JP2005320384A - イミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物 - Google Patents
イミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 1,1−ジフェニルエチレンと無水マレイン酸とから得られる脂環式テトラカルボン酸二無水物系化合物とジアミンから得られるポリアミック酸を脱水イミド化反反応して得られるイミド系化合物を含むエポキシ樹脂硬化剤を使用する。
【選択図】 なし
Description
従来から、電子・電気機器を中心に、硬化剤として酸無水物系化合物が使用されてきた。これらは、脂肪族酸無水物系硬化剤、脂環式酸無水物系硬化剤硬化剤、芳香族酸無水物系硬化剤、ハロゲン系酸無水物系硬化剤に大別される(例えば、非特許文献1参照)。
特に近年、電気・電子分野では耐熱性と靭性(特に、耐ヒートサイクル性で評価される残留応力の低減)および高輝度LED光源に対する耐劣化性(紫外線領域の光透過性)に係る要求が高まり、またエポキシ樹脂および低沸点溶媒への溶解特性への配慮から、これらのバランスに優れる脂環式テトラカルボン酸二無水物系化合物およびそれから誘導されるイミド系化合物からなるエポキシ硬化剤組成物、および当該組成物を含むエポキシ樹脂組成物が注目されている。
「エポキシ樹脂ハンドブック」新保正樹編(日刊工業新聞社昭和62年刊行)179〜210ページ
(1)イミド構造が非対称構造であり、さらに、芳香族環またはシクロヘキサン環を側鎖として含むため、エポキシ樹脂、低沸点有機溶剤に対する溶解性に優れる。
(2)イミド構造の主鎖を構成する部分はトリシクロ環構造であるため、エポキシ樹脂組成物硬化物の耐熱性が優れる。
(3)イミド構造の構造が非対称であり、さらに、芳香族環またはシクロヘキサン環を側鎖として含むため、エポキシ樹脂組成物硬化物に屈曲性が付与され靭性に富む。
(4)特定の構造を有しかつ高純度品として得られるので、エポキシ樹脂硬化物の紫外線領域の透過性が特に優れている。
本発明は、エポキシ樹脂の硬化剤として一般式(1)、(2)、(3)で表されるイミド系化合物を使用する点に特徴を有する。
本発明のイミド系化合物は、以下に示す一般式(4)、(5)、(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、以下に示す一般式(7)で表されるジアミンとのから得られるポリアミック酸をイミド閉環反応して得られるが、上述のとおり、主として、当該テトラカルボン酸二無水物の化学構造に起因して本発明に係る硬化剤としての性能を発揮する。
一般式(8)と一般式(9)の化合物とは、炭素・炭素二重結合の電子密度差を誘因として電荷移動錯体を形成する。
したがって、一般式(8)および一般式(9)それぞれの化合物に存在する置換基が、両者の炭素・炭素二重結合の電子密度差を減少させないようにすることが好ましい。すなわち、一般式(8)の化合物の芳香族環以外の炭素に電子吸引性の強い置換基を存在させすることは好ましくなく、一般式(8)の化合物の炭素に電子供与性の強い置換基を存在させることは好ましくない。さらに、立体障害効果を有する置換基の存在も好ましくない。
さらに、一般式(8)の化合物については、m+n≦4とすることが好ましく、特に、m+n≦2が好ましい。したがって、最も好ましい一般式(8)で表される化合物は1,1−ジフェニルエチレンであり、最も好ましい一般式(9)で表される化合物は無水マレイン酸である。
さらに詳しく述べれば、一般式(5)で表されるテトラカルボン酸二無水物を高い収率で得る場合は、パラジウム系触媒存在下で水素圧を1MPa〜5MPaの範囲とし、温度を室温〜50℃の範囲で5〜20時間接触還元を行うとよく、一般式(6)で表されるテトラカルボン酸二無水物を高い収率で得る場合は、パラジウム系触媒存在下で水素圧を5MPa〜8MPaの範囲とし、温度を50〜100℃の範囲で5〜20時間接触還元を行うとよい。
好ましい例を挙げれば、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、2,7−ジアミノフルオレン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−(p−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2’−ビス[4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、4,4’−ビス[(4−アミノ−2−トリフルオロメチル)フェノキシ]−オクタフルオロビフェニルなどがあり、特に好ましくは、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタンおよび4,4’−ジアミノジフェニルエーテルが挙げられる。
本発明に係るイミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物とエポキシ樹脂との混合比率は、(エポキシ樹脂中のエポキシ基):(一般式(1)で表される化合物の末端の無水カルボニル基またはアミノ基)+(他の硬化剤の硬化反応に関与する官能基))のモル当量比が0.5〜1.5となるような範囲である。エポキシ樹脂組成物を硬化するに際しては、通常の方法に従って処理すれば良く、温度範囲は50〜200℃、好ましくは100〜200℃の範囲で硬化反応所要時間とのバランスで選択すればよい。
ものではない。
容量20mlのナス型フラスコに1,1−ジフェニルエチレン5.10gと無水マレイ
ン酸2.78g(モル比1:1)を入れ、10分間溶存酸素を脱気した後、油浴を140
℃に保ち5時間加熱攪拌した。反応系の温度は106℃であった。反応終了後、トルエン
をフラスコに加えて析出する沈殿物を濾過して集めた。濾過物の重量は3.65gであっ
た。
本合成例おいては、1,1−ジフェニルエチレンは反応原料として仕込まれたと同時に、
過剰分は溶剤として機能している。本合成例の収率は、1,1−ジフェニルエチレン2.
