JPH04153276A - ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物及びこれを用いた電着塗装浴 - Google Patents
ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物及びこれを用いた電着塗装浴Info
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Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物、これを用
いた電着塗装浴及びレジストパターンの製造法に関する
。
いた電着塗装浴及びレジストパターンの製造法に関する
。
プリント回路板を製造するに際しては、まず基板上に光
硬化性樹脂組成物の層を形成し、ついで活性光線を画像
状に照射し、未硬化部分を現像除去し、レジストパター
ンを形成している。この工程において、光硬化性樹脂組
成物の贋の形成には。
硬化性樹脂組成物の層を形成し、ついで活性光線を画像
状に照射し、未硬化部分を現像除去し、レジストパター
ンを形成している。この工程において、光硬化性樹脂組
成物の贋の形成には。
種々の方法が採用されている。例えばデイツプコート、
ロールコート、カーテンコート等の光硬化性樹脂組成物
溶液(塗液)を用いる方法、あるいは光硬化性樹脂組成
物のフィルム(感光性フィルム)を積層する方法が知ら
れている。これらの方法のうち、感光性フィルムを積層
する方法は、簡便に均一な厚みの光硬化性樹脂組成物の
層が形成できることから、現在主流の方法として採用さ
れている。
ロールコート、カーテンコート等の光硬化性樹脂組成物
溶液(塗液)を用いる方法、あるいは光硬化性樹脂組成
物のフィルム(感光性フィルム)を積層する方法が知ら
れている。これらの方法のうち、感光性フィルムを積層
する方法は、簡便に均一な厚みの光硬化性樹脂組成物の
層が形成できることから、現在主流の方法として採用さ
れている。
最近、プリント回路板の高密度、高精度化が進むに伴い
、レジストパターンはより高品質のものが必要となって
きている。即ち、ピンホールがなく、下地の基板表面に
より密着したレジストパターンであることが望まれてい
る。かかる要求に対して、現在主流となっている感光性
フィルムを積層する方法では限界のあることが知られて
いる。
、レジストパターンはより高品質のものが必要となって
きている。即ち、ピンホールがなく、下地の基板表面に
より密着したレジストパターンであることが望まれてい
る。かかる要求に対して、現在主流となっている感光性
フィルムを積層する方法では限界のあることが知られて
いる。
この方法では、基板製造時の打痕、研磨の不均一性、基
板内層のガラス布の網目2表面への銅めっきのピット等
の不均一等によって生起する基板表面の凹凸への追従性
が乏しく、十分な密着性を得ることが困難である。この
困難はフィルムの積層を減圧下で行なうこと(特公昭5
9−3740号公報参照)によって回避できるが、これ
には特殊で高価な装置が必要となる。
板内層のガラス布の網目2表面への銅めっきのピット等
の不均一等によって生起する基板表面の凹凸への追従性
が乏しく、十分な密着性を得ることが困難である。この
困難はフィルムの積層を減圧下で行なうこと(特公昭5
9−3740号公報参照)によって回避できるが、これ
には特殊で高価な装置が必要となる。
このようなことが理由となって、近年再びデイツプコー
ト、ロールコート、カーテンコート等の溶液装の方法が
見直されるようになってきた。しかしこれらの塗装法で
は膜厚の制御が困難、膜厚の均一性が不十分、ピンホー
ルの発生等の問題がある。
ト、ロールコート、カーテンコート等の溶液装の方法が
見直されるようになってきた。しかしこれらの塗装法で
は膜厚の制御が困難、膜厚の均一性が不十分、ピンホー
ルの発生等の問題がある。
そこで最近新たな方法として電着塗装により感光膜を形
成する方法が提案されている(特開昭62−23549
6号公報参照)。この方法によると■レジストの密着性
が向上する。■基板表面の凹凸への追従性が良好である
。■短時間で膜厚の均一な感光膜を形成できる。■塗液
が水溶液のため、作業環境の汚染が防止でき、防災上に
も問題がない等の利点がある。そのため最近これに適す
る電着浴の組成に関して幾つかの提案がなされている。
成する方法が提案されている(特開昭62−23549
6号公報参照)。この方法によると■レジストの密着性
が向上する。■基板表面の凹凸への追従性が良好である
。■短時間で膜厚の均一な感光膜を形成できる。■塗液
が水溶液のため、作業環境の汚染が防止でき、防災上に
も問題がない等の利点がある。そのため最近これに適す
る電着浴の組成に関して幾つかの提案がなされている。
例えば、不飽和結合を導入したポリマーを主成分とする
組成が提案(特開昭62−262855号参照)されて
いるが、これは光感度は高いが、ポリマーの合成が難し
く、また保存中に架橋しやすく電着浴の安定性が低いと
いう問題があった。
組成が提案(特開昭62−262855号参照)されて
いるが、これは光感度は高いが、ポリマーの合成が難し
く、また保存中に架橋しやすく電着浴の安定性が低いと
いう問題があった。
またポリマーにエチレン性不飽和化合物を混合した組成
(特開昭61〜247090号公報、特開昭62−23
5496号公報参照)は感度も高く、保存中の架橋反応
も抑制しやすいため、ネガ型のフォトレジスト材料とし
ては良い組成物であるが、前記の不飽和結合を導入した
ポリマーを主成分とする組成と違って、エチレン性不飽
和化合物を加えた少なくとも二成分系となるため、その
分、水分散性や電着塗装性を向上させる工夫が必要であ
り、電着塗装膜(感光膜)の感光性、さらにはその後の
現像性、耐エツチング性等も合わせて考慮すると、この
場合の最重要技術課題はポリマー組成の最適化にあった
。一般にこの場合、ポリマーとしては、合成が容易で、
原料も安価に入手できるなどの理由から(メタ)アクリ
ルポリマーが用いられるが、このポリマーを構成する各
種モノマーの共重合組成が、前記したように各特性に大
きく係わってくるため、いかに適切な共重合モノマーを
適量用いるかが開発の重要なポイントになる。
(特開昭61〜247090号公報、特開昭62−23
5496号公報参照)は感度も高く、保存中の架橋反応
も抑制しやすいため、ネガ型のフォトレジスト材料とし
ては良い組成物であるが、前記の不飽和結合を導入した
ポリマーを主成分とする組成と違って、エチレン性不飽
和化合物を加えた少なくとも二成分系となるため、その
分、水分散性や電着塗装性を向上させる工夫が必要であ
り、電着塗装膜(感光膜)の感光性、さらにはその後の
現像性、耐エツチング性等も合わせて考慮すると、この
場合の最重要技術課題はポリマー組成の最適化にあった
。一般にこの場合、ポリマーとしては、合成が容易で、
原料も安価に入手できるなどの理由から(メタ)アクリ
ルポリマーが用いられるが、このポリマーを構成する各
種モノマーの共重合組成が、前記したように各特性に大
きく係わってくるため、いかに適切な共重合モノマーを
適量用いるかが開発の重要なポイントになる。
一方、電着塗装で感光膜を形成する方法の従来の問題点
として、感光膜の粘着性が高いため、傷がつきやすい、
感光膜同士の積み重ね時に粘着してしまうなどがあった
。この対策として、電着塗装により得られた感光膜の表
面にもう一層硬い保護膜を設ける方法が提案されている
〔保護膜を塗布により形成する方法(特開昭63−60
594号参照)。
として、感光膜の粘着性が高いため、傷がつきやすい、
感光膜同士の積み重ね時に粘着してしまうなどがあった
。この対策として、電着塗装により得られた感光膜の表
面にもう一層硬い保護膜を設ける方法が提案されている
〔保護膜を塗布により形成する方法(特開昭63−60
594号参照)。
保護膜を電着塗装により設ける方法(特開平2−208
73号参照)〕。
73号参照)〕。
これらの方法では、工程を増やさねばならず、また、保
護膜を設ける条件を厳密に管理しないとその後の露光時
の感度や解像度が低下するなどいろいろな問題があり、
この対策は必ずしも得策ではない。やはり、1回の電着
塗装で傷がつきにくく、感光膜同士の粘着もない硬い感
光膜を設けることが望ましい。
護膜を設ける条件を厳密に管理しないとその後の露光時
の感度や解像度が低下するなどいろいろな問題があり、
この対策は必ずしも得策ではない。やはり、1回の電着
塗装で傷がつきにくく、感光膜同士の粘着もない硬い感
光膜を設けることが望ましい。
そこで、前述した合成や電着塗装浴の安定性の面で問題
がなく、良好なレジスト材料であるポリマーに非水溶性
モノマーを混合した系について本発明者らが鋭意検討し
た結果、用いるポリマーのガラス転移点を75〜120
℃とすることで、上記の目的を満足した感光膜を得られ
ることが分かった。ただ、このようにガラス転移点の高
いポリマーを用いると通常の電着条件では数μmと薄い
膜しか得られず、膜の平滑性など外観が劣る場合もある
ことがわかった。
がなく、良好なレジスト材料であるポリマーに非水溶性
モノマーを混合した系について本発明者らが鋭意検討し
た結果、用いるポリマーのガラス転移点を75〜120
℃とすることで、上記の目的を満足した感光膜を得られ
ることが分かった。ただ、このようにガラス転移点の高
いポリマーを用いると通常の電着条件では数μmと薄い
膜しか得られず、膜の平滑性など外観が劣る場合もある
ことがわかった。
そこで、さらに電着性を向上させる検討を進めにポリマ
ーを構成する共重合モノマーとしてメチルメタクリレー
トを60〜85重量部用いた場合には、電着性が良好で
塗膜外観の良好な厚膜が容易に得られ、しかも、感光膜
の機械強度が高いため従来の電着塗装で得られた感光膜
に比べて傷がつきにくく、また感光膜同士を重ねても何
ら粘着せず積み重ねが可能となることを見い出した。
ーを構成する共重合モノマーとしてメチルメタクリレー
トを60〜85重量部用いた場合には、電着性が良好で
