CN108646515A - 一种掩膜板、阵列基板 - Google Patents

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CN108646515A CN201810389704.0A CN201810389704A CN108646515A CN 108646515 A CN108646515 A CN 108646515A CN 201810389704 A CN201810389704 A CN 201810389704A CN 108646515 A CN108646515 A CN 108646515A
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    • G—PHYSICS
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Abstract

本发明提供一种掩膜板及阵列基板，所述掩膜板包括遮光区域，所述遮光区域包括相互交叉的横向遮光条和纵向遮光条；其中，所述横向遮光条与所述纵向遮光条的交汇处设置有辅助遮光块，所述辅助遮光块由第一边、第二边以及第三边围合形成，所述第一边对应所述交汇处的部分所述横向遮光条的边界，所述第二边对应所述交汇处的部分所述纵向遮光条的边界，所述第三边连接所述横向遮光条和所述纵向遮光条；所述辅助遮光块的所述第三边与所述第一边之间的夹角大于或小于45度，或者，所述辅助遮光块的所述第三边与所述第二边之间的夹角大于或小于45度。

Description

一种掩膜板、阵列基板
技术领域
本发明涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种掩膜板及阵列基板。
背景技术
对比度(contrast ratio)是LCD显示品质的一个重要指标，其等于LCD最大亮度与最暗亮度的比值。所以提高对比度的方式无外乎尽可能提高显示器的最大亮度和降低暗态亮度。由于显示器的最大亮度受到背光模块，穿透率，功耗等因素的限制，所以显示器提高对比度的方法重点是如何降低其暗态亮度。OLED显示器的一大优点之一便是奇高的对比度，理论上，暗态亮度可以达到0，所以面板对比度理论上可以达到无穷大。这样便可以使OLED显示器层次感更分明，暗态细节表现的更好。
一般像素的漏光区域集中在栅极线或数据线周围，因为这里的电场会由于信号线的信号传输而发生剧烈变化，导致液晶倒向不均匀，所以容易出现漏光情况。传统上，我们会采用BM遮光的办法，把漏光的区域用黑色矩阵层进行遮挡，这样可以有效降低像素的暗态亮度。最新的曲面显示器，由于在数据线正上方位置会有上下基板的左右偏移(shift)，如图1所示，下基板的数据线101与上基板的BM102发生偏移导致漏光。由此，采用数据线上方无BM的设计，如图2所示，用一块Com ITO金属202在阵列基板侧覆盖数据线201上方，所述Com ITO金属202电压与CF侧ITO保持一致，液晶因无电压差而不发生转动而屏蔽该处漏光。但缺点是会造成所述数据线201的加负载(loading)相对增大一些，而且遮光效果不如传统的黑色矩阵好。采用此种方式的显示器，array侧所述Com ITO金属202会受CF的光阻交叠形成的牛角影响液晶倾倒，对比度一般会相对小一些，由于其不是物理性遮光原理，所以更容易发生漏光情况。
此外，如图3所示，我们发现在像素显示区域，COM金属线301交叉区域302会发生漏光情况，以及周边交叉区域303、304也会发生漏光。经过对比，金属交叉处都会发生类似衍射图样的漏光情况。原因为该COM金属线301虽然设计是十字垂直交叉，但是经过曝光蚀刻等制程后，该COM金属线301交叉位置会出现类似45度的楔形形状。
综上所述，现有技术的LCD显示面板暗态亮度较高，尤其像素区域漏光导致显示面板对比度降低，其中像素电极金属线交叉区域也存在漏光，从而影响显示面板的品质。
发明内容
本发明提供的一种掩膜板、阵列基板，能够避免像素区域漏光，从而降低暗态亮度，提高对比度，进而提高显示面板的品质。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明提供一种掩膜板，包括板体，以及阵列分布于所述板体表面的掩膜区域，每一所述掩膜区域包括：
透光区域，对应待实施光罩制程的显示器件的刻蚀区域；
遮光区域，对应所述待实施光罩制程的显示器件的预设图案区域，所述遮光区域包括相互交叉的横向遮光条和纵向遮光条；
