JPH07234506A - 水性の光画像形成性組成物及びその乾燥フィルム - Google Patents
水性の光画像形成性組成物及びその乾燥フィルムInfo
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- JPH07234506A JPH07234506A JP7007978A JP797895A JPH07234506A JP H07234506 A JPH07234506 A JP H07234506A JP 7007978 A JP7007978 A JP 7007978A JP 797895 A JP797895 A JP 797895A JP H07234506 A JPH07234506 A JP H07234506A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明はプリント回路板を形成するために
使用されるようなフォトレジストのための水性液体で適
用される画像形成性組成物を提供する。 【構成】 本発明の組成物はＡ）５０〜２５０の酸価を
提供するカルボン酸官能価を有するラテックスバインダ
ーポリマー３０〜８０ｗｔ％；Ｂ）α、β−エチレン系
不飽和モノマー１５〜５０ｗｔ％；Ｃ）フリーラジカル
を発生する光開始剤又は光開始剤薬品系０．１〜２５ｗ
ｔ％；Ｄ）前記ラテックスバインダーポリマーのエマル
ジョンを安定化するために充分な量の中和用塩基及び／
又はポリエーテルポリウレタン連合増粘剤１〜４０ｗｔ
％; 及び、Ｅ）ポリ（シロキサン）又はポリ（シロキサ
ン）の混合物０．１ｗｔ％〜１０ｗｔ％を含む水性の光
画像形成性組成物である。
使用されるようなフォトレジストのための水性液体で適
用される画像形成性組成物を提供する。 【構成】 本発明の組成物はＡ）５０〜２５０の酸価を
提供するカルボン酸官能価を有するラテックスバインダ
ーポリマー３０〜８０ｗｔ％；Ｂ）α、β−エチレン系
不飽和モノマー１５〜５０ｗｔ％；Ｃ）フリーラジカル
を発生する光開始剤又は光開始剤薬品系０．１〜２５ｗ
ｔ％；Ｄ）前記ラテックスバインダーポリマーのエマル
ジョンを安定化するために充分な量の中和用塩基及び／
又はポリエーテルポリウレタン連合増粘剤１〜４０ｗｔ
％; 及び、Ｅ）ポリ（シロキサン）又はポリ（シロキサ
ン）の混合物０．１ｗｔ％〜１０ｗｔ％を含む水性の光
画像形成性組成物である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプリント回路板を形成す
るために使用されるようなフォトレジストに関し、そし
て、より詳細には水性の液体適用されるフォトレジスト
に関する。
るために使用されるようなフォトレジストに関し、そし
て、より詳細には水性の液体適用されるフォトレジスト
に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】プリン
ト回路、印刷版、ハンダマスク等を形成するためのレジ
ストに有用な光画像形成性組成物は現在まで使用されて
きている。最も初期のフォトレジストは溶剤輸送性及び
溶剤現像性であった。水性現像性レジストの現像は作業
現場及び一般環境中に溶剤排出を減じる点で進歩を示し
た。作業所及び一般環境の両方から排出される有機溶剤
を減じることの継続的な重要性は、配合されて、そして
水性液体として適用される水性のフォトレジストの探究
に拍車をかけた。
ト回路、印刷版、ハンダマスク等を形成するためのレジ
ストに有用な光画像形成性組成物は現在まで使用されて
きている。最も初期のフォトレジストは溶剤輸送性及び
溶剤現像性であった。水性現像性レジストの現像は作業
現場及び一般環境中に溶剤排出を減じる点で進歩を示し
た。作業所及び一般環境の両方から排出される有機溶剤
を減じることの継続的な重要性は、配合されて、そして
水性液体として適用される水性のフォトレジストの探究
に拍車をかけた。
【０００３】米国特許第５，０４５，４３５号は、アル
カリ水性溶液中で現像可能な水性フォトレジスト組成物
を記載しており、その開示をここに引用により取り入れ
る。この組成物は多官能性モノマー、光開始剤、及び水
不溶性カルボキシル化アクリルコポリマーのラテックス
を含む。組成物を安定化させ、そして粘度を調節するた
めに、この特許は、アンモニア、他のアミン又は水酸化
ナトリウムのような塩基でラテックスポリマーを少なく
とも２５％まで中和することを教示している。
カリ水性溶液中で現像可能な水性フォトレジスト組成物
を記載しており、その開示をここに引用により取り入れ
る。この組成物は多官能性モノマー、光開始剤、及び水
不溶性カルボキシル化アクリルコポリマーのラテックス
を含む。組成物を安定化させ、そして粘度を調節するた
めに、この特許は、アンモニア、他のアミン又は水酸化
ナトリウムのような塩基でラテックスポリマーを少なく
とも２５％まで中和することを教示している。
【０００４】高解像でアートワークのパターンを最も正
確に再現するためには、アートワーク（又はフォトツー
ル）が光画像形成性組成物層と直接的に接触して横たわ
った接触印刷が、通常、必要である。接触印刷は小さな
（３ミル未満（７６．２ミクロン））回路幾何の解像度
を達成する必要がある。もし接触印刷が使用されようと
するならば、光画像形成性組成物の表面はアートワーク
に対して付着しないように充分に不粘着性でなければな
らない。少量の光画像形成性組成物の転写でさえ、アー
トワークを永久的に損傷させ、又は、アートワークの長
時間の清浄が必要となりうる。
確に再現するためには、アートワーク（又はフォトツー
ル）が光画像形成性組成物層と直接的に接触して横たわ
った接触印刷が、通常、必要である。接触印刷は小さな
（３ミル未満（７６．２ミクロン））回路幾何の解像度
を達成する必要がある。もし接触印刷が使用されようと
するならば、光画像形成性組成物の表面はアートワーク
に対して付着しないように充分に不粘着性でなければな
らない。少量の光画像形成性組成物の転写でさえ、アー
トワークを永久的に損傷させ、又は、アートワークの長
時間の清浄が必要となりうる。
【０００５】本発明の一般的な目的は水性の光画像形成
性組成物を提供することであり、それは、層として適用
されるときに、アートワークが直接接触して置かれるた
めに充分に不粘着性である表面を有する。
性組成物を提供することであり、それは、層として適用
されるときに、アートワークが直接接触して置かれるた
めに充分に不粘着性である表面を有する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明により、水性の光
画像形成性組成物はＡ）酸官能基、例えば、カルボン酸
官能基又はスルホン酸官能基を有するラテックスバイン
ダーポリマーであって、約５０〜約２５０の酸価を提供
するラテックスバインダーポリマー約３０〜８０ｗｔ
％、Ｂ）α−、β−エチレン系不飽和モノマー約１５〜
約５０ｗｔ％、Ｃ）フリーラジカルを発生する光開始剤
若しくは光開始剤薬品系約０．１〜約２５ｗｔ％、Ｄ）
光画像形成性組成物を水性エマルジョンとして安定化さ
せるために充分な量の中和塩基及び／又はポリエーテル
ポリウレタン連合増粘剤（associate thickner) 約１〜
約４０ｗｔ％、及びＥ）（ポリ）シロキサン若しくは
（ポリ）シロキサン混合物約０．１〜約１０ｗｔ％を含
む水性組成物を含んでなり、ここで、重量％は成分Ａ〜
Ｅの総重量基準である。
画像形成性組成物はＡ）酸官能基、例えば、カルボン酸
官能基又はスルホン酸官能基を有するラテックスバイン
ダーポリマーであって、約５０〜約２５０の酸価を提供
するラテックスバインダーポリマー約３０〜８０ｗｔ
