JP2005331966A - 温度およびせん断力に対して制御された粘度応答性を有するポリマーフィルム - Google Patents
温度およびせん断力に対して制御された粘度応答性を有するポリマーフィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005331966A JP2005331966A JP2005177806A JP2005177806A JP2005331966A JP 2005331966 A JP2005331966 A JP 2005331966A JP 2005177806 A JP2005177806 A JP 2005177806A JP 2005177806 A JP2005177806 A JP 2005177806A JP 2005331966 A JP2005331966 A JP 2005331966A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- film
- viscosity
- temperature
- linear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
- Y10T428/31692—Next to addition polymer from unsaturated monomers
- Y10T428/31699—Ester, halide or nitrile of addition polymer
Abstract
【解決手段】 本発明の方法は、(1)(a)ポリマー結合剤と、(b)エチレン性不飽和モノマーと、(c)光開始剤システムとを含む組成物を用意する工程、(2)その組成物からフィルムを形成する工程、(3)フィルムを基板にラミネートする工程、(4)フィルムをイメージ通りに化学線放射に露光させる工程、および(5)現像剤溶液で処理する工程を含む。前記フィルムは、第1のより低い温度およびせん断応力10,000Paで少なくとも3×106Pa−sの粘度を有し、さらに第2のより高い温度およびせん断応力50,000Paで1×104Pa−s以下の粘度を有するレオロジー特性を有する。
【選択図】 なし
Description
I.(i)ポリマーアームが、水素結合可能な官能基を有するモノマーを40〜80重量%含むコポリマーであり、
(ii)ポリマーアームの数平均分子量が2500を超え、
(iii)主鎖のアームに対する重量比が3未満である
または
II.(i)ポリマーアームが、水素結合可能な官能基を有するモノマーを70重量%を超えて含むコポリマーであり、
(ii)ポリマーアームの数平均分子量が2500未満であり、
(iii)主鎖のアームに対する重量比が4未満である。
A.主鎖と2つ以上のポリマーアームとを含むくし形ポリマーであって、(i)ポリマーアームが、水素結合可能な官能基を有するモノマーを20〜40重量%含むコポリマーであり、(ii)主鎖のアームに対する重量比が3未満であるポリマー、および
B.水素結合可能な官能基を有する線状ポリマー
を含む。
(ii)ポリマーアームの数平均分子量が2500を超え、
(iii)主鎖のアームに対する重量比が3未満である。
(ii)ポリマーアームの数平均分子量が2500未満であり、
(iii)主鎖のアームに対する重量比が4未満である。
本発明のポリマー組成物は、フォトレジスト、はんだマスク、防水(proofing)フィルム、印刷用プレートなどのような感光性組成物において特に有用である。フォトレジストおよびはんだマスクに有用な組成物は、本発明を例示するために、さらに記述される。感光性システムは、J.Kosarによる「Light−Sensitive Systems:Chemistry and Application of Nonsilver Halide Photographic Processes」、1965年、John Wiley&Sons,Inc.(非特許文献3)に、そしてより最近はJ.Sturge、V.Walworth、およびA.Sheppにより編集された「Imaging Processes and Materials−Neblette′s Eighth Edition」、1989年、Van Nostrand Reinhold(非特許文献4)に記載されている。このようなシステムでは、光活性な成分を含有する材料上に化学線放射を行い、材料内に化学的、または物理的変化を誘起する。それによって、有用なイメージ、または有用なイメージに加工できる潜像を生成させることができる。典型的には、イメージングに有用な化学線は、近紫外から可視スペクトル領域を経る範囲の光であるが、いくつかの例では赤外、遠紫外、X線、および電子ビーム放射を含むこともできる。
AA アクリル酸
BA アクリル酸ブチル
BP ベンゾフェノン
CBZT カルボキシベンゾトリアゾル
ClBZT クロロベンゾトリアゾル
DBC 2,3−ジブロモ−3−フェニルプロピオフェノン
6EO BPE DMA 6モルエトキシル化されたビスフェノールAジメタクリレート
EMK エチルミヒラーケトン
ETEGMA エチルトリエチレングリコールメタクリレート
ITX イソプロピルチオキサントン
LCV ロイコクリスタルバイオレット
MA アクリル酸メチル
MAA メタクリル酸
MEK メチルエチルケトン
MMA メタクリル酸メチル
Mn 数平均分子量
Mw 重量平均分子量
ODAB 2−エチルヘキシル−4−(ジメチルアミノ)−ベンゾエート
Pluronic(登録商標)31R プロピレンオキシドとエチレンオキシドの31/1ブロックコポリマー
PVP ポリビニルピロリドン、PVP K15、International Specialty Products(ニュージャージ州ウエイン)製、Mw=6000〜15,000