塗膜外観の良好な厚膜が容易に得られ、しかも、感光膜
の機械強度が高いため従来の電着塗装で得られた感光膜
に比べて傷がつきにくく、また感光膜同士を重ねても何
ら粘着せず積み重ねが可能となることを見い出した。
また、本発明になるポリマーのガラス転移点を75〜1
20’Cとすることでレジスト形状も従来に比べてより
矩形となりライン幅の狭いパターンも十分に解像できる
ことも見い出した。また、電着浴中に分子内にヒドロキ
シル基を1〜2個有する造膜剤を添加することが好まし
く、外観、膜厚等の電着性を良好とすることができる。
20’Cとすることでレジスト形状も従来に比べてより
矩形となりライン幅の狭いパターンも十分に解像できる
ことも見い出した。また、電着浴中に分子内にヒドロキ
シル基を1〜2個有する造膜剤を添加することが好まし
く、外観、膜厚等の電着性を良好とすることができる。
すなわち、本発明は、
(a)アクリル酸及び/又はメタクリル酸を共重合した
酸価20〜300、ガラス転移点が75〜120℃のポ
リマーを塩基性の有機化合物で中和したポリマー (b)光重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する非
水溶性モノマー 並びに (c)非水溶性光開始剤 を含有してなるネガ型感光性電着塗料樹脂組成物、これ
を用いた電着塗装浴及び該電着塗装浴に導電性基体を陽
極として浸漬し、通電により電着塗装して導電性基体上
に電着塗装膜を形成し、その後、活性光線を前記電着塗
装膜に画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部
を現像により除去し、光硬化したレジストパターンを形
成させることを特徴とするレジストパターンの製造法に
関する。
酸価20〜300、ガラス転移点が75〜120℃のポ
リマーを塩基性の有機化合物で中和したポリマー (b)光重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する非
水溶性モノマー 並びに (c)非水溶性光開始剤 を含有してなるネガ型感光性電着塗料樹脂組成物、これ
を用いた電着塗装浴及び該電着塗装浴に導電性基体を陽
極として浸漬し、通電により電着塗装して導電性基体上
に電着塗装膜を形成し、その後、活性光線を前記電着塗
装膜に画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部
を現像により除去し、光硬化したレジストパターンを形
成させることを特徴とするレジストパターンの製造法に
関する。
以下に本発明について詳述する。
(a)の成分であるポリマーはアクリル酸及び/又はメ
タクリル酸を必須成分として共重合した酸価20〜30
0、ガラス転移点が75〜120℃のポリマーを塩基性
の有機化合物で中和したポリマーである。アクリル酸及
びメタクリル酸はそれら単独もしくは両者を併用して用
いることができ。
タクリル酸を必須成分として共重合した酸価20〜30
0、ガラス転移点が75〜120℃のポリマーを塩基性
の有機化合物で中和したポリマーである。アクリル酸及
びメタクリル酸はそれら単独もしくは両者を併用して用
いることができ。
その使用量は、ポリマーの酸価が20〜300の範囲と
なるよう適宜使用される。ポリマーの酸価が20未満で
は感光性電着塗料樹脂組成物に塩基性の有機化合物を加
えた後、水を加えて水分散させる際の水分散安定性が悪
く1組成物が沈降しやすい、またポリマーの酸価が30
0を越えると電着膜の外観が劣る。
なるよう適宜使用される。ポリマーの酸価が20未満で
は感光性電着塗料樹脂組成物に塩基性の有機化合物を加
えた後、水を加えて水分散させる際の水分散安定性が悪
く1組成物が沈降しやすい、またポリマーの酸価が30
0を越えると電着膜の外観が劣る。
中和前のポリマーは、アクリル酸及び/又はメタクリル
酸以外に、例えば、メチルアクリレート。
酸以外に、例えば、メチルアクリレート。
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート。
ブチルメタクリレート、エチルアクリレート、イソプロ
ピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチ
ルアクリレート、n−へキシルアクリレート、n−オク
チルアクリレート、n−オクチルメタクリレート、n−
デシルメタクリレート。
ピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチ
ルアクリレート、n−へキシルアクリレート、n−オク
チルアクリレート、n−オクチルメタクリレート、n−
デシルメタクリレート。
シクロへキシルメタクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アクリ
ロニトリル、スチレン、塩化ビニル等−射的重合性モツ
マ−を一種類以上、共重合することにより得られる。こ
れら−射的重合性モツマ−は、本発明の特徴の一つであ
るガラス転移点が75〜120℃の範囲となるよう適宜
選択し、それらの使用割合を決めることが出来る0本発
明で言う中和前のポリマーのガラス転移点とは、Fax
が提案した(T、G、Fox、Jr、Bull、Am、
Phys、Soc、 。
アクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、アクリ
ロニトリル、スチレン、塩化ビニル等−射的重合性モツ
マ−を一種類以上、共重合することにより得られる。こ
れら−射的重合性モツマ−は、本発明の特徴の一つであ
るガラス転移点が75〜120℃の範囲となるよう適宜
選択し、それらの使用割合を決めることが出来る0本発
明で言う中和前のポリマーのガラス転移点とは、Fax
が提案した(T、G、Fox、Jr、Bull、Am、
Phys、Soc、 。
上、123 (1956))下式に基づいて算出した値
である。
である。
Tg TgI Tgz TgnTg:共重
合ポリマーのガラス転移点 W□、W2・・・W、:共重合ポリマーを構成する各モ
ノマーの重量分率 Tgl、Tgz・・・Tgn:各モノマーのホモポリマ
ーのガラス転移点 また上式の計算のもとになる各モノマーのホモポリマー
のガラス転移点はアクリル酸の場合、130℃[A 、
Odajima 、 A 、E 、 voodwar
d 、 J 、 A 、 5auer 、 J。
合ポリマーのガラス転移点 W□、W2・・・W、:共重合ポリマーを構成する各モ
ノマーの重量分率 Tgl、Tgz・・・Tgn:各モノマーのホモポリマ
ーのガラス転移点 また上式の計算のもとになる各モノマーのホモポリマー
のガラス転移点はアクリル酸の場合、130℃[A 、
Odajima 、 A 、E 、 voodwar
d 、 J 、 A 、 5auer 、 J。
Polym、Sci、、55,181(1961))、
メタクリル酸の場合、185℃()1.L、Green
berg。
メタクリル酸の場合、185℃()1.L、Green
berg。
“Handbook of Water 5olukl
e Gums and RosinsMc Gray−
Hill、New York、 1980 、 Cha
pt、 17 。
e Gums and RosinsMc Gray−
Hill、New York、 1980 、 Cha
pt、 17 。
PPI〜19)、アクリル酸エステル類及びメタクリル
酸エステル類の場合はHerman Mark。
酸エステル類の場合はHerman Mark。
Norbert M Bikales、Charles
G Overkerger、GeorgMenges
“ENCYCLOPEDIA OF POLYMER5
CIENCE ANDENGINEERING″5EC
OND EDITION、John Viley &
5ons。
G Overkerger、GeorgMenges
“ENCYCLOPEDIA OF POLYMER5
CIENCE ANDENGINEERING″5EC
OND EDITION、John Viley &
5ons。
1985、VoQ 1.PP257〜258のTakl
e13及び14に記載されている値、例えば、エチルア
クリレートは一24℃、n−ブチルアクリレートは一5
5℃、メチルメタクリレートは105℃、n−ブチルメ
タクリレートは20℃とし、また、アクリロニトリルの
場合、85℃(C、R、Bohn *J、R,Scha
ffgen、li1.s、5tation、J、Pol
ym、Sci、、5 5 。
e13及び14に記載されている値、例えば、エチルア
クリレートは一24℃、n−ブチルアクリレートは一5
5℃、メチルメタクリレートは105℃、n−ブチルメ
タクリレートは20℃とし、また、アクリロニトリルの
場合、85℃(C、R、Bohn *J、R,Scha
ffgen、li1.s、5tation、J、Pol
ym、Sci、、5 5 。
531 (196))、スチレンの場合、100℃(北
岡協三“塗料用合成樹脂入門”PP17.高分子刊行会
、1982)、塩化ビニルの場合。
岡協三“塗料用合成樹脂入門”PP17.高分子刊行会
、1982)、塩化ビニルの場合。
87℃(北岡協三、′塗料用合成樹脂入門”PP17、
高分子刊行会、1982)とした。上述した以外のモノ
マーを共重合する場合には、そのモノマーのホモポリマ
ーを後述する溶液重合(重量平均分子量約4万)により
得、示差走査熱量測定法(DSC)で測定したガラス転
移点の値を用いた。
高分子刊行会、1982)とした。上述した以外のモノ
マーを共重合する場合には、そのモノマーのホモポリマ
ーを後述する溶液重合(重量平均分子量約4万)により
得、示差走査熱量測定法(DSC)で測定したガラス転
移点の値を用いた。
いずれにしても上述した式を使って算出したガラス転移
点が75〜120℃の範囲である中和前のポリマーを用
いることが本発明においては肝要である。中でも共重合
モノマーの総量100重量部に対し、メチルメタクリレ
ートを60〜85重量部共重合して、ガラス転移点を7
5〜120℃の範囲とした中和前ポリマーを用いれば電
