JPH07271033A - 光像形成性組成物 - Google Patents
光像形成性組成物Info
- Publication number
- JPH07271033A JPH07271033A JP7001114A JP111495A JPH07271033A JP H07271033 A JPH07271033 A JP H07271033A JP 7001114 A JP7001114 A JP 7001114A JP 111495 A JP111495 A JP 111495A JP H07271033 A JPH07271033 A JP H07271033A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- water
- photoimageable composition
- polymer
- photoinitiator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0076—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/107—Polyamide or polyurethane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Paper (AREA)
- Telephone Function (AREA)
- Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
る。 【構成】 水使用に適した光像形成性組成物又はフォト
レジストは、アルカリ水性溶液中それを現像可能にする
ため十分なカルボン酸官能価を有するラテックスバイン
ダーポリマー、光重合性モノマー分画光開始剤および水
性媒質中モノマー分画のエマルションを支持するポリエ
ーテルポリウレタン結合増粘剤を含んでなる。ラテック
スバインダーのカルボン酸官能価は0〜20%で中和さ
れる。
Description
ば印刷回路基板の形成に用いられるフォトレジストに関
し、更により詳しくは水使用に適した(waterbo
rne)、液体で適用される、密着像形成性フォトレジ
ストに関する。
ペースト等に対するレジストとして有用な光像形成性組
成物は今にもしばらく使われてきている。最も早いフォ
トレジストは、溶媒使用に適し(solvent−bo
rne)そして溶媒で現像可能である。水性で現像可能
なレジストの開発は、直接の作業場および全体的環境に
おける溶剤の排出を減少させる利点をもたらした。作業
場および全体的環境の双方からの有機溶剤を減少させる
という継続的強調は、水性液体として処方されそして適
用される水使用に適した(waterbone)フォト
レジストの研究に拍車をかけた。
示はその番号を引用して本明細書に加えられる)は、ア
ルカリ水性溶液中で現像可能な水使用に適したフォトレ
ジスト組成物を記載する。組成物は、多官能性モノマ
ー、光開始剤および水不溶性カルボキシル化アクリルコ
ポリマーのラテックスを含んでなる。組成物を安定化さ
せるためおよび粘度を調節するため、この特許は塩基、
例えばアンモニア、他のアミン又は水酸化ナトリウムを
用い少なくとも25%までラテックスポリマーを中和す
ることを教示する。
物中に要求される中和の高程度は、幾つかの欠点を有す
る。中和剤、例えばアミンは、酸官能性ポリマーと反応
し、水溶性塩を生じる。全ての中和剤が乾燥中に除去さ
れないので残りの塩は、化学的攻撃に強力に損害を与え
るための部位となる。従って、化学抵抗を改善するため
中和剤の量を減少させることが望ましい。アミン又はア
ンモニアは中和剤として用いた場合、組合さった臭いを
有し、アミンは特徴的な「魚のような」臭いを有する。
一級アミン中和剤およびアンモニアは反応性が高く、塗
布前にラッカー中で粘度のドリフトを生じ、粘度は1週
間以上3000cps だけドリフトする。
教示および実証することにおいて、米国特許は又、臨界
レオロジー(critical rheology)を
得ることは、増粘剤の添加によっても得ることができな
いことを教示している。
は、ラテックスポリマーの中和の実質的に減少せしめら
れた量を必要とする水使用に適した光像形成性組成物を
提供することにある。
に適した光像形成性組成物は、A)約50〜約250の
酸価を与える酸官能価(例えばカルボン酸官能価又はス
ルホン酸官能価)を有するラテックス バインダーポリ
マーの約30〜約80重量%、B)α,β−エチレン性
不飽和モノマーの分画の約20〜約50重量%、C)遊
離基を発生する光開始剤又は光開始剤化学系の約0.
1、好ましくは少なくとも約1〜約25重量%、および
D)ポリエーテルポリウレタン関連のシックナーの約1
〜約40重量%(前記重量%は成分A〜Dの合計重量基
準である)を含有する水性組成物を含んでなる。ラテッ
クスバインダーポリマーの酸含量は、塩基で中和されて
いないか、またはそのカルボキシル化合物の官能価の約
20%まで塩基で中和されている。
ラテックスバインダーポリマーは、α,β−不飽和モノ
マー、例えばビニル、アクリレート又はスチレンモノマ
ーの乳化重合により典型的に製造される。十分な酸官能
モノマーが用いられ約50〜約250、好ましくは少な
くとも100の酸価を与える。典型的乳化重合法および
適当なエマルションの幾つかの例は米国特許3,92
9,743に見出され、その教示は該特許番号を引用し
て本明細書に加えられる。適当なエマルションは商業的
に入手することができ、例えば、ICIレジンズU.
