＳｃ、ＲＢＳｂの上面に噴き付けられる加圧気体の静圧と、レチクルステージＲＳＴ全体の自重とのバランスにより、凸状部分ＲＢＳｃ、ＲＢＳｂの上に数ミクロン程度のクリアランスを介して、レチクルステージＲＳＴが非接触で浮上支持される。ここで、加圧気体としては、クリーンドライエア（ＣＤＡ）、窒素、又はヘリウムなどの希ガスなどが用いられる。

一対の可動子３０Ａ、３０Ｂのそれぞれは、図３及び図４（Ｂ）に示されるように、エアスライダ部２２_１の＋Ｘ側の面、エアスライダ部２２_２の−Ｘ側の面に固定されている。

可動子３０Ａ，３０Ｂは、それぞれ所定の位置関係で配置された複数の磁石を内蔵する磁石ユニットによって構成されている。可動子３０Ａ，３０Ｂのそれぞれは、図３及び図４（Ｂ）に示されるように、一対の固定子４０Ａ、４０Ｂに係合している。

固定子４０Ａ、４０Ｂは、図３及び図４（Ｂ）に示されるように、カウンタマス１８内部のＸ軸方向の一側と他側にそれぞれ配置され、カウンタマス１８に固定支持されている。

本実施形態では、固定子４０Ａとこれに係合する可動子３０Ａとにより、レチクルステージＲＳＴをＹ軸方向に所定ストロークで駆動するとともに、Ｘ軸方向にも微少駆動するムービングマグネット型の第１のＸＹ駆動リニアモータが構成されている。同様に、固定子４０Ｂとこれに係合する可動子３０Ｂとにより、レチクルステージＲＳＴをＹ軸方向に所定ストロークで駆動するとともに、Ｘ軸方向にも微少駆動するムービングマグネット型の第２のＸＹ駆動リニアモータが構成されている。そして、これら第１、第２のＸＹ駆動リニアモータにより、レチクルステージＲＳＴをＹ軸方向に所定ストロークで駆動するとともに、Ｘ軸方向及びθｚ方向にも微少駆動するレチクルステージ駆動系３４０（図１０参照）が構成されている。また、レチクルステージ駆動系３４０は、レチクルステージＲＳＴの重心を含む中立面内でレチクルステージＲＳＴを駆動する。レチクルステージ駆動系３４０を構成する構成する第１、第２のＸＹ駆動リニアモータの固定子４０Ａ、４０Ｂの各コイルに供給される電流の大きさ及び方向が、主制御装置５０によって制御される。

本実施形態では、図５に示されるように、照明ユニットＩＯＰの下端（射出端）に位置する光透過窓部材（例えば、ガラス板又はレンズなど）を照明ユニットＩＯＰのハウジングに固定するための環状の固定部材９０と天板８０との間に、パージカバー８２が設けられている。パージカバー８２は、平面視でＸ軸方向に細長い矩形の筒状部８２_１と、筒状部８２_１の上端部及び下端部にそれぞれ設けられたフランジ部８２_２，８２_３とを有している。

フランジ部８２_２は、その上面が、固定部材９０の下面に固定されている。筒状部８２_１は、照明ユニットＩＯＰからの射出される照明光ＩＬの照射領域を取り囲んでいる。筒状部８２_１は、照明ユニットＩＯＰからレチクルＲに照射される照明光ＩＬを妨げないようにＹ軸方向の両側壁がテーパ部となっている。筒状部８２_１のＸ軸方向の長さは、レチクルステージＲＳＴのエアスライダ部２２_１，２２_２の外縁間のＸ軸方向に関する距離より幾分長く設定されている。フランジ部８２_３は、その下面が、開口８０ａを取り囲んで天板８０の上面に固定されている。

また、レチクルステージＲＳＴの＋Ｙ側の端部には、図５に示されるように、その上端と先端とを覆う側面視Ｌ字状の端部カバー２３_１が取り付けられている。同様に、レチクルステージＲＳＴの−Ｙ側の端部には、その上端と先端とを覆う側面視Ｌ字状の端部カバー２３_２が取り付けられている。

この場合、端部カバー２３_１は、エアスライダ部２２_１，２２_２の＋Ｙ側の端面及び上面の＋Ｙ端部（エアスライダ部２２_１，２２_２間の空間を含む）を覆い、端部カバー２３_２は、エアスライダ部２２_１，２２_２の−Ｙ側の端面及び上面の−Ｙ端部（エアスライダ部２２_１，２２_２間の空間を含む）を覆う。このため、レチクルＲの載置された空間は、前後左右の四方を、端部カバー２３_１、２３_２及びエアスライダ部２２_１，２２_２によって囲まれている。

また、エアスライダ部２２_１，２２_２の上面は、図６に示されるように、それぞれ、後述する温度調整装置アッセンブリ２００を構成する板状部材から成る保持部材８７ａの下面のＸ軸方向の両端部に固定された一対のガイド部材８７ｃ，８７ｂの下面と僅かな間隙を挟んで対向している。保持部材８７ａは、天板８０の下面に形成された所定深さの矩形の凹部８０ｂの内部にその上半部が位置する状態で、凹部８０ｂのＸＹ平面に平行な内部底面に平行に配置されている。

保持部材８７ａのＸ軸方向の中央部でＹ軸方向の中央部近傍には、図示は省略されているが、照明光ＩＬの通路となる所定面積の開口（天板８０の開口８０ａより大きな開口）が少なくとも１つ形成されている。保持部材８７ａの下面のＹ軸方向の両端部には、一対のガイド部材８７ｃ，８７ｂにそれぞれ挟まれる状態で、温度調整装置８６_１，８６_２が、固定されている（図５参照）。温度調整装置８６_１，８６_２は、それぞれの下面がレチクルステージＲＳＴ上に保持されたレチクルＲの上面と対向し得る。エアスライダ部２２_１，２２_２の上面には、図６に示されるように、ガイド部材８７ｃ，８７ｂにそれぞれ対向して、複数の気体静圧軸受２０２が、少なくともＹ軸方向の両端部を含む複数箇所に固定されている。各気体静圧軸受２０２では、加圧気体として、クリーンドライエア（ＣＤＡ）、窒素、又はヘリウムなどの希ガスなどが用いられる。