着性及び感光膜の機械強度が共に良好で、本発明の特長
を最も発揮できる。なお、中和前のポリマーのガラス転
移点が75℃未満では、感光膜の機械強度が低くなる傾
向があり、また、120℃を越えると電着性が低下する
傾向がある。
点が75〜120℃の範囲である中和前のポリマーを用
いることが本発明においては肝要である。中でも共重合
モノマーの総量100重量部に対し、メチルメタクリレ
ートを60〜85重量部共重合して、ガラス転移点を7
5〜120℃の範囲とした中和前ポリマーを用いれば電
着性及び感光膜の機械強度が共に良好で、本発明の特長
を最も発揮できる。なお、中和前のポリマーのガラス転
移点が75℃未満では、感光膜の機械強度が低くなる傾
向があり、また、120℃を越えると電着性が低下する
傾向がある。
中和前のポリマーの合成は前記の七ツマ−を有機溶媒中
でアゾビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレ
ロニトリル、過酸化ベンゾイル等の重合開始剤を用いて
一般的な溶液重合により得られ、このポリマーを後述す
る塩基性の有機化合物で中和することにより(a)成分
であるポリマーを得ることができる。この場合、用いる
有機溶媒は電着塗料に供することを考えてジオキサン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコール七ツメチルエーテル、エチレングリコールモノ
アセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
アセテートなどの親水性の有機溶媒を主に用いることが
好ましい。もし、トルエン、キシレン、ベンゼン等の疎
水性の有機溶媒を主に用いた場合には、ポリマー合成後
、溶媒を留去して前記の親水性溶媒に置き換える必要が
ある。
でアゾビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレ
ロニトリル、過酸化ベンゾイル等の重合開始剤を用いて
一般的な溶液重合により得られ、このポリマーを後述す
る塩基性の有機化合物で中和することにより(a)成分
であるポリマーを得ることができる。この場合、用いる
有機溶媒は電着塗料に供することを考えてジオキサン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコール七ツメチルエーテル、エチレングリコールモノ
アセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
アセテートなどの親水性の有機溶媒を主に用いることが
好ましい。もし、トルエン、キシレン、ベンゼン等の疎
水性の有機溶媒を主に用いた場合には、ポリマー合成後
、溶媒を留去して前記の親水性溶媒に置き換える必要が
ある。
ポリマーの重量平均分子量(JR準ポリスチレン換算)
は5,000〜150,000が好ましい、 s、oo
o未満ではレジストの機械的強度が弱くなる傾向があり
。
は5,000〜150,000が好ましい、 s、oo
o未満ではレジストの機械的強度が弱くなる傾向があり
。
150.000を越えると電着塗装性が劣り、塗膜の外
観が劣る傾向がある。
観が劣る傾向がある。
(、)の成分であるポリマーの使用量は(a)及び(b
)の総量100重量部に対して50〜85重量部である
ことが好ましく、60〜75重量部の範囲であることが
より好ましい、使用量が50重量部未満では、レジスト
の機械的強度が弱く、強しん性に劣る傾向があり、また
85重量部を越えると(b)の成分である光重合性上ツ
マ−の割合が減って光に対する感度が低下する傾向があ
る。
)の総量100重量部に対して50〜85重量部である
ことが好ましく、60〜75重量部の範囲であることが
より好ましい、使用量が50重量部未満では、レジスト
の機械的強度が弱く、強しん性に劣る傾向があり、また
85重量部を越えると(b)の成分である光重合性上ツ
マ−の割合が減って光に対する感度が低下する傾向があ
る。
(b)の成分である光重合性不飽和結合を分子内に2個
以上有する非水溶性モノマーとしては、例えば、エチレ
ングリコールを1つ以上縮合したポリエチレングリコー
ルを除く多価アルコールにα。
以上有する非水溶性モノマーとしては、例えば、エチレ
ングリコールを1つ以上縮合したポリエチレングリコー
ルを除く多価アルコールにα。
β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物、例え
ばトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テト
ラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラ
メチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等、グリ
シジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を付加
して得られる化合物、例えば、トリメチロールプロパン
トリグリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェノ
ールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート等
、多価カルボン酸1例えば無水フタル酸等と水酸基及び
エチレン性不飽和基を有する物質、例えばβ−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート等のエステル化物等が用
いられ、更にはウレタン骨格をもったウレタンジアクリ
レート化合物等も用いることができ、いずれにしても、
非水溶性で光照射により硬化するものであればよい。そ
の意味で、(ポリ)エチレングリコールジアクリレート
などの親木性上ツマ−は本発明の範囲外である。これら
は1種類単独で、もしくは2種類以上混合して用いるこ
とができる。
ばトリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テト
ラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラ
メチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等、グリ
シジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を付加
して得られる化合物、例えば、トリメチロールプロパン
トリグリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェノ
ールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート等
、多価カルボン酸1例えば無水フタル酸等と水酸基及び
エチレン性不飽和基を有する物質、例えばβ−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート等のエステル化物等が用
いられ、更にはウレタン骨格をもったウレタンジアクリ
レート化合物等も用いることができ、いずれにしても、
非水溶性で光照射により硬化するものであればよい。そ
の意味で、(ポリ)エチレングリコールジアクリレート
などの親木性上ツマ−は本発明の範囲外である。これら
は1種類単独で、もしくは2種類以上混合して用いるこ
とができる。
(b)の成分の使用量は、(a)及び(b)の総量10
0重量部に対して15〜50重量部、好ましくは25〜
40重量部の範囲であることが好ましい。
0重量部に対して15〜50重量部、好ましくは25〜
40重量部の範囲であることが好ましい。
使用量が15重量部未満では光に対する感度が低下する
傾向があり、50重量部を越えるとレジストがもろくな
る傾向がある。
傾向があり、50重量部を越えるとレジストがもろくな
る傾向がある。
(c)の成分である非水溶性光開始剤又は光開始剤系と
しては、例えば、ベンゾフェノン、N。
しては、例えば、ベンゾフェノン、N。
N′−テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノ
ン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、2−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン
等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等の
ベンゾインエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾ
イン等のベンゾイン、2−(o−クロロフェニル)−4
゜5−ジフェニルイミダゾールニ量体、2−(o−クロ
ロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イ
ミダゾールニ量体、2.4−ジ(p−メトキシフェニル
)−5−フェニルイミダゾール二量体などが挙げられる
。これらは1種類単独で、もしくは2種類以上混合して
用いることができる。
ン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、2−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン
等の芳香族ケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等の
ベンゾインエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾ
イン等のベンゾイン、2−(o−クロロフェニル)−4
゜5−ジフェニルイミダゾールニ量体、2−(o−クロ
ロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イ
ミダゾールニ量体、2.4−ジ(p−メトキシフェニル
