JP2022041890A - 感光性樹脂積層体およびレジストパターンの形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】最小現像時間、解像度、サイドエッジ（ＳＥ）量、コントラストおよびブリード性の少なくとも一つに優れた感光性樹脂積層体を提供すること。【解決手段】支持体と、以下の成分：（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）光波長５５０～７００ｎｍの吸光度が増大する化合物、および（Ｅ）有機顕色剤、を含む感光性樹脂組成物を用いて前記支持体上に形成される感光性樹脂組成物層と、を有し、感光性樹脂組成物層の膜厚が０超え１０μｍ以下であることを特徴とする感光性樹脂積層体。【選択図】なし

Description

本発明は、感光性樹脂積層体およびレジストパターンの形成方法に関するものである。

従来、プリント配線板の製造、金属の精密加工などは、フォトリソグラフィー法により行われてきた。フォトリソグラフィー法に用いる感光性樹脂組成物は、未露光部を溶解除去するネガ型の組成物と、露光部を溶解除去するポジ型の組成物とに分類される。

フォトリソグラフィー法において感光性樹脂組成物を基材上に塗布する際には、
（１）フォトレジスト溶液を基材に塗布して乾燥させる方法、並びに
（２）支持体及び感光性樹脂組成物を含む層（以下、「感光性樹脂層」ともいう。）、並びに必要により保護層を、順次積層した感光性樹脂積層体を用いて、感光性樹脂層を基材に積層する方法
のいずれかが使用される。プリント配線板の製造においては、後者の方法が使用されることが多い。

上記感光性樹脂積層体を用いてパターンを形成する方法について以下に簡単に述べる。先ず、感光性樹脂積層体から保護層を剥離する。次いで、ラミネーターを用いて、銅張積層板、銅スパッタ薄膜などの基材上に、該基材、感光性樹脂層、及び支持体の順序になるように、感光性樹脂層及び支持体を積層する。次いで、所望の配線パターンを有するフォトマスクを介して、感光性樹脂層を露光する。次いで、露光後の積層体から支持体を剥離し、そして現像液により非パターン部を溶解又は分散除去することにより、基材上にレジストパターンを形成させる。

さらに、レジストパターンを備える基板をエッチング処理、又は銅めっき、はんだめっきなどのめっき処理に供することにより配線パターンを得ることもできる。

レジストパターン又は配線パターンの形成のために様々な感光性樹脂組成物が検討されている。例えば、特許文献１には、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、ロイコ染料と、光又は熱で酸を発生する化合物と、を含有する感光性樹脂層を備えた感光性フィルムについて開示されている。この感光性フィルムでは、発色前の感光性樹脂層を露光することで所望の形状で充分に硬化させることができ、その後に光を照射する及び／又は熱を与えることにより所望の光学濃度を有する着色パターンを形成している。

また、特許文献２には、酸の作用及び／又は１３０℃～２５０℃の熱によって分解可能な結合を有する不飽和二重結合含有化合物からなる構成単位を含むラジカル重合性ポリマーを用いた感光性樹脂組成物が記載されている。この感光性樹脂組成物では、光硬化、現像後剥離を行う前に又は剥離しながら、酸及び／又は１３０℃～２５０℃の熱によって上記結合を切断することで、フェノール性水酸基及び／又はカルボン酸が生成し、アルカリ性の剥離溶液に対する剥離性を向上させている。
ところで近年、スマートフォン（登録商標）等の普及により、タッチパネル型のディスプレイの需要が増大している。このタッチパネルのセンサーにおける配線部分の製造にも、感光性樹脂積層体を用いる場合が多い。タッチパネルセンサーの場合、エッチング工程を経て製造される配線に、高精細及び高密度等の各種の特性が求められることが多い。

国際公開第２０２０／０３１３７９号 特開２００９－３０００号公報

しかしながら、最小現像時間、解像度、サイドエッジ（ＳＥ）量、コントラストおよびブリード性については、十分な特性が得られていなかった。また、これらの特性のなかには、両立が困難であるとされてきた組み合わせも存在するため、各種の特性の両立を図ることが望まれていた。

本発明は、このような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、本明の目的は、最小現像時間、解像度、サイドエッジ（ＳＥ）量、コントラストおよびブリード性の少なくとも一つに優れた感光性樹脂積層体およびレジストパターンの形成方法を提供することにある。

［１］
支持体と、
以下の成分：
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、
（Ｃ）光重合開始剤、
（Ｄ）光波長５５０～７００ｎｍの吸光度が増大する化合物、および
（Ｅ）有機顕色剤、
を含む感光性樹脂組成物を用いて前記支持体上に形成される感光性樹脂組成物層と、を有し、
前記感光性樹脂組成物層の膜厚が０超え１０μｍ以下であることを特徴とする感光性樹脂積層体。
［２］
支持体と、
以下の成分：
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、
（Ｃ）光重合開始剤、
（Ｄ）光波長５５０～７００ｎｍの吸光度が増大する化合物、および
（Ｅ）有機顕色剤、
を含む感光性樹脂組成物を用いて前記支持体上に形成される感光性樹脂組成物層と、を有し、
前記支持体上に形成される前記感光性樹脂組成物層の膜厚（μｍ）と、前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ｅ）成分含有量（質量％）との積が、０超え５．０以下であることを特徴とする感光性樹脂積層体。
［３］
前記（Ｅ）成分の０．０１ｍｇ／ｍｌアセトニトリル溶液の３３０ｎｍ又は４０５ｎｍでの吸光度が０．１以上１．０未満である、［１］または［２］に記載の感光性樹脂積層体。
［４］
前記（Ｅ）成分として、非イオン性の有機顕色剤を含む、［１］～［３］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［５］
前記（Ｃ）成分として、ロフィン二量体を含む、［１］～［４］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［６］
前記（Ｄ）成分として、トリアリールメタン骨格を有する化合物を含む、［１］～［５］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［７］
前記（Ａ）成分の重量平均分子量が５０００以上５５０００未満である、［１］～［６］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［８］
前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ａ）成分の含有量が、１０質量％～９０質量％である、［１］～［７］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［９］
前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ｂ）成分の含有量が、５質量％～７０質量％である、［１］～［８］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［１０］
前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ｃ）成分の含有量が、０．０１質量％～２０質量％である、［１］～［９］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［１１］
前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ｄ）成分の含有量が、０．００１質量％～３質量％である、［１］～［１０］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［１２］
前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ｅ）成分の含有量が、０超え３．５質量％以下である、［１］～［１１］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［１３］
前記（Ａ）成分の総量に対する前記（Ｅ）成分の含有量が、０超え２．５質量％以下である、［１］～［１２］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［１４］
前記（Ａ）成分が芳香族単量体成分を含む、［１］～［１３］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［１５］
前記感光性樹脂積層体を用いて作製したレジストパターンの露光前後での色差をΔＥとし、前記感光性樹脂組成物層の厚みをＴ［μｍ］としたとき、ΔＥ／Ｔが３．５以上となるレジストパターンを形成可能である、［１］～［１４］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［１６］
前記感光性樹脂組成物層の膜厚が０超え１０μｍ未満である、［１］～［１５］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体。
［１７］
［１］～［１６］のいずれかに記載の感光性樹脂積層体を基材にラミネートするラミネート工程、
ラミネートされた前記感光性樹脂積層体に露光する露光工程、及び
露光された前記感光性樹脂積層体を現像する現像工程
を含むレジストパターン形成方法であって、
前記感光性樹脂積層体を用いて作製したレジストパターンの露光前後での色差をΔＥとし、前記感光性樹脂組成物層の厚みをＴ［μｍ］としたとき、ΔＥ／Ｔが３．５以上となる、レジストパターンの形成方法。
［１８］
前記露光工程は、支持体を剥離せずに描画パターンの直接描画による露光方法、又はフォトマスクの像を、レンズを通して投影させる露光方法による、［１７］に記載のレジストパターンの形成方法。
［１９］
前記露光工程を３００～５００ｎｍの光源を用いて露光する、［１７］または［１８］に記載のレジストパターン形成方法。
［２０］
前記露光工程後、支持体を剥離して、無機アルカリ水溶液により現像する、［１７］～［１９］のいずれかに記載のレジストパターンの形成方法。
［２１］
前記現像工程後、パターンが配置されていない領域における基板をエッチング処理する工程を含む、［１７］～［２０］のいずれかに記載のレジストパターンの形成方法。

本発明によれば、最小現像時間、解像度、サイドエッジ（ＳＥ）量、コントラストおよびブリード性の少なくとも一つに優れた感光性樹脂積層体およびレジストパターンの形成方法を提供することができる。

以下、本発明を実施するための形態（以下、「実施の形態」と略記する。）について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。

また、本明細書では、「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルを意味し、「（メタ）アクリロイル」とは、アクリロイル又はメタクリロイルを意味し、そして「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。

本発明の感光性樹脂積層体は、
支持体と、
以下の成分：
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、
（Ｃ）光重合開始剤、
（Ｄ）光波長５５０～７００ｎｍの吸光度が増大する化合物、および
（Ｅ）有機顕色剤、
を含む感光性樹脂組成物を用いて支持体上に形成される感光性樹脂組成物層と、を有し、
感光性樹脂組成物層の膜厚が０超え１０μｍ以下であることを特徴とする。

本発明の感光性樹脂積層体では、（Ｄ）成分を含むことで、高解像性であり、露光部の視認性に優れた感光性樹脂組成物を得ることが出来る。（Ｅ）成分を含むことで、高感度であり、露光部の視認性に優れた感光性樹脂組成物を得ることが出来る。また、感光性樹脂組成物層の膜厚が０超え１０μｍ以下であることで、高解像性であり、優れた剥離特性を有する感光性樹脂組成物を得ることが出来る。
これにより、本発明では、最小現像時間、解像度、サイドエッジ（ＳＥ）量、コントラストおよびブリード性の少なくとも一つに優れた感光性樹脂積層体を提供することができる。
以下、各成分について詳細に説明する。

＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂＞
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、アルカリ性溶液に溶解できる高分子である。また、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、カルボキシル基を有することが好ましく、１００～６００の酸当量を有することがより好ましく、そしてカルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む共重合体であることがさらに好ましい。さらに、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は熱可塑性であることができる。

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）は、０を超えることが好ましく、感光性樹脂層の現像耐性、並びにレジストパターンの解像性及び密着性の観点、さらには、感光性樹脂層の現像性及び剥離性の観点から、２００以下であることが好ましい。

また、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の酸価（酸当量）は、０を超え７８．０以下であることがより好ましく、０を超え７６．０以下であることがさらに好ましい。

上記の範囲の酸価は、従来技術と比べ、いわゆる「低酸価」に相当する。本発明の一実施形態では、感光性樹脂層の薄膜化が近年特に要求されている中で、その「感光性樹脂層の薄膜化」かつ「低酸価」が実現されている。
従来、高解像性（低ＳＥ）のための一つの手法として、レジストの疎水性を向上させることが知られていた。他方、レジストの疎水性を向上させると、現像液への溶解性が低下するため、現像時間が長くなる傾向があった。この点、現像時間を短縮するため、樹脂の分子量を低くするとＣｕ欠損（膜強度）が低下し易くなる場合もあった。

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、下記数式（Ｉ）：

｛式中、Ｗ_iは、アルカリ可溶性樹脂を構成するコモノマーそれぞれの質量であり、
Ｔｇ_iは、アルカリ可溶性樹脂を構成するコモノマーのそれぞれがホモポリマーであった場合のガラス転移温度であり、
Ｗ_totalは、アルカリ可溶性樹脂の合計質量であり、そして
ｎは、該アルカリ可溶性樹脂を構成するコモノマーの種類の数である。｝
により求めたガラス転移温度（Ｔｇ_total）が１００℃以下であることが好ましい。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として複数種の高分子の混合物を用いる場合、ガラス転移温度は、全部の高分子の平均値として定まる値である。

ガラス転移温度Ｔｇ_iを求める際には、対応するアルカリ可溶性樹脂を形成するコモノマーから成るホモポリマーのガラス転移温度として、Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｊ．Ｉｍｍｅｒｇｕｔ，Ｅ．Ｈ．編集「Polymer handbook, Third edition, John wiley & sons, 1989, p.209 Chapter VI 『Glass transition temperatures of polymers』」に示される値を使用するものとする。

代表的なコモノマーのＴｇ_iは、下記のとおりである（何れも文献値）。
メタクリル酸：Ｔｇ＝５０１Ｋ
ベンジルメタクリレート：Ｔｇ＝３２７Ｋ
メチルメタクリレート：Ｔｇ＝３７８Ｋ
スチレン：Ｔｇ＝３７３Ｋ
２－エチルへキシルアクリレート：Ｔｇ＝２２３Ｋ
シクロへキシルメタクリレート：Ｔｇ＝３６５Ｋ
ブチルアクリレート：Ｔｇ＝２１９Ｋ
上記のようなガラス転移温度（Ｔｇ_total）を示すアルカリ可溶性樹脂としては、酸モノマーと、その他のモノマーとの共重合体であることが好ましい。

上記数式（Ｉ）により求めた（Ａ）アルカリ可溶性樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ_total）の下限値については特に限定はない。ガラス転移温度（Ｔｇ_total）は、１０℃以上であってもよく、３０℃以上であってもよく、５０℃以上であってもよく、７０℃以上であってもよい。

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００以上５５，０００未満であることが好ましい。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は、ドライフィルムレジストなどの感光性樹脂積層体の厚みを均一に維持し、現像液に対する耐性を得るという観点から５，０００以上であることが好ましく、一方で、ドライフィルムレジストなどの感光性樹脂積層体の現像性を維持するという観点から５５，０００未満であることが好ましい。また、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０，０００～５０，０００であることがより好ましく、２３，０００～５０，０００であることがさらに好ましい。さらに、上記Ｍｗと（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）との比である、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．０～６．０であることが好ましい。

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、後述する第一の単量体の少なくとも１種を重合することにより得られることが好ましい。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、後述する第二の単量体に含まれる芳香族単量体成分を含むことが好ましい。また、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、第一の単量体の少なくとも１種と後述する第二の単量体の少なくとも１種とを共重合することにより得られることがより好ましい。

第一の単量体は、分子中にカルボキシル基を含有する単量体である。第一の単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸無水物、β-カルボキシエチル(メタ)アクリレート及びマレイン酸半エステルなどが挙げられる。これらの中でも、特に（メタ）アクリル酸が好ましい。

第二の単量体としては、不飽和芳香族化合物（「芳香族モノマー」とも記載することがある）、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸アラルキルエステル、共役ジエン化合物、極性モノマー、架橋性モノマー等が挙げられる。これらの中でも、レジストパターンの解像性を向上させるという観点から、不飽和芳香族化合物が好ましい。不飽和芳香族化合物を含む第二の単量体を用いる場合、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の総量に対する不飽和芳香族化合物の割合は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。

不飽和芳香族化合物としては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、スチレン、ケイ皮酸、重合可能なスチレン誘導体（例えば、メチルスチレン、ビニルトルエン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、４－ビニル安息香酸、スチレンダイマー、スチレントリマーなど）などが挙げられる。その中でも、ベンジル（メタ）アクリレート及びスチレンが好ましく、ベンジル（メタ）アクリレートがより好ましい。

（メタ）アクリル酸アルキルエステルは、鎖状アルキルエステル及び環状アルキルエステルの双方を包含する概念であり、具体的には、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ｎ－テトラデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。

（メタ）アクリル酸アラルキルエステルとしては、例えばベンジル（メタ）アクリレート等を；共役ジエン化合物としては、例えば、１，３－ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、２－フェニル－１，３－ブタジエン、１，３－ペンタジエン、２－メチル－１，３－ペンタジエン、１，３－ヘキサジエン、４，５－ジエチル－１，３－オクタジエン、３－ブチル－１，３－オクタジエン等を、それぞれ挙げることができる。極性モノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ペンテンオール等のヒドロキシ基含有モノマー；メタクリル酸２－アミノエチル等のアミノ基含有モノマー；(メタ)アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ)アクリルアミド等のアミド基含有モノマー；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α－クロロアクリロニトリル、α－シアノエチルアクリレート等のシアノ基含有モノマー；グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸３，４－エポキシシクロヘキシル等のエポキシ基含有モノマー；等を挙げることができる。

架橋性モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジビニルベンゼン等を挙げることができる。

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、上記の第一の単量体及び／又は第二の単量体を既知の重合法、好ましくは付加重合、より好ましくはラジカル重合により調製することができる。

感光性樹脂組成物中の（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有量（感光性樹脂組成物の固形分総量を基準とする。以下、特に明示しない限り、各含有成分において同様である。）は、好ましくは１０質量％～９０質量％の範囲であり、より好ましくは２０質量％～８０質量％の範囲であり、さらに好ましくは３０質量％～６０質量％の範囲である。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有量は、感光性樹脂層のアルカリ現像性を維持するという観点から１０質量％以上であることが好ましく、一方で、露光によって形成されるレジストパターンがレジスト材料としての性能を十分に発揮するという観点から、９０質量％以下であることが好ましい。

＜（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物＞
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物は、その構造中にエチレン性不飽和結合、具体的にはエチレン性不飽和基を有することによって重合性を有する化合物である。
感光性樹脂組成物は、（Ｂ）成分として、エチレン性二重結合を１個以上有していればよい。エチレン性二重結合を２個以上有する化合物を用いることが好ましい。

具体的に（Ｂ）成分としては、例えば、ビスフェノールＡの両端にそれぞれ平均２モル～１５モルずつのアルキレンオキサイドを付加したポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンに平均３モル～２５モルのアルキレンオキサイドを付加したポリアルキレントリオールのトリ（メタ）アクリレート、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジトリメチロールプロパン、イソシアヌレート環等にポリアルキレンオキシド基を付加したり、ε－カプロラクトン変性したりすることにより得られたアルコールを（メタ）アクリレートに変換することで得られる化合物、又はそれらをアルキレンオキシド基又はε－カプロラクトンで変性せずに、直接（メタ）アクリル酸を反応させた化合物、ペンタエリスリトールに平均４モル～３５モルのアルキレンオキサイドを付加したポリオールのテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールに平均４～３０モルのアルキレンオキサイドを付加したポリオールのヘキサ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。これらは１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。

感光性樹脂組成物における（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物の含有量は、好ましくは５質量％～７０質量％、より好ましくは２０質量％～６０質量％、さらに好ましくは３０質量％～５０質量％の範囲内である。（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する化合物の含有量は、感光性樹脂層の硬化不良及び現像時間の遅延を抑えるという観点から５質量％以上であることが好ましく、一方で、硬化レジストの剥離遅延を抑えるという観点から７０質量％以下であることが好ましい。

＜（Ｃ）光重合開始剤＞
（Ｃ）光重合開始剤は、活性光線によりラジカルを発生し、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物などを重合することができる化合物である。感光性樹脂組成物は、（Ｃ）光重合開始剤として、本技術分野において一般に知られているものを含んでよい。

（Ｃ）光重合開始剤としては、例えば、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、Ｎ－アリール－α－アミノ酸化合物、キノン化合物、芳香族ケトン化合物、アセトフェノン化合物、アシルフォスフィンオキサイド化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾインエーテル化合物、ジアルキルケタール化合物、チオキサントン化合物、ジアルキルアミノ安息香酸エステル化合物、オキシムエステル化合物、アクリジン化合物、ピラゾリン誘導体、Ｎ－アリールアミノ酸のエステル化合物、ハロゲン化合物等が挙げられる。

ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルビイミダゾール（別名：２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール）、２，２’，５－トリス－（ｏ－クロロフェニル）－４－（３，４－ジメトキシフェニル）－４’，５’－ジフェニルビイミダゾール、２，４－ビス－（ｏ－クロロフェニル）－５－（３，４－ジメトキシフェニル）－ジフェニルビイミダゾール、２，４，５－トリス－（ｏ－クロロフェニル）－ジフェニルビイミダゾール、２－（ｏ－クロロフェニル）－ビス－４，５－（３，４－ジメトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２－フルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３－ジフルオロメチルフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，４－ジフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，５－ジフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，６－ジフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３，４－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３，５－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３，６－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，４，５－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３，４，５－テトラフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３，４，６－テトラフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、及び２，２’－ビス－（２，３，４，５，６－ペンタフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、ロフィン（２，４，５－トリアリールイミダゾール）二量体等が挙げられる。

ロフィン二量体には、例えば、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ビス－（ｍ－メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体等があるが、特に、高感度、解像性及び密着性の観点から、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体が好ましい。

Ｎ－アリール－α－アミノ酸化合物としては、例えば、Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルグリシン等が挙げられる。特にＮ－フェニルグリシンは増感効果が高く好ましい。

キノン化合物としては、例えば、２－エチルアントラキノン、オクタエチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン、２，３－ベンズアントラキノン、２－フェニルアントラキノン、２，３－ジフェニルアントラキノン、１－クロロアントラキノン、２－クロロアントラキノン、２－メチルアントラキノン、１，４－ナフトキノン、９，１０－フェナントラキノン、２－メチル－１，４－ナフトキノン、９，１０－フェナントラキノン、２－メチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチルアントラキノン、３－クロロ－２－メチルアントラキノン等を挙げることができる。

芳香族ケトン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン［４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン］、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４－メトキシ－４’－ジメチルアミノベンゾフェノン等を挙げることができる。
アセトフェノン化合物としては、例えば、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ドデシルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノ－プロパノン－１等を挙げることができる。アセトフェノン化合物の市販品としては、例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製のイルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、及びイルガキュア－３７９を挙げることができる。増感剤としての使用及び密着性の観点からは、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。

アシルフォスフィンオキサイド化合物としては、例えば、２，４，６－トリメチルベンジルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フォスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド化合物の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦ社製のルシリンＴＰＯ、及びチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製のイルガキュア－８１９が挙げられる。

ベンゾイン化合物及びベンゾインエーテル化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等を挙げることができる。
ジアルキルケタール化合物としては、例えば、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール等を挙げることができる。
チオキサントン化合物としては、例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、２－クロルチオキサントン等を挙げることができる。
ジアルキルアミノ安息香酸エステル化合物としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸エチル、ジエチルアミノ安息香酸エチル、エチル－ｐ－ジメチルアミノベンゾエート、２－エチルヘキシル－４－（ジメチルアミノ）ベンゾエート等を挙げることができる。

オキシムエステル化合物としては、例えば、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－Ｏ－ベンゾイルオキシム、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－（Ｏ－エトキシカルボニル）オキシム等が挙げられる。オキシムエステル化合物の市販品としては、例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製のＣＧＩ－３２５、イルガキュア－ＯＸＥ０１、及びイルガキュア－ＯＸＥ０２が挙げられる。

アクリジン化合物としては、感度、解像性、入手性等の点で、１，７－ビス（９，９’－アクリジニル）ヘプタン又は９－フェニルアクリジンが好ましい。

ピラゾリン誘導体としては、密着性及びレジストパターンの矩形性の観点から、１－フェニル－３－（４－ｔｅｒｔ－ブチル－スチリル）－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチル－フェニル）－ピラゾリン、１－フェニル－３－（４－ビフェニル）－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチル－フェニル）－ピラゾリン及び１－フェニル－３－（４－ビフェニル）－５－（４－ｔｅｒｔ－オクチル－フェニル）－ピラゾリンが好ましい。

Ｎ－アリールアミノ酸のエステル化合物としては、例えば、Ｎ－フェニルグリシンのメチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのエチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのｎ－プロピルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのイソプロピルエステル、Ｎ－フェニルグリシンの１－ブチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンの２－ブチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのｔｅｒｔブチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのペンチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのヘキシルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのペンチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのオクチルエステル等が挙げられる。

ハロゲン化合物としては、例えば、臭化アミル、臭化イソアミル、臭化イソブチレン、臭化エチレン、臭化ジフェニルメチル、臭化ベンジル、臭化メチレン、トリブロモメチルフェニルスルフォン、四臭化炭素、トリス（２，３－ジブロモプロピル）ホスフェート、トリクロロアセトアミド、ヨウ化アミル、ヨウ化イソブチル、１，１，１－トリクロロ－２，２－ビス（ｐ－クロロフェニル）エタン、クロル化トリアジン化合物、ジアリルヨードニウム化合物等が挙げられ、とりわけトリブロモメチルフェニルスルフォンが好ましい。

感光性樹脂組成物における（Ｃ）光重合開始剤の含有量は、０．０１質量％～２０質量％が好ましく、０．５質量％～１０質量％がより好ましい。（Ｃ）光重合開始剤の含有量を上記範囲内に調整することにより、十分な感度を得られ、レジスト底部にまで十分に光を透過させることができ、高解像性を得られると共に、導体パターンにおけるサイドエッチ量とのバランスに優れる感光性樹脂組成物を得ることができる。

高感度、解像性及び密着性の観点から、（Ｃ）光重合開始剤として、ロフィン二量体を含むことが好ましい。この場合、感光性樹脂組成物中のロフィン二量体の含有量は、０．１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．５質量％～５質量％であることがより好ましい。

＜（Ｄ）光波長５５０～７００ｎｍの吸光度が増大する化合物＞
（Ｄ）成分は、光波長３００～５００ｎｍの光を照射することにより構造が変化し、光波長５５０～７００ｎｍの吸光度が増大する化合物であり、感光性樹脂組成物は、このような（Ｄ）成分を含むことで、高解像性であり、露光部の視認性に優れた感光性樹脂組成物を得ることが出来る。

このような（Ｄ）成分としては、例えば、トリアリールメタン系化合物、スピロピラン系化合物、フルオラン系化合物、ジアリールメタン系化合物、ローダミンラクタム系化合物、インドリルフタリド系化合物、ロイコオーラミン系化合物、フェノチアジン系化合物、キサンテン系化合物、オキサジン系化合物等が挙げられる。

露光部の視認性の観点から、（Ｄ）成分として、トリアリールメタン骨格を有する化合物を含むことが好ましい。
トリアリールメタン骨格を有する化合物としては、例えば、トリス（４－ジメチルアミノフェニル）メタン［ロイコクリスタルバイオレット］、グリーンＤＣＦ、メチルブルー、チモールブルー、ブロモチモールブルー、ブロモフェノールブルー、ウォーターブルー、ソルベントブルー５、ベーシックブルー７、キシレンシアノ―ル、クマシーブリリアントブルーＧ２５０、クマシーブリリアントブルーＲ２５０、ブリリアントブルーＦＣＦ、グリーンＳ、マラカイトグリーン、ファストグリーンＦＣＦ、ベーシックバイオレット３、ベーシックバイオレット４、メチルバイオレット２Ｂ、メチルバイオレット６Ｂ、メチルバイオレット１０Ｂ、クリスタルバイオレットラクトン、フェノールフタレイン、フェノールレッド、クレゾールレッド、マジェンタＯ、フロキシン等が挙げられる。その中でも、マラカイトグリーン又はベーシックバイオレット３が好ましい。

感光性樹脂組成物における（Ｄ）成分の含有量は、０．００１質量％～３質量％が好ましく、０．００２質量％～２質量％がより好ましい。（Ｄ）成分の含有量を上記範囲内に調整することにより、十分な感度を得られ、レジスト底部にまで十分に光を透過させることができ、高解像性を得られると共に、導体パターンにおけるサイドエッチ量とのバランスに優れる感光性樹脂組成物を得ることができる。

＜（Ｅ）有機顕色剤＞
（Ｅ）有機顕色剤は、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、及び、荷電粒子線等の放射線を照射することにより酸を発生することができる化合物である。感光性樹脂組成物は、このような（Ｅ）有機顕色剤を含むことで、高解像性、高感度であり、露光部の視認性に優れた感光性樹脂組成物を得ることが出来る。

（Ｅ）有機顕色剤としては、例えば、光照射により分解して酸を発生する光酸発生剤である、トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類等のオニウム塩化合物、第四級アンモニウム塩類等が挙げられる。その中でも、吸収波長と発生する酸強度の観点から、オキシムスルホネート化合物及びイミドスルホネート化合物が好ましい。

（Ｅ）有機顕色剤としては、具体的には、（５－プロピルスルフォニルオキシイミノ－５Ｈ－チオフェン－２－イリデン）－（２－メチルフェニル）アセトニトリル、（５－ｐ－トルエンスルフォニルオキシイミノ－５Ｈ－チオフェン－２－イリデン）－（２－メチルフェニル）アセトニトリル、ナフタルイミドトリフルオロメチルスルホン酸塩、ナフタルイミドメタンスルホン酸塩、ナフタルイミドカンファスルホン酸塩が挙げられる。

（Ｅ）有機顕色剤の０．０１ｍｇ／ｍｌアセトニトリル溶液の３３０ｎｍ又は４０５ｎｍでの吸光度が０．１以上であることが好ましい。また、当該吸光度は、１．０未満であることが好ましく、０．１５以上、０．９未満であることがより好ましい。これにより、高感度であり、露光部の視認性に優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。

感光性樹脂積層体の保存安定性や発色安定性の観点から、（Ｅ）有機顕色剤として、非イオン性の有機顕色剤を含むことが好ましい。これにより、感光性樹脂積層体を形成し、長期保管しても解像度の低下や、露光部の視認性を安定的に維持することが出来る。
非イオン性の有機顕色剤としては、例えば、トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物、等が挙げられる。その中でも、吸収波長と発生する酸強度の観点から、オキシムスルホネート化合物及びイミドスルホネート化合物が好ましい。

感光性樹脂組成物における（Ｅ）有機顕色剤の含有量は、０超え３．５質量％以下であり、０．０００５質量％～３質量％が好ましく、０．００１質量％～２質量％がより好ましく、０．５質量％～０．９質量がさらに好ましい。（Ｅ）有機顕色剤の含有量を上記範囲内に調整することにより、組成物との相溶性に優れ、十分な感度を有し、レジスト底部にまで十分に光を透過させることができ、高解像性を得られると共に、導体パターンにおけるサイドエッチ量とのバランスに優れる感光性樹脂組成物を得ることができる。
特に、上記と同様の理由により、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の総量に対する、（Ｅ）有機顕色剤の含有量が、０超え２．５質量％以下であることが好ましい。

＜その他の成分＞
感光性樹脂組成物は、所望により、ベース染料、酸化防止剤、安定化剤、増感剤、可塑剤などの添加剤を含むことが好ましい。なお、その他の成分は、上記（Ａ）～（Ｅ）以外の成分である。

