JPH06230573A - レジスト組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 解像度およびパターンのエッジ形状に優れ、
高アスペクト比を達成できるをとともに、現像性、基板
との密着性等も良好で、高密度実装に対応可能な優れた
特性バランスを有し、かつ環境等にも問題がない水ある
いは希アルカリ水により現像可能である新規レジスト組
成物を提供する。 【構成】 レジスト組成物は、（１）カルボキシル基含
有架橋粒子、（２）脂肪族アミノ基含有化合物および／
またはＮ，Ｎ−ジ置換（メタ）アクリルアミド、（３）
他の光重合性の単量体および／またはオリゴマー並びに
（４）光重合開始剤を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、水あるいは希アルカリ
水により現像可能な新規レジスト組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プリント配線板の製造には、パタ
ーンあるいは回路を形成するために種々の感光性樹脂組
成物およびこれを成膜した感光性樹脂膜が使用されてい
る。プリント配線板は、感光性樹脂組成物を各種基板上
に塗布あるいはラミネートし、必要に応じてプリベーク
を行ったのち、所望のパターン形状に露光し、未露光部
を現像液で除去し、エッチングまたはメッキを行ってパ
ターンを形成し、その後、エッチング用またはメッキ用
レジストでは硬化樹脂膜を剥離する工程を経て、またソ
ルダーレジストでは硬化樹脂膜をそのまま残してハンダ
付け工程を経て製造されるものである。プリント配線板
に使用される感光性樹脂組成物としては、環化ゴムおよ
びビスアジド化合物を含有する組成物、熱可塑性エラス
トマー、アクリル系モノマーおよび光重合開始剤を含有
する組成物、ポリエステルアクリレート、エポキシアク
リレート、ポリケイ皮酸ビニル、クロロメチル化ポリス
チレン、芳香族アジド基含有樹脂等の感光性樹脂を主体
とする組成物などが知られているが、これらの感光性樹
脂組成物はいずれも非水溶性であり、現像時に有機溶剤
を使用している。しかしながら、近年、作業時の安全
性、健康上の問題に加え、環境に及ぼす有機溶剤の影響
が問題となっている。このような問題を解決するものと
しては、ノボラック樹脂やポリ（ビニルフェノール）と
キノンジアジド化合物とからなる希アルカリ水現像性の
感光性樹脂組成物が知られているが、より安全で簡便な
水による現像が可能な水現像性感光性樹脂組成物が望ま
れており、既に、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カ
ゼイン等の水溶性樹脂と重クロム酸塩、ジアゾニウム
塩、ビスアジド化合物等とからなる組成物、水溶性樹
脂、水溶性アクリル系モノマーおよび光重合開始剤から
なる組成物など、水溶性樹脂をベースにした種々の水現
像性感光性樹脂組成物が提案されている。しかしなが
ら、従来の水あるいは希アルカリ水現像性感光性樹脂組
成物は、ベースとなる樹脂と水との親和性が高過ぎるた
め、現像時に膨潤して強度低下、寸法変化等を来し、そ
の結果、例えばレジストパターンの寸法精度の低下等を
招くなどの問題がある。このような水あるいは希アルカ
リ水現像性感光性樹脂組成物の問題点を解決するため、
本出願人は既に、（ｉ）脂肪族共役ジエン系単量体、
α，β−エチレン系不飽和カルボン酸および多官能性ビ
ニル化合物を主構成成分とする部分架橋共重合体に対し
て、(ii)光重合性不飽和単量体および(iii) 光重合開始
剤を配合した希アルカリ水現像性感光性樹脂組成物を提
案している（例えば特開昭６０−１７９４１１号公報、
特開昭６０−２１９２０８号公報、特開昭６１−９５３
４９号公報、特開昭６１−１８１８１１号公報、特開昭
６３−１６２７１２号公報を参照）。このような水ある
いは希アルカリ水現像性感光性樹脂組成物についても、
プリント配線板における実装密度の高密度化に対応し
て、高解像度でパターンのエッジ形状がシャープである
とともに、高実装密度を実現するため、最小加工サイズ
に対する現像後のレジストの膜厚の比（高アスペクト
比）を高くすることが必要とされているが、高アスペク
ト比を達成するためには現像後のパターンのエッジ形状
が重要であり、プリント配線板の製造工程において、薄
膜レジストの露光、現像を複数回繰り返して厚膜レジス
トにしたりする工夫がなされている。しかしながら、こ
のような方法では工程が煩雑となり、工業的には多くの
問題を抱えているまた解像度を改善するため、レジスト
組成物を構成するポリマーの分子量を低下させたり分子
量分布を狭くしたりする工夫もなされているが、この方
法は、高アスペクト比を達成するための厚膜のレジスト
膜の形成には不向きである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、解像
度およびパターンのエッジ形状に優れ、高アスペクト比
を達成できるとともに、現像性、基板との密着性等も良
好で、高密度実装に対応可能な優れた特性バランスを有
し、かつ環境等にも問題がない水あるいは希アルカリ水
により現像可能な新規レジスト組成物を提供することを
目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、（１）カルボ
キシル基含有架橋粒子１００重量部、（２）脂肪族アミ
ノ基含有化合物および／またはＮ，Ｎ−ジ置換（メタ）
アクリルアミド５〜１００重量部、（３）他の光重合性
の単量体および／またはオリゴマー５〜２００重量部並
びに（４）光重合開始剤を含有することを特徴とするレ
ジスト組成物、を要旨とする。