温度調整装置８６_１，８６_２の下面とレチクルＲの上面及びエアスライダ部２２_１，２２_２（端部カバー２３_１，２３_２）との間には、それぞれ所定のクリアランス、例えば数μｍ〜数ｍｍ（最大でも３ｍｍ）のクリアランスが形成されている。これにより、本実施形態では、レチクルＲの上面側に、そのレチクルＲの上面、端部カバー２３_１、２３_２、エアスライダ部２２_１，２２_２、ガイド部材８７ｃ，８７ｂ、温度調整装置８６_１，８６_２、天板８０、及びパージカバー８２、並びに照明ユニットＩＯＰの下端（射出端）に位置する光透過窓部材によって区画されたほぼ気密状態の空間１８１（図５参照）が形成されている。

天板８０の開口８０ａのＹ軸方向の一側と他側の内壁面に、それぞれ、空間１８１内にパージガスを供給するための供給口８４_１と空間１８１内の気体を排気するための排気口８４_２が設けられている（図５参照）。これらの供給口８４_１及び排気口８４_２は、一例としてＸ軸方向に延びるラインスリット状に形成されている。パージガスとしては、例えばクリーンドライエア（ＣＤＡ）が用いられる。すなわち、空間１８１の内部ガス（空気）が、ＣＤＡでパージされている。ＣＤＡは、レチクル（マスク）のヘイズ生成反応加速物質である水蒸気を含む割合が、通常の空気に比べて極端に小さい。空間１８１は、ほぼ気密状態のパージ室となっている。以下では、この空間を第１のパージ空間１８１と呼ぶ。

また、レチクルステージ定盤ＲＢＳと投影光学系ＰＬとの間は、図４（Ｂ）及び図５に示されるように、非接触シールの一種であるラビリンスシールＬＢを介してシールされている。ラビリンスシールＬＢは、開口ＲＢＳａの周囲を取り囲む状態で、レチクルステージ定盤ＲＢＳと投影光学系ＰＬとの間に取り付けられている。この場合、ラビリンスシールＬＢは、レチクルステージ定盤ＲＢＳの下面に開口ＲＢＳａの周囲を取り囲む状態でその上端が固定された環状の上部材と、該上部材に非接触で係合し、上面部材６０を取り囲む状態でその下面が投影光学系ＰＬの上面に固定された下部材とを有している。上部材は、−Ｚ方向から見て同心でかつ多重の突起部を有し、下部材は、上部材より僅かに外側に位置し、上部材に非接触で係合する＋Ｚ方向から見て同心でかつ多重の突起部を有する。ただし、２つの突起部は、レチクルステージ定盤ＲＢＳが微小駆動されても、互いに接触することなく、常時非接触で係合する。

このため、本実施形態では、図４（Ｂ）に示されるように、レチクルＲ及びレチクルステージ本体２２と、レチクルステージ定盤ＲＢＳの開口ＲＢＳａの内壁面と、投影光学系ＰＬの上面と、ラビリンスシールＬＢとで区画されたほぼ気密状態の空間１８２が形成されている。この空間１８２の内部にレチクルステージ定盤ＲＢＳの開口ＲＢＳａの内壁面の一部に設けられた吹き出し口１９２からＣＤＡが供給され、不図示の排気口を介して外部に排気されている。すなわち、空間１８２の内部ガス（空気）が、ＣＤＡでパージされている。空間１８２は、ほぼ気密状態のパージ室となっている。以下では、この空間を第２のパージ空間１８２と呼ぶ。

さらに、本実施形態では、図５に示されるように、レチクルステージＲＳＴの周囲は、照明光ＩＬの照射領域の近傍を除いて、カウンタマス１８、天板８０、及びレチクルステージ定盤ＲＢＳにより囲まれ、ほぼ気密状態の空間１８３が形成されている。天板８０の下面のＹ軸方向の一側及び他側の端部近傍には、それぞれ、供給口８４_３、排気口８４_４が設けられている（図５参照）。供給口８４_３、排気口８４_４は、一例としてＸ軸方向に延びるラインスリット状に形成されている。供給口８４_３から空間１８３内にパージガス（クリーンドライエア（ＣＤＡ））が供給され、空間１８３内の気体が排気口８４_４から外部に排気されている。すなわち、空間１８３の内部ガス（空気）が、ＣＤＡでパージされている。空間１８３は、ほぼ気密状態のパージ室となっている。以下では、この空間を第３のパージ空間１８３と呼ぶ。

第１のパージ空間１８１は、独立に気密空間とされている第３のパージ空間１８３（及び第２のパージ空間１８１）に囲まれている、すなわち２重にパージされていることにより、外部からの不純物ガスの浸入が防止されている。

本実施形態では、第１〜第３のパージ空間１８１〜１８３のそれぞれに、パージガスの供給口と排気口とが設けられ、しかも、第１、第３のパージ空間１８１，１８３では、供給口及び排気口が、それぞれ、各空間内部のＹ軸方向（走査方向）の一端近傍、他端近傍に配置されている。このため、パージガスが、例えば、供給口８４_１から供給され、第１のパージ空間１８１内を流れ、排気口８４_２から排気される。同様に、供給口８４_３からパージガスが供給され、第３のパージ空間１８３内を第１のＸＹ駆動リニアモータ（可動子３０Ａと固定子４０Ａ）及び第２のＸＹ駆動リニアモータ（可動子３０Ｂと固定子４０Ｂ）の間隙を介して流れ、排気口８４_４から排気される。

図６に拡大して示されるように、天板８０の下面側の凹部８０ｂのＸ軸方向の一側と他側の内壁面に近接して、Ｙ軸方向に延びる一対の固定子８７Ｅ，８７Ｄが配置されている。固定子８７Ｅ，８７Ｄは、ともに、吊り下げ支持部材及び防振装置（いずれも不図示）を介して、天板８０の下面に吊り下げ支持されている。固定子８７Ｅ，８７Ｄは、互いに対向する面にＹ軸方向の凹部が形成されたＸＺ断面Ｕ字状の形状を有する。一対の固定子８７Ｅ，８７Ｄの間に、前述した保持部材８７ａが配置されている。保持部材８７ａの＋Ｘ側の面には、Ｙ軸方向の両端部に、それぞれ、固定子８７Ｅ（の凹部）に非接触で係合する可動子８６Ａ_１，８６Ａ_２が突設されている（図５参照）。また、保持部材８７ａの−Ｘ側の面には、Ｙ軸方向の中央部に、固定子８７Ｄ（の凹部）に非接触で係合する可動子８６Ｂが突設されている（図６参照）。