S.から入手できるNeocryl(商標)CL−34
0(40%固体)およびロームアンドハースから入手で
きるAcrysol(商標)I−2074である。酸官
能バインダーポリマーを形成する際使用のために適当な
酸官能モノマーは、次式
メチル基を表わし、R2 は(CH2)n (ここで、nは
1〜6の整数である)、R3 は1〜6個の炭素原子を有
するアルキレン基であるか、又はフェニレン基であり、
そしてR4 およびR5 はR1であるか又OHである、但
しR4 とR5 は双方ともOHでない。適当な酸官能モノ
マーの幾つかの特定の例は、アクリル酸、メタクリル
酸、マレイン酸、フラル酸、シトラコン酸、2−アクリ
ルアミド−2メチルプロパンスルホン酸、2−ヒドロキ
シエチルアクリロイルホスフェート、2−ヒドロキシプ
ロピルアクリロイルホスフェート、2−ヒドロキシ−α
−アクリロイルホスフェート等である。1種又はそれ以
上のそのような酸官能モノマーが、バインダーポリマー
を形成するため使用できる。酸官能モノマーは、所望の
酸価を得るため、非酸官能モノマー、例えばアクリル酸
のエステル、例えばメチルアクリレート、メチルメタク
リレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ブチルメタ
クリレート、オクチルアクリレート、2−エトキシエチ
ルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、1,5−
ペンタンジオールジアクリレート、N,N−ジエチルア
ミノエチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、1,3−プロパンジオールジアクリレート、デ
カメチレングリコールジアクリレート、デカメチレング
リコールジメタクリレート、1,4−シクロヘキサンジ
オールジアクリレート、2,2−ジメチロールプロパン
ジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプ
ロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリ
アクリレート、2,2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)
−プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコール
ジアクリレートポリオキシエチル−2−2−ジ(p−ヒ
ドロキシフェニル)−プロパンジメタクリレート、トリ
エチレングリコールジメタクリレート、ポリオキシプロ
ピルトリメチルロールプロパントリアクリレート、エチ
レングリコールジメチクリレート、ブチレングリコール
ジメタクリレート、1,3−プロパンジオールジメタク
リレート、ブチレングリコールジメタクリレート、1,
3−プロパンジオールジメタクリレート、1,2,4−
ブタントリオールトリメタクリレート、2,2,4−ト
リメチル−1,3−ペンタンジオールジメタクリレー
ト、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、1−フ
ェニルエチレン−1,2−ジメタクリレート、ペンタエ
リトリトールテトラメタクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、1,5−ペンタンジオール
ジメタクリレートおよび1,4−ベンゼンジオールジメ
タクリレート;スチレンおよび置換スチレン、例えば2
−メチルスチレンおよびビニルトルエンおよびビニルエ
ステル、例えばビニルアクリレートおよびビニルメタク
リレートと共重合することができる。
で、すなわち不粘着状態まで乾燥するので、ラテックス
バインダーポリマーのガラス転移温度(Tg)は好まし
くは、毎分20℃での差動走査熱量計により測定したと
き少なくとも約60℃である。ポリマーはポリスチレン
法を用いゲル透過クロマトグラフィー(GPS)によっ
て測定したとき、約500〜約200,000の重量平
均分子量(Mw)を有する。
成物は、光重合性モノマー、特にα−官能性モノマーの
実質的部分を含めて、α,β−エチレン性不飽和モノマ
ーを有する。有用なモノマーは、バインダーポリマーを
形成するために用いられる上掲のモノマーを含む。特に
適当なモノマーには多官能価のアクリルモノマー、例え
ばテトラエチレングリコールジアクリレート(TEGD
A)、トリメチロールプロパントリアクリレート(TM
PTA)、ブタンジオールジメタアクリレート(BDD
MA)およびペンタエリトリトールトリアクリレート
(PETA)が含まれる。モノマー分画は、水溶性およ
び水不溶性モノマーの双方を含んでいてもよい;しか
し、モノマー分画は、例えば約20モル%超では、(約
0.3g/100ml未満で26℃の水中で溶解性を有す
る)水不溶性モノマーの十分に高い割合を含有すべきで
あり、その結果、モノマー分画は全体として水に不溶性
である。
るためには、光像形成性組成物は適当な(1又は複数
の)光開始剤又は光開始剤化学系を含有する。適当な光
開始剤には、ベンゾインエーテル、ベンジルケタール、
アセトフェノン、ベンゾフェノンおよびアミンとの関連
化合物である。特にアミンと協同して、好ましい開始剤
はチオキサントン、例えば、2−イソプロピルチオキサ
ントンである。
粘度調節および安定性は、ポリエーテルポリウレタン関
連(associate)シックナーを用いて達成され
る。ポリエーテルポリウレタンシックナーは、少なくと
も2個の疎水性セグメントおよびウレタン結合により該
疎水性セグメントに結合する少なくとも1個の親水性ポ