【０００５】以下、本発明を詳細に説明するが、これに
より、本発明の目的、構成および効果が明確になるであ
ろう。カルボキシル基含有架橋粒子 まず、本発明におけるカルボキシル基含有架橋粒子は、
カルボキシル基を有する架橋共重合体（以下、「カルボ
キシル基含有架橋共重合体」という。）からなる粒子で
ある。

【０００６】カルボキシル基含有架橋共重合体は、カル
ボキシル基含有エチレン系不飽和単量体成分および多官
能性エチレン系不飽和単量体成分を含有する単量体混合
物を共重合することにより製造することができる。

【０００７】前記カルボキシル基含有エチレン系不飽和
単量体としては、例えば（メタ）アクリル酸、クロトン
酸、ケイ皮酸等のα，β−エチレン系不飽和モノカルボ
ン酸類；イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコ
ン酸、メサコン酸等のα，β−エチレン系不飽和ポリカ
ルボン酸あるいはこれらの酸無水物類；前記α，β−エ
チレン系不飽和ポリカルボン酸類のモノメチルエステ
ル、モノエチルエステル、モノプロピルエステル等のカ
ルボキシル基含有エステル類；前記α，β−エチレン系
不飽和ポリカルボン酸類のモノニトリル誘導体等のカル
ボキシル基含有ニトリル化合物類；前記α，β−エチレ
ン系不飽和ポリカルボン酸類のモノアミド誘導体等のカ
ルボキシル基含有アミド化合物類のほか、前記α，β−
エチレン系不飽和ポリカルボン酸類のモノ（２−ヒドロ
キシエチルエステル）、モノ（２−ヒドロキシプロピル
エステル）等のカルボキシル基含有ヒドロキシアルキル
エステル類；前記カルボキシル基含有アミド化合物類の
Ｎ−ヒドロキシアルキル誘導体類等の水酸基含有化合物
類；コハク酸モノビニル、コハク酸モノアリル、アジピ
ン酸モノビニル、アジピン酸モノアリル、フタル酸モノ
ビニル、フタル酸モノアリル等の多価カルボン酸のカル
ボキシル基含有不飽和アルコールエステル等を挙げるこ
とができる。これらのカルボキシル基含有エチレン系不
飽和単量体のうち、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、
ケイ皮酸、イタコン酸が好ましい。 カルボキシル基含
有エチレン系不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を
混合して使用することができる。

【０００８】また、前記多官能性エチレン系不飽和単量
体としては、例えばエチレングリコール、プロピレング
リコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタン
ジオール、１，６−ヘキサンジオール等のアルキレング
リコールのジ（メタ）アクリレート類；

【０００９】ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール等のポリアルキレングリコール（アルキレン
グリコール単位数は例えば２〜２３）のジ（メタ）アク
リレート類；

【００１０】両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端
ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体、両末端ヒドロキシポリ
カプロラクトン等の両末端に水酸基を有する重合体のジ
（メタ）アクリレート類；

【００１１】グリセリン、１，２，４−ブタントリオー
ル、トリメチロールアルカン（アルカンの炭素数は例え
ば１〜３）、テトラメチロールアルカン（アルカンの炭
素数は例えば１〜３）、ペンタエリスリトール等の３価
以上の多価アルコールのジ（メタ）アクリレート、トリ
（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート等
のオリゴ（メタ）アクリレート類；

【００１２】３価以上の多価アルコールのポリアルキレ
ングリコール付加物のオリゴ（メタ）アクリレート類；

【００１３】１，４−シクロヘキサンジオール、１，４
−ベンゼンジオール等の環式多価アルコールのオリゴ
（メタ）アクリレート類；

【００１４】ポリエステル（メタ）アクリレート、エポ
キシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレ
ート、、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコー
ン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）ア
クリレート等のオリゴ（メタ）アクリレートプレポリマ
ー類；

【００１５】Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリル
アミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（メタ）アクリルア
ミド等のビス（メタ）アクリルアミド類；

【００１６】ジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベン
ゼン、トリビニルベンゼン等のポリビニル芳香族化合
物；

【００１７】ジビニルフタレート、ジアリルフタレート
等の多価カルボン酸の不飽和アルコールエステル類；

【００１８】ジビニルエーテル、ジアリルエーテル等の
多官能性不飽和エーテル類等を挙げることができる。

【００１９】これらの多官能性エチレン系不飽和単量体
のうち、アルキレングリコールジ（メタ）アクリレート
類、ポリビニル芳香族化合物が好ましく、特にエチレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン
が好ましい。多官能性エチレン系不飽和単量体は、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。

【００２０】また、カルボキシル基含有架橋共重合体
は、さらに脂肪族共役ジエン成分および／または他の共
重合可能な単官能性単量体成分を含有することが好まし
い。

【００２１】前記脂肪族共役ジエンとしては、例えばブ
タジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、１，３
−ヘキサジエン、２，３−ジメチルブタジエン、４，５
−ジエチル−１，３−オクタジエン、３−ブチル−１，
３−オクタジエン、クロロプレン、２，３−ジクロロブ
タジエン、１，３−シクロペンタジエン等を挙げること
ができる。これらの脂肪族共役ジエンは、単独でまたは
２種以上を混合して使用することができる。

