JPH07128856A - 感光性樹脂組成物および感光性樹脂レジスト - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 金属表面に対する膠着性と残膜率、現像残り
等の感光性との特性バランスに優れ、且つアルカリ現像
性あるいは水現像性を有する感光性樹脂組成物および感
光性樹脂レジストを提供する。 【構成】 感光性樹脂組成物は、（１）モノエチレン
性不飽和カルボン酸エステル、カルボキシル基含有モ
ノエチレン性不飽和単量体および水酸基を有するモノ
エチレン性不飽和基含有カルボン酸エステルを必須成分
とする共重合体に光重合性基を導入した光重合性共重合
体、（２）光重合性単量体、並びに（３）光重合開始剤
を含有する。また感光性樹脂レジストは、（１）前記
およびを必須成分とする共重合体に光重合性基を導入
することにより得られる光重合性共重合体、（２）光重
合性単量体、並びに（３）光重合開始剤を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、アルカリ現像性あるい
は水現像性を有する感光性樹脂組成物および感光性樹脂
レジストに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、種々の感光性樹脂組成物がフォト
レジスト、印刷版、印刷インキ等の分野において広く利
用されている。特に金属面上に感光性樹脂レジスト層を
形成するためには、一般に、例えば特公昭４５−２５２
３１号公報に記載されているような層転写法が用いられ
ている。この方法は、ポリエステルフィルム等の寸法安
定性のよい担体層と感光性樹脂層とからなる層転写材料
を、銅箔等の金属基板上に、該感光性樹脂層が該基板表
面と接するようにして貼着し、所定の画像を形成するた
め該感光性樹脂層を露光する前あるいは露光したのち
に、該担体層を剥離し、該感光性樹脂層の非露光部分を
適当な現像液で現像、除去する工程からなる。このよう
な層転写法においては、感光性樹脂層が次のような特性
を有することが要求されている。即ち、感光性樹脂層の
銅箔等の金属表面に対する膠着性がよく、現像液、エッ
チング液、電解液等の化学処理剤によりアンダーカット
や剥離を生じないことが必要であり、さらに、銅箔等の
金属表面上に感光性樹脂層を貼着したのち、ポリエステ
ルフィルム等の担体層が容易に且つ感光性樹脂層の剥離
を来すことのないように感光性樹脂層から剥離できるこ
とが必要である。そこで、感光性樹脂層の金属表面に対
する膠着性を改善するため、種々の提案がなされてい
る。例えば特公昭５１−５９３４号公報および特公昭６
３−１３５２６号公報には、膠着性改善剤として低分子
複素環化合物を感光性樹脂組成物に添加することが記載
されており、該低分子複素環化合物としては、特殊なイ
ミダゾール誘導体やトリアゾール誘導体が挙げられてい
る。またその他に、安息香酸、ムコクロル酸、ｐ−アミ
ノ安息香酸等の有機カルボン酸や、硫黄、ヨード、燐、
過酸化ピロ燐酸塩等の酸化剤等の低分子膠着性改善剤も
知られている。しかしながら、これらの低分子膠着性改
善剤では、一般に感光性樹脂組成物の感度が低下する欠
点があり、その結果露光時間を長くせざるを得ないのが
実状である。さらに、これらの低分子膠着性改善剤の多
くは、感光性樹脂組成物の長期貯蔵中に結晶化する傾向
があり、したがって感光性樹脂レジスト材料として使用
不能となる場合がある。また、このような欠点は、低分
子膠着性改善剤の濃度を下げることによってある程度軽
減することはできるが、その結果、組成物の膠着性が損
なわれ、感光性樹脂レジスト層の金属表面に対する膠着
力がしばしば不十分なものとなる。しかも、前記感光性
樹脂組成物はいずれも、有機溶媒により現像するもので
あるが、近年、作業時の安全性、健康上の問題に加え、
環境に及ぼす有機溶剤の影響が問題となっている。

【０００３】一方特開昭５８−３０７４８号公報には、
場合により遊離カルボキシル基を含有する熱可塑性ビニ
ル重合体からなる結合剤、光重合性エチレン性不飽和低
分子化合物および光重合開始剤を含有する光重合性印画
用組成物の金属表面に対する膠着性を改善するため、該
熱可塑性ビニル重合体にアミノ基および／またはイミノ
基を導入することが提案されている。しかしながら、こ
の組成物も、膠着性と残膜率、現像残り等の感光性との
バランス等の面で十分とは言えない。また特開昭６０−
６９１７８号公報には、２段階エマルジョン重合法で得
た２層構造のエマルジョン粒子の外層に光重合性不飽和
基を導入したアクリル系光架橋性重合体エマルジョンと
光増感剤とを含有する水分散性光硬化型粘着組成物が記
載されているが、この組成物は、アクリル系光架橋性重
合体エマルジョンが２段階エマルジョン重合により製造
されるため、工程が煩雑であるばかりか、特にフォトレ
ジスト材料に適用しようとしても、特性面で満足できな
いものである。したがって、膠着性と残膜率、現像残り
等の感光性との特性バランスに優れ、しかも、より安全
なアルカリ現像性あるいは水現像性を有する感光性樹脂
組成物の開発が強くのぞまれている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、膠着性と残
膜率、現像残り等の感光性との特性バランスに優れ、且
つアルカリ現像性あるいは水現像性を有する感光性樹脂
組成物および感光性樹脂レジストを提供することを目的
とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記技術
課題を解決すべく鋭意検討した結果、感光性樹脂組成物
や感光性樹脂レジストは、例えば銅箔等の金属表面に対
する膠着性が高いだけに止まらず、例えば貯蔵安定性、
露出許容度等の使用上の性状も損なわれてはならず、ま
た、特に金属表面上に形成されたレジスト層について
は、化学処理剤、特に後処理に使用される溶剤等に対し
て高い安定性を有するとともに、通常の露出時間でも洗
浄除去時間に対して特別の配慮を要することがなく、扱
い易いものであるべきであり、しかもレジスト層で被覆
された金属は、特に烈しいエッチング浴や電解浴で処理
しても健全な状態を保持でき、これらの浴剤による処理
に続いて行われる後処理にも何ら支障を来さないような
ものであることが必要であるという知見を得た。そこ
で、このような知見に立脚してさらに検討した結果、感
光性樹脂組成物および感光性樹脂レジストの膠着性や、
残膜率、現像残り等の感光性は、特に感光性樹脂組成物
および感光性樹脂レジスト中に含まれる重合体成分の光
重合性の有無、光重合性重合体における単量体の種類や
各単量体の含有率等と複雑に関連するものであり、これ
らの諸要件を適切に組み合わせることにより、膠着性と
感光特性との特性バランスに優れ、しかも良好なアルカ
リ現像性あるいは水現像性を有する感光性樹脂組成物お
よび感光性樹脂レジストが得られることを見い出して、
本発明を完成するに至った。

【０００６】本発明の要旨は、第１に、（１）モノエ
チレン性不飽和カルボン酸エステル３０〜８０モル％、
カルボキシル基含有モノエチレン性不飽和単量体１０
〜５０モル％、水酸基を有するモノエチレン性不飽和
基含有カルボン酸エステル５〜３０モル％、および他
の共重合可能なモノエチレン性不飽和単量体０〜１０モ
ル％からなる共重合体（但し、＋＋＋＝１００
モル％）に、その含有する官能基を介して、光重合可能
なエチレン性不飽和基を有する反応性化合物を反応させ
て光重合性基を導入することにより得られる光重合性共
重合体、（２）光重合可能なエチレン性不飽和単量体、
並びに（３）光重合開始剤を含有することを特徴とする
感光性樹脂組成物（以下、「第１発明」という。）から
なり、

【０００７】本発明の要旨は、第２に、（１）モノエ
チレン性不飽和カルボン酸エステル３０〜８０モル％、
カルボキシル基含有モノエチレン性不飽和単量体１０
〜５０モル％、および他の共重合可能なモノエチレン
性不飽和単量体（但し、水酸基を有するモノエチレン性
不飽和基含有カルボン酸エステルを除く。）０〜１０モ
ル％からなる共重合体（但し、＋＋＝１００モル
％）に、その含有する官能基を介して、光重合可能なエ
チレン性不飽和基を有する反応性化合物を反応させて光
重合性基を導入することにより得られる光重合性共重合
体、（２）光重合可能なエチレン性不飽和単量体、並び
に（３）光重合開始剤を含有することを特徴とする感光
性樹脂レジスト（以下、「第２発明」という。）からな
る。

【０００８】以下、本発明を詳細に説明するが、これに
より、本発明の目的、構成および効果が明確になるであ
ろう。まず、第１発明において、第１成分である光重合
性共重合体（以下、「光重合性共重合体（Ａ）」とい
う。）は、モノエチレン性不飽和カルボン酸エステル
（以下、単に「不飽和カルボン酸エステル」とい
う。）、カルボキシル基含有モノエチレン性不飽和単
量体（以下、単に「カルボキシル基含有不飽和単量体」
という。）および水酸基を有するモノエチレン性不飽
和基含有カルボン酸エステル（以下、単に「水酸基含有
不飽和エステル」という。）を本質的成分とし、必要に
応じて他の共重合可能なモノエチレン性不飽和単量体
（以下、「他の単量体（ａ）」という。）成分をさらに
含有する共重合体（以下、「共重合体（ａ）」とい
う。）に、該共重合体中に含有される官能基を介して、
光重合可能なエチレン性不飽和基を１つ以上有する反応
性化合物を反応させることにより、光重合性基が導入さ
れたものである。

