JP2006018239A - 液晶表示装置のパッド構造及び液晶表示装置のパッド製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アレイ基板上に複数形成された信号配線の一端に所定面積で形成されたパッド下部電極410と、パッド下部電極上部に形成された絶縁層420と、絶縁層420の所定領域がエッチングされてパッド下部電極410を露出させるコンタクトホール440と、コンタクトホール440上に形成されてパッド下部電極410と接触するパッド端子電極450が含まれて構成され、パッド下部電極410はアルミニウム合金層とモリブデン層との二重層構造であって、モリブデン層の厚さが少なくともその下部に形成されるアルミニウム合金層の厚さの1/4より大きく形成される。
【選択図】図4
Description
Claims (12)
- アレイ基板上に複数形成された信号配線の一端に所定面積で形成されたパッド下部電極と、
前記パッド下部電極の上部に形成された絶縁層と、
前記絶縁層の所定領域をエッチングして前記パッド下部電極を露出させることにより形成されたコンタクトホールと、
前記コンタクトホール上に形成されて前記パッド下部電極と接触するパッド端子電極と
が含まれて構成され、
前記パッド下部電極は、アルミニウム合金層とモリブデン層との二重層構造であって、前記モリブデン層の厚さが少なくとも前記モリブデン層の下部に形成される前記アルミニウム合金層の厚さの1/4より大きく形成されることを特徴とする液晶表示装置のパッド構造。 - 前記コンタクトホールは、前記コンタクトホールのスロープを減らすために、所定の反応ガスを添加した窒化シリコンをエッチングガスとして使用してエッチング形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置のパッド構造。
- 前記コンタクトホールは、前記コンタクトホールのスロープを減らすために、エッチング形成された後にアッシング工程を連続して進行させることにより形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置のパッド構造。
- 前記モリブデン層の厚さは、前記アルミニウム合金層厚さの1/2よりは小さく形成されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液晶表示装置のパッド構造。
- 前記アルミニウム合金層は、2000Åの厚さに形成されて、前記モリブデン層は、500Å〜1000Åの厚さに形成されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液晶表示装置のパッド構造。
- 前記パッドは、ゲートパッドまたはデータパッドであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液晶表示装置のパッド構造。
- 前記絶縁層は、ゲート絶縁膜及び保護層を含むことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液晶表示装置のパッド構造。
- 前記信号配線は、ゲート配線またはデータ配線であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の液晶表示装置のパッド構造。
- アレイ基板上に複数形成された信号配線の一端に所定面積でパッド下部電極を形成する段階と、
前記パッド下部電極の上部に絶縁層を形成する段階と、
前記絶縁層の所定領域をエッチングして前記パッド下部電極を露出させるようにコンタクトホールを形成する段階と、
前記露出したパッド下部電極と接触するように前記コンタクトホール上にパッド端子電極を形成する段階と
が含まれ、
前記パッド下部電極を形成する段階は、モリブデン層の厚さが少なくとも前記モリブデン層の下部に形成されるアルミニウム合金層の厚さの1/4より大きくなるようにして、前記アルミニウム合金層と前記モリブデン層との二重層構造からなるパッド下部電極を形成する
ことを特徴とする液晶表示装置のパッド製造方法。 - 前記コンタクトホールを形成する段階は、前記コンタクトホールのスロープを減らす所定の反応ガスを添加した窒化シリコンをエッチングガスとして使用して前記コンタクトホールをエッチング形成することを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置のパッド製造方法。
- 前記コンタクトホールを生成する段階は、エッチング形成した後にアッシング工程を連続して進行することにより前記コンタクトホールを形成することを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置のパッド製造方法。
- 前記パッド下部電極を形成する段階は、前記アルミニウム合金層を2000Åの厚さに形成し、前記モリブデン層を500Å〜1000Åの厚さに形成して前記パッド下部電極を形成することを特徴とする請求項9ないし11のいずれか1項に記載の液晶表示装置のパッド製造方法。
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