JP2005320384A - イミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物 - Google Patents

イミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP2005320384A
JP2005320384A JP2004137937A JP2004137937A JP2005320384A JP 2005320384 A JP2005320384 A JP 2005320384A JP 2004137937 A JP2004137937 A JP 2004137937A JP 2004137937 A JP2004137937 A JP 2004137937A JP 2005320384 A JP2005320384 A JP 2005320384A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
imide
compound
curing agent
tetracarboxylic dianhydride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004137937A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4798749B2 (ja
Inventor
Toshio Inoue
敏夫 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Petrochemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Petrochemicals Co Ltd filed Critical Nippon Petrochemicals Co Ltd
Priority to JP2004137937A priority Critical patent/JP4798749B2/ja
Publication of JP2005320384A publication Critical patent/JP2005320384A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4798749B2 publication Critical patent/JP4798749B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【課題】 耐熱性、靭性、および、透明性に優れたエポキシ樹脂組成物を与えるエポキシ樹脂硬化剤組成物を提供する。
【解決手段】 1,1−ジフェニルエチレンと無水マレイン酸とから得られる脂環式テトラカルボン酸二無水物系化合物とジアミンから得られるポリアミック酸を脱水イミド化反反応して得られるイミド系化合物を含むエポキシ樹脂硬化剤を使用する。
【選択図】 なし