可動子８６Ａ_１，８６Ａ_２のそれぞれと、固定子８７Ｅとによって、Ｙ軸方向及びＺ軸方向の推力を発生するＹＺリニアモータ２０４Ａ_１，２０４Ａ_２が構成されている。同様に、可動子８６Ｂと固定子８７Ｄとによって、Ｙ軸方向及びＺ軸方向の推力を発生するＹＺリニアモータ２０４Ｂが構成されている。３つのＹＺリニアモータ２０４Ａ_１，２０４Ａ_２、及び２０４Ｂによって、温度調整装置アッセンブリ２００を、Ｙ軸、Ｚ軸、θｘ、及びθｙの各方向に駆動する温度調整装置駆動系２０６（図１０参照）が構成されている。温度調整装置駆動系２０６は、主制御装置５０によって制御される。

温度調整装置アッセンブリ２００は、図５に示されるように、保持部材８７ａと、該保持部材８７ａ下面にそれぞれ固定された２つの温度調整装置８６_１，８６_２、前述した一対のガイド部材８７ｃ，８７ｂ、一対のギャップセンサ８７_１、８７_２及びブロック２０８等を含む。

温度調整装置８６_１，８６_２は、図５に示されるように、全体として厚さの薄い直方体状の形状を有し、Ｘ軸方向の長さ（幅）は、互いに等しく、レチクルＲのパターン領域のＸ軸方向の長さ（幅）より長い（例えば、図６参照）。−Ｙ側に位置する一方の温度調整装置８６_２のＹ軸方向の長さは、レチクルＲのパターン領域の長さより長く、かつ他方の温度調整装置８６_１のＹ軸方向の長さより長い（図５参照）。温度調整装置８６_１，８６_２は、本実施形態では、温度調整装置８６_２を代表的に取りあげて図７に示されるように、ＸＹ方向に２次元配列された複数のペルチェ素子３００から成るペルチェアレイによってそれぞれ構成されている。温度調整装置８６_１，８６_２は、図１０に示されるように、温調コントローラ２８に接続されている。温調コントローラ２８は、不図示の温度センサからのモニタ信号に基づいて、温度調整装置８６_１，８６_２（ペルチェアレイ）を構成する各ペルチェ素子に供給される電流量を調整することにより、各ペルチェ素子の温度（温度調整状態）を、調整する。温調コントローラ２８は、主制御装置５０に接続されている。ここで、温度調整装置８６_１，８６_２（ペルチェアレイ）を構成する各ペルチェ素子３００を、アクチュエータ（ボイスコイルモータ又は駆動素子）により、Ｚ軸方向（各ペルチェ素子のＰＮ接合面に直交する方向）に駆動可能に構成しても良く、この場合には、各ペルチェ素子の温度のみならず、各ペルチェ素子とレチクルＲ上面との間隔（クリアランス）を制御することで各ペルチェ素子によるレチクルＲの温度調整状態を調整することができ、温度調整装置８６_１，８６_２によるレチクルＲの温度調整率分布を調整することもできる。これにより、温度調整装置８６_１，８６_２の温度制御の応答が速くなるだけでなく、レチクルＲの表面の温度分布が一様になるように適切な温度制御が可能になる。

温度調整装置８６_１，８６_２は、図５に示されるように、保持部材８７ａのＹ軸方向の中心が、投影光学系ＰＬの光軸上にほぼ一致する位置にあるとき、開口８０ａを挟んで＋Ｙ側及び−Ｙ側にそれぞれ位置するような位置関係で、保持部材８７ａの下面に固定されている。温度調整装置８６_１，８６_２の配置をこのようにしたのは、走査露光時に、温度調整装置駆動系２０６により、保持部材８７ａをＹ軸方向に駆動して、温度調整装置８６_１，８６_２を図５に示される位置（以下、この図５に示される温度調整装置アッセンブリ２００の位置を通常使用位置と呼ぶ）に位置決めすることにより、レチクルステージＲＳＴの走査方向の往復移動端の近傍、すなわち、レチクルステージＲＳＴの速度がゼロとなる結果レチクルＲと温度調整装置８６_１又は温度調整装置８６_２とが対向する時間が最も長くなる位置に、温度調整装置８６_１，８６_２による温度調整領域を設定するためである。これにより、走査露光と並行して、レチクルＲを効率良く温度調整することが可能となる。ここで、温度調整装置８６_１，８６_２の温度調整面が設定された領域が温度調整領域になるものとしているが、このことは、予め設定された温度調整領域に合わせて温度調整装置８６_１，８６_２の温度調整面を一致させるように温度調整装置８６_１，８６_２を位置決めしていることに他ならない。

一対のギャップセンサ８７_１、８７_２は、保持部材８７ａの下面の温度調整装置８６_２の−Ｙ側の位置にそれぞれ固定されている。一対のギャップセンサ８７_１、８７_２は、レチクルＲの上面に対向可能な位置に、Ｘ軸方向に所定間隔で配置されている。ギャップセンサとしては、静電容量センサ、光学式センサ等を用いることができる。一対のギャップセンサ８７_１、８７_２は、レチクルＲが対向したときに、レチクルＲ上面とのギャップ（Ｚ軸方向の距離）をそれぞれ計測する。ギャップセンサ８７_１、８７_２は、主制御装置５０に接続されている。ギャップセンサ８７_１、８７_２の使用方法については後述する。

ブロック２０８は、図５に示されるように、保持部材８７ａの下面の温度調整装置８６_１の＋Ｙ側の位置に固定されている。ブロック２０８は、Ｘ軸方向に関しては、一対のガイド部材８７ｃ，８７ｂによって挟まれている。ブロック２０８と温度調整装置８６_１とを組み合わせることで、温度調整装置８６_２とほぼ同形状の立体が構成される。