ベース染料は、未露光部の発色性と、優れた剥離特性を付与するために、本実施形態の感光性樹脂組成物に配合することができる。例えば、ベーシックグリーン１［ＣＡＳ番号（以下、同じ）：６３３－０３－４］（例えば、Ａｉｚｅｎ Ｄｉａｍｏｎｄ Ｇｒｅｅｎ ＧＨ、商品名、保土谷化学工業製）、フクシン［６３２－９９－５］、メチルバイオレット［６０３－４７－４］、メチルグリーン［８２－９４－０］、ビクトリアブルーＢ［２５８０－５６－５］、ベーシックブルー７［２３９０－６０－５］（例えば、Ａｉｚｅｎ Ｖｉｃｔｏｒｉａ Ｐｕｒｅ Ｂｌｕｅ ＢＯＨ、商品名、保土谷化学工業製）、ローダミンＢ［８１－８８－９］、ローダミン６Ｇ［９８９－３８－８］、ベーシックイエロー２［２４６５－２７－２］等が挙げられる。これらの中でも、着色性、色相安定性及び露光コントラストを向上させるという観点から、ベーシックグリーン１が好ましい。これらは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用されることができる。

感光性樹脂組成物中のベース染料の含有量は、好ましくは０．００１質量％～３質量％の範囲であり、より好ましくは０．０１質量％～２質量％の範囲であり、さらに好ましくは、０．０４質量％～１質量％の範囲である。染料の含有量は、良好な着色性を得るという観点から０．００１質量％以上であることが好ましく、一方で、感光性樹脂層の感度を維持するという観点から３質量％以下であることが好ましい。

酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト（例えば、旭電化工業社製、商品名：ＴＰＰ）、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト（例えば、旭電化工業社製、商品名２１１２）、トリス（モノノニルフェニル）ホスファイト（例えば旭電化工業社製、商品名：１１７８）、ビス（モノノニルフェニル）－ジノニルフェニルホスファイト（例えば、旭電化工業社製、商品名：３２９Ｋ）などが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用されることができる。

感光性樹脂組成物中の酸化防止剤の含有量は、好ましくは０．０１質量％～０．８質量％の範囲であり、より好ましくは、０．０１質量％～０．３質量％の範囲である。酸化防止剤の含有量は、レジストパターンの色相安定性を良好に発現させ、かつ感光性樹脂層の感度を向上させるという観点から０．０１質量％以上であることが好ましく、一方で、レジストパターンの発色性を抑えながら色相安定性を良好に発現させ、かつ密着性を向上させるという観点から０．８質量％以下であることが好ましい。

安定化剤は、感光性樹脂組成物の熱安定性及び／又は保存安定性を向上させるという観点から、使用されることが好ましい。安定化剤としては、例えば、ラジカル重合禁止剤、及びグリシジル基を有するアルキレンオキシド化合物から成る群から選ばれる少なくとも１つの化合物が挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用されることができる。

ラジカル重合禁止剤としては、例えば、ｐ－メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチルアミン、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、塩化第一銅、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－エチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、トリエチレングリコール－ビス［３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩（例えば、ニトロソフェニルヒドロキシルアミンが３モル付加したアルミニウム塩など）、ジフェニルニトロソアミンなどが挙げられる。これらの中でも、トリエチレングリコール－ビス［３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、又はニトロソフェニルヒドロキシルアミンが３モル付加したアルミニウム塩が好ましい。また、これらは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用されることができる。

グリシジル基を有するアルキレンオキシド化合物としては、例えば、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（例えば、共栄社化学（株）製エポライト１５００ＮＰ）、ノナエチレングリコールジグリシジルエーテル（例えば、共栄社化学（株）製エポライト４００Ｅ）、ビスフェノールＡ－プロピレンオキシド ２モル付加物ジグリシジルエーテル（例えば、共栄社化学（株）製エポライト３００２）、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル（例えば、共栄社化学（株）製エポライト１６００）などが挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用されることができる。

ラジカル重合禁止剤、及びグリシジル基を有するアルキレンオキシド化合物の、感光性樹脂組成物中の合計含有量は、好ましくは０．００１質量％～３質量％の範囲であり、より好ましくは０．０５～１質量％の範囲である。この合計含有量は、感光性樹脂組成物に良好な保存安定性を付与するという観点から０．００１質量％以上であることが好ましく、一方で、感光性樹脂層の感度を維持するという観点から３質量％以下であることが好ましい。

＜感光性樹脂組成物調合液＞
一実施形態では、感光性樹脂組成物に溶媒を添加することにより感光性樹脂組成物調合液が形成されることができる。好適な溶媒としては、例えば、アセトン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）に代表されるケトン類、並びにメタノール、エタノール、及びイソプロピルアルコール等のアルコール類などが挙げられる。感光性樹脂組成物調合液の粘度が２５℃で５００ｍＰａ・ｓｅｃ～４０００ｍＰａ・ｓｅｃとなるように、溶媒を感光性樹脂組成物に添加することが好ましい。

＜感光性樹脂積層体、ドライフィルムレジスト及び転写フィルム＞
本開示の感光性樹脂組成物又は感光性樹脂組成物調合液を用いて、感光性樹脂積層体を提供することができる。感光性樹脂積層体は、支持フィルム（支持体）と、支持フィルム上に形成された上記感光性樹脂組成物を含む層とを有する。感光性樹脂積層体は、必要により支持フィルム側とは反対側の表面に保護層を有してもよい。感光性樹脂積層体は、本発明の効果を顕著に奏するという観点から、ドライフィルムレジスト又は転写フィルムであることが好ましく、ドライフィルムレジストであることがより好ましい。

支持フィルムとしては、露光光源から放射される光を透過する透明なものが望ましい。このような支持フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、塩化ビニリデン共重合フィルム、ポリメタクリル酸メチル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、スチレン共重合体フィルム、ポリアミドフィルム、セルロース誘導体フィルムなどが挙げられる。これらのフィルムは、必要に応じて延伸されたものも使用可能である。

支持フィルムのヘイズは５以下であることが好ましい。支持フィルムの厚みは、薄い方が画像形成性及び経済性の面で有利であるが、強度を維持する機能も考慮すると、１０μｍ～３０μｍであることが好ましい。

上記で説明された感光性樹脂組成物の層（以下、「感光性樹脂層」ともいう。）は、感光性樹脂組成物を含むか、又は感光性樹脂組成物から成ることができる。感光性樹脂積層体における感光性樹脂組成物の層の膜厚は、レジストパターンの解像度、サイドエッチ量、突き刺し強度又は剥離性の観点から、０．５μｍ～２５μｍであることが好ましく、１μｍ～２０μｍであることがより好ましい。同様の観点から、該膜厚の上限は、１６μｍ以下であることがさらに好ましく、１０μｍ以下であることが特に好ましく、１０μｍ未満であることが最も好ましい。

感光性樹脂積層体に用いられる保護層の重要な特性は、適当な密着力を有することである。つまり、該保護層の感光性樹脂層に対する密着力が、支持フィルムの感光性樹脂層に対する密着力よりも充分小さく、保護層が感光性樹脂積層体から容易に剥離できることが好ましい。保護層としては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタラートフィルム、ポリエステルフィルムなどを用いることができる。また、フォトレジスト層から保護フィルムを剥がすために好適に使用可能な離型層を、上記保護層フィルムの片面に付与してもよい。離型層は一般に、シリコーン化合物と非シリコーン化合物とに分類される。シリコーン化合物とは、両末端シラノールポリジメチルシロキサンとポリメチル水素シロキサン又はポリメチルメトキシシロキサンとを反応させた縮合反応型シリコーン樹脂や、ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体又はジメチルシロキサン・メチルヘキセニルシロキサン共重合体とポリメチル水素シロキサンとを反応させた付加反応型シリコーン樹脂や、アクリルシリコーンやエポキシ基含有シリコーンなどを紫外線や電子線で硬化させた紫外線硬化型又は電子線硬化型シリコーン樹脂や、変性シリコーン樹脂、例えば、エポキシ変性シリコーン樹脂（シリコーンエポキシ）、ポリエステル変性シリコーン樹脂（シリコーンポリエステル）、アクリル変性シリコーン樹脂（シリコーンアクリル）、フェノール変性シリコーン樹脂（シリコーンフェノール）、アルキッド変性シリコーン樹脂（シリコーンアルキッド）、メラミン変性シリコーン樹脂（シリコーンメラミン）などが挙げられる。非シリコーン化合物とは、アルキド（又はアルキッドともいう）樹脂、長鎖アルキル系樹脂、アクリル系樹脂、及びポリオレフィン系樹脂等が挙げられる。離型層の膜厚は、好ましくは０．００１～２μｍ、より好ましくは０．００５～１μｍ、さらに好ましくは０．０１～０．５μｍの範囲である。膜厚が２μｍを超える場合は、塗膜外観の悪化や塗膜の硬化不足が生じる可能性があり、膜厚が０．００１μｍ未満の場合は十分な離型性が得られない可能性がある。保護層の膜厚は１０μｍ～１００μｍが好ましく、１０μｍ～５０μｍがより好ましい。

＜感光性樹脂積層体の作製方法＞
感光性樹脂積層体は、支持フィルム（支持体）上に、感光性樹脂層、及び必要により保護層を順次積層することにより、作製することができる。その方法としては、既知の方法を採用することができる。例えば、感光性樹脂層に用いる感光性樹脂組成物を、これらを溶解する溶剤と混ぜ合わせ均一な溶液状の感光性樹脂組成物調合液（塗工液）を形成する。次に、支持フィルム上に、塗工液をバーコータ又はロールコーターを用いて塗布し、次いで乾燥して、支持フィルム上に感光性樹脂層を積層することができる。必要により、感光性樹脂層上に保護層をラミネートすることにより、感光性樹脂積層体を作製することができる。

本実施形態の感光性樹脂積層体において、支持フィルム（支持体）上に形成される感光性樹脂層の膜厚（μｍ）と、感光性樹脂組成物の総量に対する（Ｅ）有機顕色剤の含有量（質量％）との積が、０超え５．０以下である。
本実施形態では、感光性樹脂層を薄膜とし、かつ、（Ｅ）有機顕色剤の含有量を特定少量範囲に調整することに着目している。感光性樹脂層の膜厚（μｍ）と（Ｅ）有機顕色剤の含有量との積を特定の範囲に限定することで、より十分な感度を有し、レジスト底部にまで十分に光を透過させることができ、より高解像性を得られると共に、導体パターンにおけるサイドエッチ量とのバランスに特に優れる感光性樹脂積層体を得ることができる。

また、本実施形態の感光性樹脂積層体では、該感光性樹脂積層体を用いて作製したレジストパターンの露光前後での色差をΔＥとし、前記感光性樹脂組成物層の厚みをＴ［μｍ］としたとき、ΔＥ／Ｔが３．５以上となるレジストパターンを形成可能である。

＜レジストパターン形成方法＞
本発明の別の態様は、以下の工程：
本開示の感光性樹脂積層体を基材にラミネートする工程（ラミネート工程）、
ラミネートされた感光性樹脂積層体に露光する工程（露光工程）、及び
露光された感光性樹脂積層体を現像する工程（現像工程）
を含むレジストパターン形成方法を提供する。

特に、本実施の態様では、感光性樹脂積層体を用いて作製したレジストパターンの露光前後での色差をΔＥとし、感光性樹脂組成物層の厚みをＴ［μｍ］としたとき、露光部及び未露光部の視認性の向上の観点から、ΔＥ／Ｔが３．５以上であり、４．０以上であることが好ましい。

本実施形態のレジストパターン形成方法において、感光性樹脂積層体を用いて作製したレジストパターンの露光前後での色差ΔＥは、８．０以上でよい。かかる色差ΔＥは、コントラストの向上の観点から、１０以上であることが好ましく、１１以上であることがより好ましい。
なお、本明細書において、レジストパターンの露光前後での色差ΔＥは、後述する実施例に記載の方法により測定されたものである。

＜配線パターン形成方法＞
本開示のさらに別の態様は、以下の工程：
前述したレジストパターン形成方法によりレジストパターンが形成された基材のエッチング又はメッキ処理を行う工程（エッチング又はメッキ工程）
を含む配線パターン形成方法を提供する。

以下、感光性樹脂積層体及び基材を用いてレジスト及び配線パターンを形成する方法の一例を説明する。

（ラミネート工程）
ラミネート工程は、感光性樹脂積層体が保護層を有する場合には積層体から保護層を剥離した後に、例えば、ラミネーターを用いて感光性樹脂層を基材表面に加熱圧着しラミネートすることにより行われることができる。

使用基材の材質としては、例えば、銅（Ｃｕ）、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、ガラス、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、導体薄膜が積層されたフレキシブル基材等が挙げられる。導体薄膜としては、例えば、ＩＴＯ、銅、銅－ニッケル合金、銀等が挙げられる。フレキシブル基材を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等が挙げられる。

使用基材は、銅張積層板に銅配線が形成された形態、ガラスのみから成る基材の形態、透明樹脂基材に透明電極（例えば、ＩＴＯ、Ａｇナノワイヤー基材等）又は金属電極（例えば、Ｃｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｎｉ、Ｍｏ及びこれらの少なくとも２種の合金等）が形成された形態であることができる。また、使用基材は、多層基板に対応するためのスルーホールを有することができる。

使用基材は、本発明の効果を顕著に奏するという観点から、銅張積層基板であることが好ましく、より好ましくは、厚み３５μｍの銅箔が積層されており、厚みが１．６ｍｍであり、かつ直径６ｍｍのスルーホールを有する銅張積層基板である。

感光性樹脂層は、基材表面の片面だけにラミネートしてもよいし、必要に応じて基材両面にラミネートしてもよい。ラミネート時の加熱温度は、４０℃～１６０℃であることが好ましく、８０℃～１２０℃であることがより好ましい。加熱圧着を２回以上行って、得られるレジストパターンの基材に対する密着性を向上させることもできる。２回以上の圧着を行う場合には、二連のロールを備えた二段式ラミネーターを使用してもよいし、基材と感光性樹脂層との積層物をロールに繰り返し通して圧着してもよい。

（露光工程）
露光工程では、露光機を用いて感光性樹脂層を露光する。この露光は、マスク汚染や寸法安定性の観点から、支持体を剥離せずに描画パターンの直接描画による露光方法、又はフォトマスクの像を、レンズを通して投影させる露光方法によることが好ましい。
この露光をパターン状に行うことにより、後述の現像工程を経由した後、所望のパターンを有するレジスト膜（レジストパターン）を得ることができる。パターン状の露光は、フォトマスクを介して露光する方法、及びマスクレス露光の何れの方法によってもよい。

フォトマスクを介して露光する場合、露光量は、光源照度及び露光時間により決定される。露光量は、光量計を用いて測定してもよい。マスクレス露光においては、フォトマスクを使用せず、基板上に直接描画装置によって露光する。光源としては、波長３００～５００ｎｍの半導体レーザー、超高圧水銀灯等が用いられる。マスクレス露光において、描画パターンはコンピュータにより制御され、露光量は、露光光源の照度及び基材の移動速度により決定されることができる。

レジストパターンの解像度を向上させたり、サイドエッチ量を低減したり、レジスト又は配線パターンの歩留まりを向上させたりするという観点から、フォトマスクを介して露光を行うことが好ましい。

（現像工程）
現像工程では、感光性樹脂層の非パターン部を、現像液により除去する。現像工程においては、支持体を剥離して、無機アルカリ水溶液から成る現像液を用いて、ネガ型の感光性樹脂組成物を使用した場合には、未露光部を溶解除去することによりレジストパターンを得る。ポジ型の感光性樹脂組成物を使用した場合には、露光部を溶解除去することによりレジストパターンを得る。