其中，所述横向遮光条与所述纵向遮光条的交汇处设置有辅助遮光块，所述辅助遮光块由第一边、第二边以及第三边围合形成，所述第一边对应所述交汇处的部分所述横向遮光条的边界，所述第二边对应所述交汇处的部分所述纵向遮光条的边界，所述第三边连接所述横向遮光条和所述纵向遮光条；
所述辅助遮光块的所述第三边与所述第一边形成的第一夹角以及所述第三边与所述第二边形成的第二夹角均为非直角；所述第一夹角和所述第二夹角不等于45度，且不等于135度。
根据本发明一优选实施例，所述辅助遮光块是由所述交汇处的所述横向遮光条和/或所述纵向遮光条向所述透光区域延伸形成的；其中，所述辅助遮光块的所述第三边为直线或折线。
根据本发明一优选实施例，所述横向遮光条与所述纵向遮光条形成的夹角对应的所述辅助遮光块的面积均相等。
根据本发明一优选实施例，所述第一夹角为60度～75度，所述第二夹角为15度～30度；或者，
所述第一夹角为15度～30度，所述第二夹角为60度～75度。
本发明还提供一种阵列基板，包括：
衬底基板；
金属交叉电极，制备于所述衬底基板上，所述金属交叉电极包括横向电极条与纵向电极条；
其中，在所述金属交叉电极的交汇处设置有凸起的呈预设角度的辅助电极块；或者，所述金属交叉电极的所述交汇处设置有呈预设角度的凹陷。
根据本发明一优选实施例，所述辅助电极块由第四边、第五边以及第六边围合形成，所述第四边对应所述交汇处的部分所述横向电极条的边界，所述第五边对应所述交汇处的部分所述纵向电极条的边界，所述第六边连接所述横向电极条和所述纵向电极条；
所述辅助电极块的所述第六边与所述第四边之间形成的第三夹角以及所述第六边与所述第五边形成的第四夹角均为非直角；所述第三夹角和所述第四夹角不等于45度，且不等于135度。
根据本发明一优选实施例，所述第三夹角为60度～75度，所述第四夹角为15度～30度；或者，
所述第三夹角为15度～30度，所述第四夹角为60度～75度。
根据本发明一优选实施例，所述金属交叉电极的所述交汇处形成的所述凹陷包括对应所述横向电极条边界的第七边，以及对应所述纵向电极条边界的第八边，所述第七边与所述第八边之间形成的第五夹角为非直角，所述第五夹角不等于45度且不等于135度。
根据本发明一优选实施例，所述第五夹角为60度～75度或15度～30度。
根据本发明一优选实施例，所述横向电极条与所述纵向电极条形成的夹角对应的所述辅助电极块或所述凹陷的面积均相等。
本发明的有益效果为：相较于现有的LCD显示面板，本发明的掩膜板及阵列基板，通过采用金属交叉电极设计时，即像素电极交叉位置设计时，不用直角交叉，而是采用大于或小于45度的设计角度；可以避免直角设计在蚀刻之后产生45度楔形，从而减轻漏光的发生。或者在金属交叉电极的交汇处通过增加特定角度的辅助遮光块或者在金属交叉电极的交汇处形成特定角度的凹陷，以避免交汇处产生45度楔形，从而减轻漏光的发生。同时，本发明通过在数据线上方设置与CF侧电极一致的公共电极，以及在该公共电极上方增设一层PFA层进行平坦化，从而进一步减少漏光发生，降低暗态亮度，进而提高对比度，改善显示面板的品质。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术的显示面板产生漏光的示意图；
图2为现有技术中解决图1产生漏光的显示面板结构示意图；
图3为现有技术的显示面板像素显示区域漏光示意图；
图4为本发明实施例一提供的掩膜板结构示意图；
图5a为本发明实施例二提供的掩膜板结构示意图；
图5b为本发明实施例二提供的另一种掩膜板结构示意图；
图6为本发明实施例三提供的掩膜板结构示意图；
图7为本发明提供的阵列基板局部结构示意图；
图8为本发明提供的另一种阵列基板局部结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有技术的LCD显示面板的像素区域漏光导致显示面板对比度降低，其中像素电极金属线交叉区域也存在漏光，从而影响显示面板品质的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。
我们发现在像素显示区域，像素电极交叉区域会发生漏光情况，我们也通过实验验证了金属交叉的漏光机制。采用玻璃基板的一个楔形金属，在上下两个偏光片之间转动一定角度。结果显示，只有在金属与偏光片成45度方向时，其漏光最明显。小于45度或者大于45度漏光都会减弱。并且此现象与液晶无关，只是仅金属与偏光片就可以形成此类现象，而且不同波长光与不同种类金属发生的漏光程度也不同。由此，我们需要解决上述问题，从而提高显示面板的对比度，以下结合具体实施例阐述本发明的技术特征。