％、Ｂ）α−、β−エチレン系不飽和モノマー約１５〜
約５０ｗｔ％、Ｃ）フリーラジカルを発生する光開始剤
若しくは光開始剤薬品系約０．１〜約２５ｗｔ％、Ｄ）
光画像形成性組成物を水性エマルジョンとして安定化さ
せるために充分な量の中和塩基及び／又はポリエーテル
ポリウレタン連合増粘剤（associate thickner) 約１〜
約４０ｗｔ％、及びＥ）（ポリ）シロキサン若しくは
（ポリ）シロキサン混合物約０．１〜約１０ｗｔ％を含
む水性組成物を含んでなり、ここで、重量％は成分Ａ〜
Ｅの総重量基準である。
【０００７】本発明の光画像形成性組成物に有用なラテ
ックスバインダーポリマーは、通常、α−、β−不飽和
モノマー、例えば、ビニル、アクリレート又はスチレン
モノマーの乳化重合により製造される。充分な酸官能性
モノマーは約５０〜約２５０、好ましくは少なくとも約
１００の酸価を提供するように使用される。通常の乳化
重合手順及び適切なエマルジョンの特定の例は米国特許
第３，９２９，７４３号に記載されており、その教示を
ここに引用により取り入れる。適切なエマルジョンは市
販によっても入手可能であり、例えば、ＩＣＩ Ｒｅｓ
ｉｎｓ Ｕ．Ｓ．から入手可能なＮｅｏｃｒｙｌ（商
標）ＣＬ−３４０（４０％固形分）及びＲｏｈｍ ａｎ
ｄ Ｈａａｓから入手可能なＡｃｒｙｓｏｌ（商標）Ｉ
−２０７４（４６％固形分）である。
ックスバインダーポリマーは、通常、α−、β−不飽和
モノマー、例えば、ビニル、アクリレート又はスチレン
モノマーの乳化重合により製造される。充分な酸官能性
モノマーは約５０〜約２５０、好ましくは少なくとも約
１００の酸価を提供するように使用される。通常の乳化
重合手順及び適切なエマルジョンの特定の例は米国特許
第３，９２９，７４３号に記載されており、その教示を
ここに引用により取り入れる。適切なエマルジョンは市
販によっても入手可能であり、例えば、ＩＣＩ Ｒｅｓ
ｉｎｓ Ｕ．Ｓ．から入手可能なＮｅｏｃｒｙｌ（商
標）ＣＬ−３４０（４０％固形分）及びＲｏｈｍ ａｎ
ｄ Ｈａａｓから入手可能なＡｃｒｙｓｏｌ（商標）Ｉ
−２０７４（４６％固形分）である。
【０００８】酸官能性バインダーポリマーの形成に使用
するのに適切な酸官能性モノマーは、式
するのに適切な酸官能性モノマーは、式
【０００９】
【化１】
【００１０】（式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を表
し、Ｒ2 は（ＣＨ2 ）n を表し、ここで、ｎは１〜６の
整数であり、Ｒ3 は１〜６個の炭素原子を有するアルキ
レン基又はフェニレン基を表し、そして、Ｒ4 は同一で
あるか又は異なり、ＣＨ2 及びＣＨＯＨから選ばれ
る。）を有する。
し、Ｒ2 は（ＣＨ2 ）n を表し、ここで、ｎは１〜６の
整数であり、Ｒ3 は１〜６個の炭素原子を有するアルキ
レン基又はフェニレン基を表し、そして、Ｒ4 は同一で
あるか又は異なり、ＣＨ2 及びＣＨＯＨから選ばれ
る。）を有する。
【００１１】適切な酸官能性モノマーの幾つかの特定の
例はアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、シトラコン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホン酸、２−プロペノン酸−２−メチル−２
−スルホエチルエステル、２−ヒドロキシエチルアクリ
ローリルホスフェート、２−ヒドロキシプロピルアクリ
ロールホスフェート、２−ヒドロキシ−α−アクリロイ
ルホスフェート等である。１種以上のこのような酸官能
性モノマーはバインダーポリマーを形成するために使用
されうる。酸官能性モノマーは非酸官能性モノマー、例
えば、アクリル酸エステル、例えば、メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレ
ート、ブチルメタクリレート、オクチルアクリレート、
２−エトキシエチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリ
レート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、１，３−プロパンジオール
ジアクリレート、デカメチレングリコールジアクリレー
ト、デカメチレングリコールジメタクリレート、１，４
−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジ
メチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジア
クリレート、トリプロピレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールトリアクリレート、２，２−ジ（ｐ−
ヒドロキシフェニル）−プロパンジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチ
ル−２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパン
ジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリ
レート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパント
リアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、ブチレングリコールジメタクリレート、１，３−プ
ロパンジオールジメタクリレート、ブチレングリコール
ジメタクリレート、１，３−プロパンジオールジメタク
リレート、１，２，４−ブタントリオールトリメタクリ
レート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジ
オールジメタクリレート、ペンタエリトリトールトリメ
タクリレート、１−フェニルエチレン−１，２−ジメタ
クリレート、ペンタエリトリトールテトラメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、１，
５−ペンタンジオールジメタクリレート及び１，４−ベ
ンゼンジオールジメタクリレート；スチレン又は置換ス
チレン、例えば、２−メチルスチレン及びビニルトルエ
ン及びビニルエステル、例えば、ビニルアクリレート及
びビニルメタクリレートと共重合して、所望の酸価を提
供することができる。
例はアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、シトラコン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホン酸、２−プロペノン酸−２−メチル−２
−スルホエチルエステル、２−ヒドロキシエチルアクリ
ローリルホスフェート、２−ヒドロキシプロピルアクリ
ロールホスフェート、２−ヒドロキシ−α−アクリロイ
ルホスフェート等である。１種以上のこのような酸官能
性モノマーはバインダーポリマーを形成するために使用
されうる。酸官能性モノマーは非酸官能性モノマー、例
えば、アクリル酸エステル、例えば、メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレ
ート、ブチルメタクリレート、オクチルアクリレート、
２−エトキシエチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリ
レート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、１，３−プロパンジオール
ジアクリレート、デカメチレングリコールジアクリレー