【００２２】さらに、前記他の共重合可能な単官能性単
量体としては、特に限定されるものではないが、例えば
スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、
ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔ−ブ
チルスチレン、ｐ−ブトキシスチレン、ｐ−アセトキシ
スチレン、ｏ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、
ｐ−クロロスチレン、１，１−ジフェニルエチレン、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−アミノスチレン、Ｎ，Ｎ−ジエ
チル−ｐ−アミノスチレン、ビニルピリジン、ビニルピ
ペリジン、ビニルピロリドン、（メタ）アクリロニトリ
ル、α−クロロアクリロニトリル、α−クロロメチルア
クリロニトリル、α−メトキシアクリロニトリル、α−
エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニトリル、ケイ
皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マレイン酸ジニ
トリル、フマル酸ジニトリル、（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−
ビス（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミ
ド、クロトン酸アミド、ケイ皮酸アミド、メチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−
プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）
アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソ
ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）
アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−
アミル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）ア
クリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、２−
エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メ
タ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ス
テアリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メ
タ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、クロトン酸メチル、クロトン酸エチル、クロトン酸
プロピル、クロトン酸ブチル、ケイ皮酸メチル、ケイ皮
酸エチル、ケイ皮酸プロピル、ケイ皮酸ブチル、イタコ
ン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、マレイン酸ジメチ
ル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸
ジエチル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、
酢酸アリル等のほか；Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）ア
クリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチ
ル）（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、クロトン酸２−ヒドロキシエチル、
クロトン酸２−ヒドロキシプロピル、ケイ皮酸２−ヒド
ロキシエチル、ケイ皮酸２−ヒドロキシプロピル、クロ
トン酸Ｎ−ヒドロキシメチルアミド、クロトン酸Ｎ−
（２−ヒドロキシエチル）アミド、ケイ皮酸Ｎ−ヒドロ
キシメチルアミド、ケイ皮酸Ｎ−（２−ヒドロキシエチ
ル）アミド、アリルアルコール、ｏ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、プ
ロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等の水酸
基含有単量体；ビニルアミン、アリルアミン、ｏ−アミ
ノスチレン、ｍ−アミノスチレン、ｐ−アミノスチレ
ン、２−アミノエチル（メタ）アクリレート、２−アミ
ノプロピル（メタ）アクリレート等のアミノ基含有単量
体；グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジ
ルエーテル等のエポキシ基含有単量体、アクロレイン、
ビニルメチルケトン等のカルボニル基含有単量体等を挙
げることができる。これらの単官能性単量体は、単独で
または２種以上を混合して使用することができる。

【００２３】特に好ましいカルボキシル基含有架橋共重
合体は、脂肪族共役ジエン成分、カルボキシル基含
有エチレン系不飽和単量体成分、多官能性エチレン系
不飽和単量体成分および他の共重合可能な単官能性単
量体成分からなる共重合体である。この場合、各成分の
含有率は、脂肪族共役ジエン成分が、共重合体のゴム
弾性とパターン形状の保持性とのバランスの面から、３
０〜９０モル％であることが好ましく、さらに好ましく
は４５〜７０モル％であり、カルボキシル基含有エチ
レン系不飽和単量体成分が、水あるいは希アルカリ水へ
の溶解性と耐薬品性とのバランスの面から、３〜４０モ
ル％であることが好ましく、さらに好ましくは５〜３０
モル％、特に好ましくは７〜２５モル％であり、多官
能性エチレン系不飽和単量体成分が、透明性と水あるい
は希アルカリ水への溶解性および強度とのバランスの面
から、０．３〜１０モル％であることが好ましく、さら
に好ましくは０．５〜７モル％であり、また他の共重
合可能な単官能性単量体成分が、透明性と弾性とのバラ
ンスの面から、５〜６０モル％であることが好ましく、
さらに好ましくは１０〜５０モル％である。

【００２４】本発明におけるカルボキシル基含有架橋粒
子は、前記単量体混合物を、ラジカル重合触媒を用いる
乳化重合、懸濁重合、沈澱重合等により製造することが
できるが、特に好ましい重合方法は、乳化重合である。

【００２５】本発明においては、カルボキシル基含有架
橋粒子のカルボキシル基が粒子表面に多く分布させるこ
とが好ましく、そのため、例えば乳化重合において、
カルボキシル基含有エチレン系不飽和単量体を、重合中
インクレメントに添加することが好ましい。このように
カルボキシル基が粒子表面に多く分布するカルボキシル
基含有架橋粒子は、いわゆるコア／シェル構造あるいは
傾斜構造を有するものとなり、それにより、厚膜形成用
レジスト組成物として特に好適となる。また、前記コア
／シェル構造あるいは傾斜構造を有するカルボキシル基
含有架橋粒子では、共重合体のガラス転移点が、粒子の
中心部ほど低く表面ほど高いある分布を示すようになる
が、その分布幅は、２０℃以上であることが好ましい。
このようなカルボキシル基含有エチレン系不飽和単量体
をインクレメントに添加する乳化重合は、例えば特開昭
６３−１６２７１２号公報に詳述されている。