如图4所示，为本发明实施例一提供的掩膜板结构示意图，所述掩膜板包括板体，以及阵列分布于所述板体表面的掩膜区域，每一所述掩膜区域包括：透光区域，对应待实施光罩制程的显示器件的刻蚀区域；遮光区域，对应所述待实施光罩制程的显示器件的预设图案区域，所述遮光区域包括横向遮光条401和纵向遮光条402；其中，所述横向遮光条401与所述纵向遮光条402交叉设置，且形成的夹角中的锐角γ的角度大于45度或小于45度。优选的，所述锐角γ的角度范围在60度～75度之间，或者所述锐角γ的角度范围在15度～30度之间。所述横向遮光条401与所述纵向遮光条402均为长条状。由此，所述横向遮光条401与所述纵向遮光条402的交汇处不会产生45度楔形，从而避免所述交汇处产生漏光，进而提高了显示面板的对比度。
如图5a所示，为本发明实施例二提供的掩膜板结构示意图，本实施例的掩膜板包括透光区域与遮光区域，所述遮光区域包括横向遮光条501与纵向遮光条502且垂直交叉设置，所述横向遮光条501与所述纵向遮光条502均为长条状，所述横向遮光条501与所述纵向遮光条502的交汇处设置有辅助遮光块503。所述辅助遮光块503是由所述交汇处的所述横向遮光条501向所述透光区域延伸并连接至所述纵向遮光条502形成；或是由所述交汇处的所述纵向遮光条502向所述透光区域延伸并连接至所述横向遮光条501形成；亦或者是由所述横向遮光条501和所述纵向遮光条502共同向所述透光区域延伸至连接形成。图示所述辅助遮光块503由第一边a、第二边b以及第三边c围合形成，所述第一边a对应所述交汇处的部分所述横向遮光条501的边界，所述第二边b对应所述交汇处的部分所述纵向遮光条502的边界，所述第三边c连接所述横向遮光条501和所述纵向遮光条502；所述辅助遮光块503的所述第三边c与所述第一边a形成的第一夹角α1以及所述第三边c与所述第二边b形成的第二夹角β1均为非直角，所述第一夹角α1和所述第二夹角β1不等于45度，且不等于135度。优选的，所述第一夹角α1为60度～75度，所述第二夹角β1为15度～30度。
还可通过设计所述辅助遮光块503呈其他形状或者其他角度，此处不做限制。优选的，所述横向遮光条501与所述纵向遮光条502形成的四个所述夹角对应的所述辅助遮光块503的面积均相等。所述辅助遮光块503的所述第三边c可以为直线，即所述辅助遮光块503为三角形状，也可以为折线，亦或者可以为弧线。
如图5b所示，为本发明实施例二提供的另一种掩膜板结构示意图，是在图5a的基础上对所述辅助遮光块503的角度进行设置，使得所述辅助遮光块503的所述第三边c与所述第一边a形成第一夹角α2，所述辅助遮光块503的所述第二边b与所述第三边c形成第二夹角β2，所述第一夹角α2与所述第二夹角β2均为非直角，且所述第一夹角α2和所述第二夹角β2不等于45度，且不等于135度。优选的，所述第一夹角α2为15度～30度，所述第二夹角β2为60度～75度。
如图6所示，为本发明实施例三提供的掩膜板结构示意图，本实施例在实施例一的基础上对所述掩膜板进行了改进。当横向遮光条601与纵向遮光条602形成的夹角等于90度时，所述横向遮光条601与所述纵向遮光条602的交汇处设置有预设角度的凹陷603。所述凹陷603是由所述交汇处的所述横向遮光条601和/或所述纵向遮光条602局部切除形成。图示为所述交汇处的所述纵向遮光条602由两边界线向内切割掉局部，使切割后的所述纵向遮光条602的所述边界线与所述横向遮光条601的所述边界线的夹角α3为60度～75度或15度～30度。因此，所述交汇处不会产生45度楔形，从而避免所述交汇处产生漏光。还可以将所述横向遮光条601和所述纵向遮光条602在所述交汇处各自都切除一部分，使得在所述凹陷603内，所述横向遮光条601的所述边界线与所述纵向遮光条602的所述边界线的夹角为60度～75度或15度～30度。优选的，所述横向遮光条601与所述纵向遮光条602形成的四个所述夹角对应的所述凹陷603的面积均相等。所述横向遮光条601与所述纵向遮光条602对应所述凹陷603的边界线为直线或折线，亦或者弧线等其他形状。
此外，以所述纵向遮光条602其中的一个端部为例，所述纵向遮光条602的端部两侧也可设置与上述凹陷603一致的凹陷，可以用来消除所述纵向遮光条602的端部与其他显示器件产生45度楔形，从而避免在所述纵向遮光条602的端部位置产生漏光。所述横向遮光条601以及所述纵向遮光条602的两端均可设置所述凹陷603。可以理解的是，所述横向遮光条601以及所述纵向遮光条602的两端还可采用实施例二中所述辅助遮光块相似的设计，此处不再赘述。
本发明还提供一种采用上述掩膜板制备阵列基板的方法，所述方法包括以下步骤：
步骤S 1、提供一衬底基板，在所述衬底基板上依次制备金属屏蔽层、数据线以及绝缘层；
步骤S2、在所述绝缘层正对于所述数据线的位置，制备沿所述数据线延伸方向设置的公共电极层，所述公共电极层覆盖所述数据线；
步骤S3、在所述公共电极层上制备一层PFA层；
步骤S4、采用所述掩膜板在所述衬底基板对应的显示区域形成像素电极图案。
其中，所述金属屏蔽层主要作用是屏蔽所述数据线的信号对所述像素电极的影响。所述公共电极层覆盖所述数据线，为了减少电阻，不同所述数据线对应上方的公共电极是连通的；其中部分栅极线可用所述公共电极的连通部分遮挡。所述公共电极层与对应上方CF基板一侧的公共电极一致，两者形成的电压差为0，液晶不会偏转。再者，该阵列基板搭配PFA制程，会减少色阻牛角的影响，从而避免产生漏光。使用本发明的掩膜板制备的像素电极，由于消除了45度楔形的影响，使所述像素电极的交汇处以及与所述金属屏蔽层对应位置都避免了漏光，进而使显示面板的对比度大大提升。
如图7所示，本发明还提供一种采用上述方法制备的阵列基板，所述阵列基板包括：衬底基板701以及金属交叉电极，所述金属交叉电极制备于所述衬底基板701上，所述衬底基板701上阵列分布多个所述金属交叉电极，所述金属交叉电极包括横向电极条702与纵向电极条703；在所述金属交叉电极的交汇处设置有凸起的呈预设角度的辅助电极块704；所述辅助电极块704由第四边d、第五边e以及第六边f围合形成，所述第四边d对应所述交汇处的部分所述横向电极条702的边界，所述第五边e对应所述交汇处的部分所述纵向电极条703的边界，所述第六边f连接所述横向电极条702和所述纵向电极条703；所述辅助电极块704的所述第六边f与所述第四边d之间形成的第三夹角αdf以及所述第六边f与所述第五边e形成的第四夹角βef均为非直角；所述第三夹角αdf和所述第四夹角βef不等于45度，且不等于135度。
优选的，所述第三夹角αdf为60度～75度，所述第四夹角βef为15度～30度；或者，所述第三夹角αdf为15度～30度，所述第四夹角βef为60度～75度。所述横向电极条702与所述纵向电极条703形成的夹角对应的所述辅助电极块704的面积均相等。
如图8所示，为本发明提供的另一种阵列基板局部结构示意图，所述阵列基板包括：衬底基板801以及金属交叉电极，所述金属交叉电极制备于所述衬底基板801上，所述金属交叉电极包括横向电极条802与纵向电极条803；所述金属交叉电极的交汇处形成有凹陷804，所述凹陷804包括对应所述横向电极条802边界的第七边h，以及对应所述纵向电极条803边界的第八边g，所述第七边h与所述第八边g之间形成的第五夹角αgh为非直角，所述第五夹角αgh不等于45度且不等于135度。优选的，所述第五夹角αgh为60度～75度或15度～30度。
所述横向电极条802与所述纵向电极条803形成的夹角对应的所述凹陷804的面积均相等。上述辅助电极块以及所述凹陷还可为其他形状，只要可以避免金属交叉电极的交叉处发生漏光的角度或者形状均可，此处不再赘述。
相较于现有的LCD显示面板，本发明的掩膜板及阵列基板，通过采用金属交叉电极设计时，即像素电极交叉位置设计时，不用直角交叉，而是采用大于或小于45度的设计角度；可以避免直角设计在蚀刻之后产生45度楔形，从而减轻漏光的发生。或者在金属交叉电极的交汇处通过增加特定角度的辅助遮光块或者在金属交叉电极的交汇处形成特定角度的凹陷，以避免交汇处产生45度楔形，从而减轻漏光的发生。同时，本发明通过在数据线上方设置与CF侧电极一致的公共电极，以及在该公共电极上方增设一层PFA层进行平坦化，从而进一步减少漏光发生，降低暗态亮度，进而提高对比度，改善显示面板的品质。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种掩膜板，其特征在于，包括板体，以及阵列分布于所述板体表面的掩膜区域，每一所述掩膜区域包括：
透光区域，对应待实施光罩制程的显示器件的刻蚀区域；
遮光区域，对应所述待实施光罩制程的显示器件的预设图案区域，所述遮光区域包括相互交叉的横向遮光条和纵向遮光条；
其中，所述横向遮光条与所述纵向遮光条的交汇处设置有辅助遮光块，所述辅助遮光块由第一边、第二边以及第三边围合形成，所述第一边对应所述交汇处的部分所述横向遮光条的边界，所述第二边对应所述交汇处的部分所述纵向遮光条的边界，所述第三边连接所述横向遮光条和所述纵向遮光条；
所述辅助遮光块的所述第三边与所述第一边形成的第一夹角以及所述第三边与所述第二边形成的第二夹角均为非直角；所述第一夹角和所述第二夹角不等于45度，且不等于135度。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述辅助遮光块是由所述交汇处的所述横向遮光条和/或所述纵向遮光条向所述透光区域延伸形成的；其中，所述辅助遮光块的所述第三边为直线或折线。
3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述横向遮光条与所述纵向遮光条形成的夹角对应的所述辅助遮光块的面积均相等。
4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一夹角为60度～75度，所述第二夹角为15度～30度；或者，
所述第一夹角为15度～30度，所述第二夹角为60度～75度。
5.一种阵列基板，其特征在于，包括：
衬底基板；
金属交叉电极，制备于所述衬底基板上，所述金属交叉电极包括横向电极条与纵向电极条；
其中，在所述金属交叉电极的交汇处设置有凸起的呈预设角度的辅助电极块；或者，所述金属交叉电极的所述交汇处设置有呈预设角度的凹陷。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述辅助电极块由第四边、第五边以及第六边围合形成，所述第四边对应所述交汇处的部分所述横向电极条的边界，所述第五边对应所述交汇处的部分所述纵向电极条的边界，所述第六边连接所述横向电极条和所述纵向电极条；
所述辅助电极块的所述第六边与所述第四边之间形成的第三夹角以及所述第六边与所述第五边形成的第四夹角均为非直角；所述第三夹角和所述第四夹角不等于45度，且不等于135度。
7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述第三夹角为60度～75度，所述第四夹角为15度～30度；或者，
所述第三夹角为15度～30度，所述第四夹角为60度～75度。
8.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述金属交叉电极的所述交汇处形成的所述凹陷包括对应所述横向电极条边界的第七边，以及对应所述纵向电极条边界的第八边，所述第七边与所述第八边之间形成的第五夹角为非直角，所述第五夹角不等于45度且不等于135度。
9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述第五夹角为60度～75度或15度～30度。
10.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述横向电极条与所述纵向电极条形成的夹角对应的所述辅助电极块或所述凹陷的面积均相等。
CN201810389704.0A 2018-04-27 2018-04-27 一种掩膜板、阵列基板 Pending CN108646515A (zh)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109445246A (zh) * 2019-01-02 2019-03-08 京东方科技集团股份有限公司 一种用于制作双畴电极的掩膜板、双畴电极及显示面板
CN110488546A (zh) * 2019-08-21 2019-11-22 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板、液晶显示面板及液晶显示器
CN111025750A (zh) * 2019-12-09 2020-04-17 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板以及显示装置
CN116529669A (zh) * 2021-06-25 2023-08-01 京东方科技集团股份有限公司 金属网格、薄膜传感器及掩膜板

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1431558A (zh) * 2002-01-09 2003-07-23 联华电子股份有限公司 利用光学邻近效应修正多边形光罩特征图案的方法
CN1605936A (zh) * 2003-10-06 2005-04-13 松下电器产业株式会社 光掩模及图案形成方法
CN1737694A (zh) * 2004-04-09 2006-02-22 Asml蒙片工具有限公司 在角部利用倒角与修圆的光学邻近校正
CN1831651A (zh) * 2005-03-11 2006-09-13 恩益禧电子股份有限公司 用于提供电路图设计的方法和光掩模
CN101042528A (zh) * 2006-03-20 2007-09-26 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 修正光学近距效应的图形分割方法
CN101246305A (zh) * 2007-02-12 2008-08-20 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 图形化方法
CN104281000A (zh) * 2014-10-23 2015-01-14 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板
CN104281014A (zh) * 2014-10-24 2015-01-14 京东方科技集团股份有限公司 掩模板、曝光设备及紫外掩模基板的制备方法
CN104903896A (zh) * 2012-10-31 2015-09-09 Np康普利特科技有限公司 设计规则检查
CN106154737A (zh) * 2016-06-30 2016-11-23 上海华力微电子有限公司 一种降低esd风险的版图处理方法
CN107505811A (zh) * 2017-09-11 2017-12-22 深圳市华星光电技术有限公司 光罩

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1431558A (zh) * 2002-01-09 2003-07-23 联华电子股份有限公司 利用光学邻近效应修正多边形光罩特征图案的方法
CN1605936A (zh) * 2003-10-06 2005-04-13 松下电器产业株式会社 光掩模及图案形成方法
CN1737694A (zh) * 2004-04-09 2006-02-22 Asml蒙片工具有限公司 在角部利用倒角与修圆的光学邻近校正
CN1831651A (zh) * 2005-03-11 2006-09-13 恩益禧电子股份有限公司 用于提供电路图设计的方法和光掩模
CN101042528A (zh) * 2006-03-20 2007-09-26 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 修正光学近距效应的图形分割方法
CN101246305A (zh) * 2007-02-12 2008-08-20 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 图形化方法
CN104903896A (zh) * 2012-10-31 2015-09-09 Np康普利特科技有限公司 设计规则检查
CN104281000A (zh) * 2014-10-23 2015-01-14 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板
CN104281014A (zh) * 2014-10-24 2015-01-14 京东方科技集团股份有限公司 掩模板、曝光设备及紫外掩模基板的制备方法
CN106154737A (zh) * 2016-06-30 2016-11-23 上海华力微电子有限公司 一种降低esd风险的版图处理方法
CN107505811A (zh) * 2017-09-11 2017-12-22 深圳市华星光电技术有限公司 光罩

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109445246A (zh) * 2019-01-02 2019-03-08 京东方科技集团股份有限公司 一种用于制作双畴电极的掩膜板、双畴电极及显示面板
CN109445246B (zh) * 2019-01-02 2022-01-11 京东方科技集团股份有限公司 一种用于制作双畴电极的掩膜板、双畴电极及显示面板
CN110488546A (zh) * 2019-08-21 2019-11-22 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板、液晶显示面板及液晶显示器
CN111025750A (zh) * 2019-12-09 2020-04-17 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板以及显示装置
CN116529669A (zh) * 2021-06-25 2023-08-01 京东方科技集团股份有限公司 金属网格、薄膜传感器及掩膜板

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