PVP/VA ビニルピロリドンと酢酸ビニル(60/40)のコポリマー、MW=50,000〜60,000
SCT ビス(ジフルオロボリル)ジフェニルグロキシマトコバルト(II)水和物
シリカ1 Aerosil(登録商標)200フュームドシリカ、Degussa(ニュージャージ州リッチフィールドパーク)製;イソプロパノール中の分散体として添加、固形分13.5%
シリカ2 シリカ30重量%でイソプロパノール中に分散させたNissanIPA−ST水和シリカゾル、Nissan Chemical America社(ニューヨーク州タリータウン)から入手
シリカ3 シリカ32.5重量%で水中に分散させたLudox(登録商標)水和シリカゾル、E.I.du Pont de Nemours and Company社(デラウエア州ウィルミントン)から入手
Sty スチレン
TAOBN 2,3−ジアザビシクロ「3,2,2」ノン−2−エン、1,4,4−トリメチル−N,N′ジオキシド
TCDM HABI 2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾールと2,4−ビス−(o−クロロフェニル)−5−[3,4−ジメトキシフェニル]イミダゾールとの酸化的カップリングから得られた混合ヘキサアリールビイミダゾール二量体、反応生成物は2,2′,5−トリス−(o−クロロフェニル)−4−(3,4−ジメトキシフェニル)−4′,5′−ジフェニル−ビイミダゾール
TMCH 4−メチル−4−トリクロロメチル−2,4−シクロヘキサジエノン
Vazo(登録商標)52 2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルペンタンニトリル)、E.I.du Pont de Nemours and Company社(デラウエア州ウィルミントン)
Vazo(登録商標)67 2,2′−アゾビス(2−メチルペンタンニトリル)、E.I.du Pont de Nemours and Company社(デラウエア州ウィルミントン)
VGD ビクトリアグリーン染料
0=直線的な、温度に対する粘度の対数曲線
+=非直線的な、温度に対する粘度の対数曲線
++=非常に非直線的な、温度に対する粘度の対数曲線
と定義した。
0=水平な、せん断応力に対する粘度の対数曲線
+=急勾配な、せん断応力に対する粘度の対数曲線
++=非常に急勾配な、せん断応力に対する粘度の対数曲線
と定義した。
頂部: +2=膨潤なし
−2=過酷に膨潤されている
中心部: +2=現像剤による侵食なし
−2=過酷な、現像剤による侵食
基部: +2=正または負のフットなし
−2=大きな正または負のフット
ただし、「フット(foot)」は、サイドウォールが凸状、または凹状のいずれかに拡張していることを示す。
くし形ポリマー1の調製は、一般的な手順の例示である。全ての他のくし形ポリマーは類似の手順を用い、成分および比率を変えて作製される。
マクロマーのMn 3400
主鎖組成物 45MA/30STY/25BA
主鎖/マクロマー 55/45
くし形ポリマーのMw 39,200
これらの実施例は、非感光性フィルムにおける、本発明組成物の非直線的な温度の応答を例示している。
これらの実施例は、感光性フィルムにおける、本発明の組成物の非直線的な粘度の応答を示している。
フォトスピード(ステップ値)
これらの実施例は、本発明において有用なくし形ポリマーへの異なる分子量のマクロマーおよび異なる主鎖組成の使用について例示している。
これらの実施例は、本発明において有用なくし形ポリマー中で、高レベルの水素結合性モノマーをマクロマー中に使用し、また異なる主鎖組成を使用した場合について例示している。
この実施例は、水素結合の可能な追加のモノマーを主鎖内に有することが、そのモノマーをポリマーアーム内に有することとは等しくないことを示す。
この実施例は、水素結合をする官能基を有する線状ポリマーを、直線状の粘度応答性を有するくし形ポリマーに添加して、非直線状の粘度応答性を有する組成物を形成する本発明の組成物を示す。
この実施例は、線状ポリマー結合剤、および親水性コロイドシリカとしてフュームドシリカを含む、本発明の感光性フィルム組成物を例示している。線状ポリマー結合剤は、組成MMA/MAA/BA/BMA(36/23/16/25)を有し、分子量65,800であった。比較のために、親水性コロイドシリカを含まない対照用フィルムが含まれる。
5=ウィーブ矩形7628個の50%中にエントラップされた空気がある場合
10=ウィーブ矩形7628個の0%中にエントラップされた空気がある場合
5=エントラップされた空気がウィーブ矩形7628個の50%を覆う場合
10=エントラップされた空気がウィーブ矩形7628個の0%を覆う場合
対照標準: 量=2 大きさ=2
この実施例は、線状ポリマー結合剤、および2つの異なった型の親水性コロイドシリカ(フュームドシリカ(シリカ1)および水和された親水性シリカ(シリカ2))を含む、本発明の感光性フィルム組成物を示している。線状ポリマー結合剤は、実施例18の組成を有する。比較のため、シリカを含まない対照用フィルムを含む。
この実施例は、水和されていない親水性コロイドシリカ(フュームドシリカ)が線状結合剤ポリマーに添加され、また水素結合をする官能基を有する第2の線状ポリマーでレオロジー特性がさらに改良される本発明のフィルムを示している。
下記の組成を有する感光性溶液を調製した。
この実施例は、水和されていない親水性コロイドシリカが、くし形結合剤ポリマーに添加されている本発明のフィルムを示している。
この例は、線状結合剤ポリマーと、水和された親水性コロイドシリカとを含む本発明の感光性フィルム組成物を示している。1つの組成物には、水素結合をする官能基を有する第2の線状ポリマーも添加されている。線状ポリマー結合剤は、実施例18の組成を有した。比較のため、シリカを含有しない対照用フィルムを含む。
Claims (8)
- パターン化されたフォトレジストを基板上に作製するための方法であって、前記方法が、
(1)(a)20,000を超える重量平均分子量を有するポリマー結合剤と、(b)エチレン性不飽和モノマーと、(c)光開始剤システムとを含む組成物を用意する工程、
(2)その組成物からフィルムを形成する工程であって、このフィルムは、予め決定された第1のより低い温度、およびせん断応力10,000Paでは、該フィルムが少なくとも3×106Pa−sの粘度を有し、さらに予め決定された第2のより高い温度、およびせん断応力50,000Paでは、該フィルムが1×104Pa−s以下の粘度を有するレオロジー特性を有する工程、
(3)フィルムを基板にラミネートする工程、
(4)フィルムをイメージ通りに化学線放射に露光させる工程、および
(5)現像剤溶液で処理する工程
を含むことを特徴とする方法。 - 基板が支持体上に銅の層を含み、該フィルムがこの銅の層にラミネートされることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 基板がプリント回路板を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 結合剤が、主鎖と2つ以上のポリマーアームとを含むくし形ポリマーを含み、下記の条件、
I.(i)ポリマーアームが、水素結合可能な官能基を有するモノマーを40〜80重量%含むコポリマーであり、
(ii)ポリマーアームの数平均分子量が2500を超え、
(iii)主鎖のアームに対する重量比が3未満である、
または
II.(i)ポリマーアームが、水素結合可能な官能基を有するモノマーを70重量%を超えて含むコポリマーであり、
(ii)ポリマーアームの数平均分子量が2500未満であり、
(iii)主鎖のアームに対する重量比が4未満である
のうちの1つを満たすことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 結合剤が、
A.主鎖と2つ以上のポリマーアームとを含むくし形ポリマーであり、(i)ポリマーアームが、水素結合可能な官能基を有するモノマーを20〜40重量%含むコポリマーであり、(ii)主鎖のアームに対する重量比が3未満であるくし形ポリマー、および
B.水素結合可能な官能基を有する第2の線状ポリマー
を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - フィルム組成物が、さらに、親水性コロイドシリカを含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 親水性コロイドシリカがフュームドシリカであることを特徴とする請求項6に記載の方法。
- フィルム組成物が、さらに、水素結合可能な官能基を有する第2の線状ポリマーを含むことを特徴とする請求項6に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US3545498A | 1998-03-05 | 1998-03-05 | |
US26083599A | 1999-03-02 | 1999-03-02 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000534586A Division JP2003525954A (ja) | 1998-03-05 | 1999-03-05 | 温度およびせん断力に対して制御された粘度応答性を有するポリマーフィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005331966A true JP2005331966A (ja) | 2005-12-02 |
Family
ID=26712138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005177806A Pending JP2005331966A (ja) | 1998-03-05 | 2005-06-17 | 温度およびせん断力に対して制御された粘度応答性を有するポリマーフィルム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6548602B2 (ja) |
JP (1) | JP2005331966A (ja) |
KR (1) | KR100397715B1 (ja) |
CN (1) | CN1124292C (ja) |
DE (1) | DE69939975D1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017026930A (ja) * | 2015-07-27 | 2017-02-02 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、および感光性樹脂印刷版原版 |
WO2020129381A1 (ja) * | 2018-12-19 | 2020-06-25 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物および電子部品 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101117939B1 (ko) | 2003-10-28 | 2012-02-29 | 사켐,인코포레이티드 | 세척액 및 에칭제 및 이의 사용 방법 |
EP1937736A1 (en) * | 2005-09-01 | 2008-07-02 | Instytut Wlokien Naturalnych | An intumescent fire retardant and the method of its manufacture |
JP6404557B2 (ja) * | 2013-10-04 | 2018-10-10 | 株式会社日本触媒 | 硬化性樹脂組成物 |
WO2018083027A1 (en) * | 2016-11-02 | 2018-05-11 | Evonik Oil Additives Gmbh | Lubricant composition with an improved viscosity characteristic at low operating temperature |
WO2018186295A1 (ja) | 2017-04-07 | 2018-10-11 | ハリマ化成株式会社 | 無機粒子分散体 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3879494A (en) * | 1971-02-22 | 1975-04-22 | Cpc International Inc | Polyblends of chemically joined, phase separated thermoplastic graft copolymers |
US4680352A (en) | 1985-03-01 | 1987-07-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Cobalt (II) chelates as chain transfer agents in free radical polymerizations |
US4694054A (en) | 1985-03-01 | 1987-09-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Cobalt(II) chelates as chain transfer agents in free radical polymerizations |
US4722984A (en) | 1985-12-03 | 1988-02-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Pentacyanocobaltate(II) catalytic chain transfer agents for molecular weight control in free radical polymerization |
FR2668159B1 (fr) * | 1990-10-19 | 1993-01-22 | Inst Francais Du Petrole | Compositions reticulables a base de polyethylene et les materiaux qui en derivent. |
US5231131A (en) | 1991-12-24 | 1993-07-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous graft copolymer pigment dispersants |
US5288589A (en) | 1992-12-03 | 1994-02-22 | Mckeever Mark R | Aqueous processable, multilayer, photoimageable permanent coatings for printed circuits |
EP0759946B1 (en) | 1994-05-19 | 2005-01-26 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Coatings comprising self-stabilized lattices prepared in an aqueous carrier |
JP3482701B2 (ja) | 1994-08-11 | 2004-01-06 | 日本油脂Basfコーティングス株式会社 | 水分散性のアクリル系グラフト共重合体、製造方法および水性塗料 |
DE19524053A1 (de) * | 1995-07-01 | 1997-01-02 | Roehm Gmbh | Verfahren zur Herstellung von verzweigten Polymerisaten |
-
1999
- 1999-03-05 KR KR10-2000-7009776A patent/KR100397715B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-03-05 DE DE69939975T patent/DE69939975D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-05 CN CN99803701A patent/CN1124292C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-06-26 US US09/891,642 patent/US6548602B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-06-17 JP JP2005177806A patent/JP2005331966A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017026930A (ja) * | 2015-07-27 | 2017-02-02 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、および感光性樹脂印刷版原版 |