【００２６】前記ラジカル重合触媒としては、例えばベ
ンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、クメ
ンハイドロペルオキシド、パラメンタンハイドロペルオ
キシド、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド等の有機過酸化
物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロ
ニトリル、アゾビスイソカプロニトリル等のアゾ化合
物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素
等の無機過酸化物、前記有機過酸化物あるいは無機過酸
化物と有機アミン、硫酸第一鉄、亜硫酸ナトリウム、チ
オ硫酸ナトリウム、ナトリウムホルムアルデヒドスルホ
キシレート、Ｌ−アスコルビン酸、スルフィン酸等の還
元剤とからなるレドックス系触媒等を挙げることができ
る。

【００２７】また前記乳化重合において使用される乳化
剤としては、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活
性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤等を使用
することができるが、特にアニオン系界面活性剤および
ノニオン系界面活性剤が好ましい。これらの界面活性剤
は、フッ素系界面活性剤であることもできる。また、乳
化重合においては、反応系の粘度、粒子径等を調節する
ため、懸濁安定剤あるいは増粘剤を乳化剤とともに使用
することもできる。

【００２８】重合反応は、通常、０〜６０℃で、酸素を
除去した雰囲気（例えば窒素）中で行われるが、反応途
中で温度、攪拌速度等の操作条件を適宜に変更すること
もできる。重合反応は、連続式、回分式のいずれでも実
施可能である。重合反応の転化率は、通常、８５％以
上、好ましくは９０％以上である。重合反応の転化率が
８５％未満では、組成物の水現像性が低下する傾向を示
す。

【００２９】カルボキシル基含有架橋粒子の粒径は均一
であることが好ましく、それにより、パターンエッジを
シャープとすることができる。

【００３０】カルボキシル基含有架橋共重合体が脂肪
族共役ジエン成分を含有する場合、該脂肪族共役ジエン
からなる繰返し単位の１部を水素添加することもでき
る。

【００３１】本発明においては、カルボキシル基含有架
橋粒子は、単独でまたは２種以上を混合して使用するこ
とができる。

【００３２】脂肪族アミノ基含有化合物および／または
Ｎ，Ｎ−ジ置換（メタ）アクリルアミド 次に、本発明における脂肪族アミノ基含有化合物および
／またはＮ，Ｎ−ジ置換（メタ）アクリルアミド（以
下、これらをまとめて「窒素原子含有化合物類」とい
う。）のうち、脂肪族アミノ基含有化合物は脂肪族アミ
ノ基、即ちその窒素原子が芳香族基に直接結合していな
いアミノ基を有する化合物であり、アンモニアのほか、
第一級〜第三級の脂肪族アミノ基を１つ以上有する有機
化合物からなり、またＮ，Ｎ−ジ置換（メタ）アクリル
アミドは、そのアミド基の２つの水素原子がともに置換
された化合物である。

【００３３】前記第一級〜第三級の脂肪族アミノ基を１
つ以上有する有機化合物としては、例えばメチルアミ
ン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン等の
第一級アミン；

【００３４】ジメチルアミン、メチルエチルアミン、ジ
エチルアミン、メチルプロピルアミン、エチルプロピル
アミン、ジプロピルアミン、メチルブチルアミン、エチ
ルブチルアミン、プロピルブチルアミン、ジブチルアミ
ン等の第二級アミン；並びに

【００３５】トリメチルアミン、メチルジエチルアミ
ン、ジメチルエチルアミン、トリエチルアミン、ジメチ
ルプロピルアミン、メチルエチルプロピルアミン、ジエ
チルプロピルアミン、メチルジプロピルアミン、エチル
ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ジメチルブチ
ルアミン、メチルジブチルアミン、メチルエチルブチル
アミン、ジエチルブチルアミン、エチルジブチルアミ
ン、メチルプロピルブチルアミン、エチルプロピルブチ
ルアミン、ジプロピルブチルアミン、プロピルジブチル
アミン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミン類、
ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミ
ン、ジエチルエタノールアミン、エチルジエタノールア
ミン等のアルキルアルカノール第三級アミン類、トリエ
タノールアミン、ジエタノールプロパノールアミン、エ
タノールジプロパノールアミン、トリプロパノールアミ
ン等のトリアルカノールアミン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノエトキシエタノール、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエト
キシエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエトキシプロ
パノール、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエトキシプロパノー
ル等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノアルコキシアルカノー
ル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレ
ート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレ
ート、ジプロピルアミノエチル（メタ）アクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレ
ート、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノプロピル（メタ）アク
リレート等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メ
タ）アクリレート類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエトキシ
エチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ
エトキシエチル（メタ）アクリレート等のＮ，Ｎ−ジア
ルキルアミノアルコキシアルキル（メタ）アクリレート
類、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル）（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジエチルアミ
ノエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’
−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、
Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジエチルアミノプロピル）（メタ）
アクリルアミド等の第三級アミノ基含有（メタ）アクリ
ルアミド類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル−Ｎ’−
（メタ）アクリロイルカーバメート、Ｎ，Ｎ−ジエチル
アミノエチル−Ｎ’−（メタ）アクリロイルカーバメー
ト等の第三級アミノ基含有カーバメート類等の第三級ア
ミンを挙げることができる。これらの脂肪族アミノ基含
有化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用する
ことができる。

【００３６】前記脂肪族アミノ基含有化合物のうち、水
あるいは希アルカリ水現像性が良好な第三級アミンが好
ましく、特に光硬化後の組成物の強度の観点から、第三
級アミノ基含有（メタ）アクリレート類、第三級アミノ
基含有（メタ）アクリルアミド類等のエチレン系不飽和
基を有する化合物が好ましい。