ト、デカメチレングリコールジメタクリレート、１，４
−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジ
メチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジア
クリレート、トリプロピレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールトリアクリレート、２，２−ジ（ｐ−
ヒドロキシフェニル）−プロパンジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチ
ル−２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパン
ジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリ
レート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパント
リアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、ブチレングリコールジメタクリレート、１，３−プ
ロパンジオールジメタクリレート、ブチレングリコール
ジメタクリレート、１，３−プロパンジオールジメタク
リレート、１，２，４−ブタントリオールトリメタクリ
レート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジ
オールジメタクリレート、ペンタエリトリトールトリメ
タクリレート、１−フェニルエチレン−１，２−ジメタ
クリレート、ペンタエリトリトールテトラメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、１，
５−ペンタンジオールジメタクリレート及び１，４−ベ
ンゼンジオールジメタクリレート；スチレン又は置換ス
チレン、例えば、２−メチルスチレン及びビニルトルエ
ン及びビニルエステル、例えば、ビニルアクリレート及
びビニルメタクリレートと共重合して、所望の酸価を提
供することができる。
【００１２】光画像形成性組成物が接触画像形成可能、
即ち、乾燥から不粘着状態であることを確保するため
に、ラテックスバインダーポリマーのガラス転移温度
（Ｔｇ）は好ましくは示差走査熱量計（ＤＳＣ）で２０
°ｍｉｎで測定して少なくとも約６０℃である。ポリマ
ーは、ポリスチレン標品を使用したゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定して約５０
０〜約２００，０００の重量平均分子量（Ｍｗ）を有す
る。
即ち、乾燥から不粘着状態であることを確保するため
に、ラテックスバインダーポリマーのガラス転移温度
（Ｔｇ）は好ましくは示差走査熱量計（ＤＳＣ）で２０
°ｍｉｎで測定して少なくとも約６０℃である。ポリマ
ーは、ポリスチレン標品を使用したゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定して約５０
０〜約２００，０００の重量平均分子量（Ｍｗ）を有す
る。
【００１３】画像を製造するために、このネガティブ作
用光画像形成性組成物は、多官能性モノマーの実質的な
ポーションを含む光重合性モノマー、特に、α−、β−
不飽和モノマーを含む。有用なモノマーは上記のバイン
ダーポリマーを形成するために使用されるモノマーを含
む。特に適切なモノマーは多官能性アクリルモノマー、
例えば、テトラエチレングリコールジアクリレート（Ｔ
ＥＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＴＭＰＴＡ）、ブタンジオールジメタクリレート（Ｂ
ＤＤＭＡ）及びペンタエリトリトールトリアクリレート
（ＰＥＴＡ）を含む。モノマーフラクションは水溶性及
び水不溶性モノマーの両方を含んでよいが、モノマーフ
ラクションが全体として水中に不溶性であるように、モ
ノマーフラクションは充分に高い比率の水不溶性（２０
℃で約０．３ｇ／１００ｍｌを下回る溶解度を有する）
モノマーを、例えば、約２０モル％以上で含むべきであ
る。
用光画像形成性組成物は、多官能性モノマーの実質的な
ポーションを含む光重合性モノマー、特に、α−、β−
不飽和モノマーを含む。有用なモノマーは上記のバイン
ダーポリマーを形成するために使用されるモノマーを含
む。特に適切なモノマーは多官能性アクリルモノマー、
例えば、テトラエチレングリコールジアクリレート（Ｔ
ＥＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリアクリレート
（ＴＭＰＴＡ）、ブタンジオールジメタクリレート（Ｂ
ＤＤＭＡ）及びペンタエリトリトールトリアクリレート
（ＰＥＴＡ）を含む。モノマーフラクションは水溶性及
び水不溶性モノマーの両方を含んでよいが、モノマーフ
ラクションが全体として水中に不溶性であるように、モ
ノマーフラクションは充分に高い比率の水不溶性（２０
℃で約０．３ｇ／１００ｍｌを下回る溶解度を有する）
モノマーを、例えば、約２０モル％以上で含むべきであ
る。
【００１４】化学線に晒したときにモノマーの重合を開
始するために、光画像形成性組成物は適切な光開始剤又
は光開始剤薬品系を含む。適切な光開始剤はベンゾイン
エーテル、ベンジルケタール、アセトフェノン、ベンゾ
フェノン及びアミン関連化合物を含む。好ましい開始剤
は特にアミンとの組み合わせでチオキサントン、例え
ば、２−イソプロピルチオキサントンである。
始するために、光画像形成性組成物は適切な光開始剤又
は光開始剤薬品系を含む。適切な光開始剤はベンゾイン
エーテル、ベンジルケタール、アセトフェノン、ベンゾ
フェノン及びアミン関連化合物を含む。好ましい開始剤
は特にアミンとの組み合わせでチオキサントン、例え
ば、２−イソプロピルチオキサントンである。
【００１５】本発明により、水性の光画像形成性組成物
は、シクロポリ（ジメチルシロキサン）、ポリエーテル
変性ポリ（ジメチルシロキサン）、ポリ（ジメチルシロ
キサン）及びそれらの混合物からなる群より選ばれたポ
リ（シロキサン）を含み、シクロポリ（ジメチルシロキ
サン）及びポリエーテル変性ポリ（ジメチルシロキサ
ン）が好ましい。本発明の特に好ましい態様において、
ポリ（シロキサン）フラクションはシクロジメチルシロ
キサン及びポリエーテル変性ジメチルシロキサンの約
１：９〜約９：１の重量比の混合物である。このような
混合物の例はＤｏｗＣｏｒｎｉｎｇ Ｑ４−３６６７で
あり、それはポリエーテル変性ポリ（ジメチルシロキサ
ン）及びシクロポリ（ジメチルシロキサン）の８０：２
０混合物である。不粘着性表面を提供することに加え
て、材料は水溶性であり、且つ、クレータリング又は他
の欠陥にならないことが望ましい。塗布後、そして、乾
燥前にポリ（シロキサン）は表面が不粘着になるように
表面上をマイグレートする傾向があると信じられてい
る。
は、シクロポリ（ジメチルシロキサン）、ポリエーテル
変性ポリ（ジメチルシロキサン）、ポリ（ジメチルシロ
キサン）及びそれらの混合物からなる群より選ばれたポ
リ（シロキサン）を含み、シクロポリ（ジメチルシロキ
サン）及びポリエーテル変性ポリ（ジメチルシロキサ
ン）が好ましい。本発明の特に好ましい態様において、
ポリ（シロキサン）フラクションはシクロジメチルシロ
キサン及びポリエーテル変性ジメチルシロキサンの約
１：９〜約９：１の重量比の混合物である。このような
混合物の例はＤｏｗＣｏｒｎｉｎｇ Ｑ４−３６６７で
あり、それはポリエーテル変性ポリ（ジメチルシロキサ
ン）及びシクロポリ（ジメチルシロキサン）の８０：２