)−5−フェニルイミダゾール二量体などが挙げられる
。これらは1種類単独で、もしくは2種類以上混合して
用いることができる。
(c)の成分の使用量は(a)及び(b)の総量100
重量部に対して0.1〜15重量部であることが好まし
く、0.2〜10重量部であることがより好ましい。使
用量が0.1重量部未滴では光に対する感度が低下する
傾向があり、15重量部を越えると露光の際に組成物の
表面での光吸収が増大し、内部の光硬化が不十分となる
傾向がある。
重量部に対して0.1〜15重量部であることが好まし
く、0.2〜10重量部であることがより好ましい。使
用量が0.1重量部未滴では光に対する感度が低下する
傾向があり、15重量部を越えると露光の際に組成物の
表面での光吸収が増大し、内部の光硬化が不十分となる
傾向がある。
(b)及び(C)の成分はすべて非水溶性でなければな
らない、水溶性では他の成分と均一に混合された状態で
電着塗装することが困難となる。
らない、水溶性では他の成分と均一に混合された状態で
電着塗装することが困難となる。
本発明における感光性電着塗料樹脂組成物には染料、顔
料等の着色剤を含有させてもよい。着色剤としては、例
えば、フクシン、オーラミン塩基。
料等の着色剤を含有させてもよい。着色剤としては、例
えば、フクシン、オーラミン塩基。
クリスタルバイオレット、ビクトリアピュアプル、マラ
カイトグリーン、メチルオレンジ、アシッドバイオレッ
トRRH等が用いられる。
カイトグリーン、メチルオレンジ、アシッドバイオレッ
トRRH等が用いられる。
さらに、本発明の感光性樹脂組成物には、熱重合禁止剤
、可塑剤、接着促進剤、無機フィラー等を添加してもよ
い。
、可塑剤、接着促進剤、無機フィラー等を添加してもよ
い。
ネガ型電着塗料樹脂組成物は1例えば、(a)。
(b)及び(c)成分を前述した親水性有機溶媒に均一
に溶解させた溶液とし〔この場合中和前のポリマー((
a)成分のポリマーの前駆体)を合成する際に用いた親
水性有機溶媒をそのまま用いてもよく、いったん合成溶
媒を留去した後、別の親水性有機溶媒を加えてもよい、
また親水性有機溶媒は2種類以上でもよい、親水性有機
溶媒の使用量は(a) 、 (b)及び(c)成分を含
む固形分100重量部に対し300重量部以下の範囲と
す【ことが好ましい〕、次に、前記の溶液に塩基性の有
機化合物を加えて中和前のポリマー中に含まれるカルボ
キシル基を中和することにより、水溶化または水分散化
を容易にしたポリマーとすることにより調整することが
できる。ここで用いる塩基性の有機化合物としては特に
制限はないが、例えば、トリエチルアミン、モノエタノ
ールアミン、ジェタノールアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジメチルアミノエタノール、モルホリン等が挙げら
れ、これらは単独もしくは2種類以上混合して用いるこ
とができる。これら塩基性の有機化合物の使用量は中和
前のポリマー中のカルボキシル基1当量に対して0.2
〜1.0 当量とすることが好ましい。
に溶解させた溶液とし〔この場合中和前のポリマー((
a)成分のポリマーの前駆体)を合成する際に用いた親
水性有機溶媒をそのまま用いてもよく、いったん合成溶
媒を留去した後、別の親水性有機溶媒を加えてもよい、
また親水性有機溶媒は2種類以上でもよい、親水性有機
溶媒の使用量は(a) 、 (b)及び(c)成分を含
む固形分100重量部に対し300重量部以下の範囲と
す【ことが好ましい〕、次に、前記の溶液に塩基性の有
機化合物を加えて中和前のポリマー中に含まれるカルボ
キシル基を中和することにより、水溶化または水分散化
を容易にしたポリマーとすることにより調整することが
できる。ここで用いる塩基性の有機化合物としては特に
制限はないが、例えば、トリエチルアミン、モノエタノ
ールアミン、ジェタノールアミン、ジイソプロピルアミ
ン、ジメチルアミノエタノール、モルホリン等が挙げら
れ、これらは単独もしくは2種類以上混合して用いるこ
とができる。これら塩基性の有機化合物の使用量は中和
前のポリマー中のカルボキシル基1当量に対して0.2
〜1.0 当量とすることが好ましい。
0.2 当量未満では電着塗装浴の水分散安定性が低下
する傾向があり、1.0 当量を越えると電着塗装後の
塗膜厚が薄くなり、外観が低下する傾向がある。
する傾向があり、1.0 当量を越えると電着塗装後の
塗膜厚が薄くなり、外観が低下する傾向がある。
また、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基性
の無機化合物は、ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物の加
水分解を起こしやすいので使用しない方がよい。
の無機化合物は、ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物の加
水分解を起こしやすいので使用しない方がよい。
本発明においてガラス転移点の高いポリマーを用いた場
合で、電着性が低下するとき、良好な電着性を維持させ
る点から、ネガ型電着塗料樹脂組成物に、分子内にヒド
ロキシル基を1〜2個有する造膜剤を含有させることが
好ましい。造膜剤には、ポリマーを合成する際に用い、
そのまま電着塗装浴の中に含まれる親水性有機溶剤、例
えば、エチレングリコール、モノメチルエーテル、プロ
ピレングリコール、モノメチルエーテルなどの溶剤も含
まれるが、このようにポリマーの合成時に分子内にヒド
ロキシル基を1〜2個有する有機溶剤を用い、そのまま
その溶剤が電着塗装浴中に含まれることとなる場合には
、それとは構造の異なる溶剤を造膜剤として用いること
が特に好ましい。
合で、電着性が低下するとき、良好な電着性を維持させ
る点から、ネガ型電着塗料樹脂組成物に、分子内にヒド
ロキシル基を1〜2個有する造膜剤を含有させることが
好ましい。造膜剤には、ポリマーを合成する際に用い、
そのまま電着塗装浴の中に含まれる親水性有機溶剤、例
えば、エチレングリコール、モノメチルエーテル、プロ
ピレングリコール、モノメチルエーテルなどの溶剤も含
まれるが、このようにポリマーの合成時に分子内にヒド
ロキシル基を1〜2個有する有機溶剤を用い、そのまま
その溶剤が電着塗装浴中に含まれることとなる場合には
、それとは構造の異なる溶剤を造膜剤として用いること
が特に好ましい。
本発明における造膜剤としては、例えば、n−プロパツ
ール、n−ブタノール、イソブタノール。
ール、n−ブタノール、イソブタノール。
n−オクチルアルコール、アシルアルコール、エチレン
グリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコー
ルなどの一価及び二価アルコールや、二価アルコールの
一方の末端をエーテルとしたエチレングリコール七ツメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル
、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピ
ルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル
などが挙げられる。中でもn−ブタノール、プロピレン
グリコールモノプロピルエーテル及びエチレングリコー
ルモノブチルエーテルなどは、本発明におけるガラス転
移点の高い(a)成分に対して極めて有効な造膜剤とな
る。これら造膜剤の添加量は(a) 、 (b)及び(
c)成分100重量部に対し、0.1〜15重量部とし
て用いることが好ましい、添加量が0.1 重量部未満
では効果が低く、また15重量部を越えると感光膜中の
残存溶剤量が多くなりすぎて、感光膜がべたつく傾向が
ある。
グリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコー
ルなどの一価及び二価アルコールや、二価アルコールの
一方の末端をエーテルとしたエチレングリコール七ツメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル
、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピ
ルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル
などが挙げられる。中でもn−ブタノール、プロピレン
グリコールモノプロピルエーテル及びエチレングリコー
ルモノブチルエーテルなどは、本発明におけるガラス転
移点の高い(a)成分に対して極めて有効な造膜剤とな
る。これら造膜剤の添加量は(a) 、 (b)及び(
c)成分100重量部に対し、0.1〜15重量部とし
て用いることが好ましい、添加量が0.1 重量部未満
では効果が低く、また15重量部を越えると感光膜中の
残存溶剤量が多くなりすぎて、感光膜がべたつく傾向が
ある。
なお、造膜剤を添加する時期は、塩基性の有機化合物に
よる中和を行う前に添加しても、中和を行った後に添加
してもよい。また、電着塗装浴を作製する際、ネガ型感
光性電着塗料用組成物を水に溶解もしくは分散させた後
に添加してもよい。
よる中和を行う前に添加しても、中和を行った後に添加
してもよい。また、電着塗装浴を作製する際、ネガ型感
光性電着塗料用組成物を水に溶解もしくは分散させた後
に添加してもよい。
また、ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物の水分散性や分
散安定性を高めるために界面活性剤を適宜加えることも
できる。
散安定性を高めるために界面活性剤を適宜加えることも
できる。
電着塗装浴は、通常、ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物
に水を加えて、水に溶解もしくは分散させて作製するこ
とができる。電着塗装浴の固形分は5〜20重量%、ま
たpHは6.0〜9.0(7)範囲とすることが浴管理
、電着性等の点から好ましい。