アルカリ水溶液としては、例えば、Ｎａ₂ＣＯ₃、Ｋ₂ＣＯ₃等の無機アルカリ水溶液を用いることが好ましい。アルカリ水溶液は、感光性樹脂組成物層の特性に合わせて選択されるが、０．２質量％～２質量％の濃度のＮａ₂ＣＯ₃水溶液を用いることが好ましい。アルカリ水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。現像工程における現像液の温度は、１８℃～４０℃の範囲で一定温度に保つことが好ましい。

所望により、現像工程後に、得られたレジストパターンを１００℃～３００℃で加熱する加熱工程を行ってもよい。この加熱工程を実施することにより、レジストパターンの耐薬品性や解像性が向上することがある。加熱には、熱風、赤外線、遠赤外線等の適宜の方式の加熱炉を用いることができる。

（エッチング又はメッキ工程）
上記のレジストパターンの形成方法によってレジストパターンを形成した後に、レジストパターンが配置されていない領域における基板のエッチング又はメッキ処理を行うことによって、基材上に配線パターンを形成することができる。本発明の効果を顕著に奏するという観点からは、少なくともエッチング工程を行うことが好ましい。

エッチング工程は、既知のエッチング法に従って、例えば、レジストパターンの上からエッチング液を吹き付けて、レジストパターンに覆われていない基材面をエッチングすることにより行われることができる。エッチング方法としては、酸性エッチング、アルカリエッチングなどを挙げることができ、使用する感光性樹脂積層体に適した方法で行なわれる。エッチング液は、例えば、塩酸水溶液、塩化第二鉄水溶液、又はそれらの混合物であることができる。また、エッチング液は、スプレーされることができる。

メッキ工程は、既知のメッキ法に従って、現像により露出した基材表面を金属メッキ（例えば硫酸銅メッキ液による）又ははんだメッキすることにより行われることができる。

エッチング工程及び／又はメッキ工程の後に、感光性樹脂積層体を現像液よりも強いアルカリ性を有する水溶液によって処理し、基材からレジストパターンを剥離してよい。剥離液は、例えば、濃度約２質量％～５質量％かつ温度約４０℃～７０℃のＮａＯＨ又はＫＯＨの水溶液であることができる。

上述した各種パラメータの評価値については、特に断りのない限り、後述する実施例における測定方法に準じて測定される測定値である。

以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明はこれに限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。

次に、実施例及び比較例を挙げて本実施の形態をより具体的に説明する。しかしながら、本実施の形態は、その要旨から逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。

＜１．感光性樹脂組成物の調製＞
表１～表２に示す化合物を混合し、感光性樹脂組成物を調製した。表１～表２中の値は、固形分量である。
なお、表１～表２中の略語で表した各成分の名称、使用溶剤等を表３～表４に示す。

＜２．感光性樹脂積層体の製造＞
感光性樹脂組成物に溶媒アセトンを固形分が５８質量％となるまで添加し、よく攪拌、混合し、感光性樹脂組成物の溶液を調製した。感光性樹脂組成物の溶液を厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ製ＦＢ－４０；１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム）にバーコータを用いて均一に塗布し、９５℃の乾燥機中で５分間乾燥して３μｍ厚みの感光性樹脂層（ドライフィルム）を形成した。次に、感光性樹脂層の表面上に３３μｍ厚みのポリエチレンフィルム（タマポリ製ＧＦ－８５８）を張り合わせて感光性樹脂積層体を得た。感光性樹脂層の膜厚は、膜厚計（ＩＤ－Ｃ１１２Ｂ、Ｍｉｔｕｔｏｙｏ社製）を用いて測定した。

＜３．評価基板の作製＞
（ラミネート）
感光性樹脂積層体のポリエチレンフィルムを剥がしながら、銅層付きＰＥＴ基板にホットロールラミネーター（旭化成エレクトロニクス（株）製、ＡＬ－７００）により、ロール温度１０５℃でラミネートした。エアー圧力は０．３５ＭＰａとし、ラミネート速度は１．５ｍ／分とした。

（露光）
支持フィルムを剥離し、クロムガラスフォトマスクを用いて、超高圧水銀ランプを有する露光機（平行光露光機（（株）オーク製作所社製、ＨＭＷ―８０１））により、評価基板を露光した。

（現像）
（株）フジ機工製現像装置を用い、フルコーンタイプのノズルにて、スプレー圧０．１５ＭＰａで、２３℃の１質量％Ｎａ₂ＣＯ₃水溶液にて３０秒スプレーして現像し、感光性樹脂層の未露光部分を溶解除去した。その際、水洗工程は、フラットタイプのノズルにて水洗スプレー圧０．１５ＭＰａで、現像工程と同時間処理した。

（エッチング）
（株）フジ機工製エッチング装置を用い、フルコーンタイプのノズルにて、スプレー圧０．１５ＭＰａ、温度３０℃で、塩酸濃度２質量％、塩化第二鉄２質量％、６０秒間エッチングした。

（剥離）
（株）フジ機工製剥離装置を用い、フルコーンタイプのノズルにて、スプレー圧０．１５ＭＰａ、温度５０℃で、濃度３質量％のＮａＯＨ水溶液で３０秒間処理し、剥離除去した。

＜４．評価方法＞
（画像性）
感光層の厚みが３μｍである感光性樹脂積層体を、上記（ラミネート）に記載の方法でラミネート後、１５分経過した評価基板を、露光部と未露光部との幅が１：１の比率のラインパターンを有するクロムガラスマスクを通して露光した。その後、上記（現像）に記載の方法で現像し、レジストパターンを作製した。

作製した硬化レジストラインが正常に形成されている最小マスク幅を解像度の値とし、解像性を下記のようにランク分けした。なお、硬化レジストパターンの倒れ又は硬化レジスト同士の密着がなく、正常に形成されている最小マスク幅を評価した。
◎（良好）：解像度の値が２μｍ以下である。
○（許容）：解像度の値が２μｍを超え、３μｍ以下である。
×（不良）：解像度の値が３μｍを超える。

（サイドエッチ（ＳＥ）量）
サイドエッチ量の評価には、感光性樹脂層の厚みが３μｍである感光性樹脂積層体を、上記（ラミネート）に記載の方法で銅層付きＰＥＴ基板にラミネートした後、１５分経過した評価基板を用いた。
該ラミネート評価基板に対し、ライン／スペース＝１０μｍ／１０μｍのパターンを露光した後、上記（現像）に記載の方法で現像した。
作製した該パターンのレジストトップ幅Ｗｒ（μｍ）を、光学顕微鏡により測定した。

次いで、このライン／スペースパターンを有する基板について、ディップ方式を用いて、塩酸濃度２質量％及び塩化第二鉄２質量％を含む水溶液、及び温度３０℃の条件で、最少エッチング時間の１．５倍の時間エッチングした。ここで、最小エッチング時間とは、上記の条件下で基板上の銅箔が完全に溶解除去されるのに要する最小の時間をいう。
上記エッチング後、剥離液として濃度３質量％のＮａＯＨ水溶液を用い、温度５０℃において基板上の硬化膜を剥離除去して得られた銅のラインパターンのトップ幅Ｗｃ（μｍ）を光学顕微鏡により測定した。

そして、下記数式：
サイドエッチ（μｍ）＝（Ｗｒ－Ｗｃ）÷２
によりサイドエッチ量を算出し、サイドエッチ量を下記のようにランク分けした。
◎（著しく良好）：サイドエッチ量が２．５μｍ以下である。
○（良好）：サイドエッチ量が２．５μｍを超え３．０μｍ以下である。
△（許容）：サイドエッチ量が３．０μｍを超え３．５μｍ以下である。
×（不良）：サイドエッチ量が３．５μｍを超える。

（最小現像時間）
感光層の厚みが３μｍである感光性樹脂積層体を、上記（ラミネート）に記載の方法で、厚み１８μｍの銅箔を積層した厚み０．４ｍｍの銅張積層基板へラミネートを実施し、積層体を得た。感光層上に積層されている支持フィルムを除去した後、１．０質量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、２３℃で所定時間スプレー現像した。

現像後の基板表面を観察し、現像残渣が残らない時間を最小現像時間とし、以下の基準によって評価した。
◎（著しく良好）：最小現像時間が１０秒以内である。
○（良好）：最小現像時間が１５秒以内である。
×（不良）：最小現像時間が１５秒を超える。

（コントラスト）
感光層の厚みが３～１０μｍである感光性樹脂積層体を、上記（ラミネート）に記載の方法で、ニカフレックス Ｆ－３０ＶＣ１ ２５Ｃ１ １／２（ニッカン工業製）上へラミネートを実施し、積層体を得た。
露光前、色差計（日本電色工業製、ＮＦ３３３）を用いて、ΔＥ値を測定し、０点に設定した。０点設定後、超高圧水銀ランプを有する露光機（平行光露光機（（株）オーク製作所社製、ＨＭＷ―８０１））により、露光量１４０ｍＪ／ｃｍ²で評価基板を露光した。
露光後３分経過した基板のΔＥ値を色差計にて測定し、得られたΔＥ値から、以下の基準によって評価した。
◎（著しく良好）：色差（ΔＥ）の値が１５以上である。
〇（良好）：色差（ΔＥ）の値が１３以上である。
△（許容Ａ）：色差（ΔＥ）の値が１０以上である。
△△（許容Ｂ）：色差（ΔＥ）の値が８．０以上である。
×（不良）：色差（ΔＥ）の値が８．０未満である。

（ブリード性）
＜２．感光性樹脂積層体の製造＞で得られた感光性樹脂積層体（３０ｃｍ×３０ｃｍ）を、２５℃、５５％の環境下で７日間保管した後、面上を観察した。以下基準によって評価した。
〇（良好）：面上に異常なし。
△（許容）：面上の数か所に析出成分あり。
×（不良）：面上全面に析出成分あり。

各実施例および比較例について、感光性樹脂組成物の組成と積層体についての評価結果を表１～表２に示す。また、表１～表２中の略語で表した各成分の名称、使用溶剤等を表３～表４に示す。

表から明らかなように、（Ｅ）成分を含まない比較例１～２では、コントラストが十分ではなかった。また、感光性樹脂組成物層の膜厚が１０μｍよりも大きい比較例３では最小現像時間、解像度が十分ではなかった。なお、膜厚１５μｍでは現像時間３０秒以上で解像度が良好でなかったため、サイドエッジ量は評価出来なかった。
これに対し、（Ｅ）成分を含み、感光性樹脂組成物層の膜厚が１０μｍ以下である実施例では、最小現像時間、解像度、サイドエッジ（ＳＥ）量、コントラストおよびブリード性のいずれにおいても十分良好な結果が得られている。

本発明による感光性樹脂積層体を用いることで、最小現像時間、解像度、サイドエッジ（ＳＥ）量、コントラストおよびブリード性に優れたものとなり、レジストパターン又は配線パターン形成用の感光性樹脂積層体として広く利用することができる。従って、本発明は、上記のような、最小現像時間、解像度、サイドエッジ（ＳＥ）量、コントラストおよびブリード性が特に要求される、タッチセンサーパネルの額縁領域における引き出し配線を形成する場合などに好適に利用することができる。

Claims (21)

1. 支持体と、
   以下の成分：
   （Ａ）アルカリ可溶性樹脂、
   （Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、
   （Ｃ）光重合開始剤、
   （Ｄ）光波長５５０～７００ｎｍの吸光度が増大する化合物、および
   （Ｅ）有機顕色剤、
   を含む感光性樹脂組成物を用いて前記支持体上に形成される感光性樹脂組成物層と、を有し、
   前記感光性樹脂組成物層の膜厚が０超え１０μｍ以下であることを特徴とする感光性樹脂積層体。
2. 支持体と、
   以下の成分：
   （Ａ）アルカリ可溶性樹脂、
   （Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、
   （Ｃ）光重合開始剤、
   （Ｄ）光波長５５０～７００ｎｍの吸光度が増大する化合物、および
   （Ｅ）有機顕色剤、
   を含む感光性樹脂組成物を用いて前記支持体上に形成される感光性樹脂組成物層と、を有し、
   前記支持体上に形成される前記感光性樹脂組成物層の膜厚（μｍ）と、前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ｅ）成分含有量（質量％）との積が、０超え５．０以下であることを特徴とする感光性樹脂積層体。
3. 前記（Ｅ）成分の０．０１ｍｇ／ｍｌアセトニトリル溶液の３３０ｎｍ又は４０５ｎｍでの吸光度が０．１以上１．０未満である、請求項１または２に記載の感光性樹脂積層体。
4. 前記（Ｅ）成分として、非イオン性の有機顕色剤を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
5. 前記（Ｃ）成分として、ロフィン二量体を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
6. 前記（Ｄ）成分として、トリアリールメタン骨格を有する化合物を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
7. 前記（Ａ）成分の重量平均分子量が５０００以上５５０００未満である、請求項１～６のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
8. 前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ａ）成分の含有量が、１０質量％～９０質量％である、請求項１～７のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
9. 前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ｂ）成分の含有量が、５質量％～７０質量％である、請求項１～８のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
10. 前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ｃ）成分の含有量が、０．０１質量％～２０質量％である、請求項１～９のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
11. 前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ｄ）成分の含有量が、０．００１質量％～３質量％である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
12. 前記感光性樹脂組成物の総量に対する前記（Ｅ）成分の含有量が、０超え３．５質量％以下である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
13. 前記（Ａ）成分の総量に対する前記（Ｅ）成分の含有量が、０超え２．５質量％以下である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
14. 前記（Ａ）成分が芳香族単量体成分を含む、請求項１～１３のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
15. 前記感光性樹脂積層体を用いて作製したレジストパターンの露光前後での色差をΔＥとし、前記感光性樹脂組成物層の厚みをＴ［μｍ］としたとき、ΔＥ／Ｔが３．５以上となるレジストパターンを形成可能である、請求項１～１４のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
16. 前記感光性樹脂組成物層の膜厚が０超え１０μｍ未満である、請求項１～１５のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体。
17. 請求項１～１６のいずれか１項に記載の感光性樹脂積層体を基材にラミネートするラミネート工程、
    ラミネートされた前記感光性樹脂積層体に露光する露光工程、及び
    露光された前記感光性樹脂積層体を現像する現像工程
    を含むレジストパターン形成方法であって、
    前記感光性樹脂積層体を用いて作製したレジストパターンの露光前後での色差をΔＥとし、前記感光性樹脂組成物層の厚みをＴ［μｍ］としたとき、ΔＥ／Ｔが３．５以上となる、レジストパターンの形成方法。
18. 前記露光工程は、支持体を剥離せずに描画パターンの直接描画による露光方法、又はフォトマスクの像を、レンズを通して投影させる露光方法による、請求項１７に記載のレジストパターンの形成方法。
19. 前記露光工程を３００～５００ｎｍの光源を用いて露光する、請求項１７または１８に記載のレジストパターン形成方法。
20. 前記露光工程後、支持体を剥離して、無機アルカリ水溶液により現像する、請求項１７～１９のいずれか１項に記載のレジストパターンの形成方法。
21. 前記現像工程後、パターンが配置されていない領域における基板をエッチング処理する工程を含む、請求項１７～２０のいずれか１項に記載のレジストパターンの形成方法。