JP2005301296A - コーナーにおける面取り及び丸み付けを使用する光学近似補正 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この方法は、デザイン像の少なくとも1つのコーナーの丸みを近似する工程と、該少なくとも1つのコーナーの近似した丸みにさらにデザインの描写を生成する工程と、その描写に基づき、デザインを撮像するために利用するマスクの最初の描写を生成する工程と、マスクの最初の描写に光近接効果の補正OPCをさらに実施する工程とを含む。
【選択図】図11
Description
(1)対象の層が複数の区域に分割される。
(2)予測された像が、複数の区域の区域毎に1つの「評価点」(通常、中心点)において評価される。
(3)それぞれの評価に基づき、目標像と予測像の間の不整合を最小にするために、対応する区域の中心点におけるそれぞれの評価に従ってプリントされる形状が修正される。リップルが生じる低k1システム、又はリップルがより一般的に起こるシステムにおいては、従来のモデル・ベースのOPC方法は、評価点が、それぞれの区域内で理想的に代表的な位置に偶然配置されていない場合、一般に図1に示すように、リップルを強調する。
本明細書における教示によって、上記に述べた問題が緩和され、基板上に形成されるデザインを最適化する新規な方法が提供される。工程には、デザインによる像の少なくとも1つのコーナーの丸みを近似する工程と、さらに少なくとも1つのコーナーの近似した丸みにデザインの描写を生成する工程と、その描写に基づきデザインを撮像するために利用するマスクの最初の描写を生成する工程と、さらにマスクの最初の描写に光近接効果の補正(OPC)を実施する工程とが含まれる。
2004年3月30日出願の「フォトリソグラフィ・システムを使用してプリントする形状のうねりを抑制するための装置、方法及びプログラム製品」と題する米国関連特許出願第60/557,833号(以下「“833号”特許出願」という。)に、それに従ってマスクを調節することによって予測像中の不一致を克服するための、新規な概念が記載されている。この出願は、本明細書に参照によってその全体が援用される。
(1)目標に対応してマスク描写を定義する。
(2)像を計算する(空中像又はレジスト中)。
(3)像と目標の間のずれを判定する。
(4)マスクを修正する。
(5)像が満足できるものになるまで繰り返す。
コーナーを面取りするために目標像を修正することによって、このモデルOPCループは、上記で議論したように、本当に優れた像を生成する。しかし、モデルOPCは、さらに、目標、マスク又はその両方について実際のコーナーの丸みを考慮に入れるために、修正されうる。
放射の投射ビームPBを供給するための放射システムであって、この特定のケースでは、放射システムが放射源LAも含む、放射システムEX、ILと、
マスクMA(たとえばレチクル)を保持するためのマスク・ホルダを備え、物品PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続された第1の物体テーブル(マスク・テーブル)MTと、
基板W(たとえば、レジスト被覆シリコン・ウェハ)を保持するための基板ホルダを備え、物品PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続された第2の物体テーブル(基板テーブル)WTと、
基板Wの目標部分C(たとえば、1つ以上のダイを含む)上へマスクMAの照射部分を撮像するための投射システム(「レンズ」)PL(たとえば、屈折光学システム、光反射光学システム又は反射屈折光学システム)とを含む。
ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTは、基本的に静止状態に保持され、マスク像全体が、1回(すなわち、単一「フラッシュ」)で目標部分C上へ投射される。次いで、基板テーブルWTは、ビームPBが異なる目標部分Cを照射できるように、x方向及び/又はy方向に移動される。
−走査モードでは、所与の目標部分Cが単一「フラッシュ」では露光されないことを除き、基本的に同じシナリオが適用される。その代わり、マスク・テーブルMTが、所与の方向(いわゆる「走査方向」、たとえばy方向)に速度vで移動可能であり、したがって投射ビームPBがマスク像全体にわたり走査できるようになり、並行して基板テーブルWTが、同時に速度V=Mvで同じ又は反対の方向に移動する。ただし、Mは、レンズPLの倍率(通常M=1/4又は1/5)である。このようにして、分解能を損なう必要がなく、比較的大きな目標部分Cを露光することができる。