Description

本発明は、紫外線領域の光透過性と靭性に優れたエポキシ樹脂組成物を与えることができる、有機溶媒に対する溶解性に優れた新規なイミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物、および、当該硬化剤組成物を配合してなるエポキシ樹脂組成物に関する。
エポキシ樹脂組成物(硬化物)は、耐熱性、接着性、耐水性、機械的強度、電気特性などに優れていることから、接着剤、積層板、含浸物、塗料、土木建築用材料、電気・電子部品等の分野で広く使用されている。
従来から、電子・電気機器を中心に、硬化剤として酸無水物系化合物が使用されてきた。これらは、脂肪族酸無水物系硬化剤、脂環式酸無水物系硬化剤硬化剤、芳香族酸無水物系硬化剤、ハロゲン系酸無水物系硬化剤に大別される(例えば、非特許文献1参照)。
特に近年、電気・電子分野では耐熱性と靭性(特に、耐ヒートサイクル性で評価される残留応力の低減)および高輝度LED光源に対する耐劣化性(紫外線領域の光透過性)に係る要求が高まり、またエポキシ樹脂および低沸点溶媒への溶解特性への配慮から、これらのバランスに優れる脂環式テトラカルボン酸二無水物系化合物およびそれから誘導されるイミド系化合物からなるエポキシ硬化剤組成物、および当該組成物を含むエポキシ樹脂組成物が注目されている。
従来から知られている脂環式テトラカルボン酸二無水物系のエポキシ樹脂硬化剤組成物の主成分は、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物(MCTC)であるが、この化合物は融点が167℃で耐熱性に限界があることに加え、その生成に無水マレイン酸1モルとピペリレン1モルをディールス・アルダー反応した後、さらに当該生成物と無水マレイン酸1モルとのエン反応の2段階の工程を必要とする(例えば特許文献1参照)。無水マレイン酸とα―メチルスチレンとからなる脂環式テトラカルボン酸二無水物系のエポキシ樹脂硬化剤組成物(例えば特許文献2参照)。また、その誘導体であるイミド系オリゴマーはより高い靭性等が期待されるが(例えば特許文献3参照)同様の問題を持っている。
「エポキシ樹脂ハンドブック」新保正樹編(日刊工業新聞社昭和62年刊行)179〜210ページ 特開昭55−36406号公報 特開昭62−212419号公報 特開2002−173519号公報
本発明は、製造が容易であり、かつエポキシ樹脂および低沸点溶媒への溶解性と耐熱性と靭性に優れた特定構造の脂環式テトラカルボン酸二無水物から誘導されるイミド系エポキシ樹脂硬化剤および当該組成物を含むエポキシ樹脂組成物を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、例えば、1,1−ジフェニルエチレン1モルと無水マレイン酸2モルとの間で連続して生じる反応によって得られるようなトリシクロ環構造を有するテトラカルボン酸二無水物から誘導されるイミド系化合物を用いれば上記課題を克服した新規なエポキシ樹脂硬化剤および当該硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物を製造できることを見出し、本発明を完成した。
本発明の第1は、一般式(1)、(2)、(3)で表されるイミド構造を含有し末端に酸無水物基またはアミノ基を有するイミド系テトラカルボン酸二無水物の少なくとも一つを含むエポキシ樹脂硬化剤である。
Figure 2005320384
Figure 2005320384
Figure 2005320384
一般式(1)〜(3)において、R1は水素原子、または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R1はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。R2は炭素数1〜10のアルキル基を表す。m、nは互いに独立の0〜5までの任意の整数であり、m+nが複数の場合、複数のR2は互いに同じでも異なってもよい。
本発明の第2は、本発明の第1のエポキシ樹脂硬化剤を配合してなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物である。
本発明の第3は、本発明の第1のエポキシ樹脂硬化剤を配合してなるエポキシ樹脂組成物からなること特徴とする発光ダイオード封止剤である。
本発明に係る一般式(1)、(2)、(3)で表されるイミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物の少なくとも一つを含むエポキシ樹脂硬化剤は、その特定の化学構造に由来して、硬化剤自体として、および、硬化反応前後のエポキシ樹脂組成物において以下の優れた特性を発揮する。
(1)イミド構造が非対称構造であり、さらに、芳香族環またはシクロヘキサン環を側鎖として含むため、エポキシ樹脂、低沸点有機溶剤に対する溶解性に優れる。
(2)イミド構造の主鎖を構成する部分はトリシクロ環構造であるため、エポキシ樹脂組成物硬化物の耐熱性が優れる。
(3)イミド構造の構造が非対称であり、さらに、芳香族環またはシクロヘキサン環を側鎖として含むため、エポキシ樹脂組成物硬化物に屈曲性が付与され靭性に富む。
(4)特定の構造を有しかつ高純度品として得られるので、エポキシ樹脂硬化物の紫外線領域の透過性が特に優れている。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、エポキシ樹脂の硬化剤として一般式(1)、(2)、(3)で表されるイミド系化合物を使用する点に特徴を有する。
本発明のイミド系化合物は、以下に示す一般式(4)、(5)、(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、以下に示す一般式(7)で表されるジアミンとのから得られるポリアミック酸をイミド閉環反応して得られるが、上述のとおり、主として、当該テトラカルボン酸二無水物の化学構造に起因して本発明に係る硬化剤としての性能を発揮する。
一般式(4)、(5)、(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物は、以下に示す一般式(8)で表される化合物1モルと一般式(9)で表される化合物2モルとを反応させて得られる一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物を得て(W.N.Emmerling et al 、European Polymer Journal, Vol.13, p179を参照。)、これを水素化還元することによって(5)、(6)を得ることができる。
Figure 2005320384
Figure 2005320384
Figure 2005320384
一般式(4)〜(6)において、R1は水素原子、または炭素数1〜10のアルキル基、R2は炭素数1〜10のアルキル基を表す。m、nは互いに独立の0〜5までの任意の整数であり、m+nが複数の場合、複数のR2は互いに同じでも、または、異なっても良い。
Figure 2005320384
一般式(7)において、R3は2価の有機基を表す。
Figure 2005320384
Figure 2005320384
一般式(8)、(9)において、R1は水素原子、または炭素数1〜10のアルキル基、R2は炭素数1〜10のアルキル基、R3は2価の有機基を表す。m、nは互いに独立の0〜5までの任意の整数であり、m+nが複数の場合、複数のR2は互いに同じでも、または、異なっても良い。
一般式(8)で表される化合物の具体例としては、1,1−ジフェニルエチレン、1,1−ジ(メチルフェニル)エチレン、1−フェニル−1−メチルフェニルエチレン、1,1−ジフェニルプロペン、1,1−ジ(メチルフェニル)プロペン、1−フェニル−1−メチルフェニルプロペン等が挙げられる。
一般式(9)で示される化合物の具体例としては、無水マレイン酸、無水シトラコン酸(3−メチル無水マレイン酸)、3−エチル無水マレイン酸、3,4−ジメチル無水マレイン酸、3−クロル無水マレイン酸、3,4−ジメチル無水マレイン酸、等が挙げられる。
一般式(8)の化合物1モルと、一般式(9)の化合物2モルとは、図1に示す経路で反応して、一般式(4)のテトラカルボン酸二無水物を生成するものと考えられる。反応の進行には、特に触媒を必要とせず、適宜、溶剤を使用して、両者を混合して加熱攪拌して得ることができる。反応温度は、溶媒を使用した場合は当該溶媒の沸点付近で行うのが一般的であるが、50〜200℃間で行うことができる。より好ましくは、60〜150℃である。反応時間は反応温度との関係から定まるが、通常0.1〜20時間の範囲にある。
以下、反応経路を図1にしたがって説明する。
一般式(8)と一般式(9)の化合物とは、炭素・炭素二重結合の電子密度差を誘因として電荷移動錯体を形成する。
したがって、一般式(8)および一般式(9)それぞれの化合物に存在する置換基が、両者の炭素・炭素二重結合の電子密度差を減少させないようにすることが好ましい。すなわち、一般式(8)の化合物の芳香族環以外の炭素に電子吸引性の強い置換基を存在させすることは好ましくなく、一般式(8)の化合物の炭素に電子供与性の強い置換基を存在させることは好ましくない。さらに、立体障害効果を有する置換基の存在も好ましくない。
したがって、一般式(8)中のR1および一般式(9)中のR1の少なくとも1つが水素原子であることが好ましい。また、R1およびR2は、それぞれがアルキル基である場合、炭素数10以下であることが好ましく、炭素数5以下がさらに好ましく、特にメチル基、プロピル基が好ましい。
さらに、一般式(8)の化合物については、m+n≦4とすることが好ましく、特に、m+n≦2が好ましい。したがって、最も好ましい一般式(8)で表される化合物は1,1−ジフェニルエチレンであり、最も好ましい一般式(9)で表される化合物は無水マレイン酸である。
一般式(8)と一般式(9)とから形成される電荷移動錯体は、分子内環化反応により六員環(シクロヘキサジエン環)となり、当該六員環化合物内のシクロヘキサジエン部と原料化合物一般式(8)のオレフィン部とが、ディールス・アルダー反応を経由して一般式(4)の化合物を生成するものと考えられる。当該ディールス・アルダーによって生成する炭素・炭素不飽和結合部は高温環境下で逆ディールス・アルダー反応で分解することがあるので、公知の還元法等を用いて常法により水素添加して当該部分を飽和結合として一般式(5)で表されるテトラカルボン酸二無水物、さらに、側鎖の芳香族環を水添して一般式(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物とする。
接触還元方法は、金属触媒として、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、白金、ニッケル、コバルト等を使用して、溶媒中で、水素圧を常圧から10MPa(100kg/cm2)の範囲、温度を0〜150℃の範囲で行うことができる。
さらに詳しく述べれば、一般式(5)で表されるテトラカルボン酸二無水物を高い収率で得る場合は、パラジウム系触媒存在下で水素圧を1MPa〜5MPaの範囲とし、温度を室温〜50℃の範囲で5〜20時間接触還元を行うとよく、一般式(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物を高い収率で得る場合は、パラジウム系触媒存在下で水素圧を5MPa〜8MPaの範囲とし、温度を50〜100℃の範囲で5〜20時間接触還元を行うとよい。
一般式(4)、(5)、(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物は、従前の脂環式ポリイミドに使用されているテトラカルボン酸二無水物に比べて、特段の反応条件変更を要さずに実質的にひとつの反応操作で、エン反応等と比較して温和な条件下による反応で、副生成物を生じることなく得られる。さらに、後述する実施例に見られるように再結晶による精製が可能な化合物である場合には、特に高い純度が要求される光学機能部材中で使用されるポリイミドを製造するモノマーとして極めて優れた特性を発揮する。これらの中でも、一般式(5)、(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物は、高温環境下でも逆ディールス・アルダー反応がないので、高い耐熱性、あるいは、長期の安定性が要求されるポリイミドの構成モノマーとして優れている。
本発明に係る一般式(4)、(5)、(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物から得られる一般式(1)、(2)、(3)にかかるイミド化合物は、トリシクロ環と側鎖(例えば、n=0であればベンゼン環。)を有していることを特徴とする。本発明者らは、当該基本構造が、硬化剤組成物にあってはエポキシ樹脂や有機溶剤への溶解性、硬化反応後においては、エポキシ樹脂組成物の靭性、耐熱性の付与に大きく関与しているものと考えている。
上記基本的特性に加えて、イミド系化合物により優れた耐熱性と芳香族系材料との親和性を所望する場合は一般式(5)で表されるテトラカルボン酸二無水物、よりすぐれた透明性と溶解性を所望する場合は一般式(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物を単独で原料として使用するが、これらの特性をバランスよく所望する場合は、混合して使用しても良い。なお、一般式(4)で表されるテトラカルボン酸二無水物も、イミド系化合物に化学修飾や架橋反応を所望する場合、300℃以上で残渣を大量に残さない熱分解を所望する場合は併用することが好ましい。
また、LED封止剤等、長期にわたり広範な温度で使用され、かつ、高い透明性が要求される用途においては、分解可能性の問題に加えて酸化劣化の問題を考慮して水素化還元とした一般式(5)、(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物から誘導される一般式(2)、(3)にかかるイミド系化合物を硬化剤として使用することが好ましい。
上述した選択は、原料となるテトラカルボン酸二無水物の飽和型、不飽和型間の選択での調整以外にも、イミド構造を有する硬化剤の製造工程で得られるポリアミック酸の水素化還元反応、イミド構造を有する硬化剤の水素化還元反応で行うことができる。