【００３７】また、本発明におけるＮ，Ｎ−ジ置換（メ
タ）アクリルアミドとしては、例えばＮ，Ｎ−ジメチル
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）ア
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピル（メタ）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，
Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシプロピル）（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（３−ヒドロキシプ
ロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス（３−
ヒドロキシブチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−
ビス（４−ヒドロキシブチル）（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジフェニル（メタ）アクリルアミド等を挙
げることができる。これらのＮ，Ｎ−ジ置換（メタ）ア
クリルアミドは、単独でまたは２種以上を混合して使用
することができる。

【００３８】窒素原子含有化合物類は、レジスト組成物
の水溶性あるいは希アルカリ水可溶性を高め、そのレジ
スト組成物中の含有量を調節することにより現像後の残
膜率を制御できる成分であり、それらの含有量は、カル
ボキシル基含有架橋粒子１００重量部当たり、５〜１０
０重量部であり、好ましくは１５〜７５重量部、さらに
好ましくは２０〜６０重量部である。窒素原子含有化合
物類の含有量が５重量部未満では、残膜率が高くなり過
ぎ、また１００重量部を超えると、水溶性あるいは希ア
ルカリ水可溶性が高過ぎて、パターン形成が困難となる
傾向がある。

【００３９】他の光重合性の単量体およびオリゴマー 次に、本発明における他の光重合性の単量体およびオリ
ゴマー（以下、これらをまとめて「光重合性単量体類」
という。）は、後述する光重合開始剤の存在下で光照射
することにより重合しうる不飽和基を１つ以上有する、
窒素原子含有化合物類以外の化合物である。

【００４０】光重合性単量体類としては、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メ
チルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルス
チレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ｔ−ブトキシスチ
レン、ｐ−アセトキシスチレン、ｏ−クロロスチレン、
ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、１，１−ジ
フェニルエチレン、ジビニルベンゼン、ジイソプロペニ
ルベンゼン等の芳香族ビニル系化合物；

【００４１】（メタ）アクリロニトリル、α−クロロア
クリロニトリル、α−クロロメチルアクリロニトリル、
α−メトキシアクリロニトリル、α−エトキシアクリロ
ニトリル、クロトン酸ニトリル、ケイ皮酸ニトリル、イ
タコン酸ジニトリル、マレイン酸ジニトリル、フマル酸
ジニトリル等の不飽和ニトリル類；

【００４２】メチル（メタ）アクリレート、エチル（メ
タ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレー
ト、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル
（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレー
ト、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル
（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレ
ート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチ
ル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）
アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、ラウ
リル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリ
レート等のアルキル（メタ）アクリレート類、グリシジ
ル（メタ）アクリレート、クロトン酸メチル、クロトン
酸エチル、クロトン酸プロピル、クロトン酸ブチル、ケ
イ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸プロピル、ケ
イ皮酸ブチル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチ
ル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル
酸ジメチル、フマル酸ジエチル等の不飽和カルボン酸エ
ステル類；

【００４３】トリフルオロエチル（メタ）アクリレー
ト、ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘ
プタフルオロブチル（メタ）アクリレート等のフルオロ
アルキル（メタ）アクリレート類；

【００４４】２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロ
キシアルキル（メタ）アクリレート類；

【００４５】ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール等のポリアルキレングリコール（アルキレン
グリコール単位数は例えば２〜２３）のモノ（メタ）ア
クリレート類；

【００４６】２−メトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メ
トキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エトキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、３−メトキシプロピル
（メタ）アクリレート、３−エトキシプロピル（メタ）
アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレ
ート類；

【００４７】シアノエチル（メタ）アクリレート、シア
ノプロピル（メタ）アクリレート等のシアノアルキル
（メタ）アクリレート類；

【００４８】２−フェノキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、３
−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等のアリー
ロキシアルキル（メタ）アクリレート類；

【００４９】メトキシポリエチレングリコール、エトキ
シポリエチレングリコール、メトキシポリプロピレング
リコール、エトキシポリプロピレングリコール等のアル
コキシポリアルキレングリコールのモノ（メタ）アクリ
レート類；

【００５０】フェノキシポリエチレングリコール、フェ
ノキシポリプロピレングリコール等のアリーロキシポリ
アルキレングリコールのモノ（メタ）アクリレート類；

【００５１】エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオー
ル、１，６−ヘキサンジオール等のアルキレングリコー
ルのジ（メタ）アクリレート類；

【００５２】ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール等のポリアルキレングリコール（アルキレン
グリコール単位数は例えば２〜２３）のジ（メタ）アク
リレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端
ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体、両末端ヒドロキシポリ
カプロラクトン等の両末端に水酸基を有する重合体のジ
（メタ）アクリレート類；

【００５３】グリセリン、１，２，４−ブタントリオー
ル、トリメチロールアルカン（アルカンの炭素数＝１〜
３）、テトラメチロールアルカン（アルカンの炭素数＝
１〜３）、ペンタエリスリトール等の３価以上の多価ア
ルコールのジ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アク
リレート、テトラ（メタ）アクリレート等のオリゴ（メ
タ）アクリレート類；

【００５４】３価以上の多価アルコールのポリアルキレ
ングリコール付加物のトリ（メタ）アクリレート、テト
ラ（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレー
ト類；