このようにして構成された温度調整装置アッセンブリ２００は、レチクル交換位置にあるレチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲに温度調整装置８６_２が対向する第１位置（−Ｙ側の移動限界位置）と第２位置（＋Ｙ側の移動限界位置）との間で、温度調整装置駆動系２０６によりＹ軸方向に関して駆動可能である。

さらに、本実施形態に係るレチクルステージ装置２０には、温度調整装置８６_１，８６_２のレチクルＲへ接触を防止するための接触防止装置が設けられている。本実施形態の接触防止装置は、エアスライダ部２２_１，２２_２の上面にガイド部材８７ｃ，８７ｂにそれぞれ対向して固定された前述の複数の気体静圧軸受２０２を含んで構成されている。この複数の気体静圧軸受２０２を走査露光時などのレチクルステージＲＳＴの走査方向の駆動時に常時ＯＮ状態に設定しておくことで、各気体静圧軸受２０２からは、加圧気体（ＣＤＡ）がガイド部材８７ｃ，８７ｂに向かって噴出される。これにより、ガイド部材８７ｃ，８７ｂと複数の気体静圧軸受２０２の軸受面との間に加圧気体の膜が形成される。そして、レチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲと温度調整装置８６_１，８６_２との距離が所定の限界距離になると、ガイド部材８７ｃ，８７ｂと複数の気体静圧軸受２０２の軸受面との間の上記の加圧気体の静圧（いわゆる隙間内圧力）が、ガイド部材８７ｃ，８７ｂ、及び温度調整装置８６_１，８６_２等の保持部材８７ａに取り付けられた各部材と保持部材８７ａとの自重による下向きの力とつりあい、保持部材８７ａとこれに取り付けられた各部材との全体が、エアスライダ部２２_１，２２_２上に所定のクリアランスを介して支持される。これにより、温度調整装置８６_１，８６_２とレチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲとの離間距離が限界距離以上の距離に保たれ、温度調整装置８６_１，８６_２のレチクルＲへの接触が防止される。

エアスライダ部２２_１，２２_２の底面には、図４（Ｂ）に示されるように、それぞれ、グレーティングＲＧ１，ＲＧ２がＹ軸方向のほぼ全長に渡って延接されている（図８参照）。グレーティングＲＧ１，ＲＧ２のそれぞれの表面には、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を周期方向とする２次元グレーティングが形成されている。

投影光学系ＰＬの最上面には、図８に示されるような中央に矩形の開口ＰＬａが形成された平面視六角形の上面部材６０が、固定されている（図４（Ｂ）参照）。開口ＰＬａは、レチクルＲのパターン面を透過し、レチクルステージ定盤ＲＢＳの開口ＲＢＳａを透過した照明光ＩＬの光路（通路）となる。上面部材６０の上面のＸ軸方向の両端部（開口ＰＬａの両側）に各３つのエンコーダヘッド７２，７３，７４、及び７７，７８，７９が固定されている。エンコーダヘッド７２，７７は開口ＰＬａの＋Ｙ側の角部近傍に、エンコーダヘッド７４，７９は−Ｙ側の角部近傍に、エンコーダヘッド７３，７８は開口ＰＬａの中心（すなわち投影光学系ＰＬの光軸）と同じＹ位置に、配置されている。

各３つのエンコーダヘッド７２，７３，７４、及び７７，７８，７９は、それぞれ、前述したグレーティングＲＧ１，ＲＧ２に対向している。

本実施形態では、エンコーダヘッド７２〜７４，７７〜７９として、グレーティング（計測面）に平行な一方向（グレーティングの一周期方向）と、計測面に垂直な方向との二方向を計測方向とする２次元エンコーダヘッドが採用されている。かかるヘッドの一例は、例えば米国特許第７，５６１，２８０号明細書などに開示されている。

ここで、４つのエンコーダヘッド７２，７４，７７，７９はＹ軸方向とＺ軸方向とを計測方向とし、２つのエンコーダヘッド７３，７８はＸ軸方向とＺ軸方向とを計測方向とする。

エンコーダヘッド７２，７３，７４は、図４（Ｂ）に示されるように、レチクルステージ定盤ＲＢＳの開口ＲＢＳａを介して、レチクルステージＲＳＴ（エアスライダ部２２_１）の底面のグレーティングＲＧ１に計測ビームを下方から照射し、グレーティングＲＧ１にて発生する複数の回折光を受光して、それぞれの計測方向に関するグレーティングＲＧ１（すなわちレチクルステージＲＳＴのエアスライダ部２２_１）の位置情報を求める（計測する）。これらのエンコーダヘッド７２，７３，７４から第１エンコーダシステム７１（図１０参照）が構成され、その計測情報は主制御装置５０（図１０参照）に送られている。

エンコーダヘッド７７，７８，７９は、上述のエンコーダヘッド７２，７３，７４と同様に、レチクルステージ定盤ＲＢＳの開口ＲＢＳａを介して、レチクルステージＲＳＴ（エアスライダ部２２_２）の底面のグレーティングＲＧ２に計測ビームを下方から照射し、グレーティングＲＧ２にて発生する複数の回折光を受光して、それぞれの計測方向に関するグレーティングＲＧ２（すなわちレチクルステージＲＳＴのエアスライダ部２２_２）の位置情報を求める（計測する）。これらのエンコーダヘッド７７，７８，７９から第２エンコーダシステム７６（図１０参照）が構成され、その計測情報は主制御装置５０（図１０参照）に送られる。

主制御装置５０は、第１及び第２エンコーダシステム７１，７６（エンコーダヘッド７２〜７４，７７〜７９）の計測情報に基づいて、投影光学系ＰＬの中心（光軸）を基準とするレチクルステージＲＳＴの６自由度方向に関する位置情報を求める（算出する）。主制御装置５０は、その結果に基づいて、前述のレチクルステージ駆動系３４０を介して、レチクルステージＲＳＴを駆動（制御）する。なお、第１及び第２エンコーダシステム７１，７６を含んで、レチクルエンコーダシステム７０が構成されている（図１０参照）。

なお、レチクルエンコーダシステム７０と独立に、レチクルステージＲＳＴの位置情報を計測するレチクル干渉計システム（不図示）が設けられている。レチクル干渉計システム（不図示）は、レチクルエンコーダシステム７０の計測範囲外にレチクルステージＲＳＴが移動する際、あるいはレチクルエンコーダシステム７０のバックアップ用などとして補助的に使用される。

さらに、本実施形態では、図９（Ａ）に示されるようなレチクル搬送系１４０が設けられている。レチクル搬送系１４０は、レチクルＲの上面の複数箇所を吸着保持して上下動する上下動部材４４と、該上下動部材４４をＺ軸方向に駆動する駆動系４６とを有する。レチクル搬送系１４０は、図９（Ａ）に示されるように、シャッタ８８の上方にその位置が固定的に設定されていても良いが、本実施形態では、レチクル搬送系１４０は、それ自体が、搬送アームのように自在に移動可能である。前者の場合には、上下動部材４４に吸着させるためにレチクルを搬送する搬送部材が別に必要になる。レチクル搬送系１４０は、主制御装置５０に接続されている（図１０参照）。

図１０には、本実施形態の露光装置１００の制御系を中心的に構成する主制御装置５０の入出力関係が、ブロック図にて示されている。主制御装置５０は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）、ＲＯＭ（リード・オンリ・メモリ）、ＲＡＭ（ランダム・アクセス・メモリ）等から成るいわゆるマイクロコンピュータ（又はワークステーション）を含み、装置全体を統括して制御する。

次に、上述のようにして構成された露光装置１００による露光動作の流れについて簡単に説明する。

まず、主制御装置５０の管理の下、以下の手順でレチクルＲがレチクルステージＲＳＴ上へロードされる。レチクルのロードに際しては、図９（Ａ）に示されるように、レチクルステージＲＳＴは、レチクル交換位置で待機している。また、このとき、温度調整装置アッセンブリ２００は、レチクルの交換の際に邪魔にならない位置、例えば前述の通常使用位置に、温度調整装置駆動系２０６によって移動されている。また、このとき、温度調整装置駆動系２０６によって温度調整装置アッセンブリ２００は、温度調整装置８６_１，８６_２の温度調整面が、ＸＹ平面に平行になり、かつ所定のＺ位置に位置する基準状態に、Ｚ位置及びチルトがリセットされている。

そして、レチクルＲを保持したレチクル搬送系１４０が、図９（Ａ）中の白抜き矢印で示さるように＋Ｙ方向に移動してレチクルＲをレチクル交換位置の上方まで搬送すると、天板８０に設けられたシャッタ８８が開き、搬出入口８８ａが開放される。次いで、レチクル搬送系１４０の全体が所定量下方に移動した後、上下動部材４４が、駆動系４６によって下降駆動されることで、レチクルＲが上下動部材４４からレチクルステージＲＳＴ上へ渡される（図９（Ｂ）参照）。これと前後して、シャッタ８８が閉じ、第３のパージ空間１８３がほぼ気密状態となり、その内部のＣＤＡによるパージが開始される。

そして、クランパ９１，９２によりレチクルＲがレチクルステージ本体２２の板状部２２_０に固定され、前述のバキュームチャック９５，９６によるレチクルＲの吸着が開始される。これにより、レチクルＲのレチクルステージ上へのロードが終了する。

次に、主制御装置５０により、レチクルアライメント系（不図示）及びアライメント系ＡＬＧ（図１０参照）等を用いて、例えば米国特許第５，６４６，４１３号明細書などに開示される所定の手順に従ってレチクルアライメント、アライメント系ＡＬＧのベースライン計測等が行われる。これと前後して、不図示のウエハローダによってウエハステージＷＳＴ上へのウエハＷのロードが行われる。この後、主制御装置５０により、例えば米国特許第４，７８０，６１７号明細書などに開示されているＥＧＡ（エンハンスト・グローバル・アライメント）等のウエハアライメントが実行され、ウエハアライメントの終了後、通常のスキャナと同様のステップ・アンド・スキャン方式の露光動作が行なわれる。

主制御装置５０は、露光動作中、レチクルステージ定盤ＲＢＳが所定の状態を維持するように、定盤干渉計２４０の計測結果に基づいて上述したＸボイスコイルモータ６６Ｘ，Ｙボイスコイルモータ６６Ｙを制御するとともに、Ｚエンコーダ８１の計測結果に基づいてＺボイスコイルモータ６６Ｚを制御してレチクルステージ定盤ＲＢＳのＺ軸方向及びθｘ、θｙ方向に関する位置を調整することにより、間接的にレチクルＲのＺ軸方向及びθｘ、θｙ方向に関する位置を調整する。

また、露光動作にあたって、主制御装置５０の管理の下、ウエハステージＷＳＴとレチクルステージＲＳＴとがＹ軸方向に相対駆動されるが、その際には、主制御装置５０は、レチクルエンコーダシステム７０の計測結果に基づいて、レチクルステージ駆動系３４０を制御し、レチクルステージＲＳＴを駆動する。このとき、レチクルステージＲＳＴが、Ｙ軸方向に関して所定の範囲内で往復移動するが、この移動中も、パージ空間１８１〜１８３において、その気密状態が維持され、ＣＤＡパージが効果的に行われる。

さらに、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作では、レチクルＲ（レチクルステージＲＳＴ）が、走査方向（Ｙ軸方向）に往復移動し、この際に、温度調整装置８６_１，８６_２（設定された温度調整領域）に対して相対移動する。このとき、レチクルＲの温度調整が行われるが、この温度調整が効率良く行われるように、露光動作の開始に先立って、主制御装置５０により、次のようにして、温度調整装置８６_１，８６_２の温度調整面とレチクルＲの上面（パターン面と反対側の面）との間隔が、所望の状態、例えば一定になるように調整される。