０混合物である。不粘着性表面を提供することに加え
て、材料は水溶性であり、且つ、クレータリング又は他
の欠陥にならないことが望ましい。塗布後、そして、乾
燥前にポリ（シロキサン）は表面が不粘着になるように
表面上をマイグレートする傾向があると信じられてい
る。
【００１６】本発明に有用なポリ（ジメチルシロキサ
ン）は一般式 （ＣＨ3 ）3 −〔Ｓｉ（Ｍｅ）2 −Ｏ〕n −Ｓｉ（ＣＨ
3 ）3 （式中、ｎは０〜４，０００である。）を有する。
ン）は一般式 （ＣＨ3 ）3 −〔Ｓｉ（Ｍｅ）2 −Ｏ〕n −Ｓｉ（ＣＨ
3 ）3 （式中、ｎは０〜４，０００である。）を有する。
【００１７】ポリエーテル変性ポリ（ジメチルシロキサ
ン）は一般式
ン）は一般式
【００１８】
【化２】
【００１９】（式中、ｎは０〜１，５００であり、ｘは
１〜２，０００であり、ｙは１〜２，０００であり、Ｒ
はＨ又はＣＨ3 であり、Ｒ’は（ＣＨ2 ）0-5 であり、
ｘ及びｙで添字された基はランダム配列である。）を有
する。
１〜２，０００であり、ｙは１〜２，０００であり、Ｒ
はＨ又はＣＨ3 であり、Ｒ’は（ＣＨ2 ）0-5 であり、
ｘ及びｙで添字された基はランダム配列である。）を有
する。
【００２０】ポリ（シロキサン）の分子量は非常に広い
範囲にわたって変化してよい。低分子量ポリ（シロキサ
ン）は１００〜６００Ｍｗの範囲の重量平均分子量を有
することができ、高分子量ポリ（シロキサン）は２，０
００〜５００，０００Ｍｗの範囲の重量平均分子量を有
することができる。
範囲にわたって変化してよい。低分子量ポリ（シロキサ
ン）は１００〜６００Ｍｗの範囲の重量平均分子量を有
することができ、高分子量ポリ（シロキサン）は２，０
００〜５００，０００Ｍｗの範囲の重量平均分子量を有
することができる。
【００２１】水性の光画像形成性組成物は、好ましく
は、フルオロ脂肪族オキシエチレン付加物である界面活
性剤を、上記の成分Ａ）〜Ｅ）の合計重量基準で約０．
５〜約３．０ｗｔ％の含有率で含む。このような界面活
性剤は一般式 ＣＦ3 −（ＣＦ2 ）n −Ｙ−Ｘm −Ｚ （式中、ｎは０〜２０であり、ＹはＳＯ2−Ｎ（Ｃ1 −
Ｃ10アルキル）であり、ＸはＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ又はＣ
Ｈ（ＣＨ3）−ＣＨ2 −Ｏであり、ｍは０〜２０であ
り、そして、ＺはＣＨ2 −ＣＨ2 −ＯＨ又はＣＨ（ＣＨ
3 ）−ＣＨ2 −ＯＨである。）を有する。
は、フルオロ脂肪族オキシエチレン付加物である界面活
性剤を、上記の成分Ａ）〜Ｅ）の合計重量基準で約０．
５〜約３．０ｗｔ％の含有率で含む。このような界面活
性剤は一般式 ＣＦ3 −（ＣＦ2 ）n −Ｙ−Ｘm −Ｚ （式中、ｎは０〜２０であり、ＹはＳＯ2−Ｎ（Ｃ1 −
Ｃ10アルキル）であり、ＸはＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ又はＣ
Ｈ（ＣＨ3）−ＣＨ2 −Ｏであり、ｍは０〜２０であ
り、そして、ＺはＣＨ2 −ＣＨ2 −ＯＨ又はＣＨ（ＣＨ
3 ）−ＣＨ2 −ＯＨである。）を有する。
【００２２】バインダーポリマーを含むエマルジョンの
安定化は必要である。エマルジョン安定化は上記に参照
した米国特許第５，０４５，４３５号に教示したよう
に、塩基による少なくとも部分的な中和により達成され
うる。好ましくは、本願がその一部継続出願である米国
特許出願第０８／１９９，０３７号に教示されるよう
に、エマルジョンの安定化及び粘度調節はポリエーテル
ポリウレタン連合増粘剤を使用して達成される。ポリエ
ーテルポリウレタン増粘剤は、一般にイソシアネートが
２以上のイソシアネート官能価を有する疎水性イソシア
ネートの残基である少なくとも２個の疎水性セグメン
ト、及び、ウレタン結合により疎水性セグメントに結合
する少なくとも１個の親水性ポリエーテルセグメントを
有するポリマーである。連合増粘剤として作用するブロ
ックコポリマーはＡＢＡ、（ＡＢ）n 、星型ポリマー
（star polymers)等を含む多くの種類の形を取ることが
できる。ポリエーテルセグメントはプロピレンオキシド
及びエチレンオキシドのようなモノマーから形成された
ポリ（アルキレンオキシド）セグメントから形成され
る。充分に親水性であるために、一般に、ポリ（アルキ
レンオキシド）セグメントの少なくとも約３モル％がエ
チレンオキシド残基であることが必要である。イソシア
ネート残基の疎水性部分は、通常、アルキル、シクロア
ルキル又は芳香族部分である。ポリエーテルポリウレタ
ン連合増粘剤及びその機能は、例えば、A.J.M.Knoef 及
びH.Slingerland による“Urethane-based Polymeric T
hickner for Aqueous coating Systems ”JOCCA, 199年
9月、pp335 〜338;J.H.BielemanらのPolymers Paint C
olour Journal 1986, V.176 (4169) pp450〜460;及びA.
J.Whitton及びR.E.Van Doren のPolymers Paint Colour
Journal 1991, V.181 (4286) pp374〜377 に記載され
ている。特に適切なポリエーテルポリウレタン連合増粘
剤及びその合成法はEmmonsらの米国特許第４，０７９，
０２８号に記載されており、その教示をここに引用によ
り取り入れる。適切なポリエーテルポリウレタン連合増
粘剤はＨｏｙらの米国特許第４，４２６，４８５号及び
Ｒｕｆｆｅｒらの米国特許第４，７４３，６９８号にも
記載されており、その各々の教示をここに引用により取
り入れる。適切な市販の連合増粘剤の例はＤＳＸ１５１
４（Ｈｅｎｋｅｌ）及びＱＲ７０８（Ｒｏｈｍ ａｎｄ
Ｈａａｓ）である。
安定化は必要である。エマルジョン安定化は上記に参照
した米国特許第５，０４５，４３５号に教示したよう
に、塩基による少なくとも部分的な中和により達成され
うる。好ましくは、本願がその一部継続出願である米国
特許出願第０８／１９９，０３７号に教示されるよう
に、エマルジョンの安定化及び粘度調節はポリエーテル
ポリウレタン連合増粘剤を使用して達成される。ポリエ
ーテルポリウレタン増粘剤は、一般にイソシアネートが
２以上のイソシアネート官能価を有する疎水性イソシア
ネートの残基である少なくとも２個の疎水性セグメン
ト、及び、ウレタン結合により疎水性セグメントに結合
する少なくとも１個の親水性ポリエーテルセグメントを
有するポリマーである。連合増粘剤として作用するブロ
ックコポリマーはＡＢＡ、（ＡＢ）n 、星型ポリマー
（star polymers)等を含む多くの種類の形を取ることが
できる。ポリエーテルセグメントはプロピレンオキシド
及びエチレンオキシドのようなモノマーから形成された
ポリ（アルキレンオキシド）セグメントから形成され
る。充分に親水性であるために、一般に、ポリ（アルキ
レンオキシド）セグメントの少なくとも約３モル％がエ
チレンオキシド残基であることが必要である。イソシア
ネート残基の疎水性部分は、通常、アルキル、シクロア
ルキル又は芳香族部分である。ポリエーテルポリウレタ
ン連合増粘剤及びその機能は、例えば、A.J.M.Knoef 及
びH.Slingerland による“Urethane-based Polymeric T
hickner for Aqueous coating Systems ”JOCCA, 199年
9月、pp335 〜338;J.H.BielemanらのPolymers Paint C
olour Journal 1986, V.176 (4169) pp450〜460;及びA.
J.Whitton及びR.E.Van Doren のPolymers Paint Colour
Journal 1991, V.181 (4286) pp374〜377 に記載され
ている。特に適切なポリエーテルポリウレタン連合増粘
剤及びその合成法はEmmonsらの米国特許第４，０７９，
０２８号に記載されており、その教示をここに引用によ
り取り入れる。適切なポリエーテルポリウレタン連合増
粘剤はＨｏｙらの米国特許第４，４２６，４８５号及び
Ｒｕｆｆｅｒらの米国特許第４，７４３，６９８号にも
記載されており、その各々の教示をここに引用により取
り入れる。適切な市販の連合増粘剤の例はＤＳＸ１５１
４（Ｈｅｎｋｅｌ）及びＱＲ７０８（Ｒｏｈｍ ａｎｄ
Ｈａａｓ）である。
【００２３】ポリエーテルポリウレタン連合増粘剤を使
用することにより、バインダーポリマーラテックスの中
和の必要性が低減される。特定の場合、中和は必要な
い。他の場合、バインダーポリマーの酸官能基の当量の
約２０％までバインダーを中和することが望ましい。通
常、塩基は、バインダーポリマーの酸官能価の少なくと
も約２％を中和するように加えられるであろう。中和は
アンモニア；第一級、第二級又は第三級アミン；又は水
酸化物により行われてよい。好ましい中和用塩基はヒド
ロキシ官能性第三級アミンである。少なくとも特定量の
中和剤の代わりに連合増粘剤を添加することは、より平
滑で、より均一なコーティングを可能にする。向上した
塗膜の品質はコーティング中の薄いスポット又はピンホ
ールにより生じる潜在的な回路板の欠陥を最小にする。
更に、ローラーコーティングにより適用されるときに、
連合増粘剤を含む光画像形成性組成物は、より低いコー
ター圧縮力で、より平滑なコーティングを製造する。よ
り低いローラー圧縮力はゴムローラーの寿命を伸ばすこ
とになる。
用することにより、バインダーポリマーラテックスの中
和の必要性が低減される。特定の場合、中和は必要な
い。他の場合、バインダーポリマーの酸官能基の当量の
約２０％までバインダーを中和することが望ましい。通
常、塩基は、バインダーポリマーの酸官能価の少なくと
も約２％を中和するように加えられるであろう。中和は
アンモニア；第一級、第二級又は第三級アミン；又は水
酸化物により行われてよい。好ましい中和用塩基はヒド
ロキシ官能性第三級アミンである。少なくとも特定量の
中和剤の代わりに連合増粘剤を添加することは、より平
滑で、より均一なコーティングを可能にする。向上した
塗膜の品質はコーティング中の薄いスポット又はピンホ
ールにより生じる潜在的な回路板の欠陥を最小にする。
更に、ローラーコーティングにより適用されるときに、
連合増粘剤を含む光画像形成性組成物は、より低いコー
ター圧縮力で、より平滑なコーティングを製造する。よ
り低いローラー圧縮力はゴムローラーの寿命を伸ばすこ
とになる。
【００２４】中和剤を減じることは、適用され、そして
乾燥された光画像形成性組成物層の耐薬品性を向上す
る。アンモニア又はアミン使用が減じられるとき、臭い
が減じられる。連合増粘剤は水性の光画像形成性組成物
の粘度ドリフトを減じる。高剪断下においてでさえ、粘
度は安定のままである傾向がある。
乾燥された光画像形成性組成物層の耐薬品性を向上す
る。アンモニア又はアミン使用が減じられるとき、臭い
が減じられる。連合増粘剤は水性の光画像形成性組成物
の粘度ドリフトを減じる。高剪断下においてでさえ、粘
度は安定のままである傾向がある。
【００２５】上記の成分Ａ〜Ｅに加えて、少量の（一般
にはＡ〜Ｅの総重量基準で約１０ｗｔ％以下）従来の添
加剤は使用されてよく、それらは、消泡剤、酸化防止
剤、染料、定着剤、スリップ助剤及び他の表面張力調節
剤を含む。
にはＡ〜Ｅの総重量基準で約１０ｗｔ％以下）従来の添
加剤は使用されてよく、それらは、消泡剤、酸化防止
剤、染料、定着剤、スリップ助剤及び他の表面張力調節
剤を含む。
【００２６】本発明の水性の光画像形成性組成物を製造
する好ましい方法において、疎水相と最も相溶性である
成分、例えば、開始剤、酸化防止剤及び染料はモノマー
基剤を生じるようにモノマーフラクションと混合され、
そして、ラテックスポリマーを含む水性相と最も相溶性
である成分、例えば、消泡剤、中和剤、界面活性剤及び
連合増粘剤はポリマーミックスを形成するように混合さ
れる。疎水相およびポリマーミックスはブレンドされ
て、水中疎水相エマルジョンを形成する。次いで、高沸
点溶剤、スリップ助剤、表面張力変性剤及び定着剤を含
む界面活性剤が加えられる。
する好ましい方法において、疎水相と最も相溶性である
成分、例えば、開始剤、酸化防止剤及び染料はモノマー
基剤を生じるようにモノマーフラクションと混合され、
そして、ラテックスポリマーを含む水性相と最も相溶性
である成分、例えば、消泡剤、中和剤、界面活性剤及び
連合増粘剤はポリマーミックスを形成するように混合さ
れる。疎水相およびポリマーミックスはブレンドされ
て、水中疎水相エマルジョンを形成する。次いで、高沸
点溶剤、スリップ助剤、表面張力変性剤及び定着剤を含
む界面活性剤が加えられる。
【００２７】最終の水性組成物は、一般に、約２０〜約
４０重量％固形分である。水性組成物において、バイン
ダーは約１０〜約３０ｗｔ％、モノマーは約３〜約２０
ｗｔ％、開始剤は約０．３〜約１０ｗｔ％、中和塩基及
び／又は増粘剤は約１．５〜約２０ｗｔ％，及び、ポリ
（シロキサン）は約０．０２〜約１ｗｔ％を含む。もし
使用されるならば、フルオロ脂肪族オキシエチレン付加
物界面活性剤は、通常、約０．０６〜約２ｗｔ％で存在
するであろう。
４０重量％固形分である。水性組成物において、バイン
ダーは約１０〜約３０ｗｔ％、モノマーは約３〜約２０
ｗｔ％、開始剤は約０．３〜約１０ｗｔ％、中和塩基及
び／又は増粘剤は約１．５〜約２０ｗｔ％，及び、ポリ
（シロキサン）は約０．０２〜約１ｗｔ％を含む。もし
使用されるならば、フルオロ脂肪族オキシエチレン付加
物界面活性剤は、通常、約０．０６〜約２ｗｔ％で存在
するであろう。
【００２８】組成物は、溶剤輸送性光画像形成性組成物
の塗布用の当業界で知られるあらゆる塗布システム、例
えば、ロールコーティング、ディップコーティング、ス
プレーコーティング又はカーテンコーティングにより塗
布されうる。
の塗布用の当業界で知られるあらゆる塗布システム、例
えば、ロールコーティング、ディップコーティング、ス
プレーコーティング又はカーテンコーティングにより塗
布されうる。
【００２９】本発明の組成物は、液体の組成物として金
属のクラッドのブランクラミネートに直接的に、又は乾