【００５５】１，４−シクロヘキサンジオール、１，４
−ベンゼンジオール、１，４−ジヒドロキシエチルベン
ゼン等の環式多価アルコールのオリゴ（メタ）アクリレ
ート類；

【００５６】オリゴエステルモノ（メタ）アクリレー
ト、オリゴエステルジ（メタ）アクリレート、エポキシ
モノ（メタ）アクリレート、エポキシジ（メタ）アクリ
レート、オリゴウレタンモノ（メタ）アクリレート、オ
リゴウレタンジ（メタ）アクリレート、アルキド樹脂モ
ノ（メタ）アクリレート、アルキド樹脂ジ（メタ）アク
リレート、シリコーン樹脂モノ（メタ）アクリレート、
シリコーン樹脂ジ（メタ）アクリレート、スピラン樹脂
モノ（メタ）アクリレート、スピラン樹脂ジ（メタ）ア
クリレート等のオリゴ（メタ）アクリレートプレポリマ
ー類；

【００５７】（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮
酸、イタコン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マ
レイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸等の不
飽和カルボン酸類；

【００５８】イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シト
ラコン酸、メサコン酸等の不飽和多価カルボン酸のモノ
メチルエステル、モノエチルエステル、モノプロピルエ
ステル、モノブチルエステル、モノヘキシルエステル、
モノオクチルエステル等のカルボキシル基含有エステル
類；

【００５９】イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シト
ラコン酸、メサコン酸等の不飽和多価カルボン酸のジメ
チルエステル、ジエチルエステル、ジプロピルエステ
ル、ジブチルエステル、ジヘキシルエステル、ジオクチ
ルエステル等の多価エステル類；

【００６０】（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’
−メチレンビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ヘ
キサメチレンビス（メタ）アクリルアミド等の（メタ）
アクリルアミド類；

【００６１】塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン
化ビニル系化合物；酢酸ビニル、酢酸アリル、ジビニル
フタレート、ジアリルフタレート等の不飽和アルコール
エステル類；シクロペンテン、ジシクロペンタジエン、
エチリデンノルボルネン、ノルボルナジエン等のシクロ
オレフィン類；ヘキサ（メタ）アリロキシホスファゼ
ン、トリス（メタ）アクリロキシエチルイソシアヌレー
ト、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡジ（メタ）
アクリレート等を挙げることができる。

【００６２】前記光重合性単量体類は、単独でまたは２
種以上を混合して使用することができる。本発明におい
ては、光重合性単量体類の含有量を適切に選定すること
により、光硬化後の組成物の硬度、機械的強度、耐薬品
性等のバランスを適切に保つことができる。さらに、こ
れらの性能を向上させるために、前記光重合性単量体類
のうち、重合性不飽和基を２つ以上有する化合物を用い
ることが好ましい。光重合性単量体類のレジスト組成物
中における含有量は、カルボキシル基含有架橋粒子１０
０重量部当たり、５〜２００重量部であり、好ましくは
１０〜１００重量部である。本発明のレジスト組成物の
流動性は、光重合性単量体類の含有量に応じて、ワック
ス状ないしゴム状から低粘度液体状までを自由にとるこ
とができる。

【００６３】光重合開始剤 次に、本発明における光重合開始剤は、光照射により、
光重合性単量体類の重合反応を、また本発明の好ましい
態様においては、窒素原子含有化合物類のうちのエチレ
ン系不飽和基を有する化合物の重合反応も、開始ないし
増感する成分である。

【００６４】光重合開始剤としては、例えばジアセチ
ル、メチルベンゾイルホルメート、ベンジル等のα−ジ
ケトン化合物、ベンゾイン、ピバロイン等のアシロイン
類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイ
ソブチルエーテル等のアシロインエーテル類；アントラ
キノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルア
ントラキノン、１，４−ナフトキノン等の多核キノン
類；アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピ
ルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−
１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２，２−ジメトキシフェニルアセトフェノン、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、トリクロロアセトフェ
ノン等のアセトフェノン類；２−ベンゾイル−２−ジメ
チルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノ
ン−１、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチ
ルチオフェニル）−プロパノン−１等のαーアミノアセ
トフェノン類；ベンジルジメチルケタール、ベンジルジ
エチルケタール等のケタール類；ベンゾフェノン、メチ
ル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、ミヒラーズケトン等
のベンゾフェノン類；２，４，６−トリメチルベンゾイ
ルジフェニルフォスフィンオキシド等のアシルフォスフ
ィンオキシド類；キサントン、チオキサントン、２，４
−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサ
ントン、２−クロロチオキサントン、１−クロロ−４−
プロポキシチオキサントン等のキサントン類等を挙げる
ことができる。

【００６５】光重合開始剤のレジスト組成物中における
含有量は、レジスト組成物中の窒素原子含有化合物類の
うちのエチレン系不飽和基を有する化合物と光重合性単
量体類との合計１００重量部当たり、通常、０．５〜２
０重量部、好ましくは１〜１０重量部、さらに好ましく
は２〜８重量部である。光重合開始剤の含有量が０．５
重量部未満では、レジスト組成物の光硬化が不十分とな
るおそれがあり、また多過ぎても、配合された光重合開
始剤の全てが光硬化に関与するわけではないので不経済
であるばかりか、ときには脂肪族アミノ基含有化合物類
や光重合性単量体類との相溶性が悪いため均一に分散で
きない場合があり、好ましくない。