リエーテルセグメントを有するポリマーであり、前記疎
水性セグメントは疎水性イソシアネート、一般に2又は
それ以上のイソシアネート官能価を有するイソシアネー
トの残基である。関連シックナーとして作用するブロッ
クポリマーは、ABA,(AB)n'スターポリマー等を
含めた多様の形態をとることができる。ポリエーテルセ
グメントは、プロピレンオキシドおよびエチレンオキシ
ドの如きモノマーから形成される、ポリ(アルキレンオ
キシド)セグメントから形成される。十分に疎水性であ
るためには、ポリ(アルキレンオキシド)セグメントの
少なくとも約3モル%がエチレンオキシド残基であるこ
とが必要である。イソシアネート残基の疎水性部分は典
型的には、アルキル、シクロアルキル又は芳香族部分で
ある。ポリエーテルポリウレタン関連シックナーおよび
それらの機能は、例えばA.J.M.1−エフおよび
M.シリンゲルランド、「Urethane-Based Polymeric T
hickeners for Aqueous Coating Systems 」JOCCA ,Sep
t.1992, pp 335-338; J.H.ビーレアン等、Polymers Pai
nt Colour Journal 1986, V.176(4169)pp.450-460; お
よびA.J.ウイトンおよびR.E.ファンドレンPolymers Pai
nt Colour Journal 1991, V.181(4286)pp.374-377に記
載されている。特に適当なポリエーテルポリウレタン関
連シックナーおよびそれらの合成は、エモンス等に付与
された米国特許4,079,028に記載されており、
その教示はその番号を引用して本明細書に加えられる。
適当なポリエーテルポリウレタン関連シックナーは又ホ
イ等に付与された米国特許4,426,485およびル
フナー等に付与された米国特許4,743,698に記
載されており、それらの各々の教示は引用して本明細書
に加入される。適当な商業的に入手可能な関連シックナ
ーの例は、DSX1514(ヘンケル)およびQR70
8(ロームアンドハース)である。
クナーは界面活性剤として作用し、モノマー分画を乳化
する。関連シックナーはまた、バインダーポリマーのラ
テックスエマルションを安定化させるのに役立つ。ポリ
エーテルポリウレタン関連シックナーを用いることによ
り、バインダーポリマーラテックスのより少ない中和が
必要とされる。幾つかの場合において、中和は必要とさ
れない。他の場合には、バインダーポリマーの当量酸官
能価約20%までバインダーを中和することが望まし
い。典型的には塩基は、バインダーポリマーの酸官能価
の少なくとも約2%を中和するために添加されるであろ
う。中和は、アンモニア;一級、二級、又は三級アミ
ン;又は水酸化物を用いて行なわれる。好ましい中和用
塩基は、ヒドロキシ官能末端アミンである。少なくとも
幾つかの中和剤の代りに関連シックナーの添加は、より
均一でより平滑なコーティングを許容する。改良された
塗布特性は、塗布内の薄い斑点又はピンホールに引きお
こされた可能性のある回路板の欠陥を最小化する。加え
て、ローラー塗により適用される場合、関連シックナー
を含む光像形成性組成物はより低いローラー圧縮でより
平滑な塗布をもたらす。低ローラー圧縮はゴムローラの
寿命を延ばすことになる。中和剤を減少すると、適用さ
れそして乾燥される光像形成性組成物層の化学抵抗性が
改善される。アンモニア又はアミン使用を減少すると、
臭いが減少する。関連シックナーは、水性光像形成性組
成物の粘度ドリフトを減少する。高剪断応力下でさえ、
粘度は安定に保持される傾向にある。
の全重量基準で一般に約10重量%未満)の通常の添加
剤が、消泡剤、酸化防止剤、染料、接着促進剤、スリッ
プ助剤、界面張力改良剤および追加の界面活性剤を含め
て使用され得る。界面活性剤は、もし使用される場合、
好ましくはアニオン又は非イオン剤である。約5重量%
までの高沸点溶剤、例えばプロピレングリコールモノメ
チルエーテルを、融合助剤として添加してもよい。
ましい界面活性剤は以下の一般式を有する非イオンフッ
化脂肪族オキシエチレン付加物である: CF3 −(CF2 )n −Y−Xm −Z、ここでn=0〜
20、Y=SO2 −N(C1 −C10 アルキル)、X=
CH2 −CH2 −O又はCH(CH3 )−CH 2 −O、
m=0〜20、およびZ=CH2 −CH2 −OH又はC
H(CH3 )−CH2 −OH。
商標Fluorad FC170−Cのもとで市販され
ている。界面活性剤は、光像形成性組成物固体の約0.
5〜約3.0重量%のレベルで典型的に用いられる。本
発明の水使用可能な光像形成性組成物の製造の好ましい
方法において、開始剤、酸化防止剤および染料の如きそ
れらの成分(大部分は疎水性相と適合し得る)は、モノ
マー分画と混合されモノマー塩基を製造しそしてこれら
の成分(大部分はラテックスポリマーを有する水性相と
適合し得る)、例えば消泡剤、中和剤および関連シック
ナーは混合されポリマー配合物を形成する。
れ、水中疎水性相のエマルションを形成する。引き続
き、スリップ助剤を含めて、高沸点溶剤、界面活性剤、
界面張力改良剤および、接着促進剤が添加される。最終
の水使用に適した組成物は、一般に約20〜約40重量
%の固体である。水使用に適した組成物において、約1
0〜約30重量%を含んでなり、モノマーは約3〜20
重量%を含んでなり、開始剤は約0.3〜約10重量%
を含んでなり、そしてシックナーは約1.5〜約20重
量%を含んでなる。
成物を塗布するために当業者に公知の如何なる塗布シス
テム、例えばロール塗布、浸漬被膜、吹付塗又は流し塗