燥フィルムを形成するように高分子支持体シートに従来
の方法により適用される。塗布後、組成物は水を除去す
るように、そして、また、揮発物、アンモニア若しくは
アミン、水等を除去するように乾燥されて、それによ
り、溶液ポリマーを酸性若しくは中性の水性溶液媒体中
で不溶性にする。光画像形成性組成物が乾燥するとき
に、系は連続フィルムに凝集する。乾燥は好ましくは、
水の除去を速め、且つ、アンモニア又は揮発性アミンを
除去するように、幾分高めの温度で行われる。好ましく
は、乾燥は約９０℃の温度で行われる。
属のクラッドのブランクラミネートに直接的に、又は乾
燥フィルムを形成するように高分子支持体シートに従来
の方法により適用される。塗布後、組成物は水を除去す
るように、そして、また、揮発物、アンモニア若しくは
アミン、水等を除去するように乾燥されて、それによ
り、溶液ポリマーを酸性若しくは中性の水性溶液媒体中
で不溶性にする。光画像形成性組成物が乾燥するとき
に、系は連続フィルムに凝集する。乾燥は好ましくは、
水の除去を速め、且つ、アンモニア又は揮発性アミンを
除去するように、幾分高めの温度で行われる。好ましく
は、乾燥は約９０℃の温度で行われる。
【００３０】乾燥フィルムの形成において、水性組成物
は柔軟な支持体シート、例えば、ポリエチレンテレフタ
レートに適用され、その後、水及び揮発物を除去するよ
うに乾燥される。次いで、保護シート、例えば、ポリエ
チレンは光画像形成性組成物層に適用され、そして、乾
燥フィルムはリールに巻かれる。光画像形成性組成物の
乾燥において、特定の場合には、約１〜約２ｗｔ％（光
画像形成性組成物層の固形分に対して）の残留水含有率
を残すことが望ましいことが判る。この残留水は、ラミ
ネートされるときに、光画像形成性組成物を基板、例え
ば、銅クラッド板の表面欠陥に合致させうるように作用
する。
は柔軟な支持体シート、例えば、ポリエチレンテレフタ
レートに適用され、その後、水及び揮発物を除去するよ
うに乾燥される。次いで、保護シート、例えば、ポリエ
チレンは光画像形成性組成物層に適用され、そして、乾
燥フィルムはリールに巻かれる。光画像形成性組成物の
乾燥において、特定の場合には、約１〜約２ｗｔ％（光
画像形成性組成物層の固形分に対して）の残留水含有率
を残すことが望ましいことが判る。この残留水は、ラミ
ネートされるときに、光画像形成性組成物を基板、例え
ば、銅クラッド板の表面欠陥に合致させうるように作用
する。
【００３１】加工は従来の方法で行われる。通常の手順
において、液体の組成物から形成され、又は、乾燥フィ
ルムから層として転写されて形成された光画像形成性組
成物層は、銅クラッド板の銅表面に適用される。光画像
形成性組成物層は適切なアートワークを通して化学線に
照射される。化学線への暴露は露光領域においてモノマ
ーを重合し、現像剤に耐性の架橋構造となる。次に、組
成物は希釈されたアルカリ水溶液、例えば、１％炭酸ナ
トリウム溶液中で現像される。アルカリ溶液はバインダ
ーポリマーのカルボキシル基と塩を形成して、それらを
可溶性にし、そして除去可能にする。現像後、エッチン
グ剤は、レジストが除去された領域から銅を除去するよ
うに使用され、それにより、プリント回路を形成しう
る。その後、残りのレジストは適切なストリッパーを使
用して除去される。
において、液体の組成物から形成され、又は、乾燥フィ
ルムから層として転写されて形成された光画像形成性組
成物層は、銅クラッド板の銅表面に適用される。光画像
形成性組成物層は適切なアートワークを通して化学線に
照射される。化学線への暴露は露光領域においてモノマ
ーを重合し、現像剤に耐性の架橋構造となる。次に、組
成物は希釈されたアルカリ水溶液、例えば、１％炭酸ナ
トリウム溶液中で現像される。アルカリ溶液はバインダ
ーポリマーのカルボキシル基と塩を形成して、それらを
可溶性にし、そして除去可能にする。現像後、エッチン
グ剤は、レジストが除去された領域から銅を除去するよ
うに使用され、それにより、プリント回路を形成しう
る。その後、残りのレジストは適切なストリッパーを使
用して除去される。
【００３２】本発明により、水性の一次画像フォトレジ
ストが提供されるだけでなく、ハンダマスクも提供され
うる。ハンダマスクとは、明細書中、ＩＰＣ−ＳＭ−８
４ＯＢ，表１２、品質／適格基準の要約（Institute fo
r Interconnecting Circuits) に規定されるような耐摩
耗性の最低基準に少なくとも適合する硬質の永久層を意
味する。硬質であり、且つ、永久であるために、光画像
形成性組成物は、ボードの照射、現像及び加工後に、例
えば、熱及び/ 又はUV硬化により硬化可能であることが
必要である。ポストキュアーを提供するための1 つの方
法は、アミノプラスト樹脂、例えば、メラミン/ ホルム
アルデヒド樹脂及びユリア/ ホルムアルデヒド樹脂と架
橋することにより硬化されうる、主鎖に遊離-OH 基を有
するバインダーポリマーを提供することである。別に
は、光画像形成性組成物は相溶性のエポキシ樹脂及びエ
ポキシ樹脂用硬化剤を含みうる。本発明に係る水性の光
画像形成性組成物は、銅基板への適用後に優れた保存寿
命を示し、そして、銅クラッド板上に数日間以上残るこ
とができることが判る。
ストが提供されるだけでなく、ハンダマスクも提供され
うる。ハンダマスクとは、明細書中、ＩＰＣ−ＳＭ−８
４ＯＢ，表１２、品質／適格基準の要約（Institute fo
r Interconnecting Circuits) に規定されるような耐摩
耗性の最低基準に少なくとも適合する硬質の永久層を意
味する。硬質であり、且つ、永久であるために、光画像
形成性組成物は、ボードの照射、現像及び加工後に、例
えば、熱及び/ 又はUV硬化により硬化可能であることが
必要である。ポストキュアーを提供するための1 つの方
法は、アミノプラスト樹脂、例えば、メラミン/ ホルム
アルデヒド樹脂及びユリア/ ホルムアルデヒド樹脂と架
橋することにより硬化されうる、主鎖に遊離-OH 基を有
するバインダーポリマーを提供することである。別に
は、光画像形成性組成物は相溶性のエポキシ樹脂及びエ
ポキシ樹脂用硬化剤を含みうる。本発明に係る水性の光
画像形成性組成物は、銅基板への適用後に優れた保存寿
命を示し、そして、銅クラッド板上に数日間以上残るこ
とができることが判る。
【００３３】
【実施例】本発明は特定の実施例により、より詳細に説
明されるであろう。
明されるであろう。
【００３４】例１〜４ 水性の光画像形成性組成物は下記の表Ｉにより配合され
た。量はグラムである。２．３ｇの中和剤は約１５％中
和を表し；４．５ｇの中和剤は約３０％中和を表す。性
能データを下記の表ＩＩによる。表Ｉ中の「モノマー基
剤」は表ＩＩＩにより；全ての材料は混合され、濾過さ
れ、そして、次いで水性のポーションに加えられた。
た。量はグラムである。２．３ｇの中和剤は約１５％中
和を表し；４．５ｇの中和剤は約３０％中和を表す。性
能データを下記の表ＩＩによる。表Ｉ中の「モノマー基
剤」は表ＩＩＩにより；全ての材料は混合され、濾過さ
れ、そして、次いで水性のポーションに加えられた。
【００３５】 表Ｉ 配合物名 成分タイプ ＃１ ＃２ ＃３ ＃４ Neocryl CL-340(40%固形分) ポリマー 100.0 100.0 100.0 100.0 DMAMP-80(Angus) 第三アミン中和剤 0.0 0.0 2.3 0.0 AMP-95(Angus) 第一アミン中和剤 0.0 0.0 0.0 2.3 DSX-1514(Henkel) 連合増粘剤 4.5 9.0 2.3 2.3 脱イオン水 一次溶剤 100.0 100.0 100.0 100.0 BYK-033(BYK/Chemie) 消泡剤 1.0 1.0 1.0 1.0 モノマー基剤 表III 参照 20.5 20.5 20.5 20.5 Q4-3667(Dow Corning) スリップ助剤 0.45 0.45 0.45 0.45 Fluorad FC170-C(3M) 表面張力調節剤 1.0 1.0 1.0 1.0 Texanol(Eastman) 凝集溶剤 4.5 4.5 4.5 4.5 Neocryl CL-340は約160 の酸価を有するスチレン/ アク
リルポリマーである。Q4-3667(Dow)はポリエーテル変性
ジメチルシロキサン及びシクロジメシロキサンの80:20
混合物である。
リルポリマーである。Q4-3667(Dow)はポリエーテル変性
ジメチルシロキサン及びシクロジメシロキサンの80:20
混合物である。
【００３６】 表ＩＩ 配合物名 ＃１ ＃２ ＃３ ＃４ DMAMP-80 0.0 0.0 2.3 0.0 AMP-95(Angus) 0.0 0.0 0.0 2.3 DSX-1514(Henkel) 4.5 9.0 2.3 2.3 性能結果 粘度( 初期) 3500cps 5000cps 2900cps 3200cps 粘度( 1 週間放置) 3500cps 5000cps 2700cps 2700cps 臭い なし なし 若干 若干 生臭い アンモニア エマルジョン安定性 良好 非常に良好 中〜良 良好 基板の汚染 汚染なし 汚染なし 若干汚染 若干汚染 アルカリ耐性 良好 良好 中〜良 中〜良 コーティング欠陥 0 ボイド/ft2 0ボイド/ft2 2ボイド/ft2 2ボイド/ft2 (0 0 22ボイド/m2 22ボイド/m2) コーティング均一性 若干ひだ ひだなし 中程度ひだ 若干ひだ 現像時間 29秒 29秒 27秒 28秒 フォトスピード(100mj/cm2) 銅8 銅8 銅7 銅7 回路パターン欠陥 1 欠陥/ft2 0 欠陥/ft2 3欠陥/ft2 4欠陥/ft2 (22 欠陥/m2 0欠陥/m2 32欠陥/m2 43欠陥/m2) DMAMP= 2- ジメチルアミノ-2- メチル-1- プロパノー
ル; AMP= 2- アミノ-2- メチル-1- プロパノール
ル; AMP= 2- アミノ-2- メチル-1- プロパノール
【００３７】 表ＩＩＩ モノマー基剤成分 成分タイプ 配合物当たりのｇ エトキシル化TMPTA 多官能性アルキレート 17.6 (3モルエトキシ化) Modaflow 流れ調整剤 0.05 Antioxidant 2246 酸化防止剤 0.03 Quantacure ITX( チオキサントン) 光増感剤 0.59 Quantacure EPD(3°アミン) 光開始剤 1.49 Baso Blue 688 バックグランド染料 0.09 トリフェニレンホスフィン 酸化防止剤 0.5 ベンゾトリアゾール 定着剤 0.25 TMPTA= トリメチロールプロパントリアクリレート
【００３８】加工条件 塗布-Burkle(片面) ローラーコーター、22スレッド/ イ
ンチ 基板- 銅クラッド 露出-HMW ORC, Model 301 B 、ジアゾアートワーク 現像- 1%炭酸ナトリウム一水和物、85°F(29℃) 、2x
ブレークポイント エッチング-3 N 塩化第二銅、140 °F(60℃) 、1.3x最
小エッチ ストリッピング- 3%水酸化ナトリウム、130 °F(54℃)
ンチ 基板- 銅クラッド 露出-HMW ORC, Model 301 B 、ジアゾアートワーク 現像- 1%炭酸ナトリウム一水和物、85°F(29℃) 、2x
ブレークポイント エッチング-3 N 塩化第二銅、140 °F(60℃) 、1.3x最
小エッチ ストリッピング- 3%水酸化ナトリウム、130 °F(54℃)
【００３９】性能説明 粘度- ブルックフィールド粘度計で初期及び70°F(21
℃) で1 週間後に測定された。 臭い- 臭いは塗布後、乾燥前に観測された。 エマルジョン安定性- ラッカー混合物の全体としての均
質性を基礎に等級化された。 アルカリ耐性- 耐性はpH9.2 でエッチング後に測定され
た。 コーティング欠陥- ローラー塗布後にコーティングのボ
イド( 薄いスポット) の数が計数された。 コーティング均一性- 塗布直後に均一性が観測された。 現像時間- 未照射のレジストを除去するのに必要な時間
の2 倍 フォトスピード- 最後の残留ステップを測定するために
Stouffer 21 ステップを使用した( 各ステップは√2 で
変化する。) 。 ( 注: より高いステップはより高い重合度を示す。) 回路パターン欠陥- 回路の短絡及び開放の総数を測定し
た。 ( 注: アートワークパターンは4 ミル(100ミクロン) ラ
イン及び4 ミル(100ミクロン) スペースを含んだ。)
℃) で1 週間後に測定された。 臭い- 臭いは塗布後、乾燥前に観測された。 エマルジョン安定性- ラッカー混合物の全体としての均
質性を基礎に等級化された。 アルカリ耐性- 耐性はpH9.2 でエッチング後に測定され
た。 コーティング欠陥- ローラー塗布後にコーティングのボ
イド( 薄いスポット) の数が計数された。 コーティング均一性- 塗布直後に均一性が観測された。 現像時間- 未照射のレジストを除去するのに必要な時間
の2 倍 フォトスピード- 最後の残留ステップを測定するために
Stouffer 21 ステップを使用した( 各ステップは√2 で
変化する。) 。 ( 注: より高いステップはより高い重合度を示す。) 回路パターン欠陥- 回路の短絡及び開放の総数を測定し
た。 ( 注: アートワークパターンは4 ミル(100ミクロン) ラ
イン及び4 ミル(100ミクロン) スペースを含んだ。)
【００４０】例５〜３３ 種々のポリ（シロキサン）は下記の基礎配合剤において
例１〜４の加工条件を使用して試験した。
例１〜４の加工条件を使用して試験した。
【００４１】 Neocryl CL-340(40%固形分) 100.0 DMAMP-80(Angus) 1.0 DSX-1514(Henkel) 7.0 脱イオン水 100.0 BYK-033(BYK/Chemie) 1.0 モノマー基剤( 表III 参照) 20.5 Fluorad FC170-C(3M) 1.0 Texanol(Eastman) 4.5
【００４２】結果は下記の表ＩＶの通りである。
【００４３】 表ＩＶ 配合物名 分子量 #5 #6 #7 #8 #9 #10 シクロジメチルシロキサン <1,000 0.45 0 0 0 0 0 シクロジメチルシロキサン >1,000 0 0.45 0 0 0 0 ポリエーテル変性ジメチル シロキサン <1,000 0 0 0.45 0 0 0 ポリエーテル変性ジメチル シロキサン >1,000 0 0 0 0.45 0 0 ジメチルシロキサン <1,000 0 0 0 0 0.45 0 ジメチルシロキサン >1,000 0 0 0 0 0 0.45 性能結果 水中の溶解性 可溶 部分 可溶 可溶 部分 不溶 可溶 可溶 アートワークへの粘着性 中 若干 若干 若干 中 中 〜中 コーティング欠陥 なし 若干 なし なし 若干 若干 孔 孔 孔
【００４４】 表ＩＶ（続き） 配合物名 分子量 #11 #12 #13 #14 #15 #16 シクロジメチルシロキサン <1,000 0.22 0.22 0.22 0.22 0.22 0 シクロジメチルシロキサン >1,000 0 0 0 0 0 0 ポリエーテル変性ジメチル シロキサン <1,000 0.22 0 0 0 0 0 ポリエーテル変性ジメチル シロキサン >1,000 0 0.22 0 0 0 0 ジメチルシロキサン <1,000 0 0 0.22 0 0 0 ジメチルシロキサン >1,000 0 0 0 0.22 0 0 性能結果 水中の溶解性 可溶 可溶 可溶 可溶 可溶 結果 なし アートワークへの粘着性 若干 なし 若干 若干 中 高 〜中 〜中 〜高 コーティング欠陥 なし なし 非常に 若干 なし 若干 若干 孔 孔
【００４５】 表ＩＶ（続き） 配合物名 分子量 #17 #18 #19 #20 #21 #22 シクロジメチルシロキサン <1,000 0 0 0 0 0 0 シクロジメチルシロキサン >1,000 0.22 0.22 0.22 0.22 0.22 0 ポリエーテル変性ジメチル シロキサン <1,000 0.22 0 0 0 0 0 ポリエーテル変性ジメチル シロキサン >1,000 0 0.22 0 0 0 0 ジメチルシロキサン <1,000 0 0 0.22 0 0 0 ジメチルシロキサン >1,000 0 0 0 0.22 0 0 性能結果 水中の溶解性 可溶 部分 部分 部分 可溶 結果 可溶 可溶 可溶 なし アートワークへの粘着性 非常に なし 若干 若干 中 高 若干 〜高 コーティング欠陥 若干 若干 若干 中 若干 なし 孔 〜中 〜中 孔 孔 孔 孔
【００４６】 表ＩＶ（続き） 配合物名 分子量 #23 #24 #25 #26 #27 #28 シクロジメチルシロキサン <1,000 0.22 0 0 0 0 0 シクロジメチルシロキサン >1,000 0.22 0 0 0 0 0 ポリエーテル変性ジメチル シロキサン <1,000 0 0.22 0 0.22 0.22 0 ポリエーテル変性ジメチル シロキサン >1,000 0 0.22 0 0 0 0 ジメチルシロキサン <1,000 0 0 0.22 0.22 0 0 ジメチルシロキサン >1,000 0 0 0.22 0 0.22 0 性能結果 水中の溶解性 可溶 可溶 部分 可溶 部分 結果 可溶 可溶 なし アートワークへの粘着性 非常に 非常に 若干 若干 若干 若干 若干 高 コーティング欠陥 なし なし 若干 若干 若干 なし 〜中 〜中 孔 孔 孔
【００４７】 表ＩＶ（続き） 配合物名 分子量 #29 #30 #31 #32 #33 シクロジメチルシロキサン <1,000 0.22 0.11 0.33 0 0 シクロジメチルシロキサン >1,000 0.22 0.33 0.11 0.22 0 性能結果 水中の溶解性 可溶 可溶 可溶 可溶 可溶 アートワークへの粘着性 なし なし 非常 非常 なし 若干 若干 に若干 に若干 コーティング欠陥 なし なし なし なし 若干 孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/033 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｆ 3/06 Ｈ 3/28 Ｄ
Claims (5)
- 【請求項１】 Ａ）５０〜２５０の酸価を提供するカル
ボン酸官能基を有するラテックスバインダーポリマー３
０〜８０ｗｔ％； Ｂ）α、β−エチレン系不飽和モノマーのフラクション
１５〜５０ｗｔ％； Ｃ）フリーラジカルを発生する光開始剤又は光開始剤薬
品系０．１〜２５ｗｔ％； Ｄ）前記ラテックスバインダーポリマーのエマルジョン
を安定化するために充分な量の中和用塩基及び／又はポ
リエーテルポリウレタン連合増粘剤１〜４０ｗｔ％、及
び、 Ｅ）ポリ（シロキサン）又はポリ（シロキサン）の混合
物０．１ｗｔ％〜１０ｗｔ％、を含む水中で輸送されう
る光画像形成性組成物であって、前記重量パーセントが
成分Ａ〜Ｅの総重量基準である組成物。 - 【請求項２】 水性媒体中に分散した請求項１記載の光
画像形成性組成物。 - 【請求項３】 高分子支持体シート及びその上に請求項
１記載の光画像形成性組成物の層を含む乾燥フィルム。 - 【請求項４】 前記ポリ（シロキサン）がポリ（ジメチ
ルシロキサン）及びシクロポリ（ジメチルシロキサン）
からなる群より選ばれる、請求項１記載の光画像形成性
組成物。 - 【請求項５】 前記ポリ（シロキサン）が１：９〜９：
１の重量比でのポリエーテル変性ポリ（ジメチルシロキ
サン）の混合物である、請求項１記載の光画像形成性組
成物。
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