【００６６】さらに、本発明のレジスト組成物には、必
要に応じて、各種添加剤を配合することができる。前記
添加剤の例としては、保存安定剤として作用する熱付加
重合禁止剤が挙げられる。前記熱付加重合禁止剤として
は、例えばヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエー
テル、モノ−ｔ−ブチルヒドロキノン、カテコール、ｐ
−ｔ−ブチルカテコール、ｐ−メトキシフェノール、ｐ
−ｔ−ブチルカテコール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ
−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｍ−クレゾー
ル、ピロガロール、β−ナフトール等のヒドロキシ芳香
族化合物；ベンゾキノン、２，５−ジフェニル−ｐ−ベ
ンゾキノン、ｐ−トルキノン、ｐ−キシロキノン等のキ
ノン類；ニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、２−
メチル−２−ニトロソプロパン、α−フェニル−ｔ−ブ
チルニトロン、５，５−ジメチル−１−ピロリン−１−
オキシド等のニトロ化合物またはニトロン化合物；クロ
ラニル−アミン系、ジフェニルアミン、ジフェニルピク
リルヒドラジン、フェノール−α−ナフチルアミン、ピ
リジン、フェノチアジン等のアミン類；ジチオベンゾイ
ルスルフィド、ジベンジルテトラスルフィド等のスルフ
ィド類；１，１−ジフェニルエチレン、α−メチルチオ
アクリロニトリル等の不飽和化合物；チオニンブルー、
トルイジンブルー、メチレンブルー等のチアジン染料；
１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジル、１，
３，５−トリフェニルフェルダジル、４−ヒドロキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシ
ル、２，６−ジ−ｔ−ブチル−α−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル）−４−オキソ−２，５−シクロヘキサジエン−
１−イリデン−ｐ−トリオキシル等の安定ラジカル等を
挙げることができる。

【００６７】これらの熱付加重合禁止剤の配合量は、レ
ジスト組成物１００重量部に対して、通常、０．０１〜
２重量部程度である。

【００６８】本発明のレジスト組成物の性状は、流動性
のないワックス状ないしゴム状から、流動性が良好な低
粘度液状までを自由に調節することができ、その流動性
の程度は、組成物の使用目的に応じて適宜選定される。
特に低粘度の組成物が好ましい場合は、溶媒を適量添加
することもできる。

【００６９】また、レジスト組成物の流動特性を調節す
るため、アエロジェル、粘土、シリカゲル、硫酸バリウ
ム等の充填材を添加してもよい。

【００７０】さらに、本発明のレジスト組成物には、酸
化防止剤、染顔料、補強材、可塑剤、ハレーション防止
剤、接着助剤等を添加することもできる。

【００７１】本発明のレジスト組成物は、カルボキシル
基含有架橋粒子、窒素原子含有化合物類、光重合性単量
体類並びに光重合開始剤を、必要により配合される前記
各種添加剤とともに、通常、室温以上で、例えばペイン
トロール、三本ロール、スタティックミキサー、ホモミ
キサーや、ニーダー、インターミキサー等を用いて十分
混合することにより得ることができる。但し、レジスト
組成物を高温に長時間さらすのは、レジストの劣化を招
くおそれがあるので、避けるべきである。

【００７２】本発明のレジスト組成物からレジストパタ
ーンを形成する際には、該組成物の流動性の程度に応じ
て、各種の方法を採用することができる。例えば流動性
がないか流動性が低い組成物の場合は、適度の間隔を有
するスペーサー間に通すか、ロールコーター等の塗布装
置を用い、あるいは圧縮成形、押出被覆、カレンダー成
形等により適当な基板上に塗布して、レジスト膜を形成
することができる。

【００７３】また、流動性が良好な組成物は、スピンコ
ート、ロールコート、カレンダーコート、ドクターブレ
ードコート、バーコート、エアナイフコート、スプレ
ー、スクリーンコート等の適宜の塗布方法により基板上
に塗布して、レジスト膜を形成することができる。

【００７４】塗布後、レジスト膜を、熱風乾燥器、ホッ
トプレート等を用いてプリベークすることにより、残留
揮発分を除去する。このプリベークの条件は、通常、３
０〜２００℃の温度で、２〜６０分程度である。この場
合、レジスト組成物の組成に応じて、処理条件を適切に
選定しないと、熱かぶり現象等が発生するおそれがあ
る。

【００７５】次いで、所望のマスクパターンを介して露
光する。この場合、レジスト膜の粘着性の程度に応じ
て、マスクパターンをレジスト膜に接触させたり、スペ
ーサーを挟んだりして、露光する。露光後、水あるいは
希アルカリ水で現像し、乾燥することにより、レジスト
パターンを形成する。この場合、必要により、乾燥後再
露光することもできる。露光に使用される光としては、
レジスト組成物に応じて、例えばｉ線、ｇ線等の紫外
線、エキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトン放射
光等のＸ線、電子線等の荷電粒子線等を適宜選択して使
用することができる。

【００７６】現像に用いるアルカリは、通常のレジスト
組成物の現像に用いられているものでよく、例えば炭酸
ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アミ
ン等が用いられる。この現像液のアルカリ濃度は、０．
０１〜３重量％程度であり、また現像時間は、１０秒〜
３分程度である。現像法としては、現像液をスプレーす
るスプレー現像が好ましい。また、現像後、必要に応じ
て露光後ベークを行ってもよい。

【００７７】本発明のレジスト組成物は、解像度および
パターンのエッジ形状に優れ、高アスペクト比を有する
とともに、現像性、基板との密着性等も良好であり、高
密度実装に対応できる優れた特性バランスを有するもの
であり、また水あるいは希アルカリ水により現像可能で
環境等にも全く問題がないものである。しかも、本発明
のレジスト組成物から形成されるレジストパターンは、
耐水性、耐薬品性等にも優れ、また光硬化後の収縮も極
めて小さく、残留応力も低く抑えることができる。

【００７８】

【実施例】以下、実施例および比較例を挙げて、本発明
をさらに具体的に説明するが、本発明は、その要旨を越
えない限り、これらの実施例に何ら制約されるものでは
ない。 実施例および比較例 表１〜表３に示す各成分（但し、数字は重量部であ
る。）をベンジルアルコールに溶解して均一溶液に調製
したのち、スピンコート法により基板上に塗布し、８０
℃で４０分間プリベークして、レジスト膜を形成した。
その後、マスクパターンを介して、波長３６５ｎｍの光
を１０秒間露光したのち、１重量％炭酸ソーダ水溶液を
用いてスプレー法で現像した。現像後のレジストパター
ンについて、下記の要領で、レジスト組成物としての特
性を評価した。評価結果を表１〜表３に示す。

【００７９】ここで、各レジスト組成物の構成成分は下
記の通りである。カルボキシル基含有架橋粒子 １ ：ブタジエン／メタクリル酸／ジビニルベンゼン／
メチルメタクリレート＝６９／９／２／２０（モル
％）、 ２ : ブタジエン／メタクリル酸／ジビニルベンゼン／
メチルメタクリレート＝５７／１５／２／２６（モル
％）、 ３ : ブタジエン／メタクリル酸／ジビニルベンゼン／
メチルメタクリレート＝４８／２４／２／２６（モル
％）、 ４ : ブタジエン／メタクリル酸／ジビニルベンゼン／
メチルメタクリレート＝７４／１／２／２３（モル
％）。

【００８０】窒素原子含有化合物類 DMAPAM: Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミ
ド、 DMAM : Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、 DMAEA : Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート。

【００８１】光重合性単量体類 TMPTA : トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、 M8030 : オリゴエステルアクリレート、 M8060 : オリゴエステルアクリレート、 TAIC : トリアクリルイソシアヌレート、 HAPZ : ヘキサアリロキシホスファゼン、 EPDA : エポキシジアクリレート、 PEGMMA : ポリエチレングリコールモノメタクリレー
ト、 フォトマー: 脂肪族トリアクリレート。

【００８２】光重合開始剤 Jag369 :２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、 Jag651 :ベンジルジメチルケタール、 Jag907 :２−メチル−１−（４−メチルチオフェニ
ル）−２−モルホリノプロパン−１−オン、 ルシリンTPO:２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキシド。

【００８３】評価 現像性 ：○−１分間で現像可能であり、現像残り
が全くない、 △−１分間で現像可能であるが、現像残りがある、 ×−１分間では現像不可能。 密着性 ：○−現像時に基板と強固に接着してい
る、 ×−現像時にレジストパターンが基板から剥離する。 解像度 ：線幅１／１のスペース・アンド・ライン
パターンについて、 ○−線幅が３０μｍより細いパターンを良好な性状で形
成する、 △−線幅が３０μｍのパターンを形成するが、その割合
が５０％以下。 ×−線幅が３０μｍのパターンを形成できない。 パターン形状：レジストパターンのエッジ形状を走査型
電子顕微鏡で観察して判定した。 ○−エッジ部分が基板に対してほぼ直角、 △−エッジ部分の基板に対する角度が、マスクパターン
のサイズに対して±１０％程度、 ×−エッジ部分の形状が丸くなったりして、パターン形
状が不良。

【００８４】

【発明の効果】本発明のレジスト組成物は、解像度およ
びパターンのエッジ形状に優れ、高アスペクト比を有す
るとともに、現像性、基板との密着性等も良好であり、
高密度実装に対応できる優れた特性バランスを有し、し
かも環境等にも問題がない水あるいは希アルカリ水によ
り現像可能である。したがって、本発明のレジスト組成
物は、今後ますます実装密度の高度化が進行するとみら
れるプリント配線板を形成するためのレジスト組成物と
して極めて有用である。

【表１】

【表２】

【表３】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｆ 6921−4Ｅ (72)発明者 越村 克夫 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （１）カルボキシル基含有架橋粒子１０
   ０重量部、（２）脂肪族アミノ基含有化合物および／ま
   たはＮ，Ｎ−ジ置換（メタ）アクリルアミド５〜１００
   重量部、（３）他の光重合性の単量体および／またはオ
   リゴマー５〜２００重量部並びに（４）光重合開始剤を
   含有することを特徴とするレジスト組成物。
2. 【請求項２】 カルボキシル基含有架橋粒子が、脂肪
   族共役ジエン成分、カルボキシル基含有エチレン系不
   飽和単量体成分、多官能性エチレン系不飽和単量体成
   分および他の共重合可能な単官能性単量体成分からな
   る共重合体の粒子であることを特徴とする請求項１記載
   のレジスト組成物。