JP2002069182A - 新規ジアミン及びそれからなるポリイミド、ポリイソイミドならびにその製造方法 - Google Patents
新規ジアミン及びそれからなるポリイミド、ポリイソイミドならびにその製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】有用なモノマーである多官能性の新規ジアミン
及びそれからなるポリイミド、ポリイソイミドを提供す
ることを目的とする。 すなわち、炭素―炭素二重結合
または炭素―炭素三重結合を含む有機基を有し、それら
の反応基特有の光反応性及び熱反応性を併せ持つ新規ジ
アミン、ポリイミド、ポリイソイミド及びその製造方法
を提供することを目的とする。 【解決手段】本発明は、一般式（１）化１で表される新
規ジアミンであり、また、水酸基を有するジアミンのア
ミノ基を保護基で保護した後で、反応基を導入し、保護
基を脱保護することを特徴とするジアミンおよびそれか
らなるポリイミド、ポリイソイミドを提供する。 【化１】 （Ｒ１は、炭素―炭素二重結合または炭素―炭素三重結
合を有する１価の有機基、Ｒ２は、水素・ハロゲン・メ
トキシ基・炭素数１〜２０のアルキル基を、Ｒ３は、直
結・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ３）２−・−Ｓ−
・−ＳＯ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−を、ｐは１か０を示
す。）
及びそれからなるポリイミド、ポリイソイミドを提供す
ることを目的とする。 すなわち、炭素―炭素二重結合
または炭素―炭素三重結合を含む有機基を有し、それら
の反応基特有の光反応性及び熱反応性を併せ持つ新規ジ
アミン、ポリイミド、ポリイソイミド及びその製造方法
を提供することを目的とする。 【解決手段】本発明は、一般式（１）化１で表される新
規ジアミンであり、また、水酸基を有するジアミンのア
ミノ基を保護基で保護した後で、反応基を導入し、保護
基を脱保護することを特徴とするジアミンおよびそれか
らなるポリイミド、ポリイソイミドを提供する。 【化１】 （Ｒ１は、炭素―炭素二重結合または炭素―炭素三重結
合を有する１価の有機基、Ｒ２は、水素・ハロゲン・メ
トキシ基・炭素数１〜２０のアルキル基を、Ｒ３は、直
結・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ３）２−・−Ｓ−
・−ＳＯ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−を、ｐは１か０を示
す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なジアミン及
びその製造方法またこれより得られるポリイミド、ポリ
イソイミドに関するものである。詳しくは、熱反応性、
光反応性を有する有機基、例えば、桂皮酸・カルコン・
ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリン・ピロ
ン・アリル・プロパルギル・アセチレン・ＣＨ２＝ＣＨ
−・ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−あるいはそれらの誘導体の
骨格を有し、それらの反応基特有の光反応性及び熱反応
性を併せ持つ新規ジアミンに関する。
びその製造方法またこれより得られるポリイミド、ポリ
イソイミドに関するものである。詳しくは、熱反応性、
光反応性を有する有機基、例えば、桂皮酸・カルコン・
ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリン・ピロ
ン・アリル・プロパルギル・アセチレン・ＣＨ２＝ＣＨ
−・ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−あるいはそれらの誘導体の
骨格を有し、それらの反応基特有の光反応性及び熱反応
性を併せ持つ新規ジアミンに関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリイミドは、種々の有機ポリマ−の中
でも耐熱性に優れているため、宇宙、航空分野から電子
通信分野、ＯＡ機器分野など幅広く用いられている。特
に最近では、単に耐熱性に優れているだけでなく、用途
に応じて種々の性能を併せ持つことが望まれている。
でも耐熱性に優れているため、宇宙、航空分野から電子
通信分野、ＯＡ機器分野など幅広く用いられている。特
に最近では、単に耐熱性に優れているだけでなく、用途
に応じて種々の性能を併せ持つことが望まれている。
【０００３】既存の高分子に、高分子反応によって感光
基をペンダントさせることにより感光性高分子を得るこ
とができる。この方法でつくられた感光性高分子の代表
例は、コダック社のＭｉｎｓｋら（Ｊ．Ａｐｐｌ Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，２，３０２（１９５９）により
発明されたポリビニルシンナマートである。ポリビニル
シンナマートはポリビニルアルコールを桂皮酸クロリド
でエステル化してつくる。このポリマーは光照射を受け
るとシクロブタン環を形成して架橋硬化する。
基をペンダントさせることにより感光性高分子を得るこ
とができる。この方法でつくられた感光性高分子の代表
例は、コダック社のＭｉｎｓｋら（Ｊ．Ａｐｐｌ Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，２，３０２（１９５９）により
発明されたポリビニルシンナマートである。ポリビニル
シンナマートはポリビニルアルコールを桂皮酸クロリド
でエステル化してつくる。このポリマーは光照射を受け
るとシクロブタン環を形成して架橋硬化する。
【０００４】しかし、ポリイミドの側鎖に桂皮酸誘導体
骨格が用いられている例は、特開昭５５−４５７４７号
が知られているのみである。
骨格が用いられている例は、特開昭５５−４５７４７号
が知られているのみである。
【０００５】反応基は、２重結合または３重結合を有し
ており、熱硬化性樹脂としての利用も考えられるが、ポ
リイミドに反応基を導入し、熱硬化性樹脂として用いら
れている例はほとんどない。
ており、熱硬化性樹脂としての利用も考えられるが、ポ
リイミドに反応基を導入し、熱硬化性樹脂として用いら
れている例はほとんどない。
【０００６】また、ポリマーの繰り返し単位当たりの反
応基の数が多くなれば、架橋密度が向上し、物性の向上
が望まれるが、反応基を多く有する多官能性のジアミン
を提供した例は少ない。
応基の数が多くなれば、架橋密度が向上し、物性の向上
が望まれるが、反応基を多く有する多官能性のジアミン
を提供した例は少ない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】そこで、有用なモノマ
ーである多官能性の新規ジアミンを提供することを目的
とする。
ーである多官能性の新規ジアミンを提供することを目的
とする。
【０００８】すなわち、炭素―炭素二重結合、または炭
素―炭素三重結合を有する有機基、例えば、桂皮酸・カ
ルコン・ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリ
ン・ピロン・アリル・プロパルギル・アセチレン・ＣＨ
２＝ＣＨ−・ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ ３）−あるいはそれらの
誘導体骨格を有し、それらの反応基特有の光反応性及び
熱反応性を併せ持つ新規ジアミン及びその製造方法を提
供することを目的とする。
素―炭素三重結合を有する有機基、例えば、桂皮酸・カ
ルコン・ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリ
ン・ピロン・アリル・プロパルギル・アセチレン・ＣＨ
２＝ＣＨ−・ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ ３）−あるいはそれらの
誘導体骨格を有し、それらの反応基特有の光反応性及び
熱反応性を併せ持つ新規ジアミン及びその製造方法を提
供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、特定の構造を有する新規ジアミンによって、所
定の目的が達成できることを見出し、本発明を完成する
に至った。本発明の第１は、構造が一般式（１） 化４
の結果、特定の構造を有する新規ジアミンによって、所
定の目的が達成できることを見出し、本発明を完成する
に至った。本発明の第１は、構造が一般式（１） 化４
【００１０】
【化４】
【００１１】（Ｒ１は、炭素―炭素二重結合または炭素
―炭素３重結合を有する１価の有機基を、Ｒ２は、水素
・ハロゲン・メトキシ基・炭素数１〜２０のアルキル基
を、Ｒ ３は、単結合・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ
３）２−・−Ｓ−・−ＳＯ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−
を、ｐは１か０を示す。）で表わされることを特徴とす
る新規ジアミンを、
―炭素３重結合を有する１価の有機基を、Ｒ２は、水素
・ハロゲン・メトキシ基・炭素数１〜２０のアルキル基
を、Ｒ ３は、単結合・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ
３）２−・−Ｓ−・−ＳＯ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−
を、ｐは１か０を示す。）で表わされることを特徴とす
る新規ジアミンを、
【００１２】本発明の第２は、一般式（１）において、
Ｒ１が、化５
Ｒ１が、化５
【００１３】
【化５】
【００１４】（Ｒ４は、水素・ハロゲン・メトキシ基・
炭素数１〜２０のアルキル基を示す。）から選ばれる１
価の有機基であることを特徴とする請求項１に記載する
新規ジアミンを、
炭素数１〜２０のアルキル基を示す。）から選ばれる１
価の有機基であることを特徴とする請求項１に記載する
新規ジアミンを、
【００１５】本発明の第３は、（ａ）水酸基を有するジ
アミンのアミノ基を保護基で保護する工程 （ｂ）炭素―炭素二重結合または炭素―炭素３重結合を
有する１価の有機基を１以上導入する工程 （ｃ）保護基を脱保護する工程 を含む、ジアミンの製造方法を、
アミンのアミノ基を保護基で保護する工程 （ｂ）炭素―炭素二重結合または炭素―炭素３重結合を
有する１価の有機基を１以上導入する工程 （ｃ）保護基を脱保護する工程 を含む、ジアミンの製造方法を、
【００１６】本発明の第４は、（ａ）水酸基を有するジ
アミンのアミノ基を保護基で保護する工程 （ｂ）下記（Ｉ）群 化６
アミンのアミノ基を保護基で保護する工程 （ｂ）下記（Ｉ）群 化６
【００１７】
【化６】
【００１８】（Ｒ４は、水素・ハロゲン・メトキシ基・
炭素数１〜２０のアルキル基を示す。）で表わされる１
価の有機基から選択される１以上の反応基を導入する工
程 （ｃ）保護基を脱保護する工程 を含む、ジアミンの製造方法を、
炭素数１〜２０のアルキル基を示す。）で表わされる１
価の有機基から選択される１以上の反応基を導入する工
程 （ｃ）保護基を脱保護する工程 を含む、ジアミンの製造方法を、
【００１９】本発明の第５は、少なくとも前記記載のジ
アミンを含むジアミンと、酸二無水物を原料として得ら
れる、ポリイミドを、
アミンを含むジアミンと、酸二無水物を原料として得ら
れる、ポリイミドを、
【００２０】本発明の第６は、少なくとも前記記載のジ
アミンを含むジアミンと、酸二無水物を原料として得ら
れる、ポリイソイミドを、それぞれ内容とするものであ
る。
アミンを含むジアミンと、酸二無水物を原料として得ら
れる、ポリイソイミドを、それぞれ内容とするものであ
る。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明は、一般式（１）化７
【００２２】
【化７】
【００２３】（Ｒ１は、炭素―炭素二重結合または炭素
―炭素三重結合を有する１価の有機基を、Ｒ２は、水素
・ハロゲン・メトキシ基・炭素数１〜２０のアルキル基
を、Ｒ ３は、単結合・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ
３）２−・−Ｓ−・−ＳＯ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−
を、ｐは１または０を示す。）で表される新規ジアミン
及びそれを原料とすることにより、炭素―炭素二重結合
または炭素―炭素三重結合を有する有機基特有の光や熱
に対する反応性、及び溶剤可溶性を併せ持つポリイミド
をはじめとする各種耐熱性高分子を提供することができ
る。上記反応基としては、特に、桂皮酸・カルコン・ベ
ンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリン・ピロン
・アリル・プロパルギル・アセチレン・ＣＨ２＝ＣＨ−
・ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−およびこれらの誘導体骨格か
ら選択される反応基が、挙げられる。
―炭素三重結合を有する１価の有機基を、Ｒ２は、水素
・ハロゲン・メトキシ基・炭素数１〜２０のアルキル基
を、Ｒ ３は、単結合・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ
３）２−・−Ｓ−・−ＳＯ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−
を、ｐは１または０を示す。）で表される新規ジアミン
及びそれを原料とすることにより、炭素―炭素二重結合
または炭素―炭素三重結合を有する有機基特有の光や熱
に対する反応性、及び溶剤可溶性を併せ持つポリイミド
をはじめとする各種耐熱性高分子を提供することができ
る。上記反応基としては、特に、桂皮酸・カルコン・ベ
ンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリン・ピロン
・アリル・プロパルギル・アセチレン・ＣＨ２＝ＣＨ−
・ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−およびこれらの誘導体骨格か
ら選択される反応基が、挙げられる。
【００２４】詳しくは、上記一般式（１）中、Ｒ
１ が、化８
１ が、化８
【００２５】
【化８】
【００２６】（Ｒ４は、水素・ハロゲン・メトキシ基・
炭素数１〜２０のアルキル基を示す。）から選択される
１価の有機基であることが好ましい。
炭素数１〜２０のアルキル基を示す。）から選択される
１価の有機基であることが好ましい。
【００２７】このような有機基を有する本発明のジアミ
ンは、光反応性、熱反応性を有する。従って、本発明の
ジアミンを用いて合成される化合物は、これらの光反応
性、熱反応性を併せ有することができる。高分子反応に
よって光反応性、熱反応性を有する有機基を高分子にペ
ンダントさせることができ、例えば、これらのジアミン
と、酸二無水物と反応させてポリイミドまたはポリイソ
イミドを製造することができる。これらのポリイソイミ
ドまたはポリイミドは、光反応性つまり感光性樹脂とし
て用いることができ、しかも、ポリイミド、ポリイソイ
ミド特有の耐熱性を併せ有することが期待できる。同様
に耐熱性の熱硬化性樹脂としても用いることができる。
ンは、光反応性、熱反応性を有する。従って、本発明の
ジアミンを用いて合成される化合物は、これらの光反応
性、熱反応性を併せ有することができる。高分子反応に
よって光反応性、熱反応性を有する有機基を高分子にペ
ンダントさせることができ、例えば、これらのジアミン
と、酸二無水物と反応させてポリイミドまたはポリイソ
イミドを製造することができる。これらのポリイソイミ
ドまたはポリイミドは、光反応性つまり感光性樹脂とし
て用いることができ、しかも、ポリイミド、ポリイソイ
ミド特有の耐熱性を併せ有することが期待できる。同様
に耐熱性の熱硬化性樹脂としても用いることができる。
【００２８】次に本発明のジアミンについて、具体的な
合成方法の１例を挙げて説明する。
合成方法の１例を挙げて説明する。
【００２９】最初に下記一般式（Ａ）化９、
【００３０】
【化９】
【００３１】（式中、Ｒ２は、水素・ハロゲン・メトキ
シ基・炭素数１〜２０のアルキル基を、Ｒ３は、単結合
・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ３）２−・−Ｓ−・
−ＳＯ ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−を、Ｒ５は、１価の有
機基を示す。）のように水酸基を有するジアミンのアミ
ノ基を保護する。
シ基・炭素数１〜２０のアルキル基を、Ｒ３は、単結合
・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ３）２−・−Ｓ−・
−ＳＯ ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−を、Ｒ５は、１価の有
機基を示す。）のように水酸基を有するジアミンのアミ
ノ基を保護する。
【００３２】用いられる保護基は、アミノ基の保護に用
いられる保護基であれば、いずれの保護基をも選択する
ことができる。アミノ基の保護基としては、例えば、ベ
ンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメトキシ
カルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、メチルカル
ボニル等を例示することができる。これらの保護基の導
入反応について説明する。
いられる保護基であれば、いずれの保護基をも選択する
ことができる。アミノ基の保護基としては、例えば、ベ
ンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメトキシ
カルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、メチルカル
ボニル等を例示することができる。これらの保護基の導
入反応について説明する。
【００３３】まず、ｔ−ブトキシカルボニル基の導入条
件について説明する。例えば、ジ−ｔ−ブチルジカルボ
ネート（構造式： ((CH3)3C-O-CO)2O ）と水酸基を有
するジアミンと反応することにより一般式（Ａ）（この
場合、一般式（Ａ）中，Ｒ５は、(CH3)3C-O− ）が得
られる。反応条件は、テトラヒドロフラン等の非プロト
ン性有機溶媒中反応してもよいし、有機溶媒と水との界
面反応により行なってもよい。反応温度は、ジ−ｔ−ブ
チルジカルボネート（構造式： ((CH3)3C-O-CO)2O）の
分解を防ぐため、５０℃以下が好ましく、より好ましく
は０〜４０℃で反応させる。上記の反応により、目的の
ｔ−ブトキシカルボニル基（構造式：(CH3)3C-O− ）
を導入することができる。
件について説明する。例えば、ジ−ｔ−ブチルジカルボ
ネート（構造式： ((CH3)3C-O-CO)2O ）と水酸基を有
するジアミンと反応することにより一般式（Ａ）（この
場合、一般式（Ａ）中，Ｒ５は、(CH3)3C-O− ）が得
られる。反応条件は、テトラヒドロフラン等の非プロト
ン性有機溶媒中反応してもよいし、有機溶媒と水との界
面反応により行なってもよい。反応温度は、ジ−ｔ−ブ
チルジカルボネート（構造式： ((CH3)3C-O-CO)2O）の
分解を防ぐため、５０℃以下が好ましく、より好ましく
は０〜４０℃で反応させる。上記の反応により、目的の
ｔ−ブトキシカルボニル基（構造式：(CH3)3C-O− ）
を導入することができる。
【００３４】次に、ＣＨ３ＣＯ−の導入条件について説
明する。例えば、無水酢酸と水酸基を有するジアミンと
反応することにより一般式（Ａ）（この場合、一般式
（Ａ）中，Ｒ５ ＝ＣＨ３ＣＯ− ）が得られる。反応
条件は、テトラヒドロフラン等の非プロトン性有機溶媒
中反応してもよいし、有機溶媒と水との界面反応により
行なってもよい。反応温度は、室温以上無水酢酸の沸点
以下の温度で反応させる。これらの反応により、目的の
ＣＨ３ＣＯ−を導入することができる。
明する。例えば、無水酢酸と水酸基を有するジアミンと
反応することにより一般式（Ａ）（この場合、一般式
（Ａ）中，Ｒ５ ＝ＣＨ３ＣＯ− ）が得られる。反応
条件は、テトラヒドロフラン等の非プロトン性有機溶媒
中反応してもよいし、有機溶媒と水との界面反応により
行なってもよい。反応温度は、室温以上無水酢酸の沸点
以下の温度で反応させる。これらの反応により、目的の
ＣＨ３ＣＯ−を導入することができる。
【００３５】ベンジルオキシカルボニル基の導入条件に
ついて説明する。例えば、安価な塩化ベンジルオキシカ
ルボニルと水酸基を有するジアミンと反応することによ
り一般式（Ａ）（この場合、一般式（Ａ）中，Ｒ５ ＝
ベンジルオキシカルボニル基）が得られる。反応条件
は、トリエチルアミン等の３級アミンや、塩基の存在下
でテトラヒドロフラン等の非プロトン性有機溶媒中反応
してもよいし、有機溶媒と水との界面反応を用いて行っ
てもよい。
ついて説明する。例えば、安価な塩化ベンジルオキシカ
ルボニルと水酸基を有するジアミンと反応することによ
り一般式（Ａ）（この場合、一般式（Ａ）中，Ｒ５ ＝
ベンジルオキシカルボニル基）が得られる。反応条件
は、トリエチルアミン等の３級アミンや、塩基の存在下
でテトラヒドロフラン等の非プロトン性有機溶媒中反応
してもよいし、有機溶媒と水との界面反応を用いて行っ
てもよい。
【００３６】９−フルオレニルメトキシカルボニル基の
導入条件も、例えば、９−フルオレニルメトキシカルボ
ニルクロライドを用いる以外は、ベンジルオキシカルボ
ニル基の導入条件と同様である。
導入条件も、例えば、９−フルオレニルメトキシカルボ
ニルクロライドを用いる以外は、ベンジルオキシカルボ
ニル基の導入条件と同様である。
【００３７】次に、炭素―炭素二重結合または炭素―炭
素三重結合を有する有機基の導入方法について説明す
る。
素三重結合を有する有機基の導入方法について説明す
る。
【００３８】エステル化触媒の存在下で一般式（Ａ）と
Ｒ１ＣＯＯＨと反応させるか、一般式（Ａ）とＲ１ＣＯ
Ｃｌと反応させて、一般式（Ｂ）化１０を得る。
Ｒ１ＣＯＯＨと反応させるか、一般式（Ａ）とＲ１ＣＯ
Ｃｌと反応させて、一般式（Ｂ）化１０を得る。
【００３９】
【化１０】
【００４０】（式中、Ｒ１は、炭素―炭素二重結合また
は炭素―炭素３重結合を有する１価の有機基を、Ｒ
５は、１価の有機基を示す。）
は炭素―炭素３重結合を有する１価の有機基を、Ｒ
５は、１価の有機基を示す。）
【００４１】酸クロライドを用いる際には、発生する塩
酸をトラップするための３級アミン等の塩基が必要であ
る。反応条件として、非プロトン性溶媒中３級アミン等
の塩基の存在下で一般式（４）と酸クロライドと反応さ
せることにより容易に一般式（Ｂ）を得ることができ
る。また炭酸ナトリウム・水酸化カリウム・トリエチル
アミン等の塩基の存在下で非プロトン溶媒と水の界面反
応の条件で一般式（４）と酸クロライドを反応させても
同様の結果が得られる。
酸をトラップするための３級アミン等の塩基が必要であ
る。反応条件として、非プロトン性溶媒中３級アミン等
の塩基の存在下で一般式（４）と酸クロライドと反応さ
せることにより容易に一般式（Ｂ）を得ることができ
る。また炭酸ナトリウム・水酸化カリウム・トリエチル
アミン等の塩基の存在下で非プロトン溶媒と水の界面反
応の条件で一般式（４）と酸クロライドを反応させても
同様の結果が得られる。
【００４２】次に、一般式（Ｂ）の保護基を分解するこ
とにより、脱保護して一般式（１）化１１
とにより、脱保護して一般式（１）化１１
【００４３】
【化１１】
【００４４】（Ｒ１は、炭素―炭素二重結合または炭素
―炭素３重結合を有する１価の有機基を、Ｒ２は、水素
・ハロゲン・メトキシ基・炭素数１〜２０のアルキル基
を、Ｒ ３は、単結合・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ
３）２−・−Ｓ−・−ＳＯ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−か
ら選択される２価の有機基を、ｐは１または０を示
す。）を得る条件について説明する。
―炭素３重結合を有する１価の有機基を、Ｒ２は、水素
・ハロゲン・メトキシ基・炭素数１〜２０のアルキル基
を、Ｒ ３は、単結合・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ
３）２−・−Ｓ−・−ＳＯ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−か
ら選択される２価の有機基を、ｐは１または０を示
す。）を得る条件について説明する。
【００４５】ｔ−ブトキシカルボニル基を脱保護する方
法について説明する。ｔ−ブトキシカルボニル基は、酸
により容易に分解され脱保護することができる。例えば
トリフルオロ酢酸と室温で混合すれば、数分〜１時間程
度で分解され、アルカリで中和すれば目的の一般式
（１）を得ることができる。また、塩酸とジオキサン等
の溶媒と混合して加熱し、中和することによっても同様
に一般式（１）を得ることができる。保護基がＣＨ３Ｃ
Ｏ−の場合も同様条件により一般式（１）を得ることが
できる。
法について説明する。ｔ−ブトキシカルボニル基は、酸
により容易に分解され脱保護することができる。例えば
トリフルオロ酢酸と室温で混合すれば、数分〜１時間程
度で分解され、アルカリで中和すれば目的の一般式
（１）を得ることができる。また、塩酸とジオキサン等
の溶媒と混合して加熱し、中和することによっても同様
に一般式（１）を得ることができる。保護基がＣＨ３Ｃ
Ｏ−の場合も同様条件により一般式（１）を得ることが
できる。
【００４６】次に、ベンジルオキシカルボニル基を脱保
護する方法について説明する。ベンジルオキシカルボニ
ル基は、パラジウムカーボンを触媒とする接触還元や、
トリフルオロメタンスルホン酸やトリフルオロ酢酸等の
酸によって容易に脱保護できる。本発明のジアミンは、
桂皮酸などの２重結合を有する部位を持つため、接触還
元ではなく酸によって脱保護することが好ましい。例え
ば、例えばトリフルオロメタンスルホン酸と室温で混合
すれば、数分〜１時間程度で分解され、アルカリで中和
すれば目的の一般式（１）を得ることができる。また、
塩酸とジオキサン等の溶媒と混合して感熱し、中和する
ことによっても同様に一般式（１）を得ることができ
る。
護する方法について説明する。ベンジルオキシカルボニ
ル基は、パラジウムカーボンを触媒とする接触還元や、
トリフルオロメタンスルホン酸やトリフルオロ酢酸等の
酸によって容易に脱保護できる。本発明のジアミンは、
桂皮酸などの２重結合を有する部位を持つため、接触還
元ではなく酸によって脱保護することが好ましい。例え
ば、例えばトリフルオロメタンスルホン酸と室温で混合
すれば、数分〜１時間程度で分解され、アルカリで中和
すれば目的の一般式（１）を得ることができる。また、
塩酸とジオキサン等の溶媒と混合して感熱し、中和する
ことによっても同様に一般式（１）を得ることができ
る。
【００４７】用いられる保護基の中では、ｔ−ブトキシ
カルボニル基が最も簡便に脱保護されるため好ましい。
カルボニル基が最も簡便に脱保護されるため好ましい。
【００４８】このジアミンを用いて、ポリイミドまたは
ポリイソイミドを合成する方法を述べる。
ポリイソイミドを合成する方法を述べる。
【００４９】このジアミンと酸二無水物を有機極性溶媒
中で反応させ、ポリアミド酸とし、３級アミンの存在下
で、無水テトラフルオロ酢酸あるいはジシクロヘキサン
カルボジイミドと反応させることにより、桂皮酸・カル
コン・ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリン
・ピロン・アリル・プロパギル・アセチレン等の反応基
を有するポリイソイミド組成物を得ることができる。
中で反応させ、ポリアミド酸とし、３級アミンの存在下
で、無水テトラフルオロ酢酸あるいはジシクロヘキサン
カルボジイミドと反応させることにより、桂皮酸・カル
コン・ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリン
・ピロン・アリル・プロパギル・アセチレン等の反応基
を有するポリイソイミド組成物を得ることができる。
【００５０】また、同様にポリアミド酸をピリジン・ピ
コリン・イソキノリン等の３級アミンの存在下で無水酢
酸等の酸無水物と反応させることにより、桂皮酸・カル
コン・ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリン
・ピロン・アリル・プロパギル・アセチレン等の反応基
を有するポリイミド組成物を得ることができる。
コリン・イソキノリン等の３級アミンの存在下で無水酢
酸等の酸無水物と反応させることにより、桂皮酸・カル
コン・ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリン
・ピロン・アリル・プロパギル・アセチレン等の反応基
を有するポリイミド組成物を得ることができる。
【００５１】ポリアミド酸の平均分子量は５，０００〜
１，０００，０００であることが望ましい。平均分子量
が５，０００未満では、できあがったポリイミド・ポリ
イソイミド組成物の分子量も低くなり、そのポリイミド
・ポリイソイミド組成物をそのまま光反応性樹脂として
用いても樹脂が脆くなり好ましくない。一方、１，００
０，０００を越えるとポリアミド酸ワニスの粘度が高く
なりすぎ取扱いが難しくなって好ましくない。
１，０００，０００であることが望ましい。平均分子量
が５，０００未満では、できあがったポリイミド・ポリ
イソイミド組成物の分子量も低くなり、そのポリイミド
・ポリイソイミド組成物をそのまま光反応性樹脂として
用いても樹脂が脆くなり好ましくない。一方、１，００
０，０００を越えるとポリアミド酸ワニスの粘度が高く
なりすぎ取扱いが難しくなって好ましくない。
【００５２】また、このポリイミド・ポリイソイミド組
成物に各種の有機添加剤、あるいは無機のフィラー類、
または各種の強化材を複合することも可能である。
成物に各種の有機添加剤、あるいは無機のフィラー類、
または各種の強化材を複合することも可能である。
【００５３】ここで該ポリアミド酸の生成反応に使用さ
れる有機極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキ
シド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶
媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル
ホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミドなど
のアセトアミド系溶媒、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、
Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、
またはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクト
ンなどをあげることができ、これらを単独または混合物
として用いるのが望ましいが、更にはキシレン、トルエ
ンのような芳香族炭化水素の一部使用も可能である。
れる有機極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキ
シド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶
媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル
ホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミドなど
のアセトアミド系溶媒、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、
Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、
またはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクト
ンなどをあげることができ、これらを単独または混合物
として用いるのが望ましいが、更にはキシレン、トルエ
ンのような芳香族炭化水素の一部使用も可能である。
【００５４】このポリイミド・ポリイソイミド組成物に
用いられる酸二無水物は、酸二無水物であれば特に限定
されないが、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物、
１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタン
テトラカルボン酸、１，２，３，４−シクロペンタンテ
トラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシ
シクロペンチル酢酸二無水物、３，５，６−トリカルボ
キシノルボナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５−
テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、５−
（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル
−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水
物、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，
３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族また
は脂環式テトラカルボン酸二無水物；ピロメリット酸二
無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルス
ルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナ
フタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−
ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，
４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、
３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラ
カルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェ
ニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４
−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフ
ィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシ
フェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−
ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプ
ロパン二無水物、３，３’，４，４’−パーフルオロイ
ソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，
４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フ
タル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ−
フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、
ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水
物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェ
ニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）
−４，４’−ジフェニルメタン二無水物等の芳香族テト
ラカルボン酸二無水物；１，３，３ａ，４，５，９ｂ−
ヘキサヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナ
フト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，
３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−メチル−５−
（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，
３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−
５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、
下記一般式（Ｃ）化１２
用いられる酸二無水物は、酸二無水物であれば特に限定
されないが、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物、
１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水
物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタン
テトラカルボン酸、１，２，３，４−シクロペンタンテ
トラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシ
シクロペンチル酢酸二無水物、３，５，６−トリカルボ
キシノルボナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５−
テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、５−
（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル
−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水
物、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，
３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族また
は脂環式テトラカルボン酸二無水物；ピロメリット酸二
無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルス
ルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナ
フタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−
ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，
４’−ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、
３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラ
カルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェ
ニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４
−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス
（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフ
ィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシ
フェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−
ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプ
ロパン二無水物、３，３’，４，４’−パーフルオロイ
ソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，
４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フ
タル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ−
フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、
ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水
物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェ
ニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）
−４，４’−ジフェニルメタン二無水物等の芳香族テト
ラカルボン酸二無水物；１，３，３ａ，４，５，９ｂ−
ヘキサヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナ
フト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，
３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−メチル−５−
（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，
３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−
５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、
下記一般式（Ｃ）化１２
【００５５】
【化１２】
【００５６】（式中Ｒ６は芳香環を有する２価の有機基
を示し、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ水素原子またはアル
キル基を示す。）
を示し、Ｒ７およびＲ８はそれぞれ水素原子またはアル
キル基を示す。）
【００５７】下記一般式（Ｄ）化１３
【００５８】
【化１３】
【００５９】（式中Ｒ９は芳香環を有する２価の有機基
を示し、Ｒ１０およびＲ１１はそれぞれ水素原子または
アルキル基を示す。）で表わされる化合物等の芳香環を
有する脂肪族テトラカルボン酸二無水物等を挙げること
ができる。これらのテトラカルボン酸二無水物は、単独
でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
を示し、Ｒ１０およびＲ１１はそれぞれ水素原子または
アルキル基を示す。）で表わされる化合物等の芳香環を
有する脂肪族テトラカルボン酸二無水物等を挙げること
ができる。これらのテトラカルボン酸二無水物は、単独
でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【００６０】このポリイミド・ポリイソイミド組成物に
用いられるジアミンは、本発明のジアミンの他に種々ジ
アミンを用いることができる。ジアミンであれば特に限
定されないが、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−
フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメ
タン、４，４’−ジアミノフェニルエタン、４，４’−
ジアミノフェニルエーテル、４，４’−ジジアミノフェ
ニルスルフィド、４，４’−ジジアミノフェニルスルフ
ォン、１，５−ジアミノナフタレン、３，３−ジメチル
−４，４’−ジアミノビフェニル、５−アミノ−１−
（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルイ
ンダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−
１，３，３−トリメチルインダン、４，４’−ジアミノ
ベンズアニリド、３，５−ジアミノ−３’−トリフルオ
ロメチルベンズアニリド、３，５−ジアミノ−４’−ト
リフルオロメチルベンズアニリド、３，４’−ジアミノ
ジフェニルエーテル、２，７−ジアミノフルオレン、
２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、４，４‘−メチレン−ビス（２−クロロアニリ
ン）、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，４’−
ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−
ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、３，３
‘−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、４，
４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチ
ル）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェ
ノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４
−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパ
ン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、
４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）−ビフェニ
ル、１，３’−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼ
ン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、
４，４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビスア
ニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデ
ン）ビスアニリン、２，２’−ビス［４−（４−アミノ
−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキ
サフルオロプロパン、４，４’−ビス［４−（４−アミ
ノ−２−トリフルオロメチル）フェノキシ］−オクタフ
ルオロビフェニル等の芳香族ジアミン；ジアミノテトラ
フェニルチオフェン等の芳香環に結合された２個のアミ
ノ基と当該アミノ基の窒素原子以外のヘテロ原子を有す
る芳香族ジアミン；１，１−メタキシリレンジアミン、
１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、
ペンタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノ
ナメチレンジアミン、４，４−ジアミノヘプタメチレン
ジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソフォ
ロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレン
ジアミン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダニレン
ジメチレンジアミン、トリシクロ［６，２，１，０
２．７］−ウンデシレンジメチルジアミン、４，４’−
メチレンビス（シクロヘキシルアミン）等の脂肪族ジア
ミンおよび脂環式ジアミン；下記一般式（Ｅ） 化１４
用いられるジアミンは、本発明のジアミンの他に種々ジ
アミンを用いることができる。ジアミンであれば特に限
定されないが、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−
フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメ
タン、４，４’−ジアミノフェニルエタン、４，４’−
ジアミノフェニルエーテル、４，４’−ジジアミノフェ
ニルスルフィド、４，４’−ジジアミノフェニルスルフ
ォン、１，５−ジアミノナフタレン、３，３−ジメチル
−４，４’−ジアミノビフェニル、５−アミノ−１−
（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルイ
ンダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−
１，３，３−トリメチルインダン、４，４’−ジアミノ
ベンズアニリド、３，５−ジアミノ−３’−トリフルオ
ロメチルベンズアニリド、３，５−ジアミノ−４’−ト
リフルオロメチルベンズアニリド、３，４’−ジアミノ
ジフェニルエーテル、２，７−ジアミノフルオレン、
２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、４，４‘−メチレン−ビス（２−クロロアニリ
ン）、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，４’−
ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−
ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、３，３
‘−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、４，
４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチ
ル）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェ
ノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４
−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパ
ン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、
４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）−ビフェニ
ル、１，３’−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼ
ン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、
４，４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビスア
ニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデ
ン）ビスアニリン、２，２’−ビス［４−（４−アミノ
−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキ
サフルオロプロパン、４，４’−ビス［４−（４−アミ
ノ−２−トリフルオロメチル）フェノキシ］−オクタフ
ルオロビフェニル等の芳香族ジアミン；ジアミノテトラ
フェニルチオフェン等の芳香環に結合された２個のアミ
ノ基と当該アミノ基の窒素原子以外のヘテロ原子を有す
る芳香族ジアミン；１，１−メタキシリレンジアミン、
１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、
ペンタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノ
ナメチレンジアミン、４，４−ジアミノヘプタメチレン
ジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソフォ
ロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレン
ジアミン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダニレン
ジメチレンジアミン、トリシクロ［６，２，１，０
２．７］−ウンデシレンジメチルジアミン、４，４’−
メチレンビス（シクロヘキシルアミン）等の脂肪族ジア
ミンおよび脂環式ジアミン；下記一般式（Ｅ） 化１４
【００６１】
【化１４】
【００６２】で表わされるモノ置換フェニレンジアミン
類（式中Ｒ１２は、−Ｏ−，−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，
−ＣＯＮＨ−及び−ＣＯ−から選ばれる２価の有機基を
示し、Ｒ１３はステロイド骨格を有する１価の有機基を
示す。）；下記化学式 化１５
類（式中Ｒ１２は、−Ｏ−，−ＣＯＯ−，−ＯＣＯ−，
−ＣＯＮＨ−及び−ＣＯ−から選ばれる２価の有機基を
示し、Ｒ１３はステロイド骨格を有する１価の有機基を
示す。）；下記化学式 化１５
【００６３】
【化１５】
【００６４】（Ｒ１４は炭素数１〜１２の炭化水素基を
示し、ｙは１〜３の整数であり、ｚは１〜２０の整数で
ある。）で表わされる化合物等を挙げることができる。
これらのジアミン化合物は単独でまたは２種以上組み合
わせて用いることができる。
示し、ｙは１〜３の整数であり、ｚは１〜２０の整数で
ある。）で表わされる化合物等を挙げることができる。
これらのジアミン化合物は単独でまたは２種以上組み合
わせて用いることができる。
【００６５】ポリアミド酸の合成法について説明する。
先ず、アルゴン、窒素等の不活性雰囲気中において、一
般式（１）化１６
先ず、アルゴン、窒素等の不活性雰囲気中において、一
般式（１）化１６
【００６６】
【化１６】
【００６７】（Ｒ１は、炭素―炭素二重結合または炭素
―炭素３重結合を有する１価の有機基を、Ｒ２は、水素
・ハロゲン・メトキシ基・炭素数１〜２０のアルキル基
を、Ｒ ３は、単結合・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ
３）２−・−Ｓ−・−ＳＯ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−か
ら選択される２価の有機基を、ｐは１または０を示
す。）で表されるジアミン、と、一般式（Ｆ） 化１７
―炭素３重結合を有する１価の有機基を、Ｒ２は、水素
・ハロゲン・メトキシ基・炭素数１〜２０のアルキル基
を、Ｒ ３は、単結合・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ
３）２−・−Ｓ−・−ＳＯ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−か
ら選択される２価の有機基を、ｐは１または０を示
す。）で表されるジアミン、と、一般式（Ｆ） 化１７
【００６８】
【化１７】
【００６９】（式中Ｒ１５は、１種又は２種以上の４価
の有機基である。）で表される酸二無水物を有機溶媒中
に溶解または拡散させる。この場合のジアミンと酸二無
水物が実質上等モルであれば、一般式（２）に示される
ポリイミド・ポリイソイミドの前駆体であるｎ＝０の場
合のポリアミド酸溶液となる。ジアミンと酸二無水物の
モル比が異なる場合、更に上記ポリアミド酸溶液に一般
式（Ｇ） Ｈ２Ｎ−Ｒ６−ＮＨ２ （式中Ｒ６は、２価
の有機基を示す。）で表されるジアミン化合物を有機溶
媒にジアミンと酸二無水物のモル比が等量となるように
加え溶解し、スラリー状に拡散させた状態で、または固
体の状態で添加する。
の有機基である。）で表される酸二無水物を有機溶媒中
に溶解または拡散させる。この場合のジアミンと酸二無
水物が実質上等モルであれば、一般式（２）に示される
ポリイミド・ポリイソイミドの前駆体であるｎ＝０の場
合のポリアミド酸溶液となる。ジアミンと酸二無水物の
モル比が異なる場合、更に上記ポリアミド酸溶液に一般
式（Ｇ） Ｈ２Ｎ−Ｒ６−ＮＨ２ （式中Ｒ６は、２価
の有機基を示す。）で表されるジアミン化合物を有機溶
媒にジアミンと酸二無水物のモル比が等量となるように
加え溶解し、スラリー状に拡散させた状態で、または固
体の状態で添加する。
【００７０】この溶液に一般式（Ｈ）化１８
【００７１】
【化１８】
【００７２】（Ｒ１６は、４価の有機基）で表される酸
二無水物を有機溶媒中に添加し、ポリアミド酸共重合体
溶液を得る。このように、上記の酸二無水物成分及びジ
アミン成分のモル比を調整してポリアミド酸共重合体を
任意に得ることができる。
二無水物を有機溶媒中に添加し、ポリアミド酸共重合体
溶液を得る。このように、上記の酸二無水物成分及びジ
アミン成分のモル比を調整してポリアミド酸共重合体を
任意に得ることができる。
【００７３】各モノマーの添加順序としては、ジアミン
成分である上記一般式（１）及び一般式（Ｇ）を有機極
性溶媒中に先に加えておき、ついで酸二無水物成分であ
る一般式（Ｆ）を加え、ポリアミド酸重合体の溶液とし
てもよい。また、一般式（Ｇ）を有機極性溶媒中に先に
加えておき、酸二無水物成分である一般式（Ｆ）を加
え、そのあと一般式（１）を加え、そのあと一般式
（Ｈ）を添加し、ポリアミド酸重合体の溶液としてもよ
い。また、ジアミン成分である上記一般式（１）及び一
般式（Ｇ）を有機極性溶媒中に先に加えておき、ついで
酸二無水物成分である一般式（Ｆ）の数種の酸二無水物
を同時に加え、ポリアミド酸重合体の溶液としてもよ
い。
成分である上記一般式（１）及び一般式（Ｇ）を有機極
性溶媒中に先に加えておき、ついで酸二無水物成分であ
る一般式（Ｆ）を加え、ポリアミド酸重合体の溶液とし
てもよい。また、一般式（Ｇ）を有機極性溶媒中に先に
加えておき、酸二無水物成分である一般式（Ｆ）を加
え、そのあと一般式（１）を加え、そのあと一般式
（Ｈ）を添加し、ポリアミド酸重合体の溶液としてもよ
い。また、ジアミン成分である上記一般式（１）及び一
般式（Ｇ）を有機極性溶媒中に先に加えておき、ついで
酸二無水物成分である一般式（Ｆ）の数種の酸二無水物
を同時に加え、ポリアミド酸重合体の溶液としてもよ
い。
【００７４】上記の添加方法を逆にし、酸二無水物を先
に加え、ジアミン成分を後に加えるようにしても実質上
は同じである。
に加え、ジアミン成分を後に加えるようにしても実質上
は同じである。
【００７５】この時の反応温度は、−２０℃〜６０℃が
望ましい。反応時間は３０分から２４時間程度である。
望ましい。反応時間は３０分から２４時間程度である。
【００７６】このようにして得たポリアミド酸共重合体
に、３級アミンの存在下で、無水テトラフルオロ酢酸あ
るいはジシクロヘキサンカルボジイミドと反応させるこ
とにより、ポリイソイミドを得ることができる。ここで
いう、３級アミンとは、トリエチルアミン、トリブチル
アミン等のようなアルキルアンモニア誘導体をいう。
に、３級アミンの存在下で、無水テトラフルオロ酢酸あ
るいはジシクロヘキサンカルボジイミドと反応させるこ
とにより、ポリイソイミドを得ることができる。ここで
いう、３級アミンとは、トリエチルアミン、トリブチル
アミン等のようなアルキルアンモニア誘導体をいう。
【００７７】また、同様に、ポリアミド酸をピリジン・
ピコリン・イソキノリン等の３級アミンの存在下で無水
酢酸等の酸無水物と反応させることにより、桂皮酸・カ
ルコン・ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリ
ン・ピロン・アリル・プロパギル・アセチレン等の反応
基を有するポリイミド組成物を得ることができる。
ピコリン・イソキノリン等の３級アミンの存在下で無水
酢酸等の酸無水物と反応させることにより、桂皮酸・カ
ルコン・ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリ
ン・ピロン・アリル・プロパギル・アセチレン等の反応
基を有するポリイミド組成物を得ることができる。
【００７８】本発明のジアミンと、縮合剤とジカルボン
酸と反応させるか、ジ酸クロライドと反応させることに
より、ポリアミドを得ることができる。
酸と反応させるか、ジ酸クロライドと反応させることに
より、ポリアミドを得ることができる。
【００７９】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものでは
ない。
るが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものでは
ない。
【００８０】ＩＲは、ＰＥＲＫＩＮ ＥＬＭＥＲ製 ＦＴ
−ＩＲ Ｓｙｓｔｅｍ ２０００を用い、ＫＢｒ粉末に試
料を入れペレットに加工して、透過光を測定した。
−ＩＲ Ｓｙｓｔｅｍ ２０００を用い、ＫＢｒ粉末に試
料を入れペレットに加工して、透過光を測定した。
【００８１】１Ｈ−ＮＭＲは、試料を重水素化ジメチル
スルフォキシドと重水素化クロロフォルムの混合溶液に
約４％に溶かし、日本電子製ＰＭＸ６０ｓｉ ＮＭＲス
ペクトロメーターにより、テトラメチルシラン基準で測
定した。
スルフォキシドと重水素化クロロフォルムの混合溶液に
約４％に溶かし、日本電子製ＰＭＸ６０ｓｉ ＮＭＲス
ペクトロメーターにより、テトラメチルシラン基準で測
定した。
【００８２】重量平均分子量は、Ｗａｔｅｒｓ製ＧＰＣ
を用いて以下条件で測定した。（カラム：Ｓｈｏｄｅｘ
製 ＫＤ−８０６Ｍ ２本、温度６０℃、検出器：Ｒ
Ｉ、流量：１ｍｌ／分、展開液：ＤＭＦ（臭化リチウム
０．０３Ｍ、リン酸０．０３Ｍ）、試料濃度：０．２ｗ
ｔ％、注入量：２０μｌ、基準物質：ポリエチレンオキ
サイド）
を用いて以下条件で測定した。（カラム：Ｓｈｏｄｅｘ
製 ＫＤ−８０６Ｍ ２本、温度６０℃、検出器：Ｒ
Ｉ、流量：１ｍｌ／分、展開液：ＤＭＦ（臭化リチウム
０．０３Ｍ、リン酸０．０３Ｍ）、試料濃度：０．２ｗ
ｔ％、注入量：２０μｌ、基準物質：ポリエチレンオキ
サイド）
【００８３】（実施例１）４，４‘−ビス{２−ヒドロ
キシ（フェニル−ｔ−ブトキシウレタン）}（下記構造
式 化１９）の合成
キシ（フェニル−ｔ−ブトキシウレタン）}（下記構造
式 化１９）の合成
【００８４】
【化１９】
【００８５】３，３‘−ジヒドロキシ−４，４’−ジア
ミノベンジジン４３．２５ｇ（２００ミリモル）、テト
ラヒドロフラン(以下ＴＨＦ)１０００ミリリットル、２
ｗｔ％塩化ナトリウム水溶液５００ミリリットルを反応
容器にとり、激しく攪拌を行った。そこにジ−ｔ−ブト
キシカルボネート９８．２ｇ（４５０ミリモル）をＴＨ
Ｆ３００ミリリットルに溶かし、滴下した。以後８時間
室温で攪拌を続けた。塩化メチレン５００ミリリットル
を反応溶液に足し、油層を分液漏斗で分け、無水硫酸マ
グネシウムで脱水後、濃縮乾燥して、８０．８ｇ（収率
９７．０％）の表記物質を得た。ＩＲ（ＫＢｒ）：２９
７９（ＣＨ３），１６９７ｃｍ−１（Ｃ＝Ｏ），１Ｈ−
ＮＭＲ：δ９．７５（ｓ，Ｐｈ−ＯＨ，２Ｈ），７．６
０（ｓ，ＮＨＣＯ，２Ｈ），７．７０〜６．８０（ｍ，
Ｐｈ−Ｈ，６Ｈ），１．４７（ｓ，ＣＨ３，１８Ｈ）
ミノベンジジン４３．２５ｇ（２００ミリモル）、テト
ラヒドロフラン(以下ＴＨＦ)１０００ミリリットル、２
ｗｔ％塩化ナトリウム水溶液５００ミリリットルを反応
容器にとり、激しく攪拌を行った。そこにジ−ｔ−ブト
キシカルボネート９８．２ｇ（４５０ミリモル）をＴＨ
Ｆ３００ミリリットルに溶かし、滴下した。以後８時間
室温で攪拌を続けた。塩化メチレン５００ミリリットル
を反応溶液に足し、油層を分液漏斗で分け、無水硫酸マ
グネシウムで脱水後、濃縮乾燥して、８０．８ｇ（収率
９７．０％）の表記物質を得た。ＩＲ（ＫＢｒ）：２９
７９（ＣＨ３），１６９７ｃｍ−１（Ｃ＝Ｏ），１Ｈ−
ＮＭＲ：δ９．７５（ｓ，Ｐｈ−ＯＨ，２Ｈ），７．６
０（ｓ，ＮＨＣＯ，２Ｈ），７．７０〜６．８０（ｍ，
Ｐｈ−Ｈ，６Ｈ），１．４７（ｓ，ＣＨ３，１８Ｈ）
【００８６】４，４‘−ビス{２−（フェニル−ｔ−ブ
トキシウレタン）４−フルオロシンナメート}（下記構
造式 化２０）の合成
トキシウレタン）４−フルオロシンナメート}（下記構
造式 化２０）の合成
【００８７】
【化２０】
【００８８】４，４‘−ビス{２−ヒドロキシ（フェニ
ル−ｔ−ブトキシウレタン）}７９．１３ｇ（０．１９
モル）、ピリジン５９．２５ｇ（０．７５モル）、メチ
ルエチルケトン（以下ＭＥＫ）７００ミリリットルを反
応溶液にとり、４−フルオロ桂皮酸クロライド７２ｇ
（０．３９モル）をＭＥＫ３００ミリリットルに溶かし
たものを滴下し、２時間還流攪拌を窒素気流下で行っ
た。
ル−ｔ−ブトキシウレタン）}７９．１３ｇ（０．１９
モル）、ピリジン５９．２５ｇ（０．７５モル）、メチ
ルエチルケトン（以下ＭＥＫ）７００ミリリットルを反
応溶液にとり、４−フルオロ桂皮酸クロライド７２ｇ
（０．３９モル）をＭＥＫ３００ミリリットルに溶かし
たものを滴下し、２時間還流攪拌を窒素気流下で行っ
た。
【００８９】反応終了後、濾別・水洗し、乾燥して、表
記目的物、１２５ｇ（収率９２．３％）を得た。ＩＲ
（ＫＢｒ）：３３６５（ＮＨ），２９８２（ＣＨ３），
１７４６（Ｃ＝Ｏ），１７１４ｃｍ−１（Ｃ＝Ｏ）
記目的物、１２５ｇ（収率９２．３％）を得た。ＩＲ
（ＫＢｒ）：３３６５（ＮＨ），２９８２（ＣＨ３），
１７４６（Ｃ＝Ｏ），１７１４ｃｍ−１（Ｃ＝Ｏ）
【００９０】４、４−ジアミノビフェニル−２，２‘−
ビス４−フルオロシンナメート（下記構造式 化２１）
の合成
ビス４−フルオロシンナメート（下記構造式 化２１）
の合成
【００９１】
【化２１】
【００９２】４，４‘−ビス{２−（フェニル−ｔ−ブ
トキシウレタン）４−フルオロシナメート} ９６．２ｇ
（１３５ミリモル）をトリフルオロ酢酸１５０ｇに加
え、室温で２０分間攪拌した。本溶液を水１０００ミリ
リットルに投入し、炭酸ナトリウムにて中和し、沈殿を
濾別水で洗浄乾燥して、６９ｇの黄色の固体を得た。こ
の固体を、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド（以下ＤＭ
Ｆ）−エタノール混合液にて再結晶して、表記の４、４
−ジアミノビフェニル−２，２‘−ビス４−フルオロシ
ンナメート５０ｇ（収率７２．３％）を得た。ＩＲ（Ｋ
Ｂｒ）：３４１１（ＮＨ），３３２９（ＮＨ），１７１
８ｃｍ−１（Ｃ＝Ｏ），１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０２〜
６．７３（ｍ，Ｐｈ−Ｈ，１４Ｈ），６．９３（ｓ，Ｃ
Ｈ＝ＣＨ，２Ｈ），６．６７（ｓ，ＣＨ＝ＣＨ，２
Ｈ），４．９７（ｓ，ＮＨ２，４Ｈ）
トキシウレタン）４−フルオロシナメート} ９６．２ｇ
（１３５ミリモル）をトリフルオロ酢酸１５０ｇに加
え、室温で２０分間攪拌した。本溶液を水１０００ミリ
リットルに投入し、炭酸ナトリウムにて中和し、沈殿を
濾別水で洗浄乾燥して、６９ｇの黄色の固体を得た。こ
の固体を、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォルムアミド（以下ＤＭ
Ｆ）−エタノール混合液にて再結晶して、表記の４、４
−ジアミノビフェニル−２，２‘−ビス４−フルオロシ
ンナメート５０ｇ（収率７２．３％）を得た。ＩＲ（Ｋ
Ｂｒ）：３４１１（ＮＨ），３３２９（ＮＨ），１７１
８ｃｍ−１（Ｃ＝Ｏ），１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０２〜
６．７３（ｍ，Ｐｈ−Ｈ，１４Ｈ），６．９３（ｓ，Ｃ
Ｈ＝ＣＨ，２Ｈ），６．６７（ｓ，ＣＨ＝ＣＨ，２
Ｈ），４．９７（ｓ，ＮＨ２，４Ｈ）
【００９３】（実施例２）２，２−ビス{３−ｔ−ブト
キシウレタン‐４−ヒドロキシフェニル}ヘキサフルオ
ロプロパン（下記構造式 化２２）の合成
キシウレタン‐４−ヒドロキシフェニル}ヘキサフルオ
ロプロパン（下記構造式 化２２）の合成
【００９４】
【化２２】
【００９５】２，２−ビス｛３−アミノ−４−ヒドロキ
シフェニル｝ヘキサフルオロプロパン１８．３１ｇ（５
０ミリモル）、ＴＨＦ２００ミリリットル、２ｗｔ％塩
化ナトリウム水溶液２００ミリリットルを反応容器にと
り、激しく攪拌を行った。そこにジ−ｔ−ブトキシカル
ボネート２６．１９ｇ（１２０ミリモル）をＴＨＦ１０
０ミリリットルに溶かし、滴下した。以後８時間室温で
攪拌を続けた。塩化メチレン２００ミリリットルを反応
溶液に足し、油層を分液漏斗で分け、無水硫酸マグネシ
ウムで脱水後、濃縮乾燥して、２１．５ｇ（収率９２
％）の表記物質を得た。ＩＲおよび１Ｈ−ＮＭＲは、実
施例１と同様にして測定した。
シフェニル｝ヘキサフルオロプロパン１８．３１ｇ（５
０ミリモル）、ＴＨＦ２００ミリリットル、２ｗｔ％塩
化ナトリウム水溶液２００ミリリットルを反応容器にと
り、激しく攪拌を行った。そこにジ−ｔ−ブトキシカル
ボネート２６．１９ｇ（１２０ミリモル）をＴＨＦ１０
０ミリリットルに溶かし、滴下した。以後８時間室温で
攪拌を続けた。塩化メチレン２００ミリリットルを反応
溶液に足し、油層を分液漏斗で分け、無水硫酸マグネシ
ウムで脱水後、濃縮乾燥して、２１．５ｇ（収率９２
％）の表記物質を得た。ＩＲおよび１Ｈ−ＮＭＲは、実
施例１と同様にして測定した。
【００９６】２，２−ビス{３−ｔ−ブトキシウレタン
−４−（４−フルオロ桂皮酸）フェニル}ヘキサフルオ
ロプロパン（下記構造式 化２３）の合成
−４−（４−フルオロ桂皮酸）フェニル}ヘキサフルオ
ロプロパン（下記構造式 化２３）の合成
【００９７】
【化２３】
【００９８】２，２−ビス{３−ｔ−ブトキシウレタン
‐４−ヒドロキシフェニル}ヘキサフルオロプロパン１
８．６５ｇ（４０ミリモル）、ピリジン７．９ｇ（１０
０ミリモル）、ＭＥＫ３００ミリリットルを反応溶液に
とり、４−フルオロ桂皮酸クロライド１８．４ｇ（０．
１モル）をＭＥＫ１００ミリリットルに溶かしたものを
滴下し、２時間還流攪拌を窒素気流下で行った。
‐４−ヒドロキシフェニル}ヘキサフルオロプロパン１
８．６５ｇ（４０ミリモル）、ピリジン７．９ｇ（１０
０ミリモル）、ＭＥＫ３００ミリリットルを反応溶液に
とり、４−フルオロ桂皮酸クロライド１８．４ｇ（０．
１モル）をＭＥＫ１００ミリリットルに溶かしたものを
滴下し、２時間還流攪拌を窒素気流下で行った。
【００９９】反応終了後、濾別・水洗し、乾燥して、表
記目的物、２６．７ｇ（収率８７．５％）を得た。ＩＲ
および１Ｈ−ＮＭＲは、実施例１と同様にして測定し
た。
記目的物、２６．７ｇ（収率８７．５％）を得た。ＩＲ
および１Ｈ−ＮＭＲは、実施例１と同様にして測定し
た。
【０１００】２，２−ビス｛３−アミノ−４−（４−フ
ルオロ桂皮酸）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン（下
記構造式 化２４）の合成
ルオロ桂皮酸）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン（下
記構造式 化２４）の合成
【０１０１】
【化２４】
【０１０２】２，２−ビス{３−ｔ−ブトキシウレタン
−４−（４−フルオロ桂皮酸）フェニル}ヘキサフルオ
ロプロパン２２．８７ｇ（３０ミリモル）をトリフルオ
ロ酢酸１００ｇに加え、室温で２０分間攪拌した。本溶
液を水１０００ミリリットルに投入し、炭酸ナトリウム
にて中和し、沈殿を濾別水で洗浄乾燥して、１６．５ｇ
の固体を得た。この固体を、エタノールにて再結晶し
て、表記の２，２−ビス｛３−アミノ−４−（４−フル
オロ桂皮酸）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン１２．
６６ｇ（収率７５％）を得た。ＩＲおよび１Ｈ−ＮＭＲ
は、実施例１と同様にして測定した。
−４−（４−フルオロ桂皮酸）フェニル}ヘキサフルオ
ロプロパン２２．８７ｇ（３０ミリモル）をトリフルオ
ロ酢酸１００ｇに加え、室温で２０分間攪拌した。本溶
液を水１０００ミリリットルに投入し、炭酸ナトリウム
にて中和し、沈殿を濾別水で洗浄乾燥して、１６．５ｇ
の固体を得た。この固体を、エタノールにて再結晶し
て、表記の２，２−ビス｛３−アミノ−４−（４−フル
オロ桂皮酸）フェニル｝ヘキサフルオロプロパン１２．
６６ｇ（収率７５％）を得た。ＩＲおよび１Ｈ−ＮＭＲ
は、実施例１と同様にして測定した。
【０１０３】
【参考例】ポリイミドの合成 攪拌機を設置した２０００ｍｌのセパラブルフラスコに
ＢＡＰＳ−Ｍ２１．５２ｇ（０．０５モル）、ＤＭＦ３
００ｇをとり、ＥＳＤＡｇ５７．６５（０．１０モル）
を一気に激しく攪拌しながら加え、このまま３０分間攪
拌を続けた。次いで、４、４−ジアミノビフェニル−
２，２‘−ビス４−フルオロシンナメート２５．６３ｇ
（０．０５モル）を加えて、３０分間攪拌してポリアミ
ド酸溶液を得た。このポリアミド酸の重量平均分子量
（以後Ｍｗと表す）は、３．８万であった。この際氷水
で冷却して反応を行った。
ＢＡＰＳ−Ｍ２１．５２ｇ（０．０５モル）、ＤＭＦ３
００ｇをとり、ＥＳＤＡｇ５７．６５（０．１０モル）
を一気に激しく攪拌しながら加え、このまま３０分間攪
拌を続けた。次いで、４、４−ジアミノビフェニル−
２，２‘−ビス４−フルオロシンナメート２５．６３ｇ
（０．０５モル）を加えて、３０分間攪拌してポリアミ
ド酸溶液を得た。このポリアミド酸の重量平均分子量
（以後Ｍｗと表す）は、３．８万であった。この際氷水
で冷却して反応を行った。
【０１０４】
【発明の効果】以上のように、本発明にかかるジアミン
は、その構造中に、炭素―炭素二重結合、または炭素―
炭素三重結合を有する有機基、例えば、桂皮酸・カルコ
ン・ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリン・
ピロン・アリル・プロパルギル・アセチレン・ＣＨ２＝
ＣＨ−・ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−あるいはそれらの誘導
体骨格から選択される反応基を２個以上有する新規なジ
アミンである。このような有機基を有するため、本発明
のジアミンは、光反応性、熱反応性を有する。従って、
本発明のジアミンを用いて合成される化合物は、これら
の光反応性、熱反応性を併せ有することができる。高分
子反応によって光反応性、熱反応性を有する有機基を高
分子にペンダントさせることができ、例えば、これらの
ジアミンと、酸二無水物と反応させてポリイミドまたは
ポリイソイミドを製造することができる。これらのポリ
イソイミドまたはポリイミドは、光反応性つまり感光性
樹脂として用いることができ、しかも、ポリイミド、ポ
リイソイミド特有の耐熱性を併せ有することが期待でき
る。同様に耐熱性の熱硬化性樹脂としても用いることが
できる。
は、その構造中に、炭素―炭素二重結合、または炭素―
炭素三重結合を有する有機基、例えば、桂皮酸・カルコ
ン・ベンザルアセトフェノン・スチルベン・クマリン・
ピロン・アリル・プロパルギル・アセチレン・ＣＨ２＝
ＣＨ−・ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−あるいはそれらの誘導
体骨格から選択される反応基を２個以上有する新規なジ
アミンである。このような有機基を有するため、本発明
のジアミンは、光反応性、熱反応性を有する。従って、
本発明のジアミンを用いて合成される化合物は、これら
の光反応性、熱反応性を併せ有することができる。高分
子反応によって光反応性、熱反応性を有する有機基を高
分子にペンダントさせることができ、例えば、これらの
ジアミンと、酸二無水物と反応させてポリイミドまたは
ポリイソイミドを製造することができる。これらのポリ
イソイミドまたはポリイミドは、光反応性つまり感光性
樹脂として用いることができ、しかも、ポリイミド、ポ
リイソイミド特有の耐熱性を併せ有することが期待でき
る。同様に耐熱性の熱硬化性樹脂としても用いることが
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA03 AB46 BJ50 BM30 BM71 BT16 BU46 4J043 PA02 PC016 PC036 PC046 PC086 PC116 PC136 QB26 QB31 RA34 RA35 RA64 SA06 SA47 SA49 SA51 SA63 SA64 SA72 SB01 TA14 TA78 TB01 UA042 UA052 UA082 UA121 UA122 UA131 UA132 UA262 UB011 UB021 UB121 UB122 UB272 UB281 UB301 UB302 UB401 VA011 VA051 VA091 XA13 XA19 ZA12 ZB47
Claims (6)
- 【請求項１】構造が一般式（１） 化１ 【化１】 （Ｒ１は、炭素―炭素二重結合または炭素―炭素３重結
合を有する１価の有機基を、Ｒ２は、水素・ハロゲン・
メトキシ基・炭素数１〜２０のアルキル基を、Ｒ３は、
単結合・−Ｏ−・−ＣＨ２−・−Ｃ（ＣＨ３）２−・−
Ｓ−・−ＳＯ ２−・−Ｃ（ＣＦ３）２−から選択される
２価の有機基を、ｐは１または０を示す。）で表わされ
ることを特徴とする新規ジアミン。 - 【請求項２】一般式（１）において、Ｒ１が、化２ 【化２】 （Ｒ４は、水素・ハロゲン・メトキシ基・炭素数１〜２
０のアルキル基を示す。）から選択される１価の有機基
であることを特徴とする請求項１に記載する新規ジアミ
ン。 - 【請求項３】（ａ）水酸基を有するジアミンのアミノ基
を保護基で保護する工程 （ｂ）炭素―炭素二重結合または炭素―炭素３重結合を
有する１価の有機基を１以上導入する工程 （ｃ）保護基を脱保護する工程 を含む、ジアミンの製造方法。 - 【請求項４】（ａ）水酸基を有するジアミンのアミノ基
を保護基で保護する工程 （ｂ）化３ 【化３】 （Ｒ４は、水素・ハロゲン・メトキシ基・炭素数１〜２
０のアルキル基を示す。）で表わされる１価の有機基か
ら選択される１以上の反応基を導入する工程 （ｃ）保護基を脱保護する工程 を含む、ジアミンの製造方法。 - 【請求項５】 少なくとも、請求項１または２に記載す
るジアミンを含むジアミンと、酸二無水物を原料として
得られる、ポリイミド。 - 【請求項６】 少なくとも、請求項１または２に記載す
るジアミンを含むジアミンと、酸二無水物を原料として
得られる、ポリイソイミド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000265817A JP2002069182A (ja) | 2000-09-01 | 2000-09-01 | 新規ジアミン及びそれからなるポリイミド、ポリイソイミドならびにその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000265817A JP2002069182A (ja) | 2000-09-01 | 2000-09-01 | 新規ジアミン及びそれからなるポリイミド、ポリイソイミドならびにその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002069182A true JP2002069182A (ja) | 2002-03-08 |
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ID=18753024
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000265817A Pending JP2002069182A (ja) | 2000-09-01 | 2000-09-01 | 新規ジアミン及びそれからなるポリイミド、ポリイソイミドならびにその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002069182A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008026895A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-02-07 | Daxin Materials Corp | ポリイミド樹脂ポリマー、及び液晶ディスプレイ用の前記樹脂を含む配向膜材料 |
| WO2013161984A1 (ja) * | 2012-04-26 | 2013-10-31 | 日産化学工業株式会社 | ジアミン、重合体、液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 |
| CN114920934A (zh) * | 2022-06-29 | 2022-08-19 | 深圳职业技术学院 | 一种感光聚酰亚胺树脂的制备方法和应用 |
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| JPH05121396A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-05-18 | Hitachi Chem Co Ltd | 半導体装置並びに半導体の多層配線用層間絶縁膜及び／又は表面保護膜用組成物 |
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