また、本発明に係るエポキシ樹脂組成物を得るためには、一般式(1)、(2)、(3)で表されるイミド系化合物中に開環重付加反応や閉環反応の進行に関して立体障害となる置換基を含まないことが好ましく、一般式(4)、(5)、(6)において、1,1−ジフェニルエチレンと無水マレイン酸を使用して合成されるテトラカルボン酸二無水物を用いることが好ましい。
一般式(7)で表されるジアミン化合物としては、特に制限は無く、ポリイミド構成モノマーとして知られているジアミン化合物であればよい。
好ましい例を挙げれば、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、2,7−ジアミノフルオレン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−(p−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2’−ビス[4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、4,4’−ビス[(4−アミノ−2−トリフルオロメチル)フェノキシ]−オクタフルオロビフェニルなどがあり、特に好ましくは、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタンおよび4,4’−ジアミノジフェニルエーテルが挙げられる。
本発明に係るイミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物を得るためには、一般式(4)、(5)、(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物の少なくとも一種と一般式(7)で表されるジアミン化合物とを公知の反応で開環付加反応によりポリアミック酸とし、さらに公知の脱水イミド化反応により一般式(1)、(2)、(3)で表されるイミド構造を形成させる。この場合において製造される化合物は、一般式(1、(2)、(3)のイミド構造を繰り返し構造とするポリイミドであり、その末端に酸無水物またはアミノ基を有する。イミド系硬化剤自体の有機溶剤、エポキシ樹脂組成物の靭性のバランスから、対数粘度が0.05〜3の範囲にあるポリイミドを得ることが好ましい。0.05以下であると、靭性付与効果が十分でなく、3を超えると有機溶剤への溶解性に問題を生じることがある。さらに好ましくは0.5〜1.5の範囲とする。なお、対数粘度の値は、N−メチル−2−ピロリドンを溶媒として用い、濃度が0.5g/100ミリリットルである溶液について30℃で、対数粘度=[ln(溶液粘度/溶媒粘度)]/[溶液濃度]によって求める。
例えば、製造は、有機溶媒中において、通常0〜150℃、好ましくは0〜100℃の温度条件下で行なう。末端基に無水カルボニル基を配置したいときは、テトラカルボン酸二無水物のモル当量を過剰とし、末端基にアミノ基を配置したいときは、テトラカルボン酸二無水物のモル当量を過剰とし、一般式(1)、(2)、(3)の繰り返しイミド構造の数を低下させたい場合は、モル当量の過剰度合を増加させればよい。ポリアミック酸を単離する場合は、当該反応溶液に貧溶媒を混合して析出物を得、この析出物を減圧下乾燥し、必要に応じて精製処理を行ってポリアミック酸を得る。
一般式(1)、(2)、(3)で表されるイミド系硬化剤は、上記ポリアミック酸をそのまま、あるいは、有機溶媒中で、重縮合時に生成する低分子化合物を系外に除去しながら、加熱して、脱水閉環(イミド化反応)して合成する。加熱おける反応温度は50〜300℃、好ましくは、100〜200℃である。反応温度が50℃未満ではイミド化反応が十分に進行せず、反応温度が300℃を超えると得られるポリイミドの分子量が低下することがある。
また、上記ポリアミック酸の溶液中に脱水剤およびイミド化触媒を添加しても、一般式(1)(2)(3)で表されるイミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物であるイミド系化合物を得ることができる。脱水剤を例示すれば、無水酢酸、無水プロピオン酸等の酸無水物が挙げられる。イミド化触媒を例示すれば、トリエチルアミン、ピリジン、コリジン等の第3級アミンが挙げられる。また、このようにして得られる反応溶液に対し、ポリアミック酸の精製方法と同様の操作を行うことにより、本発明のポリイミドを精製することができる。
本発明において用いられるエポキシ樹脂に特に制限はなく、1分子当り2以上のエポキシ基を持つものであればよい。芳香族系の化合物であれば、グリシジルエーテル類、グリシジルエステル類、グリシジルアミン類、具体例としては、例えば、ビスフェノールA又はビスフェノールFとエピクロロヒドリンを原料とするエポキシ化合物、フェノールノボラック樹脂またはクレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル等が挙げられる。相当する市販品としては、「エピコート827」、「828」、「エピコート834」、「1001」、「1004」「エピコート152」、「154」、「180S65」等である。
本発明に係る効果を得るためには、使用されるエポキシ硬化剤のうち、1種のみ使用する場合2種以上使用する場合のいずれにおいても、一般式(1)、(2)、(3)で表されるイミド系化合物を、少なくとも5質量%以上、好ましくは10質量%以上、さらに好ましくは、40質量%以上使用する。なお、これらの使用法、配合比は上記段落0035記載の各化合物の特性に基づいて決定すればよい。なお、それ以外の硬化剤は、公知のエポキシ樹脂硬化剤に用いられる化合物を使用してよい。
本発明に係るイミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物とエポキシ樹脂との混合比率は、(エポキシ樹脂中のエポキシ基):(一般式(1)で表される化合物の末端の無水カルボニル基またはアミノ基)+(他の硬化剤の硬化反応に関与する官能基))のモル当量比が0.5〜1.5となるような範囲である。エポキシ樹脂組成物を硬化するに際しては、通常の方法に従って処理すれば良く、温度範囲は50〜200℃、好ましくは100〜200℃の範囲で硬化反応所要時間とのバランスで選択すればよい。
硬化反応においては、公知の硬化促進剤を添加してもよい。また、本発明に係るエポキシ樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、反応性希釈剤、可塑剤、シリカ等の無機充填剤、難燃剤、離型剤、消泡剤、沈降防止剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、染料、顔料、着色剤等を配合することができる。
以下、実施例を挙げ本発明の内容を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
<テトラカルボン酸二無水物の合成>
容量20mlのナス型フラスコに1,1−ジフェニルエチレン5.10gと無水マレイ
ン酸2.78g(モル比1:1)を入れ、10分間溶存酸素を脱気した後、油浴を140
℃に保ち5時間加熱攪拌した。反応系の温度は106℃であった。反応終了後、トルエン
をフラスコに加えて析出する沈殿物を濾過して集めた。濾過物の重量は3.65gであっ
た。
本合成例おいては、1,1−ジフェニルエチレンは反応原料として仕込まれたと同時に、
過剰分は溶剤として機能している。本合成例の収率は、1,1−ジフェニルエチレン2.
55gと無水マレイン酸2.78g(モル比1:2)を基準として、68%である。
(DSC分析による融点測定)
酢酸エチルから再結晶した当該化合物は、20℃/minでの昇温条件で290℃ に明
確な吸熱ピークを示した。
<テトラカルボン酸二無水物の構造決定>
(マススペクトル)
マススペクトルの結果、生成物の分子量は376であった。
(IRスペクトル測定)
700cm−1〜740cm−1:1置換芳香族帰属ピーク
760cm−1〜860cm−1:炭素・炭素二重結合帰属ピーク
1780cm−1〜1880cm−1:カルボン酸無水物帰属ピーク
(1HNMRスペクトル測定)
1H NMRスペクトル(DMSO−d6)
2.55(m、2H)、2.75(m、2H):カルボニル基隣接炭素上の水素
3.50〜3.60(m、2H)
3.70(t、1H):シクロへキセン環とシクロヘキサジエン環結合部炭素上の水素
3.80(m、2H):シクロヘキセン中のメチン水素
6.00(t、1H)、6.25(t、1H):炭素・炭素二重結合部の水素
7.20(d、2H)、7.35(t、1H)、7.45(t、2H):
一置換ベンゼン部の水素
以上の分析結果から、生成物の化学構造は一般式(4)の構造を満足するテトラカルボン酸二無水物のうち、下記の化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物であることを確認した。なお、当該化合物の構造決定に関しては、W.N.Emmerling et al 、European Polymer Journal, Vol.13, p179も参照した。
Figure 2005320384
化学式(1)で表される上記テトラカルボン酸二無水物を1gを10mlのTHFに溶解し、10%パラジウム/カーボン触媒(小島薬品製)100mgを加えて、50℃、5〜4.50MPa(水素圧)で水素化還元を16時間行った。触媒を除去後、THFを減圧蒸留して白色の結晶を95%の収率で回収した。
当該結晶のHNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合部分の2個の水素原子に帰属されるピーク面積が消滅し、化学式(1)中の11位の炭素・炭素二重結合(2置換オレフィン)が水素化還元されたことを示した。一方、δ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素は新たに出現せず芳香族環族の核水添が生じていないことを示した。なお、これ以外に大きな変化は見られなかった。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認し、また、マススペクトルの結果から分子量が化学式(1)の化合物より2多い378になっていることを確認した。
この結果から、当該還元処理化合物が、一般式(5)の構造を満足する化学式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物であることが確認された。
Figure 2005320384
化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物1gを10mlのTHFに溶解し、10%パラジウム/カーボン触媒(小島薬品製)50mgを加えて、100℃、1〜0.95MPa(水素圧)で水素化還元を6時間行った。触媒を除去後、THFを減圧蒸留して白色の結晶を95%の収率で回収した。
当該結晶のHNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合部分の2個の水素原子に帰属されるピーク面積とδ=7.20〜7.45の領域に現れる一置換ベンゼン環部分の5個の水素原子に帰属されるピーク面積との比が、還元処理前の2:5から、1.2:5に変化し、δ=6.00近傍にメチン系水素のピークが新たに出現し、化学式(1)中の11位の炭素・炭素二重結合(2置換オレフィン)の一部が水素化還元されたことを示した。
一方、δ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素は新たに出現せず芳香族環族の核水添が生じていないことを示した。なお、これ以外に大きな変化は見られなかった。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認した。
この結果から、当該還元処理化合物が、非水添テトラカルボン酸二無水物」約60モル%と、化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物約60モル%と化学式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物約40モル%とから構成されることが確認された。
以下、当該方法で得られた化合物を「水添テトラカルボン酸二無水物混合物A」という。
化学式(1)で表される上記テトラカルボン酸二無水物を1gを10mlのTHFに溶解し、10%パラジウム/カーボン触媒(小島薬品製)100mgを加えて、120℃、9.00〜8.50MPa(水素圧)で水素化還元を16時間行った。触媒を除去後、THFを減圧蒸留して白色の結晶を95%の収率で回収した。
当該結晶のHNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合部分の2個の水素原子に帰属されるピーク、および、δ=7.20〜7.00の領域に現れる芳香族環の水素原子に帰属されるピークが消滅し、化学式(1)中の11位の炭素・炭素二重結合(2置換オレフィン)が水素化され、かつ芳香族環が核水添されたことを示した。一方、δ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素が出現した。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認し、また、マススペクトルの結果から分子量が化学式(1)の化合物より8多い386になっていることを確認した。
この結果から、当該還元処理化合物が、一般式(6)の構造を満足する化学式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物であることが確認された。
これらの脂環式テトラカルボン酸二無水物系化合物の合成経路を図2に示した。
Figure 2005320384
化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物1gを10mlのTHFに溶解し、10%パラジウム/カーボン触媒(小島薬品製)50mgを加えて、100℃、1〜0.95MPa(水素圧)で水素化還元を6時間行った。触媒を除去後、THFを減圧蒸留して白色の結晶を95%の収率で回収した。
当該結晶のHNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合部分の2個の水素原子に帰属されるピークが消滅し、δ=7.20〜7.45の領域に現れる一置換ベンゼン環部分の5個の水素原子に帰属されるピーク面積とδ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素は新たに出現した。なお、これ以外に大きな変化は見られなかった。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認した。
それぞれのピーク面積の比から、当該還元処理化合物が、化学式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物約50モル%と化学式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物約50モル%とから構成されることが確認された。
以下、当該方法で得られた化合物を「水添テトラカルボン酸二無水物混合物B」という。
<イミド系硬化剤(イミドオリゴマー)の合成>
合成例1
化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物1504mg(4mmol)、4,4´-ジアミノジフェニルエーテル200mg(1mmol)、溶媒としてのN,N−ジメチルアセトアミド3mlを30mlのナスフラスコに入れ室温で4時間反応させた。
つづいて、上記反応溶液を減圧下、100℃で30分、200℃で2時間加熱した。室温まで冷却後、当該反応溶液を30mlのTHF中にあけたところ懸濁状態となった。当該懸濁液を遠心分離機にかけて沈殿物を得た。
<イミド系化合物の構造決定>
(IRスペクトル測定)
1540cm−1、1680cm−1 アミド結合帰属ピークの消失
1710cm−1、1780cm−1 イミド結合帰属ピーク
1780cm−1、1860cm−1 カルボン酸無水物帰属ピーク
以上の分析結果から、一般式(1)を満足する化学式(4)で表されるイミド構造を含むイミド系化合物の生成を確認した。当該イミド化合物の対数粘度は0.8であった。以下、表1中で「イミド系化合物1」と呼ぶ。
Figure 2005320384
合成例2〜5
化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物を、それぞれ、化学式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物(「合成例2」)、化学式(12)で表されるテトラカルボン酸二無水物(合成例3)、「水添テトラカルボン酸二無水物混合物A」(合成例4)、「水添テトラカルボン酸二無水物混合物B」(合成例5)約4mmolに代えて、同様の操作を行い、IRスペクトルで構造を確認し同様の結果を得た。
以上の分析結果から、合成例2(当該イミド化合物の対数粘度は1.0であった。)による生成物は一般式(2)を満足する化学式(5)で表されるイミド構造を含むイミド系化合物の生成を確認した。以下、表1中で「イミド系化合物2」と呼ぶ。
Figure 2005320384
以上の分析結果から、合成例3(当該イミド化合物の対数粘度は0.9であった。)による生成物は一般式(3)を満足する化学式(6)で表されるイミド構造を含むイミド系化合物の生成を確認した。以下、表1中で「イミド系化合物3」と呼ぶ。
Figure 2005320384
以上の分析結果から、合成例4(当該イミド化合物の対数粘度は0.9であった。)による生成物は化学式(4)60モル%と化学式(5)40モル%を有するイミド系化合物の混合物であることが確認された。以下、表1中で「イミド系化合物4」と呼ぶ。
以上の分析結果から、合成例5(当該イミド化合物の対数粘度は1.0であった。)による生成物は化学式(5)50モル%と化学式(6)50モル%を有するイミド系化合物の混合物であることが確認された。以下、表1中で「イミド系化合物5」と呼ぶ。
<エポキシ樹脂未硬化組成物の製造>
上記合成例で得られたイミド系化合物とビスフェノールA型エポキシ樹脂(エピコート828:(ジャパンエポキシレジン油化シェル(株)製、エポキシ当量=185)とを表1に示す官能基当量比の割合で混合し、硬化促進剤としてベンジルジメチルアミン(BDMA)(東京化成工業(株)試薬)をエポキシ樹脂100重量部に対し1重量部添加してよく攪拌したところ、溶液は均一となった。
<靭性(耐ヒートサイクル)評価用エポキシ樹脂硬化物の製造>
上記エポキシ樹脂未硬化組成物をトランスファー成形機(成形条件175℃、硬化時間2分間)で成形を行い、その後175℃で8時間後硬化し、評価用サンプルを作成した。サンプルは、日本工業規格JIS C―2105(電気絶縁用無溶剤レジン試験方法)を応用し、熱伝導率の異なる金属ワッシャーを封入した硬化物試験片、および、JIS K―6901の熱変形温度用試験片である。
ヒートサイクル試験:5個の試験片が150℃から0℃まで冷却する際に発生してくるクラックを観察し、その平均クラック数を算出した。
<耐熱性(熱変形温度)>
上記エポキシ樹脂未硬化組成物をトランスファー成形機(成形条件175℃、硬化時間2分間)で成形を行い、その後175℃で8時間後硬化し、日本工業規格JIS K―6901の方法に準拠し、熱変形温度(HDT)ついて測定を行った。
<耐UV光透過性評価用エポキシ樹脂硬化物の製造>
上記エポキシ樹脂未硬化組成物をトランスファー成形機(成形条件175℃、硬化時間2分間)で成形を行い、その後175℃で8時間後硬化し、冷却後、150mm×75mmの試験片を切り出し、400nmにおける初期透過率と100時間照射後の透過率を測定した。紫外線照射装置はスガ試験機社製「Dew Panel Light ControlWeather Meter DWPL−5R」)を使用し、UVランプを試験片に照射し、ただし、ブラックパネル温度は63℃、照射強度は3mW/cm2とした。
[比較例1]
硬化剤としてMH−700(新日本理化(株)製:メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を主成分とする酸無水物系硬化剤。官能基(酸無水物基)=約168g/eq。)を使用して、実施例1に準じて試験片を作成した。評価結果を表1に示す。
Figure 2005320384
表1から、本発明に係るエポキシ樹脂組成物は、広範な環境温度変化においてもクラック発生数が少なく靭性に優れ、荷重下における耐熱性に優れ、UV光に対して初期透過率が高くかつ透過率の低下が小さい。この結果は、温度環境変化への対応の機械的特性、透明性維持性にすぐれた耐熱性エポキシ樹脂組成物であることを示し、LED用封止剤として使用したときに極めて優れた特性として発揮されることが予測される。
本発明にかかるイミド系エポキシ樹脂硬化剤は優れた有機溶剤への溶解性と高融点を有しているため取り扱いが容易である。
また、本発明にかかるイミド系エポキシ樹脂硬化剤を配合してなるエポキシ樹脂組成物は、耐熱性、靭性に優れていることから、接着剤、塗料、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料など、様々な分野で使用することができる。さらに、透明性高く、発光装置の封止材料として使用できる。特に、高輝度の青色(460nm付近に主発光がある)LEDの開発や紫外線領域(例えば350〜400nm)の透過性能の維持性能に優れるから、青色LEDの性能が向上したことにより3原色の表示が可能となり、デスイプレイユニット用の封止材料として用いることができる。
テトラカルボン酸二無水物を生成する反応経路図 実施例に係るテトラカルボン酸二無水物を生成する反応経路図

Claims (3)

  1. 一般式(1)、(2)、(3)で表されるイミド構造を含有し末端に酸無水物基またはアミノ基を有するイミド系テトラカルボン酸二無水物の少なくとも一つを含むエポキシ樹脂硬化剤。
    Figure 2005320384
    Figure 2005320384
    Figure 2005320384
    一般式(1)〜(3)において、R1は水素原子、または炭素数1〜10のアルキル基を表し、R1はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。R2は炭素数1〜10のアルキル基を表す。m、nは互いに独立の0〜5までの任意の整数であり、m+nが複数の場合、複数のR2は互いに同じでも異なってもよい。
  2. 請求項1に記載のエポキシ樹脂硬化剤を配合してなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
  3. 請求項1記載のエポキシ樹脂硬化剤を配合してなるエポキシ樹脂組成物からなること特徴とする発光ダイオード封止剤。
JP2004137937A 2004-05-06 2004-05-06 イミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物 Expired - Fee Related JP4798749B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004137937A JP4798749B2 (ja) 2004-05-06 2004-05-06 イミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004137937A JP4798749B2 (ja) 2004-05-06 2004-05-06 イミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005320384A true JP2005320384A (ja) 2005-11-17
JP4798749B2 JP4798749B2 (ja) 2011-10-19

Family

ID=35467883

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004137937A Expired - Fee Related JP4798749B2 (ja) 2004-05-06 2004-05-06 イミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4798749B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021117686A1 (ja) * 2019-12-10 2021-06-17 ユニチカ株式会社 イミド基含有化合物、イミド基含有硬化剤ならびにエポキシ樹脂硬化物およびそれを用いた電気絶縁性材料
CN114853981A (zh) * 2022-05-26 2022-08-05 洛阳双瑞防腐工程技术有限公司 一种水溶性聚酰亚胺改性环氧树脂及其合成方法、水性环氧耐热防腐涂料及其制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62218414A (ja) * 1986-03-18 1987-09-25 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂組成物
JPS62253614A (ja) * 1986-01-11 1987-11-05 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂組成物
JPS6363715A (ja) * 1986-09-03 1988-03-22 Dainippon Ink & Chem Inc 新規熱硬化性樹脂組成物
JPH0559153A (ja) * 1991-09-04 1993-03-09 Tonen Corp エポキシ樹脂硬化剤
JPH0718059A (ja) * 1993-06-30 1995-01-20 Shikoku Chem Corp エポキシ樹脂配合物
JP2003160639A (ja) * 2001-11-27 2003-06-03 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2005206782A (ja) * 2003-12-24 2005-08-04 Nippon Petrochemicals Co Ltd ポリアミック酸およびポリイミド

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62253614A (ja) * 1986-01-11 1987-11-05 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂組成物
JPS62218414A (ja) * 1986-03-18 1987-09-25 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂組成物
JPS6363715A (ja) * 1986-09-03 1988-03-22 Dainippon Ink & Chem Inc 新規熱硬化性樹脂組成物
JPH0559153A (ja) * 1991-09-04 1993-03-09 Tonen Corp エポキシ樹脂硬化剤
JPH0718059A (ja) * 1993-06-30 1995-01-20 Shikoku Chem Corp エポキシ樹脂配合物
JP2003160639A (ja) * 2001-11-27 2003-06-03 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2005206782A (ja) * 2003-12-24 2005-08-04 Nippon Petrochemicals Co Ltd ポリアミック酸およびポリイミド

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021117686A1 (ja) * 2019-12-10 2021-06-17 ユニチカ株式会社 イミド基含有化合物、イミド基含有硬化剤ならびにエポキシ樹脂硬化物およびそれを用いた電気絶縁性材料
CN114728903A (zh) * 2019-12-10 2022-07-08 尤尼吉可株式会社 含有酰亚胺基的化合物、含有酰亚胺基的固化剂以及环氧树脂固化物和使用它的电绝缘性材料
CN114728903B (zh) * 2019-12-10 2023-04-28 尤尼吉可株式会社 含有酰亚胺基的化合物、含有酰亚胺基的固化剂以及环氧树脂固化物和使用它的电绝缘性材料
CN114853981A (zh) * 2022-05-26 2022-08-05 洛阳双瑞防腐工程技术有限公司 一种水溶性聚酰亚胺改性环氧树脂及其合成方法、水性环氧耐热防腐涂料及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4798749B2 (ja) 2011-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0032745B1 (en) Ether imides and process for producing the same
JP7450488B2 (ja) ポリアミック酸樹脂、ポリイミド樹脂およびこれらを含む樹脂組成物
JP6950684B2 (ja) ポリイミド樹脂
KR101900268B1 (ko) 열경화성 수지 조성물
JP2010059145A (ja) リン含有化合物並びにその調製方法及び使用
JP2021138952A (ja) ポリイミド前駆体、ポリイミド、ポリイミドフィルム、及び基板、並びにポリイミドの製造に使用されるテトラカルボン酸二無水物
JP2005330421A (ja) 部分ブロックポリイミド−ポリシロキサン共重合体及びその製造方法並びに該共重合体を含む樹脂組成物
JP3773445B2 (ja) 含フッ素脂環族ジアミンおよびこれを用いた重合体
TWI649350B (zh) Resist resin and method of manufacturing same
JP4798749B2 (ja) イミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物
JP4739689B2 (ja) エポキシ樹脂硬化剤およびエポキシ樹脂組成物
JP4698165B2 (ja) ポリアミック酸およびポリイミド
JP2008163087A (ja) エステル基含有脂環式テトラカルボン酸二無水物の製造方法
US5216173A (en) N-cyanoimides
JP5739715B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物
JP5966966B2 (ja) 高耐熱性ポリイミド樹脂
JPS6023424A (ja) 耐熱性樹脂組成物
JP2002069182A (ja) 新規ジアミン及びそれからなるポリイミド、ポリイソイミドならびにその製造方法
KR20230146002A (ko) 폴리이미드 전구체 조성물 및, 폴리이미드
JPH0649025A (ja) ナフタレン環含有不飽和イミド化合物
JPS63310884A (ja) エ−テルイミド系化合物およびその製造方法
JPS62106928A (ja) 耐熱性樹脂組成物
JPH04239519A (ja) エポキシ樹脂組成物及びプリプレグ
JPH02167341A (ja) 含フッ素熱硬化性樹脂組成物およびその製造法
JPH01117861A (ja) 不飽和ビスイミド系化合物を含む硬化性組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061020

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20061229

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070427

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091119

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20100330

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100531

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100824

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101022

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110201

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110323

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110705

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110801

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140812

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4798749

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees