KR0149903B1 - 폴리실록산을 갖는 수-부유성 감광성 내식막 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 알리성 수용액에서 현상가능하게 하기에 충분한 카르복실산 작용성을 갖는 라텍스 결합체, 광중합성 단량체 단편, 광개시제 화학시스템 및 폴리(실록산(들))을 포함하는 수-부유성 광결상성 조성물 또는 감광성 내식막에 관한 것이다.

Description

[발명의 명칭]
폴리실록산을 갖는 수-부유성 감광성 내식막
[발명의 상세한 설명]
본 발명은 인쇄 회로 판의 형성을 위해 사용된 것과 같은 감광성 내식막, 보다 특히 수-부유성(waterborne), 액체 도포된 감광성 내식막에 관한 것이다.
인쇄 회로, 인쇄 판, 납땜마스크 등의 형성을 위한 내식막으로서 유용한 광결상성(光結像性) 조성물은 지금까지 잠시동안 사용되어 왔다. 초기의 감광성 내식막은 용매-부유성이고 용매-현상 가능하였다. 수성-현상가능한 내식막의 현상은 인접한 작업장 및 일반 환경에서 용매 방출을 감소시키는 향상을 나타냈다. 작업장과 일반환경 둘다로부터 유기 용매를 감소시키려는 계속된 강조는 수성 액체로서 조성 및 도포되는 수-부유성 감광성 내식막에 대한 조사를 야기시켜 왔다.
참고로서 본 명세서에 인용한 미합중국 특허 제5,045,435호는 알칼리성 수용액에서 현상할 수 있는 수-부유성 감광성 내식막 조성물을 교시하고 있다. 상기 조성물은 다작용성 단량체, 광개시제 및 수-불용성 카르복실화된 아크릴 공중합체의 라텍스를 포함한다. 상기 조성물을 안정화시키고 점도를 조정하기 위해, 상기 특허는 암모니아, 다른 아민 또는 수산화 나트륨 같은 염기를 사용하여 라텍스 중합체를 25% 이상으로 중하시킴을 교시한다.
고 해상도를 갖는 제품패턴을 가장 정확하게 재생하기 위해, 광결상성 조성물층과 직접 접촉하는 제품(또는 포토툴(phototool))을 사용하는 접촉인쇄가 통상 필요하다. 접촉 인쇄는 소(3mil 미만)회로 이하의 해상도를 획득하기 위해 필요하다. 그러나, 접촉회로를 사용할 경우, 광결상성 조성물층의 표면은 제품에 부착하지 않도록 충분히 비-점착성이어야 한다. 몇몇 광결상성 조성물의 이전은 제품을 영구히 손상시키거나 제품의 광범위한 세정을 필요로 한다.
본 발명의 일반적인 목적은 층으로서 도포할 경우 직접 접촉하도록 위치된 제품을 위해 충분히 비-점착성인 수-부유성 광결상성 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 수-부유성 광결상성 조성물은
A) 약 50 내지 약 250 의 산가를 제공하는 산작용성, 예를들어, 카르복실산 작용성 또는 술폰산 작용성을 갖는 라텍스 결합제 중합체 약 30 내지 약 80 중량%.
B) 알파, 베타-에틸렌계 불포화된 단량체(들) 약 15 내지 약 50 중량%,
C) 유리 라디칼을 생성하는 광개시제 또는 광개시제 화학 시스템 약 0.1중량% 내지 및 약 25중량%
D) 수성 유화제로서 광결상성 조성물을 안정화시키기에 충분한 양의 중화염기 및/또는 폴리에테르 폴리우레탄 연합된 증점제 약 1 내지 약 40 중량% ; 및
E) (폴리)실록산 또는 (폴리)실록산의 혼합물 약 0.1 약 10.0 중량%를 포함하는 수성 조성물을 포함하며, 여기서 상기한 중량% 는 성분 A 내지 E 의 총 증량을 기준한 것이다.
본 발명의 광결상성 조성물에 유용한 라텍스 결합제 중합체는 전형적으로 비닐, 아크릴레이트 또는 스티렌 단량체 같은 알파, 베타-불포화된 단량체의 유화 중합에 의해 제조된다. 충분한 산 작용성 단량체를 사용하여 약 50 내지 약 250, 바람직하게는 약 100 이상의 산가를 제공한다. 전형적인 유화중합 과정 및 적당한 유화제의 몇가지 예는 미합중국 특허 제 3,929,743호에 밝혀져 있고, 이를 참고로서 본 명세서에 인용하였다. 또한 적당한 유화제는 시판품, 예를들어, 미합중국 ICI 레진스에서 시판되는 네오크릴R(NeocryR) CL-340 (40% 고체)과 롬 앤드 하스에서 시판되는 아크리솔R(AcrysolR) I-2074 (46% 고체)로서 수득할 수 있다.
산 작용성 결합제 중합체의 형성을 위해 사용되는 적당한 산 작용성 단량체는 하기하는 일반식을 갖는다 :
상기 식에서,
R1은 수소원자 또는 메틸기이고,
R2는 n이 정수 1 내지 6인 (CH2)n 이고,
R3는 C1-6알킬렌기 또는 페닐렌기를 나타내며,
R4는 동일하거나 다르며, CH2및 CHOH 로부터 선택된다.
적당한 산 작용성 단량체의 몇가지 특정 예는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 2-아크릴아미도-2-메틸프로판술폰산, 2-프로페노산-2-메틸-2-술포에틸 에스테르, 2-히드록시에틸 아크릴올릴 포스페이트, 2-히드록시프로필 아크릴올 포스페이트, 2-히드록시-알파-아크릴로일 포스페이트 등이다. 상기 한 산 작용성 단량체중 1개 이상은 결합제 증합체의 형성에 사용할 수 있다. 산 작용성 단량체는 아크릴산의 에스테르, 예를들어 메틸아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 히드록시 에틸 아크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트, 옥틸 아클리레이트, 2-에톡시 에틸 메타크릴레이트, t-부틸 아크릴레이트, 1,5-펜탄디올 다이크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸 아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 1,3-프로판디올 디아크릴레이트, 데카메틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 데카메틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 1,4-시클로헥산디올 디아크릴레이트, 2,2-디메틸올 프로판 디아크릴레이트, 클리세롤 디아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 글리세롤크리아크릴레이트, 2,2-디(P-히드록시페닐)-프로판 디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디아크릴레이트, 폴리옥시에틸-2,2-디(P-히드록시페닐)-프로판 디메타크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 폴리옥시 프로필트리메틸올 트로판 트리아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 부틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 1,3-프로판디올 디메타크릴레이트, 부틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 1,3-프로판디올 디메타크릴레이트, 1,2,4-부탄트리올 트리메타크릴레이트, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올 디메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트, 1-페닐 에틸렌-1,2-디메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리메타크릴레이트, 1,5-펜탄디올 디메타크릴레이트, 및 1,4-벤젠디올 디메타크릴레이트 같은 비-산 작용성 단량체 ; 2-메틸 스티렌 같은 스티렌 및 치환된 스티렌, 및 비닐 아크릴레이트와 비닐 메타크릴레이트 같은 비닐 톨루엔 및 비닐 에스테르와 공중합 할 수 있어 목적하는 산가를 제공한다.
광결상성 조성물이 접촉 결상가능하게 하기 위해, 즉, 접착성 없는 상태로 건조시키기 위해, 라텍스 결합체 중합체의 유리 전이 온도(Tg)는 시차 주사 열량계(DSC)를 사용하여 20℃/min으로 측정할 경우 약 60℃ 이상이 바람직하다. 폴리스티렌 스탠다드를 사용하는 겔 투과 크로마토그래피(GPS) 로 측정한 경우 중합체의 중량 평균 분자량(Mw)은 약 500 내지 약 200,000 이다.
상을 형성하기 위해, 이 음성-작용 광결상성 조성물은 광중합성 단량체, 특히 다작용성 단량체의 상당 부분을 포함하는 알파, 베타-에틸렌계 불포화된 단량체를 포함한다. 유용한 단량체는 결합제 중합체를 형성하기 위해 사용된, 상기한 것을 포함한 것들이다. 특히 적당한 단량체는 테트라에틸렌 글리콜 디아크릴레이트(TEGDA), 트리메틸올 프로판 트라이크릴레이트(TMPTA), 부탄디올 디메타크릴레이트(BDDMA) 및 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(PETA) 같은 다작용성 아클릴 단량체를 포함한다. 단량체 부분은 수용성 및 수-불용성 단량체 둘다를 포함할 수 있지만 ; 단량체 부분은 전체 단량체 부분이 수-불용성이 되기에 충분하도록 높은 비율, 예를들어, 약 20몰% 초과의 (20℃ 에서의 수 용해도가 약 0.3g/100ml 이하인) 수불용성 단량체를 포함해야 한다.
화학선에의 노출시 단량체의 중합을 개시하기 위해, 광결상성 조성물른 적당한 광개시제(들) 또는 광개시제 화학 시스템을 포함한다. 적당한 광개시제는 벤조인 에테르, 벤질 케탈, 아세토페논, 및 아민 관련 화합물을 포함한다. 개시제는, 티오크산톤, 예를들어, 2-이소프로필 티오크산톤 특히 아민-연합한 티오크산톤이 바람직하다.
본 발명에 따라, 수-부유성 광결상성 조성물은 시클로 폴리 (디메틸실록산), 폴리에테르 변형된 폴리(디메틸실록산), 폴리(디메틸실록산) 및 이의 혼합물로 구성되는 그룹에서 선택되는 폴리(실록산)을 포함하며, 시클로 폴리(디메틸실록산) 및 폴리에테르 변형된 폴리(디메틸실록산)이 바람직하다. 특히 바람직한 본 발명의 관점에서, 폴리(실록산) 부분은 중량비가 약 1:9 내지 약 9.1 인 시클로디메틸실록산과 폴리에테르 변형된 디메틸실록산의 혼합물이다. 상기 혼합물의 예는 폴리에테르 변형된 폴리 (디메틸실록산)과 시클로 폴리(디메틸실록산)의 80:20 혼합물인 다우코닝 Q4-3667 이다. 추가로, 점착성이 없는 표면을 제공하기 위해, 재료는 수용성이며 화구와 기타 피복결합으로 귀결되지 않은 재료가 바람직하다. 피복후 건조중에, 폴리(실록산)은 표면으로 이동하여 표면의 점착성을 제거하는 경향이 있는 것으로 믿어진다.
본 발명에 유용한 폴리(디메틸실록산)은 n 이 0 내지 4,000 인 일반식 (CH3)3-[Si(Me)2-O]n-Si(CH3)3을 갖는다.
시클로 폴리(디메틸실록산)은 일반식 n 이 3 내지 60인 -[Si(Me2)-O]n-이다.
폴리에테르 변형된 폴리(디메틸실록산)은 하기하는 일반식을 갖는다 :
상기 식에서,
n 은 0 내지 1,5000 이고, x 는 1 내지 2,000 이며, y 는 1 내지 2,000 이고, R 은 H 또는 CH3이고, R' 는 (CH2)0-5및 x 와 y를 아래 기입한 기는 무순이다.
폴리(실록산)의 분자량은 매우 광범위하게 변화할 것이다. 저분자 폴리(실록산)은 평균 분자량이 100 내지 600 Mw 이고 ; 고분자 폴리(실록산)은 평균 분자량이 2,000 내지 500,000 Mw 이다.