55gと無水マレイン酸2.78g(モル比1:2)を基準として、68%である。
(DSC分析による融点測定)
酢酸エチルから再結晶した当該化合物は、20℃/minでの昇温条件で290℃ に明
確な吸熱ピークを示した。
(マススペクトル)
マススペクトルの結果、生成物の分子量は376であった。
(IRスペクトル測定)
700cm−1〜740cm−1:1置換芳香族帰属ピーク
760cm−1〜860cm−1:炭素・炭素二重結合帰属ピーク
1780cm−1〜1880cm−1:カルボン酸無水物帰属ピーク
(1HNMRスペクトル測定)
1H NMRスペクトル(DMSO−d6)
2.55(m、2H)、2.75(m、2H):カルボニル基隣接炭素上の水素
3.50〜3.60(m、2H)
3.70(t、1H):シクロへキセン環とシクロヘキサジエン環結合部炭素上の水素
3.80(m、2H):シクロヘキセン中のメチン水素
6.00(t、1H)、6.25(t、1H):炭素・炭素二重結合部の水素
7.20(d、2H)、7.35(t、1H)、7.45(t、2H):
一置換ベンゼン部の水素
以上の分析結果から、生成物の化学構造は一般式(4)の構造を満足するテトラカルボン酸二無水物のうち、下記の化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物であることを確認した。なお、当該化合物の構造決定に関しては、W.N.Emmerling et al 、European Polymer Journal, Vol.13, p179も参照した。
当該結晶の1HNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合部分の2個の水素原子に帰属されるピーク面積が消滅し、化学式(1)中の11位の炭素・炭素二重結合(2置換オレフィン)が水素化還元されたことを示した。一方、δ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素は新たに出現せず芳香族環族の核水添が生じていないことを示した。なお、これ以外に大きな変化は見られなかった。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認し、また、マススペクトルの結果から分子量が化学式(1)の化合物より2多い378になっていることを確認した。
この結果から、当該還元処理化合物が、一般式(5)の構造を満足する化学式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物であることが確認された。
当該結晶の1HNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合部分の2個の水素原子に帰属されるピーク面積とδ=7.20〜7.45の領域に現れる一置換ベンゼン環部分の5個の水素原子に帰属されるピーク面積との比が、還元処理前の2:5から、1.2:5に変化し、δ=6.00近傍にメチン系水素のピークが新たに出現し、化学式(1)中の11位の炭素・炭素二重結合(2置換オレフィン)の一部が水素化還元されたことを示した。
一方、δ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素は新たに出現せず芳香族環族の核水添が生じていないことを示した。なお、これ以外に大きな変化は見られなかった。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認した。
この結果から、当該還元処理化合物が、非水添テトラカルボン酸二無水物」約60モル%と、化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物約60モル%と化学式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物約40モル%とから構成されることが確認された。
以下、当該方法で得られた化合物を「水添テトラカルボン酸二無水物混合物A」という。
当該結晶の1HNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合部分の2個の水素原子に帰属されるピーク、および、δ=7.20〜7.00の領域に現れる芳香族環の水素原子に帰属されるピークが消滅し、化学式(1)中の11位の炭素・炭素二重結合(2置換オレフィン)が水素化され、かつ芳香族環が核水添されたことを示した。一方、δ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素が出現した。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認し、また、マススペクトルの結果から分子量が化学式(1)の化合物より8多い386になっていることを確認した。
この結果から、当該還元処理化合物が、一般式(6)の構造を満足する化学式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物であることが確認された。
これらの脂環式テトラカルボン酸二無水物系化合物の合成経路を図2に示した。
当該結晶の1HNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合部分の2個の水素原子に帰属されるピークが消滅し、δ=7.20〜7.45の領域に現れる一置換ベンゼン環部分の5個の水素原子に帰属されるピーク面積とδ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素は新たに出現した。なお、これ以外に大きな変化は見られなかった。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認した。
それぞれのピーク面積の比から、当該還元処理化合物が、化学式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物約50モル%と化学式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物約50モル%とから構成されることが確認された。
以下、当該方法で得られた化合物を「水添テトラカルボン酸二無水物混合物B」という。
合成例1
化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物1504mg(4mmol)、4,4´-ジアミノジフェニルエーテル200mg(1mmol)、溶媒としてのN,N−ジメチルアセトアミド3mlを30mlのナスフラスコに入れ室温で4時間反応させた。
つづいて、上記反応溶液を減圧下、100℃で30分、200℃で2時間加熱した。室温まで冷却後、当該反応溶液を30mlのTHF中にあけたところ懸濁状態となった。当該懸濁液を遠心分離機にかけて沈殿物を得た。
(IRスペクトル測定)
1540cm−1、1680cm−1 アミド結合帰属ピークの消失
1710cm−1、1780cm−1 イミド結合帰属ピーク
1780cm−1、1860cm−1 カルボン酸無水物帰属ピーク
以上の分析結果から、一般式(1)を満足する化学式(4)で表されるイミド構造を含むイミド系化合物の生成を確認した。当該イミド化合物の対数粘度は0.8であった。以下、表1中で「イミド系化合物1」と呼ぶ。
化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物を、それぞれ、化学式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物(「合成例2」)、化学式(12)で表されるテトラカルボン酸二無水物(合成例3)、「水添テトラカルボン酸二無水物混合物A」(合成例4)、「水添テトラカルボン酸二無水物混合物B」(合成例5)約4mmolに代えて、同様の操作を行い、IRスペクトルで構造を確認し同様の結果を得た。
上記合成例で得られたイミド系化合物とビスフェノールA型エポキシ樹脂(エピコート828:(ジャパンエポキシレジン油化シェル(株)製、エポキシ当量=185)とを表1に示す官能基当量比の割合で混合し、硬化促進剤としてベンジルジメチルアミン(BDMA)(東京化成工業(株)試薬)をエポキシ樹脂100重量部に対し1重量部添加してよく攪拌したところ、溶液は均一となった。
上記エポキシ樹脂未硬化組成物をトランスファー成形機(成形条件175℃、硬化時間2分間)で成形を行い、その後175℃で8時間後硬化し、評価用サンプルを作成した。サンプルは、日本工業規格JIS C―2105(電気絶縁用無溶剤レジン試験方法)を応用し、熱伝導率の異なる金属ワッシャーを封入した硬化物試験片、および、JIS K―6901の熱変形温度用試験片である。
ヒートサイクル試験:5個の試験片が150℃から0℃まで冷却する際に発生してくるクラックを観察し、その平均クラック数を算出した。
上記エポキシ樹脂未硬化組成物をトランスファー成形機(成形条件175℃、硬化時間2分間)で成形を行い、その後175℃で8時間後硬化し、日本工業規格JIS K―6901の方法に準拠し、熱変形温度(HDT)ついて測定を行った。
上記エポキシ樹脂未硬化組成物をトランスファー成形機(成形条件175℃、硬化時間2分間)で成形を行い、その後175℃で8時間後硬化し、冷却後、150mm×75mmの試験片を切り出し、400nmにおける初期透過率と100時間照射後の透過率を測定した。紫外線照射装置はスガ試験機社製「Dew Panel Light ControlWeather Meter DWPL−5R」)を使用し、UVランプを試験片に照射し、ただし、ブラックパネル温度は63℃、照射強度は3mW/cm2とした。
硬化剤としてMH−700(新日本理化(株)製:メチルヘキサヒドロ無水フタル酸を主成分とする酸無水物系硬化剤。官能基(酸無水物基)=約168g/eq。)を使用して、実施例1に準じて試験片を作成した。評価結果を表1に示す。
また、本発明にかかるイミド系エポキシ樹脂硬化剤を配合してなるエポキシ樹脂組成物は、耐熱性、靭性に優れていることから、接着剤、塗料、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料など、様々な分野で使用することができる。さらに、透明性高く、発光装置の封止材料として使用できる。特に、高輝度の青色(460nm付近に主発光がある)LEDの開発や紫外線領域(例えば350〜400nm)の透過性能の維持性能に優れるから、青色LEDの性能が向上したことにより3原色の表示が可能となり、デスイプレイユニット用の封止材料として用いることができる。
Claims (3)
- 請求項1に記載のエポキシ樹脂硬化剤を配合してなることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
- 請求項1記載のエポキシ樹脂硬化剤を配合してなるエポキシ樹脂組成物からなること特徴とする発光ダイオード封止剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004137937A JP4798749B2 (ja) | 2004-05-06 | 2004-05-06 | イミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004137937A JP4798749B2 (ja) | 2004-05-06 | 2004-05-06 | イミド系エポキシ樹脂硬化剤組成物およびエポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005320384A true JP2005320384A (ja) | 2005-11-17 |
JP4798749B2 JP4798749B2 (ja) | 2011-10-19 |
Family
ID=35467883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP4798749B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021117686A1 (ja) * | 2019-12-10 | 2021-06-17 | ユニチカ株式会社 | イミド基含有化合物、イミド基含有硬化剤ならびにエポキシ樹脂硬化物およびそれを用いた電気絶縁性材料 |
CN114853981A (zh) * | 2022-05-26 | 2022-08-05 | 洛阳双瑞防腐工程技术有限公司 | 一种水溶性聚酰亚胺改性环氧树脂及其合成方法、水性环氧耐热防腐涂料及其制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62218414A (ja) * | 1986-03-18 | 1987-09-25 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
JPS62253614A (ja) * | 1986-01-11 | 1987-11-05 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
JPS6363715A (ja) * | 1986-09-03 | 1988-03-22 | Dainippon Ink & Chem Inc | 新規熱硬化性樹脂組成物 |
JPH0559153A (ja) * | 1991-09-04 | 1993-03-09 | Tonen Corp | エポキシ樹脂硬化剤 |
JPH0718059A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-20 | Shikoku Chem Corp | エポキシ樹脂配合物 |
JP2003160639A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-03 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 |
JP2005206782A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-08-04 | Nippon Petrochemicals Co Ltd | ポリアミック酸およびポリイミド |
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2004
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62253614A (ja) * | 1986-01-11 | 1987-11-05 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
JPS62218414A (ja) * | 1986-03-18 | 1987-09-25 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
JPS6363715A (ja) * | 1986-09-03 | 1988-03-22 | Dainippon Ink & Chem Inc | 新規熱硬化性樹脂組成物 |
JPH0559153A (ja) * | 1991-09-04 | 1993-03-09 | Tonen Corp | エポキシ樹脂硬化剤 |
JPH0718059A (ja) * | 1993-06-30 | 1995-01-20 | Shikoku Chem Corp | エポキシ樹脂配合物 |
JP2003160639A (ja) * | 2001-11-27 | 2003-06-03 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 |
JP2005206782A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-08-04 | Nippon Petrochemicals Co Ltd | ポリアミック酸およびポリイミド |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021117686A1 (ja) * | 2019-12-10 | 2021-06-17 | ユニチカ株式会社 | イミド基含有化合物、イミド基含有硬化剤ならびにエポキシ樹脂硬化物およびそれを用いた電気絶縁性材料 |
CN114728903A (zh) * | 2019-12-10 | 2022-07-08 | 尤尼吉可株式会社 | 含有酰亚胺基的化合物、含有酰亚胺基的固化剂以及环氧树脂固化物和使用它的电绝缘性材料 |
CN114728903B (zh) * | 2019-12-10 | 2023-04-28 | 尤尼吉可株式会社 | 含有酰亚胺基的化合物、含有酰亚胺基的固化剂以及环氧树脂固化物和使用它的电绝缘性材料 |
CN114853981A (zh) * | 2022-05-26 | 2022-08-05 | 洛阳双瑞防腐工程技术有限公司 | 一种水溶性聚酰亚胺改性环氧树脂及其合成方法、水性环氧耐热防腐涂料及其制备方法 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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