すなわち、レチクルＲを前述のようにしてレチクルステージＲＳＴ上にロード後、主制御装置５０は、レチクルアライメントのため、レチクルステージＲＳＴを＋Ｙ方向に駆動する。このとき、温度調整装置アッセンブリ２００は、前述の通常使用位置でかつ前述の基準状態にＺ位置及びチルトがリセットされている。このため、レチクルステージＲＳＴを＋Ｙ方向の移動中に、主制御装置５０は、レチクルＲの上面の＋Ｙ側端部が、一対のギャップセンサ８７_１，８７_２に対向した第１の時点で、ギャップセンサ８７_１，８７_２の計測値を読み込み、そのときのレチクルエンコーダシステム７０の計測値に対応付けてメモリに記憶する。また、主制御装置５０は、第１の時点から所定時間経過した第２の時点で、ギャップセンサ８７_１，８７_２の計測値を読み込み、そのときのレチクルエンコーダシステム７０の計測値に対応付けてメモリに記憶する。

そして、主制御装置５０は、第１の時点、第２の時点で得られた情報に基づいて、所定の演算を行うことで、レチクルＲの上面のＸＹ平面に対する傾斜（θｘ、θｙ）及びＺ軸方向の位置を求め、この求めた結果に基づいて、温度調整装置駆動系２０６を介して温度調整装置アッセンブリ２００のＺ軸、θｘ、θｙの各方向の位置を調整することで、温度調整装置８６_１，８６_２の温度調整面とレチクルＲの上面との間隔（クリアランス）が所望の状態、例えば一定になるように調整する。これにより、走査露光時にも温度調整装置８６_１，８６_２の温度調整面とレチクルＲの上面とが、一定の離間距離（例えば２０〜５０μｍ）に維持されることとなる。

ここで、通常レチクル毎に厚み誤差（例えば１００μｍ）があるため、主制御装置５０は、少なくともレチクルを交換する毎に、上述のようにして温度調整装置８６_１，８６_２の位置と傾斜を調整することとしている。

また、本実施形態では、露光が終了したウエハを新しいウエハに交換する際に、レチクルステージＲＳＴの退避位置にて、温度調整装置８６_１を用いてレチクルＲを温度調整することもできる。退避位置は、例えば、レチクル交換位置（又はその近傍）に設定されているものとする。

露光が終了すると、主制御装置５０は、図１１に示されるように、レチクルステージＲＳＴを−Ｙ方向（黒塗り矢印の方向）に駆動して退避位置に位置決めすると同時に、温度調整装置駆動系２０６を介して温度調整装置アッセンブリ２００を−Ｙ方向に駆動して、温度調整装置８６_２を退避位置に位置決めされたレチクルＲ上に位置決めする。ウエハの交換が終了するまで（あるいはウエハアライメント等の露光前処理が終了するまで）、温度調整装置８６_２をレチクルＲに近接させてレチクルＲを温度調整する。

ここで、主制御装置５０は、前述した手法によりギャップセンサ８７_１、８７_２の計測値に基づいて、温度調整装置駆動系２０６を介して温度調整装置アッセンブリ２００をＺ軸方向に駆動して、温度調整装置８６_２をレチクルＲに所定距離まで近接させる。このように、一方の温度調整装置８６_２は、停止しているレチクルＲの温度調整にも用いるため、その温度調整面の大きさを、レチクルＲと同程度の大きさ（レチクルＲのパターン面の全面を含む大きさ）に設定している。すなわち、停止しているレチクルＲのパターン面の全域に対向可能な面積に設定している。ただし、停止しているレチクルＲの温度調整に用いない場合には、走査露光時におけるレチクルＲの往復移動を通して、レチクルＲのパターン面の全域が温度調整装置８６_１，８６_２に対向する面積（Ｙ軸方向の長さ）にすれば良い。

レチクルＲの温度調整が終了すると、主制御装置５０は、温度調整装置アッセンブリ２００を、前述の通常使用位置に戻す。

上述のように、本実施形態の露光装置１００では、ウエハ交換時のレチクル温度調整と、上述の露光時のレチクル温度調整とを併用することにより、より効率良くレチクルＲを温度調整することが可能となる。

以上説明したように、本実施形態の露光装置１００によると、主制御装置５０によりギャップセンサ８７_１，８７_２による計測情報（温度調整領域についてレチクルＲの温度調整装置に対向する側の面（パターン面と反対側の面）のＸＹ平面に直交する方向（Ｚ軸方向）及びＸＹ平面に対する傾斜方向（θｘ及びθｙ方向）の位置情報）に基づいて温度調整装置駆動系２０６が制御され、これによりレチクルＲを保持したレチクルステージＲＳＴの走査方向の移動中に、レチクルＲの温度調整装置８６_１，８６_２に対向する側の面と温度調整装置８６_１，８６_２とのクリアランスが調整される。従って、温度調整装置８６_１，８６_２との接触によるレチクルＲの損傷を事前に回避することができるとともに、走査露光中にも温度調整するので、ウエハ交換中などの限られた時間に温度調整を行う場合と異なり、急激な温度調整は不要である。従って、温度調整装置８６_１，８６_２により雰囲気の温度変化を招くことなくレチクルＲを十分に温度調整（例えば冷却）することができるで、その温度調整されたレチクルのパターンを精度良くウエハ上に転写することができる。

なお、上記実施形態では、ウエハ交換時に、温度調整装置８６_２を用いて退避位置に停止しているレチクルＲを温度調整することもできるとしたが、別の温度調整装置を退避位置に設置し、それを用いて停止しているレチクルＲを温度調整することとしても良い。係る場合、ウエハ交換時に用いられる温度調整装置のみ、レチクルＲのパターン面と同程度の面積の温度調整面を有することとし、露光時に用いられる温度調整装置８６_１，８６_２は、往復移動を通してレチクルＲのパターン面の全域が対向する面積（Ｙ軸方向の長さ）の温度調整面を有することとする。

なお、上記実施形態では、レチクルＲをＹ軸方向に移動させてＸ軸方向に離れて配置された一対のギャップセンサ８７_１，８７_２でレチクルＲの上面とのギャップを計測することで、レチクルＲの上面のＺ軸、θｘ、及びθｙ方向の位置情報を計測する場合について例示したが、これに限らず、例えばレチクルＲの上面の同一直線上にない少なくとも３点でレチクルＲの上面とのギャップを計測することで、レチクルＲの上面のＺ軸、θｘ、及びθｙ方向の位置情報を求めても良い。勿論、ギャップセンサによらず、他のセンサでレチクルＲの上面のＺ軸、θｘ、及びθｙ方向の位置情報を直接的に計測しても良い。あるいは、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴのＺ軸、θｘ、及びθｙ方向の位置情報を、エンコーダ又は干渉計等で計測することで、レチクルＲの上面のＺ軸、θｘ、及びθｙ方向の位置情報を間接的に求めても良い。

また、上記実施形態では、露光時に、開口８０ａ（照明光ＩＬの照射領域）の±Ｙ側にそれぞれ配置された２つの温度調整装置８６_１，８６_２（２つの温度調整領域）を用いて往復移動するレチクルＲを温度調整することとしたが、一方の温度調整装置８６_１又は８６_２のみを用いてレチクルＲを温度調整することとしても良い。すなわち照明光ＩＬの照射領域のＹ軸方向の一側にのみ温度調整領域を設定しても良い。

また、上記実施形態において、保持部材８７ａの一部、例えば前述した所定面積の開口が照明光ＩＬの照射領域よりＹ軸方向に長い場合に、その開口内に計測部材を配置しても良い。この場合の計測部材としては、例えば照明光学系の波面収差を計測する波面収差計測器などが代表的に挙げられる。勿論、そのような計測部材を、前述のブロック２０８の位置に配置しても良い。主制御装置５０が、温度調整装置駆動系２０６を介して保持部材８７ａをＹ軸方向に駆動することで、計測部材を照明光の照射領域に位置決めすることができる。

また、上記実施形態では、保持部材８７ａと一体的に２つの温度調整装置８６_１，８６_２が、Ｙ軸方向のみならず、Ｚ軸方向、θｘ方向及びθｙ方向に駆動されるものとしたが、これに限らず、Ｙ軸方向を含むＸＹ平面内でのみ移動可能な保持部材に、それぞれＺ軸方向、θｘ方向及びθｙ方向に移動可能な２つの温度調整装置を取り付けても良い。この場合、２つの温度調整装置を個別にＺ軸方向、θｘ方向及びθｙ方向に駆動することができる。

なお、上記実施形態において、ガイド部材８７ｃ、８７ｂに対向する気体静圧軸受２０２に代えて、例えば回転ローラ等を、エアスライダ部２２_１，２２_２の上面に対向してガイド部材８７ｃ、８７ｂに設けることとしても良い。温度調整装置８６_１，８６_２がレチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲに限界距離より接近すると、回転ローラがエアスライダ部２２_１，２２_２の上面に接触して、温度調整装置アッセンブリ２００がエアスライダ部２２_１，２２_２上に接触支持される。これにより、温度調整装置８６_１，８６_２とレチクルステージＲＳＴ上のレチクルＲとの間に限界距離より大きい離間距離が保たれ、温度調整装置８６_１，８６_２のレチクルＲへの接触が回避される。

また、上記実施形態では、パージ空間１８１〜１８３が、ともにＣＤＡでパージされる場合について説明したが、これに限らず、それぞれのパージ空間１８１〜１８３で用いるパージガスの種類を異ならせても良い。また、パージガスとしては、ＣＤＡのように水蒸気を含む割合が通常の空気に比べて小さいガスを用いても良いが、これに限らず、ヘイズ原因物質、例えば硫酸アンモニウム又は炭酸アンモニウム、炭化水素、カルボン酸、シアヌル酸、又は他の炭素を含有する分子などの分子状汚染物質を含まず、かつ照明光ＩＬを殆ど吸収しない、窒素やヘリウムなどの希ガスを、パージガスとして用いても良い。

なお、上述の実施形態では、露光装置が、液体（水）を介さずにウエハＷの露光を行うドライタイプの露光装置である場合について説明したが、これに限らず、例えば国際公開第９９／４９５０４号、欧州特許出願公開第１,４２０,２９８号明細書、国際公開第２００４／０５５８０３号、米国特許第６,９５２,２５３号明細書などに開示されているように、投影光学系とウエハとの間に照明光の光路を含む液浸空間を形成し、投影光学系及び液浸空間の液体を介して照明光でウエハを露光する露光装置であっても良い。また、例えば米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書などに開示される、液浸露光装置などにも、上記実施形態を適用することができる。

また、上記実施形態では、露光装置が、ステップ・アンド・スキャン方式等の走査型露光装置である場合について説明したが、これに限らず、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置、プロキシミティー方式の露光装置、又はミラープロジェクション・アライナーなどにも上記実施形態は適用することができる。さらに、例えば米国特許第６，５９０，６３４号明細書、米国特許第５，９６９，４４１号明細書、米国特許第６，２０８，４０７号明細書などに開示されているように、複数のウエハステージを備えたマルチステージ型の露光装置にも上記実施形態を適用できる。また、例えば国際公開第２００５／０７４０１４号などに開示されているように、ウエハステージとは別に、計測部材（例えば、基準マーク、及び／又はセンサなど）を含む計測ステージを備える露光装置にも上記実施形態は適用が可能である。

また、上記実施形態の露光装置における投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系は屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。

また、照明光ＩＬとしては、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に限らず、Ｆ₂レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの他の真空紫外光は勿論、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの遠紫外光、あるいは超高圧水銀ランプからの紫外域の輝線（波長４３６ｎｍのｇ線、波長３６５ｎｍのｉ線等）を用いることも可能である。また、真空紫外光としては、例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書などに開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外域に波長変換した高調波を用いても良い。

さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書などに開示されているように、２つのレチクルパターンを投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも上記実施形態を適用することができる。

なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものではなく、ガラスプレート、セラミック基板、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。

また、上記実施形態の露光装置は、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置（パターン形成装置）及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをウエハに転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハを現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ウエハ上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。

本発明の露光装置は、被露光物体上にパターンを転写するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、マイクロデバイスの製造に適している。

５０…主制御装置、７０…エンコーダシステム、８６_１，８６_２…温度調整装置、８７_１，８７_２…ギャップセンサ、１００…露光装置、２０２…気体静圧軸受、２０６…レチクル温度調整装置駆動系、Ｒ…レチクル、ＩＬ…照明光、Ｗ…ウエハ、ＲＳＴ…レチクルステージ。

Claims (23)

1. パターンが形成されたマスクを照明光で照明して前記マスクと物体とを同期して走査方向に移動し、前記パターンを前記物体上に転写する露光装置であって、
   前記マスクを保持して前記走査方向である所定平面内の一軸方向に移動する移動体と；
   前記一軸方向に関して前記照明光の照射領域の少なくとも一側に設定された温度調整領域に対応して配置され、前記温度調整領域において前記移動体に保持された前記マスクに対向して前記マスクを温度調整する温度調整装置と；
   前記温度調整領域について前記マスクの前記温度調整装置に対向する側の面の前記所定平面に直交する方向及び前記所定平面に対する傾斜方向の位置情報を計測する計測装置と；
   前記温度調整装置を前記所定平面に直交する方向及び前記所定平面に対する傾斜方向に駆動する駆動装置と；
   前記計測装置による計測情報に基づいて前記駆動装置を制御することにより、前記マスクの前記温度調整装置に対向する側の面と前記温度調整装置とのクリアランスを調整する制御装置とを備える露光装置。
2. 前記計測装置は、前記マスクの前記温度調整装置に対向する側の面の前記所定平面に直交する方向及び前記所定平面に対する傾斜方向の位置情報を、直接的に計測する請求項１に記載の露光装置。
3. 前記計測装置は、前記移動体の前記所定平面に直交する方向及び前記所定平面に対する傾斜方向の位置情報を計測することで、前記マスクの前記温度調整装置に対向する側の面の前記所定平面に直交する方向及び前記所定平面に対する傾斜方向の位置情報を間接的に計測する請求項１に記載の露光装置。
4. 前記温度調整領域は、前記パターンの転写のための前記移動体の移動時において、前記マスクと前記温度調整装置とが対向する時間の長さに基づいて設定される請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
5. 前記温度調整領域は、前記移動時に前記移動体の前記一軸方向の速度が零となる位置における前記マスクの少なくとも一部の領域を含む領域に設定される請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
6. 前記制御装置は、前記パターンの転写が終了した前記物体の交換中に待機位置で待機している前記マスクを、前記照射領域の一側に配置された前記温度調整装置を制御して温度調整する請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置。
7. 前記制御装置は、前記移動体上の前記マスクの交換中、前記温度調整装置を前記一軸方向に駆動して前記マスク交換の障碍とならない位置に退避させる請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
8. 前記温度調整領域は、前記一軸方向に関して前記照明光の照射領域の一側と他側に設定され、前記温度調整装置は、前記温度調整領域の設定に対応して前記照射領域の前記一側と他側に少なくとも各１つ配置される請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
9. 前記照射領域の一側に設定される前記温度調整領域は、前記パターンの転写が終了した前記物体の交換中に前記マスクが待機する待機位置をも含み、
   前記制御装置は、前記物体の交換中、前記待機位置にある前記マスクを前記照射領域の一側に配置された前記温度調整装置を制御して温度調整する請求項８に記載の露光装置。
10. 少なくとも前記照射領域の一側に配置された前記温度調整装置は、前記マスクの全面に一度に対向可能な大きさ及び形状の温度調整面を有する請求項９に記載の露光装置。
11. 前記照射領域の前記一側と他側に配置された少なくとも２つの温度調整装置は、前記一軸方向に関して移動する同一の保持部材に固定されており、
    前記駆動装置は、前記保持部材を前記所定平面に直交する方向及び前記所定平面に対する傾斜方向、並びに前記一軸方向に駆動する請求項８〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
12. 前記保持部材には、計測部材がさらに固定されており、
    前記制御装置は、前記保持部材を前記一軸方向に駆動して、前記計測部材を前記照明光の照射領域に位置決めする請求項１１に記載の露光装置。
13. 前記制御装置は、前記物体の交換中、前記保持部材を前記一軸方向に駆動して、前記照射領域の一側に配置された前記温度調整装置を、前記待機位置にある前記マスクに対向させる請求項１１に記載の露光装置。
14. 前記制御装置は、前記移動体上の前記マスクの交換が行われるマスク交換中、前記保持部材を前記一軸方向に駆動して前記マスク交換の障碍とならない位置に前記温度調整装置を退避させる請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置。
15. 前記温度調整装置は、温度調整面を多数に分割した分割区画領域毎に温度調整状態を変更可能であり、
    前記制御装置は、前記計測装置による計測情報に基づいて、前記多数の分割区画領域のそれぞれに対応する前記温度調整領域内の部分毎に前記温度調整状態を調整する請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置。
16. 前記温度調整装置は、温度調整面を多数に分割した分割区画領域毎に温度調整状態を変更可能であり、
    前記制御装置は、前記マスクの温度分布に対応して前記多数の分割区画領域のそれぞれに対応する前記温度調整領域内の部分毎に前記温度調整状態を調整する請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置。
17. 前記温度調整装置は、該温度調整装置の表面に沿って配列され、前記所定平面に直交する方向に駆動可能な複数のペルチェ素子を有し、
    前記制御装置は、前記複数のペルチェ素子のそれぞれと前記マスクの前記温度調整装置に対向する側の面とのクリアランスと、記複数のペルチェ素子の温度との少なくとも一方を制御することにより、前記マスクの温度調整率分布を調整する請求項１５又は１６に記載の露光装置。
18. 前記マスクと前記温度調整装置との接触を防止する接触防止装置をさらに備える請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置。
19. 前記接触防止装置は、前記マスクと前記温度調整装置とが所定の限界距離より接近することを阻止する接近阻止部材を含む請求項１８に記載の露光装置。
20. 前記接近阻止部材は、前記マスクと前記温度調整装置との間隔が所定の限界距離に達したとき、前記移動体に当接する回転ローラを含む請求項１９に記載の露光装置。
21. 前記接近阻止部材は、前記マスクと前記温度調整装置との間隔が所定の限界距離に達したとき、加圧気体の静圧により前記クリアランスを維持する気体静圧軸受を含む請求項１９に記載の露光装置。
22. 前記温度調整装置は、前記移動体に保持される前記マスク上の前記照明光の照射領域部分を含むパージガスで満たされたパージ空間を区画する区画部材の一部を兼ねる請求項１〜２１のいずれか一項に記載の露光装置。
23. 請求項１〜２２のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体上に前記パターンを転写することと；
    前記パターンが転写された前記物体を現像することと；を含むデバイス製造方法。

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