수부유성 광결상성 조성물은 바람직하게는 상기한 성분 A) 내지 E)의 연합증량을 기준으로 약 0.5 내지 약 3.0중량%의 수준으로 플루오로지방족 옥시에틸렌 부가물인 계면활성제를 포함한다. 상기 계면활성제는 하기 일반식을 갖는다 :
CF3-(CF2)n-Y-Xm-Z
상기 식에서,
n 은 0 내지 20 이고, Y 는 SO2-N(C1-C10알킬)이고, X 는 CH2-CH2-O 또는 CH(CH3)-CH2-O 이며, m 은 0 내지 20 및 Z 는 CH2-CH2-OH 또는 CH(CH3)-CH2-OH 이다.
결합제 중합체를 포함하는 유화제의 안정화가 필요하다. 유화제 안정화는 상기 인용한 미합중국 특허 제 5,045,435호에 교시된 바와 같이 염기를 사용하여 적어도 부분적으로 중화함으로써 수행할 수 있다. 바람직하게는 본원의 CIP 출원인 미합중국 특허 출원 제 08/199,037호에 교시된 바와 같이 점도조정 및 유화제의 안정화는 폴리에테르 폴리우레탄 연합된 증점제를 사용함으로써 획득하였다. 폴리에테르 폴리우레탄 증점제는 소수성 이소시아네이트의 잔기인 2개 이상의 소수성 단편을 갖는 중합체이며, 일반적으로 이소시아네이트는 이소시아네이트 작용성이 2 이상이고, 우레탄 연결에 의해 소수성 단편을 결합하는 1개 이상의 친성 폴리에테르 단편을 갖는다. 연합된 증점제로서 작용하는 블록 중합체는 ABA, (AB)n, 스타중합체 등을 포함하는 다양한 형태를 취할 수 있다. 폴리에테르 단편은는 폴리(알킬렌 산화물) 단편으로부터 형성되며, 프로필렌 산화물 및 에틸렌 산화물 같은 단량체로부터 형성된다. 충분히 친수성이 되기 위해서는 일반적으로 약 3 몰% 이상의 폴리(알킬렌 산화물) 단편(들)이 에틸렌 산화물 잔기임이 필요하다. 이소시아네이트 잔기의 소수성 부분은 전형적으로 알킬, 시클로알킬, 또는 방향족 부분이다. 폴리에테르 폴리우레탄 연합된 증점제 및 그의 기능은, 예를들어 문헌 [참조 : A.J.M. knoef 및 H. Slingerland, Urethane-Based Polymeric Thickeners for Aqueous Coating Systems JOCCA, sept. 1992. pp. 335-338 ; J.H. Bieleman 등, Polymers paint Colour Journal 1986, V. 176(4169) pp. 450-460 ; 및 A.J. whitton 및 R,E. Van Doren Polymers Paint Colour Journal 1991, V. 181(4286) pp. 374-377]에 기술되어 있다.
특히 적당한 폴리에테르 폴리우레탄 연합된 증점제와 그의 합성은 미합중국 특허 제 4,079,028호(Emmons 등)에 기술되어 있고, 이를 참고로서 본 명세서에 인용하였다. 또한 적당한 폴레에테르 폴리우레탄 연합된 증점제는 미합증국 특허 4,426,485호 (Hoy 등) 및 제4,743,698호(Ruffner 등)에 기술되어 있고, 이들을 각기 참고로서 본 명세서에 인용하였다. 시판되는 적당한 연합된 증점제의 예는 DSX 1514(헨겔)와 QR 708(롬 앤드 하스)이다.
폴리에테르 폴리우레탄 연합된 증점제를 사용함으로써, 결합제 증합체 라텍스의 중화가 덜 필요해진다. 몇몇 경우에서는 중화가 필요 없다. 기타 경우에서, 결합제를 결합제 중합체의 균등한 산 작용성의 약 20% 이하에서 중화시키는 것이 바람직하다. 전형적으로는 결합제 중합체의 산 작용성의 약 2% 이상을 중화하기 위해 염기가 부가될 것이다. 주화는 암모니아; 1차-, 2차-, 또는 3차-아민 ; 또는 수산화물과 함게 수행할 수 있다. 바람직한 중화염기는 히드록시 작용성 3차 아민이다. 적어도 다소의 중화제를 대신한 연합된 증점제의 첨가에 의해 더 매끄럽고 더 균일한 피복이 허용된다. 개선된 피복의 품질에 의해 피복내의 얇은 반점 또는 바늘 구멍에 의해 야기되는 회로판내 잠재적인 결점이 최소화된다. 추가로, 연합된 증점제를 갖는 광결상성 조성물을 로울러 피복을 사용하여 도포하는 경우, 더 낮은 로울러 압축하에서 더 매끄러운 피복을 생성하게 된다. 낮은 로울러 압축으로 인하여 고무 로울러의 수명은 연장된다.
중화제를 감소시킴으로써, 도포되어 건조된 광결상성 조성물층의 내약품성을 개선시킨다. 암모니아 또는 아민 사용이 감소될 경우, 냄새도 감소된다. 연합된 증점제는 수성 광결상성 조성물의 점도유동을 감소시킨다. 고 전단응력하에서 조차 점도는 안정하려는 경향이 있다.
상기한 성분 A 내지 E 에 추가하여, 소포제, 산화방지제, 염료, 접착 촉진제, 활제 및 기타 표면 장력 조절제를 포함하는 종래의 첨가제를 소량(일반적으로 A 내지 E 의 중량을 기준하여 총 약 10 중량% 미만)으로 사용할 수 있다. 계면 활성제가 사용된다면 음이온계 또는 비-이온계 계면활성제가 바람직하다.
본 발명의 수-부유성 광결상성 조성물을 제조하는 바람직한 방법에서, 소수성 상과 상용성인 개시제, 산화방지제 및 염료 같은 성분들을 단량체 단편과 혼합하여 단량체 베이스를 생성하고, 소포제, 중화제 및 연합된 증점제 같은, 라텍스 중합체를 갖는 수성상과 상용성인 성분들을 혼합하여 증합체 혼합물을 형성한다. 소수성 상과 중합체 혼합물을 혼합하여 물 유화제 중 소수성 상을 형성한다. 이어서, 고 비등 용매와, 활제, 표면 장력 조절제, 및 접착 촉진제를 포함하여 계면활성제를 첨가한다.
최종의 수-부유성 조성물의 고체함량은 일반적으로 약 20 내지 약 40 중량% 이다. 수-부유성 조성물에서는 결합제를 약 10 내지 약 30 중량%, 단량체를 약 3 내지 20 중량%, 개시제를 약 0.3 내지 약 10 중량%, 중화염기 및/또는 증점제를 약 1.5 내지 약 20 중량% 및 폴리(실록산(들))을 약 0.02 내지 약 1 중량%로 포함한다. 플루오로지방족 옥시에틸렌 부가물 계면활성제를 사용할 경우, 계면활성제는 전형적으로 약 0.06 내지 약 2 중량%로 존재할 것이다.
상기 조성물은 용매-부유성 광결상성 조성물을 피복하기 위한 피복업계에 공지된, 로울피복, 침지피복, 분무피복 또는 커튼 피복같은 임의의 피복체계에 의해 피복될 수 있다.
본 발명의 조성물은 액체 조성물로서 금속 클래드 블랭크 적층물에 또는 중합성 지지체 시트에 직접 도포하는 종래의 방법으로 도포하여 건조필름을 형성한다. 피복후, 조성물을 건조시켜 물은 물론 암모니아 또는 아민, 물 등과 같은 휘발성 물질도 제거하고, 이로써 용액 중합체가 산성 또는 중성 수성 매질내에서 불용성이 되도록 한다. 광결상성 조성물이 건조되는 경우, 그 시스템은 연속 필름으로 합체된다. 수분제거를 촉진시키고, 암모니아 또는 휘발성 아민을 방출시키기 위해서 건조는 다소의 승온에서 수행하는 것이 바람직하다. 건조는 약 90℃ 의 온도에서 수행함이 바람직하다.
건조필름을 형성함에 있어서, 수-부유성 조성물을 가요성 지지체 시트, 예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트에 도포한 다음, 건조시켜 수분과 휘발성 물질을 제거한다. 이어서, 보호성 시트, 예를들어, 폴리에틸렌 광결상성 조성물층에 도포하고 건조필름을 릴로 감는다. 광결상서 조성물층을 건조함에 있어서, 몇몇의 경우에서 잔존 수분 함량을(광결상성 조성물 층의 고치에 대해0약 1 내지 약 2 중량5로 함이 바람직한 것으로 밝혀졌다. 기질, 예를들어 구리-클래드판에 적측되는 경우, 이 잔존 수분은 광결상성 조성물 층이 기질의 표면 결함에 순응하도록 한다.
공정은 종래 방법으로 수핸한다. 전형적인 과정에서 액체 조성물로부터 형성되거나 건조필름으로부터 층으로서 변형된 광결상성 조성물층은 구리-클래드 판의 구리표면에 도포한다. 광결상성 조성물층은 적당한 제품을 통해 화학선에 노출시킨다. 화학선에의 노출은 광-노출된 부위내에서 단량체를 중합시키고, 그결과 현상제에 대하여 내성을 갖는 교차결합된 구조가 수득된다. 이어서, 1% 탄산나트륨 용액같은 희석 알칼리성 수용액내에서 조성물을 현상시킨다. 알칼리 용액은 결합제 중합체의 카르복실기와 염형성을 야기시켜서, 상기 카르복실기가 용해가능하고 제거가능하게 되도록 한다. 현상후, 내식막이 제거된 부위로부터 구리를 제거하기 위해 부식제를 사용할 수 있고, 이로써 인쇄 회로가 형성된다. 이어서, 잔존하는 내식막은 적당한 스트립퍼(stripper)를 사용하여 제거한다.
본 발명에 따라, 제 1 수-부유성, 상-형성 감광성 내식막 뿐아니라 납땜 마스크-형성 조성물도 제공할 수 있다. 본 명세서에서 납땜 마스크란, 자격/적합성에 대한 기준 요약, 표 12, IPC-SM-84 OB (상호 연결회로 협회)에 정의된 내마모성 시험의 적어도 최소 요구를 충족시키는 경질의 영구한 층을 의미한다. 경질이고 영구하게 제조하기 위해서는, 통상 예를들어 열 및/또는 자외선 경화를 이용하여 판을 노출, 현상 및 가공한 후에도 광결상성 조성물이 경화가능할 필요가 있다. 후-경화를 제공하는 한방법은, 예를들어 멜라민/포름알데히드 수지 및 요소/포름알데히드 수지 같은 아미노플라스트 수지와 교차 결합시킴으로써 경화될 수 있는, 골격내에 유리-OH 기를 갖는 결합제 중합체를 제공하는 것이다. 선택적으로는, 광결상성 조성물은 상용성 에폭시 수지 및 에폭시 수지의 경화제를 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 수-부유성 광결상성 조성물은 구리 기질에 도포한 후 뛰어난 저장 수명을 나타내며 며칠 이상동안 구리-클래드판상에 잔존할 수 있음이 밝혀졌다.
이제 본 발명은 특정 실시에에 의해 더 상세히 기술될 것이다.
실시예1 내지 4
수-부유성 광결상성 조성물은 하기 표 1 에 따라 조성한다. 양은 g이다.
중화제 2, 3g은 약 15%의 중화율을 나타내고; 중화제 4.5g 은 약 30%의 중화율을 나타낸다. 성능자료는 하기 표 2에 따른 것이다. 표 1에서 단량체 베이스는 표 3에 의한 것이며 ; 모든 재료를 함께 혼합하고 여과한 다음 수성 부분에 첨가하였다.
네오크릴 CL-340 은 산가가 약 160 인 스티렌/아크릴 중합체이다
Q-43667 (다우)은 폴리에스테르 개질된 디메틸실록산과 시클로디메틸 실록산의 80:20 혼합물이다.
DMAMP 는 2-디메틸아미노-2-메틸-1-프로판올이고 ;
AMP 는 2-아미노-2-메틸-1-프로판올이다.
TMPTA 는 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트이다.
[처리 조건]
· 피복 - 버클(단면) 로울러 피복기, 1 인치 당 22 개의 쓰레드.
· 기질 - 구리 클래드.
· 노출 - HMW ORC, 모델 301B, 디아조 제품.
· 현상 -1% 탄산나트륨일수화물, 85℉, 2x 파괴점.
· 부식 - 3N 염화 제이구리, 140℉, 1.3x 최소부식.
· 스트리핑 - 3% 수산화나트륨 130℉
[성능설명]
· 점도 - 70℉에서 브룩필드 점도계로 초기 및 1주후에 측정된 값.
· 냄새 - 냄새는 피복후 건조전에 발생하였다.
· 유화제 안정성 - 안정성은 래커 혼합물의 총 균일성을 기준하여 평가하였다.
· 내알칼리성 - 내성은 pH 9.2에서 알칼리성 부식후 측정하였다.
· 피막결함 - 로울러 피복후 피막 공극(얇은 얼룩)의 수를 계수하였다.
· 피막균일성 - 균일성은 피복직후 관찰하였다.
· 현상시간 - 비노출된 내식막을 제거하는데 필요한 시간양의 두배.
· 광속 - 스토우퍼 21 단계를 이용하여 마지막 잔존 단계를 측정한다.
(각각의 단계는씩 변화한다).
(주 : 더 높은 단계는 더 큰 중합 정도를 나타낸다).
· 회로 패턴 결합 - 회로의 개폐 총횟수를 측정하였다.
(주 : 4밀 라인과 4 밀 스페이스를 포함한 제품 패턴).
[실시예 5 내지 33]
다양한 폴리(실록산)을 실시예 1 내지 4의 처리조건을 사용하기 하기 기본적인 일반식 중에서 시험하였다.
결과는 하기 표 4에 나타낸다.

Claims (5)

  1. A) 50 내지 약 250 의 산가를 제공하는 카르복실산 작용성을 갖는 라텍스 결합제 중합체 약 30 내지 약 80 중량%. B) 알파, 베타-에틸렌계 불포화된 단량체 부분 15 내지 약 50 중량%, C) 유리 라디칼을 형성하는 광개시제 또는 광개시제 화학 시스템 0.1 내지 25중량%; D) 상기 라텍스 결합제 중합체의 유화제를 안정화시키기에 충분한 양의 중화염기 또는 폴리에테르 폴리우레탄, 또는 중화 염기와 폴리에테르 폴리우레탄 연합된 중점제 약 1 내지 약 40 중량% ; 및 E) (폴리)실록산 또는 (폴리실록산)의 혼합물 0.1 내지 10 중량%(여기서, 상기한 중량%는 성분 A 내지 E 의 총중량을 기준한 것이다)를 포함하며, 수중 부유가능한(waterbornable) 광결상성(光結像性) 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 수성 매질내에 분산된 광결상성 조성물.
  3. 중합성 지지체 시트와 그위에 존재하는 제1항의 광결상성 조성물로 이루어진 층을 포함하는 건조 필름.
  4. 제1항에 있어서, 폴리(실록산(들))이 폴리(디메틸실록산) 및 시클로폴리(디메틸실록산)으로 구성되는 그룹에서 선택되는 광결상성 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 폴리(실록산)이 중량비가 1:9 내지 9:1 인 폴리에테르 개질된 폴리(디메틸실록산)의 혼합물인 광결상성 조성물.
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