【０００９】共重合体（ａ）において、不飽和カルボン
酸エステルとは、モノエチレン性不飽和基を有する１価
カルボン酸と非置換アルコールとのエステル、あるいは
モノエチレン性不飽和基を有する１価カルボン酸と非環
式エーテル酸素原子および／またはハロゲン原子含有ア
ルコールとのエステルを言う。但し、不飽和カルボン酸
エステルには、後述するカルボキシル基含有不飽和単量
体および水酸基含有不飽和エステルの範疇に入るものは
含まれない。不飽和カルボン酸エステルの共重合体
（ａ）中における含有率は、３０〜８０モル％である
が、好ましくは３５〜７５モル％、特に好ましくは４０
〜７０モル％である。

【００１０】また、カルボキシル基含有不飽和単量体と
は、例えばモノエチレン性不飽和基を有する１価あるい
は多価カルボン酸類、モノエチレン性不飽和基を有する
１価カルボン酸とオキシカルボン酸および／またはラク
トン類とのエステル類、モノエチレン性不飽和基を有す
る１価カルボン酸とカルボキシル基含有アルコールとの
エステル類、モノエチレン性不飽和基を有する１価アル
コールと多価カルボン酸とのモノエステル類等の、少な
くともモノエチレン性不飽和基とカルボキシル基との両
者を含有する単量体を意味する。カルボキシル基含有不
飽和単量体の共重合体（ａ）中における含有率は、１０
〜５０モル％であるが、好ましくは２０〜５０モル％、
特に好ましくは２５〜４５モル％である。

【００１１】さらに、水酸基含有不飽和エステルとは、
例えばモノエチレン性不飽和基を有する１価カルボン酸
のヒドロキシアルキルエステル類、モノエチレン性不飽
和基を有する１価カルボン酸とポリアルキレングリコー
ルとのモノエステル類、モノエチレン性不飽和基を有す
る１価アルコールとオキシカルボン酸とのエステル類等
の、モノエチレン性不飽和基と水酸基との両者を含有す
るエステルを意味する。但し、水酸基含有不飽和エステ
ルには、前述したカルボキシル基含有不飽和単量体の範
疇に入るものは含まれない。水酸基含有不飽和エステル
の共重合体（ａ）中における含有率は、５〜３０モル％
であるが、好ましくは５〜２５モル％、特に好ましくは
５〜２０モル％である。

【００１２】不飽和カルボン酸エステルとしては、例え
ばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリ
レート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロ
ピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリ
レート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブ
チル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリ
レート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オク
チル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アク
リレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、
ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）
アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステア
リル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレ
ート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘ
キシル（メタ）アクリレート、メンチル（メタ）アクリ
レート、ジシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシ
クロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル
（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート
等の（シクロ）アルキル（メタ）アクリレート、（シク
ロ）アルケニル（メタ）アクリレートあるいはアリール
（メタ）アクリレート類；２−メトキシエチル（メタ）
アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−
ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、３−メトキシプロピル
（メタ）アクリレート、２−エトキシプロピル（メタ）
アクリレート、３−エトキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、４−メトキシブチル（メタ）アクリレート、４−
エトキシブチル（メタ）アクリレート等のアルコキシア
ルキル（メタ）アクリレート；メトキシジエチレングリ
コール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレング
リコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレ
ングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチ
レングリコール（メタ）アクリレート（エチレングリコ
ール単位数＝５〜３０）、メトキシジプロピレングリコ
ール（メタ）アクリレート等のアルコキシポリアルキレ
ングリコール（メタ）アクリレート類；メトキシ化シク
ロヘキシル（メタ）アクリレート、メトキシ化ジシクロ
ヘキシル（メタ）アクリレート、メトキシ化ジシクロペ
ンテニル（メタ）アクリレート、メトキシ化イソボルニ
ル（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエ
ン（メタ）アクリレート等のアルコキシシクロアルキル
（メタ）アクリレートあるいはアルコキシシクロアルケ
ニル（メタ）アクリレート類；２−フェノキシエチル
（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレング
リコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチ
レングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキ
シポリエチレングリコール（メタ）アクリレート（エチ
レングリコール単位数＝２〜３０）、ノニルフェノキシ
ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート（プロ
ピレングリコール単位数＝２〜３０）等のアリーロキシ
アルキル（メタ）アクリレートあるいはアリーロキシポ
リアルキレングリコール（メタ）アクリレート類；トリ
フロロエチル（メタ）アクリレート、テトラフロロプロ
ピル（メタ）アクリレート、オクタフロロペンチル（メ
タ）アクリレート、ヘプタデカフロロデシル（メタ）ア
クリレート等のハロアルキル（メタ）アクリレート類等
を挙げることができる。

【００１３】これらの不飽和カルボン酸エステルのう
ち、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メ
タ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、
イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシ
ル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレ
ート、ラウリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メ
タ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレー
ト、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシク
ロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メ
タ）アクリレート等の（シクロ）アルキル（メタ）アク
リレート類あるいは（シクロ）アルケニル（メタ）アク
リレート類；２−メトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキ
シジプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のア
ルコキシアルキル（メタ）アクリレートあるいはアルコ
キシポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート類
が好ましく、さらに好ましくは、エチル（メタ）アクリ
レート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチ
ル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリ
レート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イ
ソデシル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数
が２〜１０のアルキル（メタ）アクリレート類等であ
る。共重合体（ａ）においては、これらの不飽和カルボ
ン酸エステルは、単独でまたは２種以上を混合して使用
することができる。

【００１４】また、カルボキシル基含有不飽和単量体と
しては、例えば（メタ）アクリル酸、α−クロロアクリ
ル酸、α−クロロメチルアクリル酸、クロトン酸、ケイ
ヒ酸等のモノエチレン性不飽和１価カルボン酸類；イタ
コン酸、無水イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン
酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸等のモノエチ
レン性不飽和多価カルボン酸類；前記モノエチレン性不
飽和１価カルボン酸類とβ−プロピオラクトン、γ−ブ
チロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクト
ン、ε−カプロラクトン、γ−オクタノイックラクトン
等のラクトン類との反応により得られる、ω−カルボキ
シモノ（アルキレンカルボキシ）オキシメタクリレート
類あるいはω−カルボキシポリ（アルキレンカルボキ
シ）オキシメタクリレート類；前記モノエチレン性不飽
和多価カルボン酸類のモノメチルエステル、モノエチル
エステル、モノプロピルエステル等の遊離カルボキシル
基含有エステル類；前記モノエチレン性不飽和多価カル
ボン酸類のモノニトリル誘導体等の遊離カルボキシル基
含有ニトリル類；前記モノエチレン性不飽和多価カルボ
ン酸類のモノアミド誘導体等の遊離カルボキシル基含有
アミド類；前記モノエチレン性不飽和多価カルボン酸類
のモノ（２−ヒドロキシエチルエステル）、モノ（２−
ヒドロキシプロピルエステル）、モノ（３−ヒドロキシ
プロピルエステル）等の遊離カルボキシル基含有ヒドロ
キシアルキルエステル類；前記遊離カルボキシル基含有
アミド類のＮ−ヒドロキシメチル化物等のＮ−ヒドロキ
シアルキル誘導体類や；コハク酸モノビニル、コハク酸
モノメタクリル、コハク酸モノ（メタ）アリル、アジピ
ン酸モノビニル、アジピン酸モノメタクリル、アジピン
酸モノ（メタ）アリル、フタル酸モノビニル、フタル酸
モノメタクリル、フタル酸モノ（メタ）アリル等の多価
カルボン酸とモノエチレン性不飽和アルコールとの遊離
カルボキシル基含有エステル類等を挙げることができ
る。

【００１５】これらのカルボキシル基含有不飽和単量体
のうち、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、無水イタコ
ン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、クロトン酸、ω−
カルボキシモノ（テトラメチレンカルボキシ）オキシ
（メタ）アクリレート、ω−カルボキシジ（テトラメチ
レンカルボキシ）オキシ（メタ）アクリレート、ω−カ
ルボキシモノ（ペンタメチレンカルボキシ）オキシ（メ
タ）アクリレート、ω−カルボキシジ（ペンタメチレン
カルボキシ）オキシ（メタ）アクリレート等が好まし
く、さらに好ましくは（メタ）アクリル酸、イタコン
酸、マレイン酸、無水マレイン酸、ω−カルボキシジ
（テトラメチレンカルボキシ）オキシ（メタ）アクリレ
ート、ω−カルボキシジ（ペンタメチレンカルボキシ）
オキシ（メタ）アクリレート等である。共重合体（ａ）
においては、これらのカルボキシル基含有不飽和単量体
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。

【００１６】また水酸基含有不飽和エステルとしては、
例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒド
ロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブ
チル（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオール
モノ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオール
モノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレート類；ポリエチレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート（エチレングリコール単位数＝２〜３
０）、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレ
ート（プロピレングリコール単位数＝２〜３０）等のポ
リアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート類；
グリセロールモノ（メタ）アクリレート、１，２，４−
ブタントリオールモノ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールアルカンモノ（メタ）アクリレート（アルカンの
炭素数は例えば１〜３）、テトラメチロールアルカンモ
ノ（メタ）アクリレート（アルカンの炭素数は例えば１
〜３）等の３価以上の多価アルコールのモノ（メタ）ア
クリレート類；クロトン酸２−ヒドロキシエチル、クロ
トン酸２−ヒドロキシプロピル、クロトン酸３−ヒドロ
キシプロピル、ケイ皮酸２−ヒドロキシエチル、ケイ皮
酸２−ヒドロキシプロピル、ケイ皮酸３−ヒドロキシプ
ロピル等の他のモノエチレン性不飽和１価カルボン酸の
ヒドロキシアルキルエステル類；グリコール酸、乳酸、
α−オキシ酪酸等のオキシカルボン酸のビニルエステル
あるいはメタクリルエステル等を挙げることができる。