により塗布できる。本発明の組成物は常法で、液体組成
物として金属クラッドブランクラミネートに直接、又は
ドライフィルムを形成するため重合体支持シートに適用
される。塗布後、組成物を乾燥し水を除きそして又揮発
物、例えばアンモニア又はアミン、水等を除き、これに
より液状ポリマーは酸性又は中性の水性媒質中に不溶性
となる。光像形成性組成物は乾燥すると、系は連続フィ
ルムに融合する。
モニア又は揮発性アミンを除去するため幾分高温で行う
のが好ましい。好ましくは、乾燥は約90℃の温度で行
なわれる。乾燥フィルムを形成するため、水使用に適し
た組成物は、軟質の支持シート、例えばポリエチレンフ
タレートに適用され、次いで乾燥されて水および揮発物
を除去する。引き続き、保護シート、例えばポリエチレ
ンを光像形成性組成物層に適用し、次いで乾燥フィルム
をリールにロール掛けする。光像形成性組成物層の乾燥
において、幾つかの場合において約1〜約2重量%の残
留水分含量(光像形成性組成物層の固体に対する)を残
すことは望ましいことが見出されている。この残留水
は、それに対して積層される場合、支持体、例えば銅−
クラッドボードの表面欠陥を整合せしめるように作用す
る。
液体組成物から形成されるか、又は乾燥フィルムから層
として移送される光像形成性組成物層は、銅−クラッド
ボードの銅表面に適用される。光像形成性組成物層は、
適当なアートワークを通して化学線に暴露される。化学
線に対する暴露は露光領域内でモノマーを重合させ、現
像剤に抵抗する架橋構造を生成する。次に、組成物を希
釈アルカリ水性溶液、例えば1%炭酸ナトリウム溶液中
で現像する。アルカリ溶液は、結合剤ポリマーのカルボ
キシル基と塩形成をもたらし、それらを可溶性にしそし
て除去可能にする。現像後、エッチングを使用してレジ
ストが除去されるこれらの領域から銅を除去してもよ
く、これにより印刷回路が形成する。次いで適当なスト
リッパーを用い残りのレジストを除去する。
成性フォトレジストを得ることができるばかりでなく、
同様にはんだマスク(solder mask)−形成
性組成物を得ることができる。「はんだマスク」とは本
明細書において、硬質の永久層を意味し、この層はIP
C−SM−840B、表12、Sunumary of Criteriafo
r Qualifieation/Confermance (Institute for Interc
onnecting Circuits)において定義される如き磨耗抵抗
試験の少なくとも最低の要求に合致する。硬質でかつ永
久的なものとなるためには、光像形成性組成物が、例え
ば熱および/又はUV硬化により、ボードの暴露、現像
および加工後硬化し得ることが一般に必要である。後硬
化を得るための一つの方法は、アミノプラスト樹脂、例
えばメラミン/ホルムアルデヒド樹脂および尿素/ホル
ムアルデヒド樹脂を用い例えば架橋により硬化され得る
主鎖内の遊離−OH基を有するバインダーポリマーを提
供することである。択一的に、光像形成性組成物は相溶
性エポキシ樹脂およびエポキシ樹脂に対する硬化剤を含
有してもよい。次の内容が見出されている;すなわち本
発明に従った水使用に適した光像形成性組成物は、銅支
持体に適用後秀れた保存期間を示しそして数日間以上に
銅−クラッドボード上に留まることができる。
明する。
Iに従って処方した。量はg単位である。2.3gの中
和剤は約15%の中和を示し;4.5gの中和剤は約3
0%の中和を示す。従って、例3〜6は本発明に従った
例である;例1〜2および例7〜9は比較例である。耐
久度データは以下の表IIに従っており、「n.a.」は
劣った耐久性度が更に加工条件を阻害する場合に記録さ
れる。表Iにおいて「モノマーベース」は表III に対す
る;全ての物質は一緒に混合され、濾過されそして引き
続き水性部分に加えられる。
160の酸価を有するスチレン/アクリルポリマーであ
る。Q4−3667(Dow)は、ポリエーテル変性ジ
メチルシロキサンおよびシクロジメチルシロキサンの8
0対20混合物である。表II中、DMAMPは2−ジメ
チルアミノ−2−メチル−1−プロパノールであり;A
MPは2−アミノ−2−メチル−1−プロパノールであ
る。
1インチにつき22のスレッド(thread) 支持体−銅クラッド 露光−HMW ORC、モデル301B、ジアゾアート
ワーク 現像−1%炭酸ナトリウム1水和物、85°F、2×ブ
レークポイント エッチング−3N塩化銅、140°F、1.3×最小蝕
刻 ストリッピング−3%水酸化ナトリウム、130°F
ールド粘度計で測定 臭い−塗布後および乾燥前に臭いを観察した エマルション安定性−安定性を、ラッカー混合物の全体
的均一性に基づいて評価した アルカリ抵抗性−抵抗性をpH9.2でアルカリ蝕刻後に
測定した 塗布欠陥−塗布ボイド(薄い斑点)の数をローラー塗布
後に数えた 現像時間−未露光レジストを除去するために必要とされ
る時間の量の2倍 感度(photospeed)−ストファー21ステッ
プを用い、最後の残ったステップを測定する(各ステッ
プは√2だけ変化する) (注:より高いステップはより高度の重合を示すであろ
う) 回路図形欠陥−回路ショートおよびオープンの総数を数
えた (注:アートワーク図形は4ミルラインと4ミルスペー
スを含んでいた)
に適した光像形成性組成物は、A)約50〜約250の
酸価を与える酸官能価(例えばカルボン酸官能価又はス
ルホン酸官能価)を有するラテックス バインダーポリ
マーの約30〜約80重量%、B)α,β−エチレン性
不飽和モノマーの分画の約20〜約50重量%、C)遊
離基を発生する光開始剤又は光開始剤化学系の約0.
1、好ましくは少なくとも約1〜約25重量%、および
D)ポリエーテルポリウレタン結合増粘剤の約1〜約4
0重量%(前記重量%は成分A〜Dの合計重量基準であ
る)を含有する水性組成物を含んでなる。ラテックスバ
インダーポリマーの酸含量は、塩基で中和されていない
か、またはそのカルボキシル化合物の官能価の約20%
まで塩基で中和されている。
粘度調節および安定性は、ポリエーテルポリウレタン結
合(associate)増粘剤を用いて達成される。
ポリエーテルポリウレタン増粘剤は、少なくとも2個の
疎水性セグメントおよびウレタン結合により該疎水性セ
グメントに結合する少なくとも1個の親水性ポリエーテ
ルセグメントを有するポリマーであり、前記疎水性セグ
メントは疎水性イソシアネート、一般に2又はそれ以上
のイソシアネート官能価を有するイソシアネートの残基
である。結合増粘剤として作用するブロックポリマー
は、ABA,(AB)n'スターポリマー等を含めた多様
の形態をとることができる。ポリエーテルセグメント
は、プロピレンオキシドおよびエチレンオキシドの如き
モノマーから形成される、ポリ(アルキレンオキシド)
セグメントから形成される。十分に疎水性であるために
は、ポリ(アルキレンオキシド)セグメントの少なくと
も約3モル%がエチレンオキシド残基であることが必要
である。イソシアネート残基の疎水性部分は典型的に
は、アルキル、シクロアルキル又は芳香族部分である。
ポリエーテルポリウレタン結合増粘剤およびそれらの機
能は、例えばA.J.M.1−エフおよびM.シリンゲ
ルランド、「Urethane-Based Polymeric Thickeners fo
r Aqueous Coating Systems 」JOCCA ,Sept.1992, pp 3
35-338; J.H.ビーレアン等、Polymers Paint Colour Jo
urnal 1986, V.176(4169)pp.450-460; およびA.J.ウイ
トンおよびR.E.ファンドレンPolymers Paint Colour Jo
urnal 1991,V.181(4286)pp.374-377に記載されてい
る。特に適当なポリエーテルポリウレタン結合増粘剤お
よびそれらの合成は、エモンス等に付与された米国特許
4,079,028に記載されており、その教示はその
番号を引用して本明細書に加えられる。適当なポリエー
テルポリウレタン結合増粘剤は又ホイ等に付与された米
国特許4,426,485およびルフナー等に付与され
た米国特許4,743,698に記載されており、それ
らの各々の教示は引用して本明細書に加入される。適当
な商業的に入手可能な結合増粘剤の例は、DSX151
4(ヘンケル)およびQR708(ロームアンドハー
ス)である。
剤は界面活性剤として作用し、モノマー分画を乳化す
る。結合増粘剤はまた、バインダーポリマーのラテック
スエマルションを安定化させるのに役立つ。ポリエーテ
ルポリウレタン結合増粘剤を用いることにより、バイン
ダーポリマーラテックスのより少ない中和が必要とされ
る。幾つかの場合において、中和は必要とされない。他
の場合には、バインダーポリマーの当量酸官能価約20
%までバインダーを中和することが望ましい。典型的に
は塩基は、バインダーポリマーの酸官能価の少なくとも
約2%を中和するために添加されるであろう。中和は、
アンモニア;一級、二級、又は三級アミン;又は水酸化
物を用いて行なわれる。好ましい中和用塩基は、ヒドロ
キシ官能末端アミンである。少なくとも幾つかの中和剤
の代りに結合増粘剤の添加は、より均一でより平滑なコ
ーティングを許容する。改良された塗布特性は、塗布内
の薄い斑点又はピンホールに引きおこされた可能性のあ
る回路板の欠陥を最小化する。加えて、ローラー塗によ
り適用される場合、結合増粘剤を含む光像形成性組成物
はより低いローラー圧縮でより平滑な塗布をもたらす。
低ローラー圧縮はゴムローラの寿命を延ばすことにな
る。中和剤を減少すると、適用されそして乾燥される光
像形成性組成物層の化学抵抗性が改善される。アンモニ
ア又はアミン使用を減少すると、臭いが減少する。結合
増粘剤は、水性光像形成性組成物の粘度ドリフトを減少
する。高剪断応力下でさえ、粘度は安定に保持される傾
向にある。
商標Fluorad FC170−Cのもとで市販され
ている。界面活性剤は、光像形成性組成物固体の約0.
5〜約3.0重量%のレベルで典型的に用いられる。本
発明の水使用可能な光像形成性組成物の製造の好ましい
方法において、開始剤、酸化防止剤および染料の如きそ
れらの成分(大部分は疎水性相と適合し得る)は、モノ
マー分画と混合されモノマー塩基を製造しそしてこれら
の成分(大部分はラテックスポリマーを有する水性相と
適合し得る)、例えば消泡剤、中和剤および結合増粘剤
は混合されポリマー配合物を形成する。
れ、水中疎水性相のエマルションを形成する。引き続
き、スリップ助剤を含めて、高沸点溶剤、界面活性剤、
界面張力改良剤および、接着促進剤が添加される。最終
の水使用に適した組成物は、一般に約20〜約40重量
%の固体である。水使用に適した組成物において、約1
0〜約30重量%を含んでなり、モノマーは約3〜20
重量%を含んでなり、開始剤は約0.3〜約10重量%
を含んでなり、そして増粘剤は約1.5〜約20重量%
を含んでなる。
Claims (6)
- 【請求項1】 A)約50〜約250の酸価を与えるカ
ルボン酸官能価を有するラテックス バインダーポリマ
ーの約30〜約80重量%; B)α,β−エチレン性不飽和モノマーの分画の約20
〜約50重量%; C)遊離基を発生する光開始剤又は光開始剤化学系の約
0.1〜約25重量%;および D)ポリエーテルポリウレタン関連のシックナーの約1
〜約40重量%(前記重量%は成分A〜Dの合計重量基
準である)を含んでなり、ラテックスバインダーポリマ
ーのカルボン酸含量は、塩基で中和されていないか、ま
たはそのカルボキシル化合物の官能価の約20%まで塩
基で中和されている、水中で使用に適した光像形成性組
成物。 - 【請求項2】 水性媒質中に分散された請求項1記載の
光像形成性組成物。 - 【請求項3】 高分子支持シートおよび該高分子支持シ
ート上に請求項1の光像形成性組成物を含んでなる乾燥
塗膜。 - 【請求項4】 成分A〜Dの合計重量基準で前記関連シ
ックナーの少なくとも約2重量%を含有する、請求項1
記載の光像形成性組成物。 - 【請求項5】 前記光開始剤化学系の少なくとも約1重
量%を有する、請求項1記載の光像形成性組成物。 - 【請求項6】 成分A〜Dの合計重量基準で前記光開始
剤又は光開始剤の少なくとも約2重量%を含有する、請
求項1記載の光像形成性組成物。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US18687594A | 1994-01-25 | 1994-01-25 | |
US186875 | 1994-01-25 | ||
US08/199,037 US5364737A (en) | 1994-01-25 | 1994-02-18 | Waterbone photoresists having associate thickeners |
US199037 | 1994-02-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07271033A true JPH07271033A (ja) | 1995-10-20 |
JP2705907B2 JP2705907B2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=26882508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7001114A Expired - Lifetime JP2705907B2 (ja) | 1994-01-25 | 1995-01-09 | 光像形成性組成物 |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (5) | US5364737A (ja) |
EP (1) | EP0664490B1 (ja) |
JP (1) | JP2705907B2 (ja) |
KR (5) | KR0142022B1 (ja) |
CN (1) | CN1078357C (ja) |
AT (1) | ATE164013T1 (ja) |
AU (1) | AU660392B1 (ja) |
BR (1) | BR9404738A (ja) |
CA (1) | CA2131044C (ja) |
DE (1) | DE69408970T2 (ja) |
ES (1) | ES2115165T3 (ja) |
HK (1) | HK1005070A1 (ja) |
IL (1) | IL112006A (ja) |
SG (1) | SG43077A1 (ja) |
TW (4) | TW269018B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003511528A (ja) * | 1999-10-15 | 2003-03-25 | シュタール インタナショナル ベーフェー | 揮発性第3級アミンを含有しない、アニオン系水性ポリマー分散系の調製方法、これによって得られる分散系および前記分散系由来のコーティング |
JP2013082809A (ja) * | 2011-10-08 | 2013-05-09 | Nippon Shokubai Co Ltd | 塗料用水性樹脂組成物 |
JP2015513690A (ja) * | 2012-02-10 | 2015-05-14 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光硬化性組成物 |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5741621A (en) * | 1994-01-10 | 1998-04-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for using photoimageable films prepared for aqueous photoimageable liquid emulsions |
TW353158B (en) * | 1994-03-09 | 1999-02-21 | Nat Starch Chem Invest | Aqueous photoresist composition, method for preparing the same and circuit board comprising thereof |
JPH08328251A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-12-13 | W R Grace & Co | 水性感光性樹脂組成物 |
JPH08328252A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-12-13 | W R Grace & Co | 水性感光性樹脂組成物 |
US5565302A (en) * | 1995-04-21 | 1996-10-15 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Process for preparing photosensitive resin composition |
US5512607A (en) * | 1995-06-06 | 1996-04-30 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Unsaturated epoxy ester with quaternary ammonium and phosphate groups |
AU709577B2 (en) * | 1995-06-07 | 1999-09-02 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for using photoimageable films prepared from aqueous photoimageable liquid emulsions |
WO1996041240A1 (en) * | 1995-06-07 | 1996-12-19 | W.R. Grace & Co.-Conn. | Water photoresist emulsions and methods of preparation thereof |
US5925499A (en) * | 1995-08-01 | 1999-07-20 | Morton International, Inc. | Epoxy-containing waterborne photoimageable composition |
US5846699A (en) * | 1996-09-11 | 1998-12-08 | Eastman Kodak Company | Coating composition including polyurethane for imaging elements |
US6063550A (en) * | 1998-04-29 | 2000-05-16 | Morton International, Inc. | Aqueous developing solutions for reduced developer residue |
US5922522A (en) * | 1998-04-29 | 1999-07-13 | Morton International, Inc. | Aqueous developing solutions for reduced developer residue |
US6248506B1 (en) | 1998-12-04 | 2001-06-19 | Nichigo-Morton | Aqueous developing solutions for reduced developer residue |
JP2000267270A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Clariant (Japan) Kk | ロールコート用感光性樹脂組成物およびロールコート方法 |
TW461988B (en) | 1999-12-17 | 2001-11-01 | Ind Tech Res Inst | Water soluble polymer and photoresist composition containing the same |
US6436540B1 (en) * | 2000-02-18 | 2002-08-20 | Omnova Solutions Inc. | Co-mingled polyurethane-polyvinyl ester polymer compositions and laminates |
US6306557B1 (en) * | 2000-04-20 | 2001-10-23 | Industrial Technology Research Foundation | Process for preparing water dispersible negative-type photosensitive compositions |
US6797146B2 (en) | 2000-11-02 | 2004-09-28 | Shipley Company, L.L.C. | Seed layer repair |
US7063895B2 (en) * | 2001-08-01 | 2006-06-20 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Hydrophobically modified solution polymers and their use in surface protecting formulations |
WO2003074198A2 (en) * | 2002-03-06 | 2003-09-12 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Water borne coating composition for film transfer and casting process |
US20040058276A1 (en) * | 2002-09-23 | 2004-03-25 | Dueber Thomas E. | Halo resistent, photoimagable coverlay compositions, having, advantageous application and removal properties, and methods relating thereto |
US7226959B2 (en) * | 2003-11-06 | 2007-06-05 | Sun Chemical Corporation | Water soluble energy curable stereo-crosslinkable ionomer compositions |
CN103700432A (zh) * | 2013-12-20 | 2014-04-02 | 南昌大学 | 一种含流平剂涂层的漆包线 |
KR102536039B1 (ko) * | 2016-12-22 | 2023-05-23 | 일루미나, 인코포레이티드 | 임프린팅 장치 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5153905A (ja) * | 1974-09-13 | 1976-05-12 | Basf Ag | Reriifuinsatsubanoseizosurutameno ekijonohikarimojoketsugoseiseikeishitsu |
US4079028A (en) * | 1975-10-03 | 1978-03-14 | Rohm And Haas Company | Polyurethane thickeners in latex compositions |
JPS6254727A (ja) * | 1985-07-18 | 1987-03-10 | ザ・ポリテクニツク・ユニバ−シテイ− | 放射線に敏感なポリマ− |
US4743698A (en) * | 1985-10-01 | 1988-05-10 | Alco Chemical Corp. | Acrylic emulsion copolymers for thickening aqueous systems and copolymerizable surfactant monomers for use therein |
JPS6462634A (en) * | 1986-07-29 | 1989-03-09 | Ind Tech Res Inst | Photosensitive emulsion composition and dry painted film photosensitive resist manufactured using the same |
JPH0246460A (ja) * | 1988-08-08 | 1990-02-15 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH0527437A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-02-05 | W R Grace & Co | 水系感光性樹脂組成物及びそれを用いたプリント回路板の製造方法 |
JPH06194837A (ja) * | 1992-10-02 | 1994-07-15 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH06230573A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-19 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | レジスト組成物 |
JPH06258832A (ja) * | 1992-11-17 | 1994-09-16 | W R Grace & Co | 感光性樹脂組成物 |
JPH07253667A (ja) * | 1994-01-10 | 1995-10-03 | E I Du Pont De Nemours & Co | 光画像形成可能な液状組成物および乾燥フィルムの製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3929743A (en) * | 1972-10-10 | 1975-12-30 | Johnson & Son Inc S C | Polyampholytes |
US3912516A (en) * | 1973-07-27 | 1975-10-14 | Upjohn Co | Photopolyer composition containing a polyurethane binding agent |
US4248958A (en) * | 1979-05-23 | 1981-02-03 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture containing polyurethanes |
US4426485A (en) * | 1982-06-14 | 1984-01-17 | Union Carbide Corporation | Polymers with hydrophobe bunches |
US4952481A (en) * | 1985-02-12 | 1990-08-28 | Napp Systems (Usa), Inc. | Photosensitive resin composition |
US4904772A (en) * | 1988-10-03 | 1990-02-27 | Aqualon Company | Mixed hydrophobe polymers |
US5045435A (en) * | 1988-11-25 | 1991-09-03 | Armstrong World Industries, Inc. | Water-borne, alkali-developable, photoresist coating compositions and their preparation |
US5268256A (en) * | 1990-08-02 | 1993-12-07 | Ppg Industries, Inc. | Photoimageable electrodepositable photoresist composition for producing non-tacky films |
CA2084369A1 (en) * | 1991-12-11 | 1993-06-12 | Brent T. Speelman | Water-borne photoimageable compositions |
-
1994
- 1994-02-18 US US08/199,037 patent/US5364737A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-30 US US08/221,313 patent/US5387494A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-06 US US08/223,615 patent/US5389495A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-04 US US08/238,133 patent/US5393643A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-12 US US08/241,872 patent/US5411837A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-08-29 CA CA002131044A patent/CA2131044C/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-08-29 AU AU71547/94A patent/AU660392B1/en not_active Ceased
- 1994-08-30 TW TW083107966A patent/TW269018B/zh not_active IP Right Cessation
- 1994-09-16 CN CN94116129A patent/CN1078357C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1994-09-24 TW TW083108862A patent/TW301720B/zh active
- 1994-09-24 TW TW083108859A patent/TW263569B/zh not_active IP Right Cessation
- 1994-09-24 TW TW083108860A patent/TW300289B/zh not_active IP Right Cessation
- 1994-10-07 KR KR1019940025629A patent/KR0142022B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-10-27 SG SG1996003334A patent/SG43077A1/en unknown
- 1994-10-27 AT AT94307904T patent/ATE164013T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-10-27 ES ES94307904T patent/ES2115165T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-27 DE DE69408970T patent/DE69408970T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-27 EP EP94307904A patent/EP0664490B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-11-21 KR KR1019940030567A patent/KR0149902B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-11-21 KR KR1019940030568A patent/KR950024021A/ko not_active Application Discontinuation