Claims (16)
- 基板上に形成されるべきデザインを最適化する方法であって、
(a)前記デザインの像の少なくとも1つのコーナーの丸みを近似する工程と、
(b)前記少なくとも1つのコーナーの前記近似した丸みに前記デザインの描写をさらに生成する工程と、
(c)前記描写に基づき前記デザインを撮像するために利用されたマスクの最初の描写を生成する工程と、
(d)前記マスクの前記最初の描写に光近接効果の補正(OPC)をさらに行う工程とを含む、方法。 - 前記工程(d)が、
(e)前記マスクの前記最初の描写に前記デザインの像をさらに生成する工程と、
(f)前記工程(b)で生成された前記描写と工程(e)で生成された前記像の間のずれを評価する工程と、
(g)前記工程(f)の前記評価の結果が予め定義された制約条件を満足するかどうかを判定する工程と、
(h)前記結果が予め定義された制約条件を満足しない場合、前記結果に従って前記マスクの次の描写を生成する工程と、
(i)前記ずれが予め定義された制約条件を満たすまで、前記工程(f)から前記工程(h)を繰り返す工程とをさらに含む、請求項1に記載の方法。 - (i)予め定義されたルールによる導出に基づき、前記近似した丸みを決定する工程と、
(ii)前記近似した丸みに基づき、面取りの切り取りのサイズを選択する工程と、
(iii)前記切り取りの前記サイズに従って前記少なくとも1つのコーナーを面取りして、丸みを近似するための工程とをさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記予め定義されたルールがセリフの寸法を決める、請求項3に記載の方法。
- 前記面取りの切り取る形状を選択する工程をさらに含む、請求項3に記載の方法。
- 前記切り取りの前記形状の少なくとも2つの角度が等しい、請求項5に記載の方法。
- 前記面取りの前記切り取りのサイズが所定のサイズの増分の形で形成される面取りの角度に基づく、請求項3に記載の方法。
- 前記所定のサイズが45°である、請求項7に記載の方法。
- 前記丸みを近似するために、前記デザインの前記少なくとも1つのコーナーを面取りする工程を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記丸みの近似が1組の所定の処理ファクタに基づく最小の丸みに対応する、請求項1に記載の方法。
- 前記面取りが前記デザインの第1のコーナーに対応する第1の面取りに対応し、
(i)前記第1のコーナーに隣接する第2のコーナー用の第2の面取りの第2の切り取りのサイズを決定する工程と、
(ii)前記第1の面取りと前記第2の面取りが互いに交差しないように、前記第1の面取りと前記第2の面取りのうちの少なくとも1つのサイズを小さくする工程とをさらに含む、請求項3及び9のいずれか一項に記載の方法。 - 前記面取りが前記デザインの第1のコーナーに対応する第1の面取りに対応し、
(i)前記第1のコーナーに隣接する第2のコーナー用の第2の面取りの第2の切り取りのサイズを決定する工程と、
(ii)前記第1の面取りと前記第2の面取りが互いに交差しないように、比例して前記第1の面取りと前記第2の面取りのサイズを小さくする工程とをさらに含む、請求項3及び9のいずれか一項に記載の方法。 - 前記予め定義されたルールが、セリフ選択に関与し、
前記予め定義されたルールを使用して選択されたセリフの重なり合う値に基づき、前記面取りのサイズを選択する工程をさらに含む、請求項3に記載の方法。 - (i)マスク製造上の制約条件に基づき、前記マスクの最初の描写のコーナーの丸みを決定する工程と、
(ii)コーナーの丸み付けが適用された前記最初の描写に基づき、修正したマスク描写を生成する工程とをさらに含む、請求項2に記載の方法。 - 各コーナーにおける丸みが所定の半径を有する、請求項14に記載の方法。
- 少なくとも1つのマシン読み出し可能な媒体によって移送可能な実行可能なコードを含み、
少なくとも1つのプログラム可能なコンピュータによるコードの実行が、前記少なくとも1つのプログラム可能なコンピュータをして、前記基板上に製造される前記デザインを最適化するための請求項1から15までのいずれか一項に記載の工程のシーケンスを実行させる、コンピュータ・プログラム製品。
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