WO2020129381A1 (ja) * | 2018-12-19 | 2020-06-25 | 太陽インキ製造株式会社 | 硬化性樹脂組成物、ドライフィルム、硬化物および電子部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6548602B2 (en) | 2003-04-15 |
DE69939975D1 (de) | 2009-01-08 |
KR100397715B1 (ko) | 2003-09-17 |
US20010051689A1 (en) | 2001-12-13 |
CN1124292C (zh) | 2003-10-15 |
KR20010041586A (ko) | 2001-05-25 |
CN1292804A (zh) | 2001-04-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4781434B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及び積層体 | |
KR101514900B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법 | |
JP2005331966A (ja) | 温度およびせん断力に対して制御された粘度応答性を有するポリマーフィルム | |
WO2009081925A1 (ja) | 感光性樹脂積層体 | |
WO2009116632A1 (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、レジストパターン形成方法、並びにプリント配線板、リードフレーム、半導体パッケージ及び凹凸基板の製造方法 | |
JP2009128419A (ja) | 感光性樹脂組成物および積層体 | |
JP5117233B2 (ja) | 感光性樹脂組成物および積層体 | |
EP1058697B1 (en) | Polymeric films having controlled viscosity response to temperature and shear | |
JPWO2010027061A1 (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、レジストパターン形成方法並びに導体パターン、プリント配線板、リードフレーム、基材及び半導体パッケージの製造方法 | |
JP2832409B2 (ja) | 光重合性樹脂材料及びこれを用いたプリント回路の作成方法 | |
JP2003525954A6 (ja) | 温度およびせん断力に対して制御された粘度応答性を有するポリマーフィルム | |
JP2003525954A (ja) | 温度およびせん断力に対して制御された粘度応答性を有するポリマーフィルム | |
WO1999015936A1 (en) | Photosensitive element comprising a protective film | |
JPH04153276A (ja) | ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物及びこれを用いた電着塗装浴 | |
EP1093020B1 (en) | Wound storage roll of composite photosensitive element | |
JP2009229657A (ja) | 感光性樹脂組成物および積層体 | |
WO1991006893A1 (en) | A release layer for an aqueous or semi-aqueous processible flexographic printing plate | |
JPH06230573A (ja) | レジスト組成物 | |
JP4609824B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2009053388A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2022127585A (ja) | 感光性ドライフィルム | |
JP2022041890A (ja) | 感光性樹脂積層体およびレジストパターンの形成方法 | |
JP2023046106A (ja) | 感光性樹脂積層体 | |
JP2023103988A (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びレジストパターンの形成方法 | |
JP2009229660A (ja) | 感光性樹脂組成物および積層体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060421 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060721 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060726 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061023 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061114 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070214 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080401 |