に水を加えて、水に溶解もしくは分散させて作製するこ
とができる。電着塗装浴の固形分は5〜20重量%、ま
たpHは6.0〜9.0(7)範囲とすることが浴管理
、電着性等の点から好ましい。
このようにして得られた電着塗装浴を用いて導電性の基
体に電着塗装するには、導電性の基体を陽極として電着
塗装浴中に浸漬し、通常、定電流法の場合は10〜lo
omA/dmの直流電流を、また定電圧法の場合は、5
O−400Vの直流電圧をそれぞれ10秒〜5分間印加
して行なわれる。
体に電着塗装するには、導電性の基体を陽極として電着
塗装浴中に浸漬し、通常、定電流法の場合は10〜lo
omA/dmの直流電流を、また定電圧法の場合は、5
O−400Vの直流電圧をそれぞれ10秒〜5分間印加
して行なわれる。
得られた塗膜の膜厚は5〜50μmであるこが好ましい
、このときの電着塗装浴中の温度は15〜30℃に管理
することが望ましい。
、このときの電着塗装浴中の温度は15〜30℃に管理
することが望ましい。
電着塗装後、電着塗装浴から被塗物を引き上げ水洗、水
切りした後、熱風等で乾燥される。この際、乾燥温度が
高いと塗膜が熱硬化し、露光後の現像工程で一部が現像
残りとなるため、通常、110℃以下で乾燥することが
望ましい。
切りした後、熱風等で乾燥される。この際、乾燥温度が
高いと塗膜が熱硬化し、露光後の現像工程で一部が現像
残りとなるため、通常、110℃以下で乾燥することが
望ましい。
ついで該塗装膜に活性光線を画像状に照射し、該塗装膜
の露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去し光
硬化したレジストパターンを得ることができる。活性光
線の光源としては、波長300〜450nmの光線を発
するもの、例えば水銀蒸気アーク、カーボンアーク、キ
セノンアーク等が好ましく用いられる。
の露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去し光
硬化したレジストパターンを得ることができる。活性光
線の光源としては、波長300〜450nmの光線を発
するもの、例えば水銀蒸気アーク、カーボンアーク、キ
セノンアーク等が好ましく用いられる。
現像は、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム。
水酸化カリウム等のアルカリ水を吹きつけるか、アルカ
リ水に浸漬するなどして行なうことができる。
リ水に浸漬するなどして行なうことができる。
以下実施例により本発明を説明する。
実施例1
攪拌機、還流冷却器、温度計2滴下ロート及び窒素ガス
導入管を備えたフラスコにジオキサン1130gを加え
攪拌しながら窒素ガスを吹きこみながら90℃の温度に
加温した。温度が90℃一定になったところでメタクリ
ル酸169 g tメチルメタクリレート688 g
pエチルアクリレート83 g t n−ブチルアクリ
レート60g及びアゾビスイソブチロニトリル10gを
混合した液を2.5時間かけてフラスコ内に滴下し、そ
の後3時間90℃で攪拌しながら保温した。3時間後に
アゾビスジメチルバレロニトリル3gをジオキサン10
0gに溶かした溶液を10分かけてフラスコ内に滴下し
、その後再び4時間90℃で攪拌しながら保温した。
導入管を備えたフラスコにジオキサン1130gを加え
攪拌しながら窒素ガスを吹きこみながら90℃の温度に
加温した。温度が90℃一定になったところでメタクリ
ル酸169 g tメチルメタクリレート688 g
pエチルアクリレート83 g t n−ブチルアクリ
レート60g及びアゾビスイソブチロニトリル10gを
混合した液を2.5時間かけてフラスコ内に滴下し、そ
の後3時間90℃で攪拌しながら保温した。3時間後に
アゾビスジメチルバレロニトリル3gをジオキサン10
0gに溶かした溶液を10分かけてフラスコ内に滴下し
、その後再び4時間90℃で攪拌しながら保温した。
このようにして得られた(a)成分の前駆体としてのポ
リマーの重量平均分子量は39,000酸価は111、
ポリマー溶液の固形分は45.7重量%であった。この
ポリマーのガラス転移点は85℃であった。
リマーの重量平均分子量は39,000酸価は111、
ポリマー溶液の固形分は45.7重量%であった。この
ポリマーのガラス転移点は85℃であった。
次にこのポリマー溶液650gに(b)成分としてのE
O変性ビスフェノールAジメタクリレート(新中村化学
工業製、高品名NKエステルBPE −200)150
g、(C)成分としてのベンゾフェノン30g及びN、
N’−テトラエチル−4゜4′−ジアミノベンゾフェノ
ン1gを加えて溶解した。この溶液に塩基性の有機化合
物としてのトリエチルアミン20gを加えて溶解し溶液
中の(a)成分の前駆体としてのポリマーを中和した。
O変性ビスフェノールAジメタクリレート(新中村化学
工業製、高品名NKエステルBPE −200)150
g、(C)成分としてのベンゾフェノン30g及びN、
N’−テトラエチル−4゜4′−ジアミノベンゾフェノ
ン1gを加えて溶解した。この溶液に塩基性の有機化合
物としてのトリエチルアミン20gを加えて溶解し溶液
中の(a)成分の前駆体としてのポリマーを中和した。
ついで、この溶液を攪拌しながらイオン交換水4.20
0 g を徐々に滴下しながら加えて電着塗装浴を得
た。この電着塗装浴のpHは25℃で7.7であった。
0 g を徐々に滴下しながら加えて電着塗装浴を得
た。この電着塗装浴のpHは25℃で7.7であった。
上記の電着塗装浴にガラスエポキシ銅張積層板(日立化
成工業(株)製MCL−E−61) (200■×7
5■)を陽極として、ステンレス板(SUS304、形
状200■X75amXl■)を陰極として浸漬し、2
5℃の温度で150vの直流電圧を3分間印加し、上記
銅張積層板の表面に電着塗装膜(感光膜)を形成した。
成工業(株)製MCL−E−61) (200■×7
5■)を陽極として、ステンレス板(SUS304、形
状200■X75amXl■)を陰極として浸漬し、2
5℃の温度で150vの直流電圧を3分間印加し、上記
銅張積層板の表面に電着塗装膜(感光膜)を形成した。
この後水洗、水切り後100℃で10分乾燥した(乾燥
後の膜厚1oμm)。
後の膜厚1oμm)。
このものに、ネガマスクを介して3KW超高圧水銀灯で
100mJ/adの光量を画像状に露光した後、1重量
%の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、ステップタ
ブレット(光学密度0.05を1段目とし、1段ごとに
光学密度が0.15ずつ増加するネガマスクを使用)6
段の光感度を得、また50μmの高解像度をもった良好
なレジストパターンを形成することができた。
100mJ/adの光量を画像状に露光した後、1重量
%の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、ステップタ
ブレット(光学密度0.05を1段目とし、1段ごとに
光学密度が0.15ずつ増加するネガマスクを使用)6
段の光感度を得、また50μmの高解像度をもった良好
なレジストパターンを形成することができた。
実施例2
実施例1と同様の装置を備えたフラスコにプロピレング
リコールモノメチルエーテル1,130gを加え攪拌し
、窒素ガスを吹きこみながら100℃の温度に加温した
。温度が100℃に一定になったところでメタクリル酸
192g、メチルメタクリレート780 g ?エチル
アクリレート28g及びアゾビスイソブチロニトリル2
0gを混合した液を3時間かけてフラスコ内に滴下し、
その後3.5時間、100℃で攪拌しながら保温した。
リコールモノメチルエーテル1,130gを加え攪拌し
、窒素ガスを吹きこみながら100℃の温度に加温した
。温度が100℃に一定になったところでメタクリル酸
192g、メチルメタクリレート780 g ?エチル
アクリレート28g及びアゾビスイソブチロニトリル2
0gを混合した液を3時間かけてフラスコ内に滴下し、
その後3.5時間、100℃で攪拌しながら保温した。
3.5時間後にアゾビスジメチルバレ口ニトリル8gを
プロピレングリコールモノメチルエーテル100gに溶
かした溶液を10分かけてフラスコ内に滴下し、その後
再び4時間100’Cで攪拌しながら保温した。
プロピレングリコールモノメチルエーテル100gに溶
かした溶液を10分かけてフラスコ内に滴下し、その後
再び4時間100’Cで攪拌しながら保温した。
このようにして得られた(a)成分の前駆体としてのポ
リマーの重量平均分子量は21,000酸価は126、
ポリマー溶液の固形分は45.8重量%であった。この
ポリマーのガラス転移点は112℃である。
リマーの重量平均分子量は21,000酸価は126、
ポリマー溶液の固形分は45.8重量%であった。この
ポリマーのガラス転移点は112℃である。
次にこのポリマー溶液700gに(b)成分としてのジ
ペンタエリスリトールへキサアクリレート(日本化薬層
、商品名カヤラッドDPHA)80g、(c)成分とし
てのベンゾフェノン30g及びN、N’−テトラエチル
−4,4′−ジアミノベンゾフェノン1gを加えて溶解
した。
ペンタエリスリトールへキサアクリレート(日本化薬層
、商品名カヤラッドDPHA)80g、(c)成分とし
てのベンゾフェノン30g及びN、N’−テトラエチル
−4,4′−ジアミノベンゾフェノン1gを加えて溶解
した。
この溶液に造膜剤としてのプロピレングリコールモノプ
ロビルエーテル15gを加えて溶解したのち、塩基性の
有機化合物としてトリエチルアミン22gを加えて、さ
らに溶解し溶液中の(a)成分の前駆体としてのポリマ
ーを中和した。この溶液を攪拌しながらイオン交換水3
,700 g を徐徐に滴下しながら加えて電着塗装浴
を得た。この電着塗装浴のpHは25℃で7.5であっ
た。
ロビルエーテル15gを加えて溶解したのち、塩基性の
有機化合物としてトリエチルアミン22gを加えて、さ
らに溶解し溶液中の(a)成分の前駆体としてのポリマ
ーを中和した。この溶液を攪拌しながらイオン交換水3
,700 g を徐徐に滴下しながら加えて電着塗装浴
を得た。この電着塗装浴のpHは25℃で7.5であっ
た。
上記の電着塗装浴にガラスエポキシ銅張積層板(日立化
成工業(株)製、MCL−E−61)を陽極として、実
施例1と同様の方法で電着塗装を行い、電着塗装膜(感
光膜)を形成した。この後水洗。
成工業(株)製、MCL−E−61)を陽極として、実
施例1と同様の方法で電着塗装を行い、電着塗装膜(感
光膜)を形成した。この後水洗。
水切り後105℃で10分乾燥した(乾燥後の膜厚15
μm)。
μm)。
このものに、ネガマスクを介して3KW超高圧水銀灯で
’70mJ/dの光量を画像状に露光した後、1重量%
の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、ステップタブ
レット7段の光感度を得、また50μmの高解像度をも
った良好なレジストパターンを形成することができた。
’70mJ/dの光量を画像状に露光した後、1重量%
の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、ステップタブ
レット7段の光感度を得、また50μmの高解像度をも
った良好なレジストパターンを形成することができた。
実施例3
実施例1と同様の装置を備えたフラスコにプロピレング
リコールモノメチルエーテル1,130gを加え攪拌し
、窒素ガスを吹きこみながら95℃の温度に加温した。
リコールモノメチルエーテル1,130gを加え攪拌し
、窒素ガスを吹きこみながら95℃の温度に加温した。
温度が95℃に一定になつたところでメタクリル酸21
5g、メチルメタクリレート325g、n−ブチルメタ
クリレート200g、スチレン100 g pメチルア
クリレート160g及びアゾビスイソブチロニトリル5
gを混合した液を2.5時間かけてフラスコ内に滴下し
、その後3時間95℃で攪拌しながら保温した。3時間
後にアゾビスジメチルバレロニトリル2.5g をプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル100gに溶かし
た溶液を15分かけてフラスコ内に滴下し、その後再び
4時間95℃で攪拌しながら保温した。
5g、メチルメタクリレート325g、n−ブチルメタ
クリレート200g、スチレン100 g pメチルア
クリレート160g及びアゾビスイソブチロニトリル5
gを混合した液を2.5時間かけてフラスコ内に滴下し
、その後3時間95℃で攪拌しながら保温した。3時間
後にアゾビスジメチルバレロニトリル2.5g をプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル100gに溶かし
た溶液を15分かけてフラスコ内に滴下し、その後再び
4時間95℃で攪拌しながら保温した。
このようにして得られた(a)成分の前駆体としてのポ
リマーの重量平均分子量は47,000酸価は139、
ポリマー溶液の固形分は44.9重量%であった。この
ポリマーのガラス転移点は77℃であった。
リマーの重量平均分子量は47,000酸価は139、
ポリマー溶液の固形分は44.9重量%であった。この
ポリマーのガラス転移点は77℃であった。
次にこのポリマー溶液700gに(b)成分としてのジ
トリメチロールプロパンテトラアクリレート(サートマ
ー社製、高品名、SR−355)130g、(c)成分
としてのベンゾフェノン30g及びN、N’−テトラエ
チル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン1gを加えて
溶解した。
トリメチロールプロパンテトラアクリレート(サートマ
ー社製、高品名、SR−355)130g、(c)成分
としてのベンゾフェノン30g及びN、N’−テトラエ
チル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン1gを加えて
溶解した。
この溶液に塩基性の有機化合物としてトリエチルアミン
26gを加えて溶解しくa)成分の前駆体としてのポリ
マーを中和した。この溶液を攪拌しながらイオン交換水
3,800 g を徐々に滴下しながら加えて電着塗
装浴を得た。この電着塗装浴のpHは25℃で7.2で
あった。
26gを加えて溶解しくa)成分の前駆体としてのポリ
マーを中和した。この溶液を攪拌しながらイオン交換水
3,800 g を徐々に滴下しながら加えて電着塗
装浴を得た。この電着塗装浴のpHは25℃で7.2で
あった。
上記の電着塗装浴にガラスエポキシ銅張積層板(日立化
成工業(株)製、MCL −E −61)を陽極として
、実施例1と同様の方法で電着塗装を行い、電着塗装膜
(感光膜)を形成した。この後水洗。
成工業(株)製、MCL −E −61)を陽極として
、実施例1と同様の方法で電着塗装を行い、電着塗装膜
(感光膜)を形成した。この後水洗。
水切り後105℃で10分乾燥した(乾燥後の膜厚12
μm)。
μm)。
このものに、ネガマスクを介して3KW超高圧水銀灯で
80mJ/fflの光量を画像状に露光した後、1重量
%の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、ステップタ
ブレット7段の光感度を得、また50μmの高解像度を
もった良好なレジストパターンを形成することができた
。
80mJ/fflの光量を画像状に露光した後、1重量
%の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、ステップタ
ブレット7段の光感度を得、また50μmの高解像度を
もった良好なレジストパターンを形成することができた
。
実施例4
実施例1と同様の装置を備えたフラスコにプロピレング
リコールモノメチルエーテル1,130gを加え攪拌し
、窒素ガスを吹きこみながら90℃の温度に加温した。
リコールモノメチルエーテル1,130gを加え攪拌し
、窒素ガスを吹きこみながら90℃の温度に加温した。
温度が90℃に一定になったところでメタクリル酸19
2 g +メチルメタクリレート714 g tメチル
アクリレート21g。
2 g +メチルメタクリレート714 g tメチル
アクリレート21g。
n−ブチルアクリレート73g及びアゾビスイソブチロ
ニトリルLogを混合した液を2.5 時間かけてフラ
スコ内に滴下し、その後3時間、90℃で攪拌しながら
保温した。3時間後にアゾビスジメチルバレロニトリル
3gをプロピレングリコールモノメチルエーテル100
gに溶かした溶液を10分かけてフラスコ内に滴下し、
その後再び4時間90℃で攪拌しながら保温した。
ニトリルLogを混合した液を2.5 時間かけてフラ
スコ内に滴下し、その後3時間、90℃で攪拌しながら
保温した。3時間後にアゾビスジメチルバレロニトリル
3gをプロピレングリコールモノメチルエーテル100
gに溶かした溶液を10分かけてフラスコ内に滴下し、
その後再び4時間90℃で攪拌しながら保温した。
このようにして得られた(a)成分の前駆体としてのポ
リマーの重量平均分子量は34,000酸価は125、
ポリマー溶液の固形分は45.1重量%であった。この
ポリマーのガラス転移点は95℃である。
リマーの重量平均分子量は34,000酸価は125、
ポリマー溶液の固形分は45.1重量%であった。この
ポリマーのガラス転移点は95℃である。
次にこのポリマー溶液700gに(b)成分としてのペ
ンタエリスリトールトリアクリレート(新中村化学工業
製、商品名NKエステルA−TMM−3)170g、(
c)成分としてのベンゾフェノン30g及びN、N’−
テトラエチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン1g
を加えて溶解した。
ンタエリスリトールトリアクリレート(新中村化学工業
製、商品名NKエステルA−TMM−3)170g、(
c)成分としてのベンゾフェノン30g及びN、N’−
テトラエチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン1g
を加えて溶解した。
この溶液に塩基性の有機化合物としてのトリエチルアミ
ン22gを加えて溶解しくa)成分の前駆体としてのポ
リマーを中和し、さらに造膜剤としてのプロピレングリ
コールモノプロピルエーテル12gを追加し、溶解した
。この溶液を攪拌しながらイオン交換水4,000 g
を徐々に滴下しながら加えて電着塗装浴を得た。こ
の電着塗装浴のpHは25℃で7.5であった。
ン22gを加えて溶解しくa)成分の前駆体としてのポ
リマーを中和し、さらに造膜剤としてのプロピレングリ
コールモノプロピルエーテル12gを追加し、溶解した
。この溶液を攪拌しながらイオン交換水4,000 g
を徐々に滴下しながら加えて電着塗装浴を得た。こ
の電着塗装浴のpHは25℃で7.5であった。
上記の電着塗装浴にガラスエポキシ銅張積層板(日立化
成工業(株)製、阿CL−E−61)を陽極として、実
施例1と同様の方法で電着塗装を行い、電着塗装膜(感
光膜)を形成した。この後水洗。
成工業(株)製、阿CL−E−61)を陽極として、実
施例1と同様の方法で電着塗装を行い、電着塗装膜(感
光膜)を形成した。この後水洗。
水切り後105℃で10分乾燥した(乾燥後の膜厚17
μm)。
μm)。
このものにネガマスクを介して3KW超高圧水銀灯で6
0 m J / dの光量を画像状に露光した後、1重
量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、ステップ
タブレット7段の光感度を得、また50μmの高解像度
をもった良好なレジストパターンを形成することができ
た。
0 m J / dの光量を画像状に露光した後、1重
量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、ステップ
タブレット7段の光感度を得、また50μmの高解像度
をもった良好なレジストパターンを形成することができ
た。
実施例5
実施例1と同様の装置を備えたフラスコにプロピレング
リコールモノメチルエーテル1,130gを加え攪拌し
、窒素ガスを吹きこみながら90℃の温度に加温した。
リコールモノメチルエーテル1,130gを加え攪拌し
、窒素ガスを吹きこみながら90℃の温度に加温した。
温度が90℃に一定になったところでメタクリル酸12
8g、メチルメタクリレート550 g +スチレン1
50g、エチルメタクリレート172g及びアゾビスイ
ソブチロニトリル5gを混合した液を2.5時間かけて
フラスコ内に滴下し、その後3時間、90℃で攪拌しな
がら保温した。3時間後にアゾビスジメチルバレロニト
リル2.5g をプロピレングリコールモノメチルエー
テル100gに溶かした溶液を10分かけてフラスコ内
に滴下し、その後再び4時間90℃で攪拌しながら保温
した。
8g、メチルメタクリレート550 g +スチレン1
50g、エチルメタクリレート172g及びアゾビスイ
ソブチロニトリル5gを混合した液を2.5時間かけて
フラスコ内に滴下し、その後3時間、90℃で攪拌しな
がら保温した。3時間後にアゾビスジメチルバレロニト
リル2.5g をプロピレングリコールモノメチルエー
テル100gに溶かした溶液を10分かけてフラスコ内
に滴下し、その後再び4時間90℃で攪拌しながら保温
した。
このようにして得られた(a)成分の前駆体としてのポ
リマーの重量平均分子量は55,000酸価は101、
ポリマー溶液の固形分は45.3重量%であった。この
ポリマーのガラス転移点は100℃であった。
リマーの重量平均分子量は55,000酸価は101、
ポリマー溶液の固形分は45.3重量%であった。この
ポリマーのガラス転移点は100℃であった。
次にこのポリマー溶液700gに(b)成分としてのト
リメチロールプロパントリアクリレート(大阪有機化学
工業製、商品名ビスコート295)120g、及びウレ
タンアクリレート(サートマー社製、商品名CC−95
01)30.(c)成分としてのベンゾフェノン30g
及びN、、N’−テトラエチル−4,4′−ジアミノベ
ンゾフェノン1gを加えて溶解した。
リメチロールプロパントリアクリレート(大阪有機化学
工業製、商品名ビスコート295)120g、及びウレ
タンアクリレート(サートマー社製、商品名CC−95
01)30.(c)成分としてのベンゾフェノン30g
及びN、、N’−テトラエチル−4,4′−ジアミノベ
ンゾフェノン1gを加えて溶解した。
この溶液に塩基性の有機化合物としてのトリエチルアミ
ン23gを加えて溶解しくa)成分の前駆体としてのポ
リマーを中和し、さらに、造膜剤としてのn−ブタノー
ル15gを追加し、溶解した。
ン23gを加えて溶解しくa)成分の前駆体としてのポ
リマーを中和し、さらに、造膜剤としてのn−ブタノー
ル15gを追加し、溶解した。
この溶液を攪拌しながらイオン交換水4,100gを徐
々に滴下しながら加えた。その後、さらに助溶剤のn−
ブタノールを5g加え、よく攪拌して電着塗装浴を得た
。この電着塗装浴のpHは25℃で7.9であった。
々に滴下しながら加えた。その後、さらに助溶剤のn−
ブタノールを5g加え、よく攪拌して電着塗装浴を得た
。この電着塗装浴のpHは25℃で7.9であった。
上記の電着塗装浴にガラスエポキシ銅張積層板(日立化
成工業(株)製、MCL−E−61)を陽極として、実
施例1と同様の方法で電着塗装を行い、電着塗装膜(感
光膜)を形成した。この後水洗。
成工業(株)製、MCL−E−61)を陽極として、実
施例1と同様の方法で電着塗装を行い、電着塗装膜(感
光膜)を形成した。この後水洗。
水切り後105℃で10分乾燥した(乾燥後の膜厚14
μm)。
μm)。
このものにネガマスクを介して3KW超高圧水銀灯で7
0 m J / alの光量を画像状に露光した後、1
重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、ステッ
プタブレット8段の光感度を得、また50μmの高解像
度をもった良好なレジストパターンを形成することがで
きた。
0 m J / alの光量を画像状に露光した後、1
重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、ステッ
プタブレット8段の光感度を得、また50μmの高解像
度をもった良好なレジストパターンを形成することがで
きた。
比較例1
実施例1と同様の装置を備えたフラスコにプロピレング
リコールモノメチルエーテル1,130gを加え攪拌し
、窒素ガスを吹きこみながら90℃の温度に加温した。
リコールモノメチルエーテル1,130gを加え攪拌し
、窒素ガスを吹きこみながら90℃の温度に加温した。
温度が90℃に一定になつたところでメタクリル酸16
9g、メチルメタクリレート430g、エチルアクリレ
ート247 g +n−ブチルアクリレート153g及
びアゾビスイソブチロニトリル10gを混合した液を2
.5 時間かけてフラスコ内に滴下し、その後3時間、
90℃で攪拌しながら保温した。3時間後にアゾビスジ
メチルバレロニトリル3gをプロピレングリコールモノ
メチルエーテル100gに溶かした溶液を10分かけて
フラスコ内に滴下し、その後再び4時間90℃で攪拌し
ながら保温した。
9g、メチルメタクリレート430g、エチルアクリレ
ート247 g +n−ブチルアクリレート153g及
びアゾビスイソブチロニトリル10gを混合した液を2
.5 時間かけてフラスコ内に滴下し、その後3時間、
90℃で攪拌しながら保温した。3時間後にアゾビスジ
メチルバレロニトリル3gをプロピレングリコールモノ
メチルエーテル100gに溶かした溶液を10分かけて
フラスコ内に滴下し、その後再び4時間90℃で攪拌し
ながら保温した。
このようにして得られたポリマーの重量平均分子量は3
8,000 、酸価は109、ポリマー溶液の固形分は
45.1重量%であった。ただし、このポリマーのガラ
ス転移点は39℃であった。
8,000 、酸価は109、ポリマー溶液の固形分は
45.1重量%であった。ただし、このポリマーのガラ
ス転移点は39℃であった。
次に、このポリマー溶液659gにE○変性ビスフェノ
ールAジメタクリレート(新中村化学工業製、商品名N
KエステルBPE−200) 150 g 。
ールAジメタクリレート(新中村化学工業製、商品名N
KエステルBPE−200) 150 g 。
ベンゾフェノン30g及びN、N’−テトラエチル−4
,4′−ジアミノベンゾフェノン1gを加えて溶解した
。
,4′−ジアミノベンゾフェノン1gを加えて溶解した
。
この溶液に塩基性の有機化合物としてトリエチルアミン
20gを加えて溶解した。
20gを加えて溶解した。
この溶液を攪拌しながらイオン交換水4,200gを徐
々に滴下しながら加えて電着塗装浴を得た。
々に滴下しながら加えて電着塗装浴を得た。
この電着塗装浴のpHは25℃で7.7であった。
上記の電着塗装浴にガラスエポキシ鋼張積層板(日立化
成工業(株)l!、MCL−E−61)を陽極として、
実施例1と同様の方法1条件で電着塗装膜(感光膜)を
形成した。水洗、水切り後、100℃で10分乾燥した
(乾燥後の膜厚15μm)。
成工業(株)l!、MCL−E−61)を陽極として、
実施例1と同様の方法1条件で電着塗装膜(感光膜)を
形成した。水洗、水切り後、100℃で10分乾燥した
(乾燥後の膜厚15μm)。
このものに、ネガマスクを介して3KW超高圧水銀灯で
100 m J / cxjの光量を画像状に露光した
後、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、
ステップタブレット7段の光感度を得たが、レジスト形
状は丸味をおびレジスト形状は不良であった。
100 m J / cxjの光量を画像状に露光した
後、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像した結果、
ステップタブレット7段の光感度を得たが、レジスト形
状は丸味をおびレジスト形状は不良であった。
また、露光時にネガマスクが感光膜に付着してしまい、
露光後、ネガマスクを無理に引きはがした際、レジスト
の一部に傷がついた。
露光後、ネガマスクを無理に引きはがした際、レジスト
の一部に傷がついた。
実施例1〜5及び比較例1について、電着性及び感光膜
同士の粘着性を評価した結果を表1に示す。なお、感光
膜同士の粘着性の評価は、第1図に示すようにガラスエ
ポキシ銅張積層板(50mX50■)上の感光膜同士を
重ね、上から1.0眩の荷重をかけた状態で30℃の雰
囲気に1時間放置し、その後室温に戻した後、感光膜同
士を引きはがす際のはがれ易さを見た。(○:粘着せず
容易に感光膜同士がはがれる。△:やや粘着する。
同士の粘着性を評価した結果を表1に示す。なお、感光
膜同士の粘着性の評価は、第1図に示すようにガラスエ
ポキシ銅張積層板(50mX50■)上の感光膜同士を
重ね、上から1.0眩の荷重をかけた状態で30℃の雰
囲気に1時間放置し、その後室温に戻した後、感光膜同
士を引きはがす際のはがれ易さを見た。(○:粘着せず
容易に感光膜同士がはがれる。△:やや粘着する。
×:完全に粘着し感光膜がはがれないとして評価した。
)
表1から明らかに実施例1〜5の場合は、外観が良好で
均一な10〜17μmの膜厚の感光膜が得られ、感光膜
同士を重ねてもまったく粘着しない硬い膜であることが
分かる。もちろん、各実施例の項で記載したように感光
性も良好でかっ、レジスト形状は矩形で高解像度のレジ
ストパターンが得られる。
均一な10〜17μmの膜厚の感光膜が得られ、感光膜
同士を重ねてもまったく粘着しない硬い膜であることが
分かる。もちろん、各実施例の項で記載したように感光
性も良好でかっ、レジスト形状は矩形で高解像度のレジ
ストパターンが得られる。
それに対し比較例1(用いているポリマーのガラス転移
点が本発明の範囲外である39℃と低い)では、電着性
は実施例と同様に良好であるが、感表1 電着性と粘着性 光膜が軟らかく感光膜同士を重ねた場合には容易に粘着
し合い、引きはがすことができないという問題点を有し
ていた。またレジスト形状は丸味をおび不良である。
点が本発明の範囲外である39℃と低い)では、電着性
は実施例と同様に良好であるが、感表1 電着性と粘着性 光膜が軟らかく感光膜同士を重ねた場合には容易に粘着
し合い、引きはがすことができないという問題点を有し
ていた。またレジスト形状は丸味をおび不良である。
一方、実施例1〜5の中では、メチルメタクリレートを
多く共重合したポリマーを用いた場合(実施例1,2.
4)の方が、外観は光沢があるなどより良好であった。
多く共重合したポリマーを用いた場合(実施例1,2.
4)の方が、外観は光沢があるなどより良好であった。
また、造膜剤を用いた場合(実施例2,4.5)には、
電着塗装膜(感光膜)の膜厚が厚く得られることも示さ
れる。
電着塗装膜(感光膜)の膜厚が厚く得られることも示さ
れる。
以上、実施例で示すごとく、ガラス転移点の高いポリマ
ーを用い、必要に応じたそれに適した造膜剤を用いれば
、厚膜で、良好な外観を有し、かつ、感光膜同士を重ね
ても粘着しない高い硬度を有する感光膜を一回の電着塗
装で容易に得られ、しかも、その感光膜の感度は高く解
像度の高い良好なレジストパターンを得ることができる
。
ーを用い、必要に応じたそれに適した造膜剤を用いれば
、厚膜で、良好な外観を有し、かつ、感光膜同士を重ね
ても粘着しない高い硬度を有する感光膜を一回の電着塗
装で容易に得られ、しかも、その感光膜の感度は高く解
像度の高い良好なレジストパターンを得ることができる
。
本発明のネガ型感光性電着塗料樹脂組成物を含んだ電着
塗装浴を用いたレジストパターンの製造法によって電着
性が良好で、硬く、互いに粘着することのない感光膜を
容易に得られ、しかもその感光膜を露光、現像すること
により高解像度のレジストパターンを作業性よく得るこ
とができる。
塗装浴を用いたレジストパターンの製造法によって電着
性が良好で、硬く、互いに粘着することのない感光膜を
容易に得られ、しかもその感光膜を露光、現像すること
により高解像度のレジストパターンを作業性よく得るこ
とができる。
本発明のレジストパターンの製造法によって得られるレ
ジストをレリーフとして使用したり、銅張積層板を基本
として用いてエツチング又はメツキ用のフォトレジスト
の形成に適用することができる。
ジストをレリーフとして使用したり、銅張積層板を基本
として用いてエツチング又はメツキ用のフォトレジスト
の形成に適用することができる。
第1図は、
実施例における粘着性の評価の方法
を示す模式図である。
(拭鰺斤:5θmy X 50ヨリ
Claims (6)
- 1.(a)アクリル酸及び/又はメタクリル酸を共重合
した酸価20〜300、ガラス転移点が75〜120℃
のポリマーを塩基性の有機化合物で中和したポリマー、 (b)光重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する非
水溶性モノマー 並びに (c)非水溶性光開始剤 を含有してなるネガ型感光性電着塗料樹脂組成物。 - 2.(a)成分のポリマーが、ポリマーを構成する共重
合モノマーの総量100重量部に対し、メチルメタクリ
レートを60〜85重量部として共重合したポリマーで
ある請求項1記載のネガ型感光性電着塗料樹脂組成物。 - 3.さらに、分子内にヒドロキシル基を1〜2個有する
造膜剤を含有してなる請求項1又は2記載のネガ型感光
性電着塗料樹脂組成物。 - 4.分子内にヒドロキシル基を1〜2個有する造膜剤が
、n−ブタノール,プロピレングリコールモノプロピル
エーテル及びエチレングリコールモノブチルエーテルか
らなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項3記
載のネガ型感光性電着塗料樹脂組成物。 - 5.請求項1,2,3又は4記載のネガ型感光性電着塗
料樹脂組成物を含む電着塗装浴。 - 6.請求項5記載の電着塗装浴に導電性基体を陽極とし
て浸漬し、通電により電着塗装して導電性基板上に電着
塗装膜を形成し、その後、活性光線を前記電着塗装膜に
画像状に照射し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像
により除去することを特徴とするレジストパターンの製
造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2276988A JP2527271B2 (ja) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物及びこれを用いた電着塗装浴 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2276988A JP2527271B2 (ja) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物及びこれを用いた電着塗装浴 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04153276A true JPH04153276A (ja) | 1992-05-26 |
JP2527271B2 JP2527271B2 (ja) | 1996-08-21 |
Family
ID=17577205
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2276988A Expired - Lifetime JP2527271B2 (ja) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物及びこれを用いた電着塗装浴 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2527271B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0726195A (ja) * | 1993-07-13 | 1995-01-27 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 水性被覆用組成物 |
WO1996030452A1 (fr) * | 1995-03-31 | 1996-10-03 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Composition de resine photosensible a base d'eau |
WO1996030451A1 (fr) * | 1995-03-31 | 1996-10-03 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Composition de resine photosensible a base d'eau |
JPH0936545A (ja) * | 1995-07-20 | 1997-02-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | プリント配線板の製造方法 |
US6232364B1 (en) | 1999-02-18 | 2001-05-15 | Shimizu Co., Ltd. | Ultraviolet curable coating compositions for cationic electrodeposition applicable to metallic materials and electrically conductive plastic materials |
JP2008233289A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3854889B2 (ja) | 2001-04-19 | 2006-12-06 | キヤノン株式会社 | 金属または金属化合物パターンの製造方法および電子源の製造方法 |
-
1990
- 1990-10-16 JP JP2276988A patent/JP2527271B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0726195A (ja) * | 1993-07-13 | 1995-01-27 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 水性被覆用組成物 |
WO1996030452A1 (fr) * | 1995-03-31 | 1996-10-03 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Composition de resine photosensible a base d'eau |
WO1996030451A1 (fr) * | 1995-03-31 | 1996-10-03 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Composition de resine photosensible a base d'eau |
JPH0936545A (ja) * | 1995-07-20 | 1997-02-07 | Asahi Chem Ind Co Ltd | プリント配線板の製造方法 |
US6232364B1 (en) | 1999-02-18 | 2001-05-15 | Shimizu Co., Ltd. | Ultraviolet curable coating compositions for cationic electrodeposition applicable to metallic materials and electrically conductive plastic materials |
JP2008233289A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2527271B2 (ja) | 1996-08-21 |
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