【００１７】これらの水酸基含有不飽和エステルのう
ち、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブ
チル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メ
タ）アクリレート等が好ましい。共重合体（ａ）におい
ては、これらの水酸基含有不飽和エステルは、単独でま
たは２種以上を混合して使用することができる。

【００１８】さらに、他の単量体（ａ）としては、特に
限定されるものではないが、例えばスチレン、α−メチ
ルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレ
ン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン、ｏ
−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロス
チレン、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチ
レン、ｐ−ヒドロキシスチレン、１，１−ジフェニルエ
チレン、ｏ−アミノスチレン、ｍ−アミノスチレン、ｐ
−アミノスチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−アミノスチ
レン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−アミノスチレン、ビニル
ピリジン等の芳香族ビニル系化合物；（メタ）アクリロ
ニトリル、α−クロロアクリロニトリル、α−クロロメ
チルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニトリ
ル、α−エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニトリ
ル、ケイ皮酸ニトリル、イタコン酸ニトリル、マレイン
酸ニトリル、フマル酸ニトリル等のエチレン性不飽和ニ
トリル類；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル）
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジエチル
アミノエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（Ｎ’，
Ｎ’−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジエチルアミノプロピル）（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ−アリール（メタ）アクリルア
ミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）（メタ）ア
クリルアミド、クロトン酸アミド、クロトン酸Ｎ−（２
−ヒドロキシメチル）アミド、クロトン酸Ｎ−（２−ヒ
ドロキシエチル）アミド、ケイ皮酸アミド、ケイ皮酸Ｎ
−（２−ヒドロキシメチル）アミド、ケイ皮酸Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）アミド等のエチレン性不飽和アミ
ド類；塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニ
ル系化合物；酢酸ビニル、酢酸メタクリル、酢酸（メ
タ）アリル、ジビニルフタレート、ジメタクリルフタレ
ート、ジ（メタ）アリルフタレート等のエチレン性不飽
和アルコールのエステル類；メチルビニルエーテル、エ
チルビニルエーテル、メチルメタクリルエーテル、エチ
ルメタクリルエーテル、メチル（メタ）アリルエーテ
ル、エチル（メタ）アリルエーテル、（メタ）アリルグ
リシジルエーテル、エチレングリコールモノビニルエー
テル、エチレングリコールモノ（メタ）アリルエーテル
等のエチレン性不飽和エーテル類；ビニルアミン、メタ
クリルアミン、（メタ）アリルアミン等のエチレン性不
飽和アミン類；メチルビニルスルフィド、エチルビニル
スルフィド、ジビニルスルフィド等のスルフィド類；メ
チルビニルスルホン、エチルビニルスルホン、ジビニル
スルホン等のエチレン性不飽和スルホン類；アクロレイ
ン、メチルビニルケトン，ジビニルケトン等のエチレン
性不飽和ケトン類；２−アミノエチル（メタ）アクリレ
ート、２−アミノプロピル（メタ）アクリレート、３−
アミノプロピル（メタ）アクリレート、４−アミノブチ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチ
ル（メタ）アクリレート、ジプロピルアミノエチル（メ
タ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノプ
ロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
エトキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアミノエトキシエチル（メタ）アクリレート等のアミ
ノ基含有アルキル（メタ）アクリレート類；２−シアノ
エチル（メタ）アクリレート、２−シアノプロピル（メ
タ）アクリレート、３−シアノプロピル（メタ）アクリ
レート等のシアノ基含有アルキル（メタ）アクリレート
類；グリシジル（メタ）アクリレート；テトラヒドロフ
ルフリル（メタ）アクリレート等の環式エーテル基含有
（メタ）アクリレート類；ビニルピペリジン、Ｎ−ビニ
ルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルフ
タルイミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカプ
ロラクタム等のエチレン性不飽和複素環化合物；シクロ
ペンテン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボル
ネン、ノルボルナジエン等のシクロオレフィン類等を挙
げることができる。共重合体（ａ）においては、これら
の他の単量体（ａ）は、単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。

【００１９】共重合体（ａ）は、前記〜のモノエチ
レン性不飽和基を有する単量体成分からなるが、ジビニ
ルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート
等で代表されるような１分子中にエチレン性不飽和基を
２つ以上有する単量体成分を用いると、得られる共重合
体が架橋構造を形成し、その結果、組成物の膠着性の低
下を来すこととなるので好ましくない。

【００２０】共重合体（ａ）の重量平均分子量は、組成
物の所望の特性に応じて適宜選定することができるは、
好ましくは５００〜２００，０００、さらに好ましくは
１，０００〜１５０，０００である。共重合体（ａ）の
重量平均分子量が５００未満では、組成物の粘度が低過
ぎて塗膜の形成が困難となる場合があり、また２００，
０００を超えると、組成物の膠着性が低下する傾向があ
る。

【００２１】共重合体（ａ）は、ラジカル重合開始剤を
使用する塊状重合、乳化重合、懸濁重合、溶液重合等の
適宜の方法により直接製造することができ、またこれら
の重合により予め製造した前駆共重合体に所要の化学的
後処理を施して製造することもできるが、得られる共重
合体（ａ）の分子量調節や後工程における作業性等を考
慮すると、共重合体（ａ）を溶液重合により直接製造す
ることが好ましい。前記ラジカル重合開始剤としては、
例えばベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシ
ド、クメンハイドロペルオキシド、パラメンタンハイド
ロペルオキシド、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド等の有機
過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソ
バレロニトリル、アゾビスイソカプロニトリル等のアゾ
化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化
水素等の無機過酸化物、前記有機過酸化物あるいは無機
過酸化物と有機アミン、硫酸第一鉄、亜硫酸ナトリウ
ム、チオ硫酸ナトリウム、ナトリウムホルムアルデヒド
スルホキシレート、Ｌ−アスコルビン酸、スルフィン酸
等の還元剤とからなるレドックス系触媒等を挙げること
ができる。これらのラジカル重合開始剤は、単独でまた
は２種以上を混合して使用することができる。また、溶
液重合において使用される溶媒としては、各単量体およ
び得られる共重合体（ａ）を溶解しうる適宜の溶媒、例
えばクロロアルカン類、アルコール類、アミン類、ケト
ン類、エステル類、芳香族炭化水素類、クロロベンゼン
等を使用することができる。これらの溶媒は、単独でま
たは２種以上を混合して使用することができる。共重合
体（ａ）を製造する際には、各単量体、ラジカル重合開
始剤等の反応成分は、重合開始時に全量添加しても、少
なくとも一部の反応成分を重合開始後連続的あるいは段
階的に添加してもよい。重合温度は、使用されるラジカ
ル重合開始剤によるが、通常、０〜８０℃である。重合
は連続式、回分式のいずれも可能であるが、酸素を含有
しない雰囲気中で行うことが好ましく、また、反応温度
や攪拌速度等の重合条件は、反応中適宜に変更すること
ができる。

【００２２】次に、光重合性共重合体（Ａ）を製造する
ために導入される光重合性基としては、例えば（メタ）
アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シン
ナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、ス
チリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニ
ルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド
基、ジアゾ基、ｏ−キノンジアジド基、フリルアクリロ
イル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベン
ゾフェノン基、ベンゾイン基、スチルベン基、ジチオカ
ルバメート基、キサンテート基、１，２，３−チアジア
ゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基
等の適宜の光重合性基を採用することができるが、好ま
しい光重合性基は（メタ）アクリロイル基、アルケニル
基およびシンナモイル基であり、特に好ましくは（メ
タ）アクリロイル基である。これらの光重合性基は、１
種または２種以上を導入することができる。このような
光重合性基は、共重合体（ａ）中のカルボキシル基ある
いは水酸基のほか、各単量体に由来するアミノ基、エポ
キシ基、カルボニル基等の他の官能基を活用し、これら
の官能基と反応しうる基および光重合可能なモノエチレ
ン性不飽和基の両者を有する化合物（以下、「光重合性
基含有反応性化合物（ａ）」という。）を、共重合体
（ａ）と反応させることにより導入することができる。

【００２３】光重合性基含有反応性化合物（ａ）として
は、例えば（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基含有
モノエチレン性不飽和化合物；（メタ）アクリル酸クロ
リド等の酸ハライド基含有モノエチレン性不飽和化合
物；グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基含
有モノエチレン性不飽和化合物；ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリ
レート等の水酸基含有モノエチレン性不飽和化合物；前
記水酸基含有モノエチレン性不飽和化合物とトリレンジ
イソシアネート、メチレンジイソシアネート等のジイソ
シアネート化合物とを等モルで反応させることにより得
られる遊離イソシアネート基含有モノエチレン性不飽和
化合物等を挙げることができる。

【００２４】このような光重合性基含有反応性化合物
（ａ）のうち、特に好ましい化合物は、下記式（１）で
表される（メタ）アクリロイル基含有化合物である。

【化１】 〔ここで、R¹は-Hまたは-CH₃を示し、R²は

【化２】 、

【化３】 または

【化４】 を示し（但し、ｎおよびｍはそれぞれ０〜６の整数であ
る。）、X は -COOH、-OH 、

【化５】 または-NCOを示す。〕

【００２５】共重合体（ａ）に光重合性基を導入する方
法としては、（メタ）アクリロイル基を導入する場合、
光重合性基含有反応性化合物（ａ）中の官能基の種類に
応じて、例えば（イ）（メタ）アクリル酸を共重合体
（ａ）中のエポキシ基と反応させてエステル化する方
法、（ロ）（メタ）アクリル酸クロリドを共重合体
（ａ）中の水酸基と反応させてエステル化する方法、
（ハ）（メタ）アクリル酸クロリドを共重合体（ａ）中
のカルボキシル基と反応させて酸無水物化する方法、
（ニ）（メタ）アクリル酸クロリドを共重合体（ａ）中
のアミノと反応させてアミド化する方法、（ホ）グリシ
ジル（メタ）アクリレートを共重合体（ａ）中のカルボ
キシル基と反応させてエステル化する方法、（ヘ）遊離
イソシアネート基含有（メタ）アクリル酸エステルを共
重合体（ａ）中の水酸基と反応させてウレタン化する方
法、（ト）イソシアネート基含有（メタ）アクリル酸エ
ステルを共重合体（ａ）中のアミノ基と反応させて尿素
化する方法、（チ）イソシアネート基含有（メタ）アク
リル酸エステルを共重合体（ａ）中のカルボキシル基ま
たは酸無水物基基と反応させてアミド化する方法等を挙
げることができる。

【００２６】また共重合体（ａ）にアルケニル基を導入
する場合は、共重合体（ａ）中の官能基の種類に応じ
て、例えば（リ）カルボニル基（アルデヒド基、ケトン
基）を有する単量体成分を含有する共重合体（ａ）とア
ルキリデンフォスフォラン化合物とのウイッチヒ（Ｗｉ
ｔｔｉｇ）反応、（ヌ）ｐ−ヒドロキシスチレンを単量
体成分として含有する共重合体（ａ）と臭化アリルとの
反応等がある。また、シンナモイル基の導入は、基本的
には、前記（メタ）アクリロイル基の導入と同様の方法
により実施することができる。

【００２７】共重合体（ａ）に光重合性基を導入する際
には、共重合体（ａ）と光重合性基含有反応性化合物
（ａ）との反応を特定の官能基間で選択的に進行させる
ことができ、また２種以上の反応を同時にまたは段階的
に進行させることもできる。共重合体（ａ）と光重合性
基含有反応性化合物（ａ）との反応割合は、共重合体
（ａ）中の各官能基の含有率、光重合性基含有反応性化
合物（ａ）の種類、感光性樹脂組成物の所望の特性等に
応じて変わるが、共重合体（ａ）１００重量部当たり、
光重合性基含有反応性化合物（ａ）が、通常、０．１〜
５０重量部、好ましくは０．１〜４０重量部である。光
重合性基含有反応性化合物（ａ）の反応割合が、０．１
重量部未満では、組成物の光重合が不十分となり膠着性
が低下する場合があり、また５０重量部を超えると、組
成物のアルカリ現像性あるいは水現像性が不十分となる
おそれがある。第１発明においては、共重合体（ａ）に
光重合性基を導入した光重合性共重合体（Ａ）を使用す
ることにより、膠着性と感光特性との特性バランスが優
れたものとなる。

【００２８】また、第１発明における第２成分である
（２）光重合可能なエチレン性不飽和単量体（以下、単
に「光重合性単量体」という。）は、後述する（３）光
重合開始剤の存在下で、光照射することにより重合しう
るエチレン性不飽和基を１つ以上有する化合物である。

【００２９】光重合性単量体としては、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メ
チルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルス
チレン、ジビニルベンゼン、ジイソプロペニルベンゼ
ン、ｏ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−ク
ロロスチレン、１，１−ジフェニルエチレン、ｏ−メト
キシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシス
チレン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−アミノスチレン、Ｎ，
Ｎ−ジエチル−ｐ−アミノスチレン、ビニルピリジン等
の芳香族ビニル系化合物；

【００３０】（メタ）アクリロニトリル、α−クロロア
クリロニトリル、α−クロロメチルアクリロニトリル、
α−メトキシアクリロニトリル、α−エトキシアクリロ
ニトリル、クロトン酸ニトリル、ケイ皮酸ニトリル、イ
タコン酸ニトリル、マレイン酸ニトリル、フマル酸ニト
リル等のシアン化ビニル系化合物；

【００３１】メチル（メタ）アクリレート、エチル（メ
タ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレー
ト、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル
（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレー
ト、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル
（メタ）アクリレート、ｎ−アミル（メタ）アクリレー
ト、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘ
キシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリ
レート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル
（メタ）アクリレート類や、クロトン酸メチル、クロト
ン酸エチル、クロトン酸プロピル、クロトン酸ブチル、
ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸プロピル、
ケイ皮酸ブチル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエ
チル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマ
ル酸ジメチル、フマル酸ジエチル等のエチレン性不飽和
カルボン酸エステル類；２−ヒドロキシルエチルモノ
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、４−ヒドロキシルブチルモノ（メタ）アク
リレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
類；ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレー
ト等のポリアルキレングリコール（アルキレングリコー
ル単位数は例えば２〜２３）のモノ（メタ）アクリレー
ト類；２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−
エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシ
エチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−メトキシプロピル（メタ）アク
リレート、２−エトキシプロピル（メタ）アクリレー
ト、３−メトキシプロピル（メタ）アクリレート、３−
エトキシプロピル（メタ）アクリレート、４−メトキシ
ブチル（メタ）アクリレート、４−エトキシブチル（メ
タ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アク
リレート類；２−フェノキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、３
−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、４−フェ
ノキシブチル（メタ）アクリレート等のアリーロキシア
ルキル（メタ）アクリレート類；メトキシポリエチレン
グリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレ
ングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロ
ピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリ
プロピレングリコール（メタ）アクリレート等のアルコ
キシポリアルキレングリコール（アルキレングリコール
単位数は例えば２〜２３）の（メタ）アクリレート類；
フェノキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリ
レート、フェノキシポリプロピレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート等のアリーロキシポリアルキレングリ
コール（アルキレングリコール単位数は例えば２〜２
３）のモノ（メタ）アクリレート類；トリフロロエチル
（メタ）アクリレート、テトラフロロプロピル（メタ）
アクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリレ
ート、ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等
のフロロアルキル（メタ）アクリレート類；２−アミノ
エチル（メタ）アクリレート、２−アミノプロピル（メ
タ）アクリレート、３−アミノプロピル（メタ）アクリ
レート、４−アミノブチル（メタ）アクリレート、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，
Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，
Ｎ−ジプロピルアミノエチル（メタ）アクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレ
ート、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノプロピル（メタ）アク
リレート等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メ
タ）アクリレート類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエトキシ
エチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ
エトキシエチル（メタ）アクリレート等のアミノアルコ
キシアルキル（メタ）アクリレート類；２−シアノエチ
ル（メタ）アクリレート、２−シアノプロピル（メタ）
アクリレート、３−シアノプロピル（メタ）アクリレー
ト等のシアノアルキル（メタ）アクリレート類；

【００３２】エチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、
１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，
５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６
−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等のアルキ
レングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリアルキレ
ングリコール（アルキレングリコール単位数は例えば２
〜２３）のジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキ
シポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、
両末端ヒドロキシブタジエン−アクリロニトリル共重合
体、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端に
水酸基を有する重合体のジ（メタ）アクリレート類；グ
リセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロ
ールアルカン（アルカンの炭素数＝１〜３）、テトラメ
チロールアルカン（アルカンの炭素数＝１〜３）等の３
価以上の多価アルコールのジ（メタ）アクリレート、ト
リ（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレー
ト類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリ
コール付加物のトリ（メタ）アクリレート、テトラ（メ
タ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類；
１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジ
オール、１，４−ジヒドロキシエチルベンゼン等の環式
多価アルコールのオリゴ（メタ）アクリレート類；ポリ
エステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド
樹脂、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン
樹脂等の水酸基含有樹脂のオリゴ（メタ）アクリレート
プレポリマー類；

【００３３】（メタ）アクリル酸、α−クロロアクリル
酸、α−クロロメチルアクリル酸、クロトン酸、ケイ皮
酸等のエチレン性不飽和１価カルボン酸類；前記エチレ
ン性不飽和１価カルボン酸類とβ−プロピオラクトン、
γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロ
ラクトン、ε−カプロラクトン、γ−オクタノイックラ
クトン等のラクトン類との反応により得られる、ω−カ
ルボキシモノ（アルキレンカルボキシ）オキシメタクリ
レート類あるいはω−カルボキシポリ（アルキレンカル
ボキシ）オキシメタクリレート類；イタコン酸、無水イ
タコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、シ
トラコン酸、メサコン酸等のエチレン性不飽和多価カル
ボン酸類；前記エチレン性不飽和多価カルボン酸のモノ
メチルエステル、モノエチルエステル、モノプロピルエ
ステル、モノブチルエステル、モノヘキシルエステル、
モノオクチルエステル等の遊離カルボキシル基含有エス
テル類；前記エチレン性不飽和多価カルボン酸のジメチ
ルエステル、ジエチルエステル、ジプロピルエステル、
ジブチルエステル、ジヘキシルエステル、ジオクチルエ
ステル等の多価エステル類；

【００３４】（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−
（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル）（メタ）アクリ
ルアミド、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジエチルアミノエチル）
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチル
アミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−
（Ｎ’，Ｎ’−ジエチルアミノプロピル）（メタ）アク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルア
ミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリル
アミド、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）（メ
タ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（メタ）アク
リルアミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（メタ）ア
クリルアミド、クロトン酸アミド、クロトン酸Ｎ−（２
−ヒドロキシメチル）アミド、クロトン酸Ｎ−（２−ヒ
ドロキシエチル）アミド、ケイ皮酸Ｎ−（２−ヒドロキ
シメチル）アミド、ケイ皮酸アミド、ケイ皮酸Ｎ−（２
−ヒドロキシエチル）アミド等のエチレン性不飽和アミ
ド類；

【００３５】塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン
化ビニル系化合物；酢酸ビニル、酢酸メタクリル、酢酸
（メタ）アリル、ジビニルフタレート、ジメタクリルフ
タレート、ジ（メタ）アリルフタレート等のエチレン性
不飽和アルコールのエステル類；メチルビニルエーテ
ル、エチルビニルエーテル、メチルメタクリルエーテ
ル、エチルメタクリルエーテル、メチル（メタ）アリル
エーテル、エチル（メタ）アリルエーテル、（メタ）ア
リルグリシジルエーテル、エチレングリコールモノビニ
ルエーテル、エチレングリコールモノ（メタ）アリルエ
ーテル等のモノエチレン性不飽和エーテル類；前記アル
キレングリコールのジビニルエーテルあるいはジメタク
リルエーテル類；前記ポリアルキレングリコールのジビ
ニルエーテルあるいはジメタクリルエーテル類；前記両
末端に水酸基を有する重合体のジビニルエーテルあるい
はジメタクリルエーテル類；前記３価以上の多価アルコ
ールやそのポリアルキレングリコール付加物のオリゴビ
ニルエーテルあるいはオリゴメタクリルエーテル類；前
記環式多価アルコールのオリゴビニルエーテルあるいは
オリゴメタクリルエーテル類；前記水酸基含有樹脂のオ
リゴビニルエーテルプレポリマーあるいはオリゴメタク
リルエーテルプレポリマー類；ビニルアミン、メタクリ
ルアミン、（メタ）アリルアミン等のエチレン性不飽和
アミン類；メチルビニルスルフィド、エチルビニルスル
フィド、ジビニルスルフィド等のスルフィド類；メチル
ビニルスルホン、エチルビニルスルホン、ジビニルスル
ホン等のエチレン性不飽和スルホン類；アクロレイン、
メチルビニルケトン，ジビニルケトン等のエチレン性不
飽和カルボニル化合物；ビニルピペリジン、Ｎ−ビニル
ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルフタ
ルイミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカプロ
ラクタム等のエチレン性不飽和複素環化合物；シクロペ
ンテン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネ
ン、ノルボルナジエン等のシクロオレフィン類等を挙げ
ることができる。

【００３６】これらの光重合性単量体のうち、（メタ）
アクリロイル基、ビニル基あるいはメタクリル基を合計
で１〜６個有する単量体が好ましい。前記光重合性単量
体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することが
できる。第１発明においては、光重合性単量体の種類や
組合せを適切に選定することにより、感光性樹脂組成物
に所望の特性を付与することができる。

【００３７】第１発明の感光性樹脂組成物の流動性は、
光重合性単量体の種類や配合量等に応じて、ワックス状
乃至ゴム状から低粘度液体状までを自由にとることがで
き、したがって、光重合性単量体の種類や配合量は、感
光性樹脂組成物の使用目的に応じて適宜選定することが
できる。光重合性単量体の配合量は、光重合性共重合体
（Ａ）１００重量部当たり、通常、０．５〜１０，００
０重量部、好ましくは０．５〜１，０００重量部、特に
好ましくは０．５〜１００重量部である。光重合性単量
体の配合量が０．５重量部未満では、感光性樹脂組成物
の光重合後の強度が低下する傾向があり、また１０，０
００重量部を超えると、光重合後の組成物の収縮が大き
くなり、また組成物の粘度設計上の自由度も小さくなり
がちである。

【００３８】さらに、第１発明における第３成分である
光重合開始剤は、光照射により、光重合性共重合体
（Ａ）および光重合性単量体の重合反応を開始ないし増
感する成分である。光重合開始剤としては、例えばジア
セチル、メチルベンゾイルホルメート、ベンジル等のα
−ジケトン化合物；ベンゾイン、ピバロイン等のアシロ
イン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチル
エーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンイソブチルエーテル等のアシロインエーテル類；アン
トラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチ
ルアントラキノン、１，４−ナフトキノン等の多核キノ
ン類；アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−
プロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、２，２−ジメトキシフェニルアセトフェノ
ン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、トリクロロア
セトフェノン等のアセトフェノン類；ベンゾフェノン、
メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、ミヒラーズケト
ン等のベンゾフェノン類；キサントン、チオキサント
ン、２−クロロチオキサントン等のキサントン類等を挙
げることができる。これらのうち好ましい光重合開始剤
のは、アシロインエーテル類、アセトフェノン類、ベン
ゾフェノン類等である。第１発明においては、これらの
光重合開始剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用
することができる。光重合開始剤の配合量は、光重合性
共重合体（Ａ）１００重量部当たり、好ましくは０．１
〜２０重量部、さらに好ましくは１〜１０重量部であ
る。光重合開始剤の配合量が０．１重量部未満では、組
成物の光重合が不十分となるおそれがあり、また２０重
量部を超えても、配合された光重合開始剤の全てが光重
合に関与するわけではないので不経済であるばかりか、
ときには光重合性単量体等との相溶性が悪いため均一に
分散できない場合があり、好ましくない。

【００３９】次に、第２発明において、第１成分である
光重合性共重合体（以下、「光重合性共重合体（Ｂ）」
という。）は、不飽和カルボン酸エステルおよびカ
ルボキシル基含有不飽和単量体を本質的成分とし、必要
に応じて他の共重合可能なモノエチレン性不飽和単量
体（但し、水酸基含有不飽和エステルを除く。以下、
「他の単量体（ｂ）」という。）成分をさらに含有する
共重合体（以下、「共重合体（ｂ）」という。）に、該
共重合体中に含有される官能基を介して、光重合可能な
エチレン性不飽和基を１つ以上有する反応性化合物を反
応させることにより、光重合性基が導入されたものであ
る。

【００４０】共重合体（ｂ）において、不飽和カルボン
酸エステルの例としては、共重合体（ａ）における不飽
和カルボン酸エステルと同様のものを挙げることができ
る。共重合体（ｂ）においては、不飽和カルボン酸エス
テルは、単独でまたは２種以上を混合して使用すること
ができる。不飽和カルボン酸エステルの共重合体（ｂ）
中における含有率は、３０〜８０モル％であるが、好ま
しくは３５〜７５モル％、特に好ましくは４０〜７０モ
ルである。また、カルボキシル基含有不飽和単量体の例
としては、共重合体（ａ）におけるカルボキシル基含有
不飽和単量体と同様のものを挙げることができる。共重
合体（ｂ）においては、カルボキシル基含有不飽和単量
体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することが
できる。カルボキシル基含有不飽和単量体の共重合体
（ｂ）中における含有率は、１０〜５０モル％である
が、好ましくは２０〜５０モル％、特に好ましくは２５
〜４５モルである。また、他の単量体（ｂ）の例として
は、共重合体（ａ）について挙げた他の単量体（ａ）と
同様のものを挙げることができる。共重合体（ｂ）にお
いては、他の単量体（ｂ）は、単独でまたは２種以上を
混合して使用することができる。

【００４１】共重合体（ｂ）は前記〜の単量体から
なるが、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクジレート等で代表されるような１分子中にエチ
レン性不飽和基を２つ以上有する単量体成分を用いる
と、得られる共重合体が架橋構造を形成し、その結果、
レジストの膠着性の低下を来すこととなるので好ましく
ない。

【００４２】共重合体（ｂ）の重量平均分子量は、レジ
ストの所望の特性に応じて適宜選定することができる
は、好ましくは５００〜２００，０００、さらに好まし
くは１，０００〜１５０，０００である。共重合体
（ｂ）の重量平均分子量が５００未満では、レジストの
粘度が低過ぎて塗膜の形成が困難となる場合があり、ま
た２００，０００を超えると、レジストの膠着性が低下
する傾向がある。

【００４３】共重合体（ｂ）は、ラジカル重合開始剤を
使用する塊状重合、乳化重合、懸濁重合、溶液重合等の
適宜の方法により直接製造することができ、またこれら
の重合により予め製造した前駆共重合体に所要の化学的
後処理を施して製造することもできるが、得られる共重
合体（ｂ）の分子量調節や後工程における作業性等を考
慮すると、共重合体（ｂ）を溶液重合により直接製造す
ることが好ましい。共重合体（ｂ）を製造する際に使用
されるラジカル重合開始剤の例としては、共重合体
（ａ）の製造に使用されるものを挙げることができ、ま
た溶液重合に使用される溶媒の例としては、共重合体
（ａ）の溶液重合に使用されるものを挙げることができ
る。共重合体（ｂ）を製造する際には、各単量体、ラジ
カル重合開始剤等の反応成分は、重合開始時に全量添加
しても、少なくとも一部の反応成分を重合開始後連続的
あるいは段階的に添加してもよい。重合温度は、使用さ
れるラジカル重合開始剤によるが、通常、０〜８０℃で
ある。重合は連続式、回分式のいずれも可能であるが、
酸素を含有しない雰囲気中で行うのが好ましく、また、
反応温度や攪拌速度等の重合条件は、反応中適宜に変更
することができる。

【００４４】光重合性共重合体（Ｂ）を製造するために
導入される光重合性基は、共重合体（ｂ）中のカルボキ
シル基のほか、各単量体に由来するアミノ基、エポキシ
基、カルボニル基、水酸基等の他の官能基を活用し、こ
れらの官能基と反応しうる基および光重合可能なエチレ
ン性不飽和基の両者を有する化合物（以下、「光重合性
基含有反応性化合物（ｂ）」という。）を、共重合体
（ｂ）と反応させることにより導入することができる。
このような光重合性基は、光重合性共重合体（Ａ）につ
いて挙げた光重合性基の中から、各官能基に応じて適宜
選定して採用することができる。光重合性基含有反応性
化合物（ｂ）の例としては、例えば光重合性基含有反応
性化合物（ａ）と同様の化合物を挙げることができ、こ
れらの光重合性基含有反応性化合物（ｂ）は、光重合性
共重合体（Ａ）を製造する（イ）〜（ヌ）の方法と同様
にして、共重合体（ｂ）と反応させることができる。共
重合体（ｂ）に光重合性基を導入する際の反応割合は、
共重合体（ｂ）中の官能基の含有率、光重合性基含有反
応性化合物（ｂ）の種類、レジストの所望の特性等に応
じて変わるが、共重合体（ｂ）１００重量部当たり、光
重合性基含有反応性化合物（ｂ）が、通常、０．１〜５
０重量部、好ましくは０．１〜４０重量部である。光重
合性基含有反応性化合物（ｂ）の反応割合が、０．１重
量部未満では、レジストの光重合が不十分となりレジス
トの膠着性が低下する場合があり、また５０重量部を超
えると、レジストのアルカリ現像性あるいは水現像性が
不十分となるおそれがある。第２発明においては、共重
合体（ｂ）に光重合性基を導入した光重合性共重合体
（Ｂ）を使用することにより、膠着性と感光特性との特
性バランスが優れたものとなる。

【００４５】また、第２発明における第２成分である光
重合可能なエチレン性不飽和単量体（以下、単に「光重
合性単量体」という。）および第３成分である光重合開
始剤の例としては、それぞれ、第１発明において使用さ
れる光重合性単量体および光重合開始剤を挙げることが
できる。第２発明においては、光重合性単量体および光
重合開始剤は、それぞれ単独でまたは２種以上を混合し
て使用することができる。第２発明においては、光重合
性単量体の種類や組合せを適切に選定することにより、
レジストに所望の特性を付与することができる。第２発
明の感光性樹脂レジストの流動性は、光重合性単量体の
種類や配合量等に応じて、ワックス状乃至ゴム状から低
粘度液体状までを自由にとることができ、したがって、
光重合性単量体の種類や配合量は、感光性樹脂組成物の
使用目的に応じて適宜選定することができる。特に光重
合性単量体の配合量は、光重合性共重合体（Ａ）１００
重量部当たり、通常、０．５〜１０，０００重量部、好
ましくは０．５〜１，０００重量部、特に好ましくは
０．５〜１００重量部である。光重合性単量体の配合量
が０．５重量部未満ではレジストの光重合後の強度が低
下する傾向があり、また１０，０００重量部を超える
と、光重合後のレジストの収縮が大きくなり、またレジ
ストの粘度設計上の自由度も小さくなりがちである。第
２発明における光重合開始剤の配合量は、光重合性共重
合体（Ｂ）１００重量部当たり、好ましくは０．１〜２
０重量部、さらに好ましくは１〜１０重量部である。光
重合開始剤の配合量が、０．１重量部未満ではレジスト
の光重合が不十分となるおそれがあり、また２０重量部
を超えても、配合された光重合開始剤の全てが光重合に
関与するわけではないので不経済であるばかりか、とき
には光重合性単量体等との相溶性が悪いため均一に分散
できない場合があり、好ましくない。

【００４６】第１発明の感光性樹脂組成物および第２発
明の感光性樹脂レジストはともに、本質的にアルカリ現
像性を有するが、必要に応じて、アミノ基含有化合物を
さらに添加することにより、水現像性を付与することも
できる。このようなアミノ基含有化合物としては、例え
ばアンモニアのほか、第一級〜第三級のアミノ基を１つ
以上有する化合物（以下、「アミン類」という。）、酸
アミド類、酸イミド類等をを挙げることができる。

【００４７】前記アミン類としては、例えばメチルアミ
ン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン等の
第一級アミン類：ジメチルアミン、メチルエチルアミ
ン、ジエチルアミン、メチルプロピルアミン、エチルプ
ロピルアミン、ジプロピルアミン、メチルブチルアミ
ン、エチルブチルアミン、プロピルブチルアミン、ジブ
チルアミン等の第二級アミン類：並びに第三級アミン類
として、トリメチルアミン、メチルジエチルアミン、ジ
メチルエチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルプロ
ピルアミン、メチルエチルプロピルアミン、ジエチルプ
ロピルアミン、メチルジプロピルアミン、エチルジプロ
ピルアミン、トリプロピルアミン、ジメチルブチルアミ
ン、メチルジブチルアミン、メチルエチルブチルアミ
ン、ジエチルブチルアミン、エチルジブチルアミン、メ
チルプロピルブチルアミン、エチルプロピルブチルアミ
ン、ジプロピルブチルアミン、プロピルジブチルアミ
ン、トリブチルアミン等のトリアルキルアミン類；ジメ
チルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、ジ
エチルエタノールアミン、エチルジエタノールアミン等
のアルキルアルカノール第三級アミン類；トリエタノー
ルアミン、ジエタノールプロパノールアミン、エタノー
ルジプロパノールアミン、トリプロパノールアミン等の
トリアルカノールアミン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエ
トキシエタノール、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエトキシエ
タノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエトキシプロパノー
ル、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエトキシプロパノール等の
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルコキシアルカノール類；

【００４８】Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）ア
クリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）ア
クリレート、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノエチル（メタ）
アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メ
タ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノプロ
ピル（メタ）アクリレート等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミ
ノアルキル（メタ）アクリレート類；Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノエトキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアミノエトキシエチル（メタ）アクリレート等
のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノアルコキシアルキル（メ
タ）アクリレート類；Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミ
ノエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’
−ジエチルアミノエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ
−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノプロピル）（メタ）ア
クリルアミド、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジエチルアミノプロ
ピル）（メタ）アクリルアミド等の第三級アミノ基含有
（メタ）アクリルアミド類；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエ
チル−Ｎ’−（メタ）アクリロイルカーバメート、Ｎ，
Ｎ−ジエチルアミノエチル−Ｎ’−（メタ）アクリロイ
ルカーバメート等の第三級アミノ基含有カーバメート類
等を挙げることができる。

【００４９】また、前記酸アミド類としては、例えばホ
ルムアミド、アセトアミド、ベンズアミド、ニコチン酸
アミド等を挙げることができ、前記酸イミド類として
は、カルビミド、コハク酸イミド、フタル酸イミド等を
挙げることができる。

【００５０】前記アミノ基含有化合物のうち、良好な水
現像性を付与しうる第三級アミン類や酸アミド類が好ま
しく、特に、光重合後の感光性樹脂組成物および感光性
レジストの強度の観点からでは、第三級アミノ基含有
（メタ）アクリレート類、第三級アミノ基含有（メタ）
アクリルアミド類等のエチレン性不飽和基を有する第三
級アミン類が好ましく、また水現像性の観点からでは、
トリアルカノールアミン類や酸アミド類が好ましい。

【００５１】これらのアミノ基含有化合物の配合量は、
感光性樹脂組成物あるいは感光性レジストの使用目的に
応じて適宜選定することができるが、アミノ基の含量
が、感光性樹脂組成物の場合は、共重合体（ａ）中の不
飽和基含有カルボン酸および水酸基含有不飽和エステル
の合計１モル当たり、あるいは感光性樹脂レジストの場
合は、共重合体（ｂ）中の不飽和基含有カルボン酸１モ
ル当たり、好ましくは０．３モル以上、さらに好ましく
は０．５モル以上となるように使用される。この範囲内
であれば、アミノ基含有化合物は、単独でまたは２種以
上を混合して使用することができる。アミノ基の含量
が、０．３モル未満では、水現像性が十分改善されない
場合がある。但し、アミノ基の含量が２モルを超えて
も、特に水現像性が向上するわけではないので、不経済
である。なお、第１発明あるいは第２発明においては、
光重合性単量体とアミノ基含有化合物とが同一の化合物
となる場合もありうるが、それらの場合の該化合物の配
合量は、光重合性単量体およびアミノ基含有化合物それ
ぞれの前記好ましい範囲をともに満足するよう調節され
る。

【００５２】また、第１発明の感光性樹脂組成物および
第２発明の感光性樹脂レジストには、必要に応じて、各
種添加剤をさらに配合することができる。前記添加剤の
例としては、保存安定剤として作用する熱付加重合禁止
剤が挙げられる。前記熱付加重合禁止剤としては、例え
ばヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、モ
ノ−ｔ−ブチルヒドロキノン、カテコール、ｐ−ｔ−ブ
チルカテコール、ｐ−メトキシフェノール、ｐ−ｔ−ブ
チルカテコール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾ
ール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｍ−クレゾール、ピロ
ガロール、β−ナフトール等のヒドロキシ芳香族化合
物；ベンゾキノン、２，５−ジフェニル−ｐ−ベンゾキ
ノン、ｐ−トルキノン、ｐ−キシロキノン等のキノン
類；ニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、２−メチ
ル−２−ニトロソプロパン、α−フェニル−ｔ−ブチル
ニトロン、５，５−ジメチル−１−ピロリン−１−オキ
シド等のニトロ化合物またはニトロン化合物；クロラニ
ル−アミン系、ジフェニルアミン、ジフェニルピクリル
ヒドラジン、フェノール−α−ナフチルアミン、ピリジ
ン、フェノチアジン等のアミン類；ジチオベンゾイルス
ルフィド、ジベンジルテトラスルフィド等のスルフィド
類；１，１−ジフェニルエチレン、α−メチルチオアク
リロニトリル等の不飽和化合物；チオニンブルー、トル
イジンブルー、メチレンブルー等のチアジン染料；１，
１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジル、１，３，５
−トリフェニルフェルダジル、４−ヒドロキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシル、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−α−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル）−４−オキソ−２，５−シクロヘキサジエン−１−
イリデン−ｐ−トリオキシル等の安定ラジカル等を挙げ
ることができる。これらの熱付加重合禁止剤は、単独で
または２種以上を混合して使用することができ、その配
合量は、全感光性樹脂組成物１００重量部当たり、例え
ば０．００１〜２．０重量部程度である。さらに、他の
添加剤としては、酸化防止剤、充填材、補強材、可塑
剤、ハレーション防止剤等が挙げられる。

【００５３】第１発明の感光性樹脂組成物および第２発
明の感光性樹脂レジストは、光重合性共重合体（Ａ）あ
るいは光重合性共重合体（Ｂ）、光重合性単量体、およ
び光重合開始剤を、必要に応じて配合されるアミノ基含
有化合物や各種添加剤とともに、通常、加温下で、例え
ばニーダー、インターミキサー等を用いて十分混合する
ことにより得ることができる。得られる組成物あるいは
レジストの性状は、流動性のないワックス状乃至ゴム状
から、流動性が良好な低粘度液状までに自由に調節する
ことができ、その流動性の程度は、組成物の使用目的に
応じて適宜選定される。特に低粘度の組成物あるいはレ
ジストが好ましい場合は、溶媒を適当量添加することも
できる。第１発明の感光性樹脂組成物から感光性樹脂膜
を作製する際、あるいは第２発明の感光性樹脂レジスト
からレジスト膜を作製する際には、該組成物あるいは該
レジストの流動性の程度に応じて、各種の方法を採用す
ることができる。例えば流動性がないか流動性が低い組
成物あるいはレジストの場合は、適度の間隔を有するス
ペーサー間に通すか、ロールコーター等の塗布装置を用
いて適当な支持体上に塗布するか、圧縮成形、押出成
形、カレンダー成形等により、所望の膜厚に成膜するこ
とができる。また、流動性が良好な組成物あるいはレジ
ストは、ロールコート、カレンダーコート、ドクターブ
レードコート、エアナイフコート等の適宜の塗布方法に
より支持体上に塗布して成膜することができるほか、特
にスピンコートによりレジスト膜を形成するのに適して
いる。このようにして作製された感光性樹脂膜あるいは
感光性レジスト膜は、所望のパターンのネガフィルム等
を介して紫外線等の化学活性線で露光し、未露光部をア
ルカリ現像液あるいは純水で洗浄、除去したのち、乾燥
することにより、鮮明なレリーフ画像を形成することが
できる。この場合、必要により、乾燥後再露光すること
もできる。

【００５４】第１発明の感光性樹脂組成物および第２発
明の感光性樹脂レジストは、感光性および膠着性に優れ
るとともに、アルカリ現像あるいは水現像に適するもの
であり、しかも流動性のないワックス状乃至ゴム状から
低粘度液状までの性状を自由にとることができる。本発
明の組成物およびレジストの膠着性は、実施例１記載の
手順で評価したとき、ポリエステルフィルムを銅箔から
剥離後、該フィルム上に残存する組成物層あるいはレジ
スト層が塗布面積の５％を越えることがない。したがっ
て、第１発明の感光性樹脂組成物は、例えばフォトレジ
スト、印刷版等の分野において好適に使用することがで
きるほか、感光性印刷インキ、感光性塗料、感光性接着
剤、光成形材料等としても有用であり、また第２発明の
感光性樹脂レジストは、例えば集積回路製造用、液晶表
示素子製造用等のフォトレジスト等として有用である。
第１発明の感光性樹脂組成物あるいは第２発明の感光性
樹脂レジストは、各種基材に対して適用することができ
る。このような基材としては、例えば熱可塑性あるいは
熱硬化性のプラスチック、強化プラスチック、ゴム、金
属、半導体、セラミック、ガラス等や、これらの２以上
の材料からなる積層材あるいは複合材等を挙げることが
でき、特に積層材の好ましい例としては、プラスチッ
ク、ゴム、セラミック等の電気絶縁性基板上に銅、アル
ミニウム等の金属薄膜を形成したものを挙げることがで
きる。また、これらの基材は発泡体でも非発泡体でもよ
い。

【００５５】

【実施例】以下、実施例および比較例を挙げてさらに具
体的に説明するが、本発明は、その要旨を越えない限
り、これらの実施例に何ら制約されるものではない。 実施例１感光性樹脂組成物の調製 ２−エチルヘキシルアクリレート／ブチルアクリレート
／アクリル酸／２−ヒドロキシエチルアクリレート＝３
５／２０／３５／１０（モル％）からなる組成の単量体
混合物を、アゾビスイソブチロニトリルを重合開始剤と
し、３−メトキシプロピオン酸メチル溶媒中６５℃で溶
液重合して、共重合体（ａ）を得た。次いで、この共重
合体（ａ）１００重量部当たり、１０重量部のグリシジ
ルメタクリレートおよび触媒量の臭化テトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウムを添加し、７０℃で１０時間エステル化
反応を行って、メタクリロイル基が導入された光重合性
共重合体（Ａ）（重量平均分子量＝８５，０００）を得
た。前記光重合性共重合体（Ａ）１００重量部に対し
て、光重合性単量体としてノナエチレングリコールモノ
メタクリレート３重量部とトリメチロールプロパントリ
メタクリレート３重量部との混合物、光重合開始剤とし
て２，２−ジメトキシフェニルアセトフェノン３重量部
および熱付加重合禁止剤としてｐ−ｔ−ブチルカテコー
ル０．５重量部を配合したのち、孔径０．５μｍのフィ
ルターでろ過して、感光性樹脂組成物を調製した。感光性の評価 前記のようにして調製した感光性樹脂組成物をシリコン
ウエハー上にスピンコートしたのち、９０℃に保持した
ホットプレート上で２分間プレベークを行って、乾燥膜
厚１．５μｍのレジスト膜を形成した。このレジスト膜
に、ライン幅とスペース幅とが等しいテストパターンレ
チクル（１Ｌ１Ｓパターン）を用い、アライナー（商品
名ＣＡＮＯＮ ＰＬＡ５０１Ｆ、近接モード）で３０秒
間露光したのち、２重量％テトラメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド水溶液からなる現像液により、２５℃
で５分間現像し、乾燥した。得られたレジストパターン
を光学顕微鏡で観察して、感光性（残膜率および現像残
り）を評価した。評価結果を、表１に示す。膠着性の評価 前記のようにして調製した感光性樹脂組成物をポリエス
テルフィルム上に塗布し、１１０℃の加熱空気中で３分
間乾燥したのち、清浄な銅箔で被覆されたガラス繊維強
化エポキシ樹脂板上に積層した。次いで感光性の評価時
と同一条件で露光したのち、ポリエステルフィルムを剥
離して、下記の基準で、レジストの膠着性を評価した。 ○：ポリエステルフィルム上に残存するレジスト層が塗
布面積の２％未満。 △：ポリエステルフィルム上に残存するレジスト層が塗
布面積の２〜５％。 ×：ポリエステルフィルム上に残存するレジスト層が塗
布面積の５％を越える。 評価結果を、表１に示す。表１から明らかなように、本
発明の感光性樹脂組成物は、優れた感光性を有し、且つ
膠着性も良好であり、優れた特性バランスを有するもの
である。

【００５６】実施例２ ２−エチルヘキシルアクリレート／ブチルアクリレート
／アクリル酸／２−ヒドロキシプロピルアクリレート＝
３５／２０／３５／１０（モル％）からなる組成の単量
体混合物を、アゾビスイソブチロニトリルを重合開始剤
とし、３−メトキシプロピオン酸メチル溶媒中６５℃で
溶液重合して、共重合体（ａ）を得た。別に、等モルの
２−ヒドロキシエチルメタクリレート（２−ＨＥＭ）と
トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）とを反応させて、
イソシアネート基含有メタクリル酸エステル（２−ＨＥ
Ｍ／ＴＤＩ付加物）を合成した。前記共重合体（ａ）１
００重量部に対して、触媒量のジ−ｎ−ブチル錫ジラウ
レートの存在下で、前記２−ＨＥＭ／ＴＤＩ付加物２０
重量部を添加し、５０℃で７時間ウレタン化反応を行っ
て、メタクリロイル基が導入された光重合性共重合体
（Ａ）（重量平均分子量＝８３，０００）を得た。次い
で、表１に示す組成で配合し、実施例１と同様の手順
で、感光性樹脂組成物の調製および各評価を行った。評
価結果を表１に示す。表１から明らかなように、本発明
の感光性樹脂組成物は、優れた感光性を有し、且つ膠着
性も良好であり、優れた特性バランスを有するものであ
る。

【００５７】実施例３ アミノ基含有化合物として、N,N-ジメチルアミノプロピ
ルアクリルアミド５重量部をさらに配合した以外は、実
施例１と同様の手順で、感光性樹脂組成物の調製および
各評価を行った。評価結果を表１に示す。表１から明ら
かなように、本発明の感光性樹脂組成物は、優れた感光
性を有し、且つ膠着性も良好であり、優れた特性バラン
スを有するものである。

【００５８】実施例４ ２−エチルヘキシルアクリレート／アクリル酸／ω−カ
ルボキシジ（ペンタメチレンカルボキシ）オキシアクリ
レート／２−ヒドロキシブチルメタクリレート＝５０／
１５／２５／１０（モル％）からなる組成の単量体混合
物を、アゾビスイソブチロニトリルを重合開始剤とし、
３−メトキシプロピオン酸メチル溶媒中６５℃で溶液重
合して、共重合体（ａ）を得た。この共重合体（ａ）に
対して、実施例１と同様にしてメタクリロイル基を導入
した光重合性共重合体（Ａ）（重量平均分子量＝８４，
０００）を用いた以外は、実施例１と同様の手順で、感
光性樹脂レジストの調製および各評価を行った。評価結
果を表１に示す。表１から明らかなように、本発明の感
光性樹脂レジストは、優れた感光性を有し、且つ膠着性
も良好であり、優れた特性バランスを有するものであ
る。

【００５９】実施例５ ２−エチルヘキシルアクリレート／ω−カルボキシジ
（ペンタメチレンカルボキシ）オキシアクリレート／２
−ヒドロキシエチルアクリレート＝５０／３０／２０
（モル％）からなる組成の単量体混合物を、アゾビスイ
ソブチロニトリルを重合開始剤とし、３−メトキシプロ
ピオン酸メチル溶媒中６５℃で溶液重合して、共重合体
（ａ）を得た。この共重合体（ａ）に対して、実施例１
と同様にしてメタクリロイル基を導入した光重合性共重
合体（Ａ）（重量平均分子量＝８５，０００）を用いた
以外は、実施例１と同様の手順で、感光性樹脂レジスト
の調製および各評価を行った。評価結果を表１に示す。
表１から明らかなように、本発明の感光性樹脂レジスト
は、優れた感光性を有し、且つ膠着性も良好であり、優
れた特性バランスを有するものである。

【００６０】実施例６ ２−エチルヘキシルアクリレート／ブチルアクリレート
／アクリル酸＝４０／２５／３５（モル％）からなる組
成の単量体混合物を、アゾビスイソブチロニトリルを重
合開始剤とし、３−メトキシプロピオン酸メチル溶媒中
６５℃で溶液重合して、共重合体（ｂ）を得た。この共
重合体（ｂ）に対して、実施例１と同様にしてメタクリ
ロイル基を導入した光重合性共重合体（Ｂ）（重量平均
分子量＝８０，０００）を用いた以外は、実施例１と同
様の手順で、感光性樹脂レジストの調製および各評価を
行った。評価結果を表１に示す。表２から明らかなよう
に、本発明の感光性樹脂レジストは、優れた感光性を有
し、且つ膠着性も良好であり、優れた特性バランスを有
するものである。

【００６１】実施例７ ２−エチルヘキシルアクリレート／ブチルアクリレート
／アクリル酸／ω−カルボキシジ（ペンタメチレンカル
ボキシ）オキシアクリレート＝５０／１０／１５／２５
（モル％）からなる組成の単量体混合物を、アゾビスイ
ソブチロニトリルを重合開始剤とし、３−メトキシプロ
ピオン酸メチル溶媒中６５℃で溶液重合して、共重合体
（ｂ）を得た。この共重合体（ｂ）に対して、実施例１
と同様にしてメタクリロイル基を導入した光重合性共重
合体（Ｂ）（重量平均分子量＝８６，０００）を用いた
以外は、実施例１と同様の手順で、感光性樹脂レジスト
の調製および各評価を行った。評価結果を表１に示す。
表１から明らかなように、本発明の感光性樹脂レジスト
は、優れた感光性を有し、且つ膠着性も良好であり、優
れた特性バランスを有するものである。

【００６２】比較例１ 実施例１の光重合性共重合体（Ａ）に代えて、実施例１
の共重合体（ａ）を用いた以外は、実施例１と同様の手
順で、感光性樹脂組成物の調製および評価を行った。評
価結果を表２に示す。表２から明らかなように、この感
光性樹脂組成物は、現像残りは認められなかったが、残
膜率および膠着性に劣るものであった。

【００６３】比較例２ ２−エチルヘキシルアクリレート／ブチルアクリレート
／アクリル酸／２−ヒドロキシエチルアクリレート／ジ
ビニルベンゼン＝３３／２０／３５／１０／２（モル
％）からなる組成の単量体混合物を、過硫酸カリウムを
重合開始剤とし、ラウリル硫酸ナトリウムを乳化剤とし
て用い、４５℃で乳化重合して、共重合体を得た。次い
で、この共重合体１００重量部当たり、１０重量部のグ
リシジルメタクリレートおよび触媒量の臭化テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウムを添加し、７０℃で１０時間エス
テル化反応を行って、メタクリロイル基が導入された光
重合性共重合体を得た。この光重合性共重合体を、実施
例１の光重合性共重合体（Ａ）に代えて用いた以外は、
実施例１と同様の手順で、感光性樹脂組成物の調製およ
び評価を行った。評価結果を表２に示す。表２から明ら
かなように、光重合性共重合体の単量体成分としてジビ
ニルベンゼンを用いた感光性樹脂組成物は、現像残りは
認められなかったが、残膜率および膠着性に劣るもので
あった。

【００６４】比較例３ ２−エチルヘキシルアクリレート／ブチルアクリレート
／２−ヒドロキシエチルアクリレート＝５０／４０／１
０（モル％）からなる組成の単量体混合物を、実施例２
と同様の手順で溶液重合して得た共重合体に対して、前
記２−ＨＥＭ／ＴＤＩ付加物を添加してウレタン化反応
を行うことにより、メタクリロイル基が導入された光重
合性共重合体（重量平均分子量＝８０，０００）を用い
た以外は、実施例２と同様の手順で、感光性樹脂組成物
の調製および各評価を行った。評価結果を表２に示す。
表２から明らかなように、光重合性共重合体の単量体成
分に不飽和基含有カルボン酸を含まない感光性樹脂組成
物は、膠着性が劣り、また感光性も不十分であった。

【００６５】比較例４ 実施例１の光重合性共重合体（Ａ）のみを用い、光重合
性単量体および光重合開始剤をいずれも配合しなかった
以外は、実施例１と同様の手順で、各評価を行った。評
価結果を表２に示す。表２から明らかなように、光重合
性共重合体（Ａ）単独では、膠着性を有するが、感光性
が劣っていた。

【００６６】

【表１】

【００６７】

【表２】

【００６８】

【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物および感光性
樹脂レジストは、膠着性および感光性に優れるととも
に、アルカリ現像あるいは水現像に適するものであり、
しかも流動性のないワックス状乃至ゴム状から低粘度液
状までの性状に自由に調節することができる。したがっ
て、本発明の感光性樹脂組成物は、有機溶剤を用いない
感光性材料として、フォトレジスト、印刷版等の分野に
おいて好適に使用することができるほか、感光性印刷イ
ンキ、感光性塗料、感光性接着剤、光成形材料等として
も有用であり、また本発明の感光性樹脂レジストは、有
機溶剤を用いない集積回路製造用等のフォトレジスト等
として極めて有用である。

【表１】

【表１】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/027 ５１１ 7/028 Ｈ０１Ｌ 21/027

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （１）モノエチレン性不飽和カルボン
   酸エステル３０〜８０モル％、カルボキシル基含有モ
   ノエチレン性不飽和単量体１０〜５０モル％、水酸基
   を有するモノエチレン性不飽和基含有カルボン酸エステ
   ル５〜３０モル％、および他の共重合可能なモノエチ
   レン性不飽和単量体０〜１０モル％からなる共重合体
   （但し、＋＋＋＝１００モル％）に、その含有
   する官能基を介して、光重合可能なエチレン性不飽和基
   を有する反応性化合物を反応させて光重合性基を導入す
   ることにより得られる光重合性共重合体、（２）光重合
   可能なエチレン性不飽和単量体、並びに（３）光重合開
   始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 （１）モノエチレン性不飽和カルボン
   酸エステル３０〜８０モル％、カルボキシル基含有モ
   ノエチレン性不飽和単量体１０〜５０モル％、および
   他の共重合可能なモノエチレン性不飽和単量体（但し、
   水酸基を有するモノエチレン性不飽和基含有カルボン酸
   エステルを除く。）０〜１０モル％からなる共重合体
   （但し、＋＋＝１００モル％）に、その含有する
   官能基を介して、光重合可能なエチレン性不飽和基を有
   する反応性化合物を反応させて光重合性基を導入するこ
   とにより得られる光重合性共重合体、（２）光重合可能
   なエチレン性不飽和単量体、並びに（３）光重合開始剤
   を含有することを特徴とする感光性樹脂レジスト。