- 1994-11-21 KR KR1019940030569A patent/KR0149903B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-11-21 KR KR1019940030566A patent/KR0144639B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-11-24 BR BR9404738A patent/BR9404738A/pt not_active IP Right Cessation
- 1994-12-16 IL IL11200694A patent/IL112006A/xx not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-01-09 JP JP7001114A patent/JP2705907B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-05-15 HK HK98104212A patent/HK1005070A1/xx not_active IP Right Cessation
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5153905A (ja) * | 1974-09-13 | 1976-05-12 | Basf Ag | Reriifuinsatsubanoseizosurutameno ekijonohikarimojoketsugoseiseikeishitsu |
US4079028A (en) * | 1975-10-03 | 1978-03-14 | Rohm And Haas Company | Polyurethane thickeners in latex compositions |
US4079028B1 (ja) * | 1975-10-03 | 1990-08-21 | Rohm & Haas | |
JPS6254727A (ja) * | 1985-07-18 | 1987-03-10 | ザ・ポリテクニツク・ユニバ−シテイ− | 放射線に敏感なポリマ− |
US4743698A (en) * | 1985-10-01 | 1988-05-10 | Alco Chemical Corp. | Acrylic emulsion copolymers for thickening aqueous systems and copolymerizable surfactant monomers for use therein |
JPS6462634A (en) * | 1986-07-29 | 1989-03-09 | Ind Tech Res Inst | Photosensitive emulsion composition and dry painted film photosensitive resist manufactured using the same |
JPH0246460A (ja) * | 1988-08-08 | 1990-02-15 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH0527437A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-02-05 | W R Grace & Co | 水系感光性樹脂組成物及びそれを用いたプリント回路板の製造方法 |
JPH06194837A (ja) * | 1992-10-02 | 1994-07-15 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
JPH06258832A (ja) * | 1992-11-17 | 1994-09-16 | W R Grace & Co | 感光性樹脂組成物 |
JPH06230573A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-19 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | レジスト組成物 |
JPH07253667A (ja) * | 1994-01-10 | 1995-10-03 | E I Du Pont De Nemours & Co | 光画像形成可能な液状組成物および乾燥フィルムの製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003511528A (ja) * | 1999-10-15 | 2003-03-25 | シュタール インタナショナル ベーフェー | 揮発性第3級アミンを含有しない、アニオン系水性ポリマー分散系の調製方法、これによって得られる分散系および前記分散系由来のコーティング |
JP2013082809A (ja) * | 2011-10-08 | 2013-05-09 | Nippon Shokubai Co Ltd | 塗料用水性樹脂組成物 |
JP2015513690A (ja) * | 2012-02-10 | 2015-05-14 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 光硬化性組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2131044C (en) | 1999-05-11 |
KR0149903B1 (ko) | 1999-03-30 |
IL112006A (en) | 1999-11-30 |
TW301720B (ja) | 1997-04-01 |
TW269018B (ja) | 1996-01-21 |
KR0144639B1 (ko) | 1998-07-01 |
US5389495A (en) | 1995-02-14 |
KR950024019A (ko) | 1995-08-21 |
DE69408970D1 (de) | 1998-04-16 |
US5393643A (en) | 1995-02-28 |
SG43077A1 (en) | 1997-10-17 |
ATE164013T1 (de) | 1998-03-15 |
US5411837A (en) | 1995-05-02 |
TW300289B (ja) | 1997-03-11 |
US5387494A (en) | 1995-02-07 |
JP2705907B2 (ja) | 1998-01-28 |
AU660392B1 (en) | 1995-06-22 |
CA2131044A1 (en) | 1995-07-26 |
IL112006A0 (en) | 1995-03-15 |
CN1078357C (zh) | 2002-01-23 |
KR950024018A (ko) | 1995-08-21 |
KR950024021A (ko) | 1995-08-21 |
EP0664490A1 (en) | 1995-07-26 |
DE69408970T2 (de) | 1998-08-13 |
BR9404738A (pt) | 1995-10-17 |
TW263569B (ja) | 1995-11-21 |
US5364737A (en) | 1994-11-15 |
KR950024020A (ko) | 1995-08-21 |
ES2115165T3 (es) | 1998-06-16 |
EP0664490B1 (en) | 1998-03-11 |
CN1118886A (zh) | 1996-03-20 |
KR0142022B1 (ko) | 1998-06-15 |
HK1005070A1 (en) | 1998-12-18 |
KR950024022A (ko) | 1995-08-21 |
KR0149902B1 (ko) | 1999-03-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2705907B2 (ja) | 光像形成性組成物 | |
EP0706091B2 (en) | Liquid photoimageable resist | |
US5925499A (en) | Epoxy-containing waterborne photoimageable composition | |
EP0664491B1 (en) | Waterborne photoresists having polysiloxanes | |
EP0664488B1 (en) | Waterborne photoresists having binders neutralized with amino acrylates | |
EP0664486B1 (en) | Waterborne photoresists having non-ionic fluorocarbon surfactants | |
JPH11271971A (ja) | 親水性バインダ―ポリマ―および親水性モノマ―を有する光画像形成性組成物 | |
AU660402B1 (en) | Waterborne photoresists having binders with sulfonic acid functionality | |
MXPA96003006A (en) | . photoforming composition of pictures carried out by the waters that contains ep |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081009 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091009 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091009 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101009 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111009 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121009 Year of fee payment: 15 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131009 Year of fee payment: 16 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |