JP2005259976A - 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 - Google Patents
磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005259976A JP2005259976A JP2004069410A JP2004069410A JP2005259976A JP 2005259976 A JP2005259976 A JP 2005259976A JP 2004069410 A JP2004069410 A JP 2004069410A JP 2004069410 A JP2004069410 A JP 2004069410A JP 2005259976 A JP2005259976 A JP 2005259976A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetization
- pinned
- free layer
- nonmagnetic intermediate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y25/00—Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
- G01R33/09—Magnetoresistive devices
- G01R33/093—Magnetoresistive devices using multilayer structures, e.g. giant magnetoresistance sensors
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
- G11B5/3906—Details related to the use of magnetic thin film layers or to their effects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
- H01F10/324—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
- H01F10/3254—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the spacer being semiconducting or insulating, e.g. for spin tunnel junction [STJ]
- H01F10/3259—Spin-exchange-coupled multilayers comprising at least a nanooxide layer [NOL], e.g. with a NOL spacer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
- H01F10/324—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
- H01F10/3268—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the exchange coupling being asymmetric, e.g. by use of additional pinning, by using antiferromagnetic or ferromagnetic coupling interface, i.e. so-called spin-valve [SV] structure, e.g. NiFe/Cu/NiFe/FeMn
- H01F10/3272—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the exchange coupling being asymmetric, e.g. by use of additional pinning, by using antiferromagnetic or ferromagnetic coupling interface, i.e. so-called spin-valve [SV] structure, e.g. NiFe/Cu/NiFe/FeMn by use of anti-parallel coupled [APC] ferromagnetic layers, e.g. artificial ferrimagnets [AFI], artificial [AAF] or synthetic [SAF] anti-ferromagnets
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/10—Magnetoresistive devices
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B2005/3996—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects large or giant magnetoresistive effects [GMR], e.g. as generated in spin-valve [SV] devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/32—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying conductive, insulating or magnetic material on a magnetic film, specially adapted for a thin magnetic film
- H01F41/325—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying conductive, insulating or magnetic material on a magnetic film, specially adapted for a thin magnetic film applying a noble metal capping on a spin-exchange-coupled multilayer, e.g. spin filter deposition
Abstract
【解決手段】磁化方向が実質的に一方向に固着された磁性膜を含む磁化固着層と、前記磁化固着層上に形成された非磁性中間層と、前記非磁性中間層上に形成され、結晶構造がbcc構造をなし、磁化方向が外部磁界に対応して変化する磁性膜を含む磁化自由層と、前記磁化自由層上に形成され、結晶構造がfcc構造、hcp構造またはbcc構造をなし、最近接原子間距離が前記磁化自由層よりも大きいキャップ層と、前記磁化固着層、非磁性中間層、磁化自由層およびキャップ層の膜面に対して略垂直な方向にセンス電流を通電するように設けられた一対の電極とを具備した磁気抵抗効果素子。
【選択図】 図1
Description
J. Appl. Phys., 89, p6943 (2001) IEEE Trans. Magn., 38, p2277 (2002) J. Appl. Phys., 92, p2646 (2002)
(第1の実施例)
図1は、本実施例に係る磁気抵抗効果素子の断面図である。図1の磁気抵抗効果素子(スピンバルブ)は、下電極(LE)1、下地層(BF)2、反強磁性層(AF)3、ピン層4[第1ピン層(第1磁化固着層、P1)41、磁化反平行結合層(AC)42、および第2ピン層(第2磁化固着層、P2)43]、スペーサ層(S)5、フリー層(磁化自由層、F)6、キャップ層(C)7、保護層(PL)8、上電極(UE)9を積層した構造を有する。図1の磁気抵抗効果素子では、下電極1および上電極9を通してスピンバルブの膜厚方向に対して略垂直方向にセンス電流が通電可能となっており、CPP−GMRが実現されている。
反強磁性層3:PtMn 14nm、
第1ピン層41:Co90Fe10 3nm、
磁化反平行結合層42:Ru 1nm、
第2ピン層43:Fe50Co50 3nm、
スペーサ層5:Cu 3nm、
フリー層6:bcc構造のFe50Co50 3nm、
キャップ層7:表5参照、
保護層8:Ta 5nm。
表5からわかるように、bcc構造のフリー層に対してキャップ層としてRu(hcp構造)、Ru(hcp構造)/Au(fcc構造)、Cr(bcc構造)、W(bcc構造)/Nb(bcc構造)のいずれを設けた場合でも、キャップ層を設けていない場合よりもMR値が向上している。
本実施例では以下の材料を用いて図1の構造を有する磁気抵抗効果素子を作製した。
反強磁性層3:PtMn 15nm、
第1ピン層41:Co90Fe10 3nm、
磁化反平行結合層42:Ru 1nm、
第2ピン層43:Co90Fe10 3nm、
スペーサ層5:Cu 3nm、
フリー層6:fcc構造のCo90Fe10 1nm/Ni80Fe20 3.5nm(積層フリー)、
キャップ層:表6参照、
保護層:Ta 5nm。
表6からわかるように、fcc構造のフリー層に対してキャップ層としてCr(bcc構造)、Cr(bcc構造)/Mo(bcc構造)のいずれを設けた場合でも、キャップ層を設けていない場合よりもMR値が向上している。
図2は、本発明の第1の実施例に係る磁気抵抗効果素子の要部断面構造を表す模式図である。
反強磁性層3:PtMn 15nm、
第1ピン層41:Co90Fe10 3nm、
磁化反平行結合層42:Ru 1nm、
第2ピン層43:Co90Fe10 3nm、
第1金属層51:Cu 0.2nm、
抵抗増大層52:Al−O 1.5nm(Cuからなるメタルパス部含む)、
第2金属層53:Cu 0.5nm、
フリー層6:fcc構造のCo90Fe10 1nm/Ni80Fe20 3.5nm(積層フリー)、
キャップ層7:表7参照、
保護層8:Ta 5nm。
表7からわかるように、第1金属層/抵抗増大層/第2金属層のスペーサ層上に形成されたbcc構造のフリー層に対してキャップ層としてRu(hcp構造)、Ru(hcp構造)/Au(fcc構造)、Cr(bcc構造)、W(bcc構造)/Nb(bcc構造)、Rh(fcc構造)/Cr(bcc構造)、Ir(fcc構造)、Rh(fcc構造)のいずれを設けた場合でも、キャップ層を設けていない場合よりもMR値が向上している。
Claims (8)
- 磁化方向が実質的に一方向に固着された磁性膜を含む磁化固着層と、
前記磁化固着層上に形成された非磁性中間層と、
前記非磁性中間層上に形成され、結晶構造がbcc構造をなし、磁化方向が外部磁界に対応して変化する磁性膜を含む磁化自由層と、
前記磁化自由層上に形成され、結晶構造がfcc構造、hcp構造またはbcc構造をなし、最近接原子間距離が前記磁化自由層よりも大きいキャップ層と、
前記磁化固着層、非磁性中間層、磁化自由層およびキャップ層の膜面に対して略垂直な方向にセンス電流を通電するように設けられた一対の電極と
を具備したことを特徴とする磁気抵抗効果素子。 - 前記非磁性中間層が非磁性金属で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記非磁性中間層が、非磁性金属層、抵抗増大層および非磁性金属層の積層体を含むことを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗効果素子。
- 磁化方向が実質的に一方向に固着された磁性膜を含む磁化固着層と、
前記磁化固着層上に形成された非磁性金属からなる非磁性中間層と、
前記非磁性中間層上に形成され、結晶構造がfcc構造をなし、磁化方向が外部磁界に対応して変化する磁性膜を含む磁化自由層と、
前記磁化自由層上に形成され、結晶構造がbcc構造をなし、最近接原子間距離が前記磁化自由層よりも大きいキャップ層と、
前記磁化固着層、非磁性中間層、磁化自由層およびキャップ層の膜面に対して略垂直な方向にセンス電流を通電するように設けられた一対の電極と
を具備したことを特徴とする磁気抵抗効果素子。 - 磁化方向が実質的に一方向に固着された磁性膜を含む磁化固着層と、
前記磁化固着層上に形成された、非磁性金属層、抵抗増大層および非磁性金属層の積層体を含む非磁性中間層と、
前記非磁性中間層上に形成され、結晶構造がfcc構造をなし、磁化方向が外部磁界に対応して変化する磁性膜を含む磁化自由層と、
前記磁化自由層上に形成され、結晶構造がfcc構造、hcp構造またはbcc構造をなし、最近接原子間距離が前記磁化自由層よりも大きいキャップ層と、
前記磁化固着層、非磁性中間層、磁化自由層およびキャップ層の膜面に対して略垂直な方向にセンス電流を通電するように設けられた一対の電極と
を具備したことを特徴とする磁気抵抗効果素子。 - 前記キャップ層は、Zr、Hf、Tc、Re、Ru、Os、Rh、Ir、Pd、Pt、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Tl、Pb、Cr、Mo、W、Nb、V、Sn、In、BiおよびSbからなる群より選択される少なくとも一種からなることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
- 請求項1ないし6のいずれか1項に記載の磁気抵抗効果素子を備えたことを特徴とする磁気ヘッド。
- 請求項7記載の磁気ヘッドと、磁気記録媒体とを備えたことを特徴とする磁気記録再生装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004069410A JP2005259976A (ja) | 2004-03-11 | 2004-03-11 | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 |
CNB2005100530780A CN100343899C (zh) | 2004-03-11 | 2005-03-07 | 磁电阻元件、磁头和磁记录及再现设备 |
US11/074,643 US7289305B2 (en) | 2004-03-11 | 2005-03-09 | Magnetoresistive element, magnetic head, and magnetic recording and reproducing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004069410A JP2005259976A (ja) | 2004-03-11 | 2004-03-11 | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005259976A true JP2005259976A (ja) | 2005-09-22 |
Family
ID=34918488
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004069410A Pending JP2005259976A (ja) | 2004-03-11 | 2004-03-11 | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7289305B2 (ja) |
JP (1) | JP2005259976A (ja) |
CN (1) | CN100343899C (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7719800B2 (en) | 2006-01-11 | 2010-05-18 | Kabuhsiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistive effect element and manufacturing method thereof, and magnetic head, magnetic reproducing apparatus, and magnetic memory using the same |
US7808747B2 (en) | 2006-02-16 | 2010-10-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistive effect element, magnetic head and magnetic recording/reproducing apparatus |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006114610A (ja) | 2004-10-13 | 2006-04-27 | Toshiba Corp | 磁気抵抗効果素子とそれを用いた磁気ヘッドおよび磁気再生装置 |
JP4261454B2 (ja) * | 2004-10-13 | 2009-04-30 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗効果素子とそれを用いた磁気ヘッドおよび磁気再生装置 |
US7423847B2 (en) * | 2005-11-03 | 2008-09-09 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Current-perpendicular-to-the-plane spin-valve (CPP-SV) sensor with current-confining apertures concentrated near the sensing edge |
US8183652B2 (en) * | 2007-02-12 | 2012-05-22 | Avalanche Technology, Inc. | Non-volatile magnetic memory with low switching current and high thermal stability |
US7732881B2 (en) * | 2006-11-01 | 2010-06-08 | Avalanche Technology, Inc. | Current-confined effect of magnetic nano-current-channel (NCC) for magnetic random access memory (MRAM) |
US8535952B2 (en) * | 2006-02-25 | 2013-09-17 | Avalanche Technology, Inc. | Method for manufacturing non-volatile magnetic memory |
US8018011B2 (en) * | 2007-02-12 | 2011-09-13 | Avalanche Technology, Inc. | Low cost multi-state magnetic memory |
US20070253245A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-11-01 | Yadav Technology | High Capacity Low Cost Multi-Stacked Cross-Line Magnetic Memory |
US8084835B2 (en) * | 2006-10-20 | 2011-12-27 | Avalanche Technology, Inc. | Non-uniform switching based non-volatile magnetic based memory |
US8063459B2 (en) * | 2007-02-12 | 2011-11-22 | Avalanche Technologies, Inc. | Non-volatile magnetic memory element with graded layer |
US8508984B2 (en) * | 2006-02-25 | 2013-08-13 | Avalanche Technology, Inc. | Low resistance high-TMR magnetic tunnel junction and process for fabrication thereof |
US8058696B2 (en) * | 2006-02-25 | 2011-11-15 | Avalanche Technology, Inc. | High capacity low cost multi-state magnetic memory |
US8363457B2 (en) * | 2006-02-25 | 2013-01-29 | Avalanche Technology, Inc. | Magnetic memory sensing circuit |
US20080246104A1 (en) * | 2007-02-12 | 2008-10-09 | Yadav Technology | High Capacity Low Cost Multi-State Magnetic Memory |
JP2007273561A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Toshiba Corp | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドおよび磁気再生装置 |
US8120949B2 (en) * | 2006-04-27 | 2012-02-21 | Avalanche Technology, Inc. | Low-cost non-volatile flash-RAM memory |
JP4764294B2 (ja) * | 2006-09-08 | 2011-08-31 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗効果素子、及び磁気ヘッド |
KR20080029819A (ko) | 2006-09-29 | 2008-04-03 | 가부시끼가이샤 도시바 | 자기저항 효과 소자 및 이를 이용한 자기 랜덤 액세스메모리 |
US7869266B2 (en) * | 2007-10-31 | 2011-01-11 | Avalanche Technology, Inc. | Low current switching magnetic tunnel junction design for magnetic memory using domain wall motion |
US8542524B2 (en) * | 2007-02-12 | 2013-09-24 | Avalanche Technology, Inc. | Magnetic random access memory (MRAM) manufacturing process for a small magnetic tunnel junction (MTJ) design with a low programming current requirement |
US20090218645A1 (en) * | 2007-02-12 | 2009-09-03 | Yadav Technology Inc. | multi-state spin-torque transfer magnetic random access memory |
US7764471B2 (en) * | 2007-03-12 | 2010-07-27 | Tdk Corporation | Magneto-resistance effect element having diffusion blocking layer and thin-film magnetic head |
US8802451B2 (en) | 2008-02-29 | 2014-08-12 | Avalanche Technology Inc. | Method for manufacturing high density non-volatile magnetic memory |
JP4991901B2 (ja) * | 2010-04-21 | 2012-08-08 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗効果素子及び磁気記録再生装置 |
US9620706B2 (en) | 2014-12-02 | 2017-04-11 | Qualcomm Incorporated | Magnetic etch stop layer for spin-transfer torque magnetoresistive random access memory magnetic tunnel junction device |
CN111370438B (zh) * | 2018-12-26 | 2023-01-31 | 中电海康集团有限公司 | 磁性存储器阵列 |
US11456411B2 (en) * | 2019-07-02 | 2022-09-27 | HeFeChip Corporation Limited | Method for fabricating magnetic tunneling junction element with a composite capping layer |
JP7379272B2 (ja) * | 2020-06-01 | 2023-11-14 | 株式会社東芝 | 磁気ヘッド及び磁気記録装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1186229A (ja) * | 1997-09-16 | 1999-03-30 | Hitachi Metals Ltd | スピンバルブ効果センサ |
JP3490673B2 (ja) * | 2000-09-05 | 2004-01-26 | 株式会社日立製作所 | スピントンネル型磁気抵抗効果ヘッド及び磁気記録再生装置 |
JP3618654B2 (ja) | 2000-09-11 | 2005-02-09 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド及び磁気記録再生装置 |
JP3565268B2 (ja) * | 2001-06-22 | 2004-09-15 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド及び磁気再生装置 |
JP4024499B2 (ja) * | 2001-08-15 | 2007-12-19 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド及び磁気再生装置 |
JP4184668B2 (ja) * | 2002-01-10 | 2008-11-19 | 富士通株式会社 | Cpp構造磁気抵抗効果素子 |
JP3749873B2 (ja) | 2002-03-28 | 2006-03-01 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド及び磁気再生装置 |
US7218484B2 (en) | 2002-09-11 | 2007-05-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistance effect element, magnetic head, and magnetic reproducing apparatus |
JP3836788B2 (ja) | 2002-12-26 | 2006-10-25 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果型ヘッドおよび磁気記録再生装置 |
JP2004221303A (ja) * | 2003-01-15 | 2004-08-05 | Alps Electric Co Ltd | 磁気検出素子及びその製造方法 |
-
2004
- 2004-03-11 JP JP2004069410A patent/JP2005259976A/ja active Pending
-
2005
- 2005-03-07 CN CNB2005100530780A patent/CN100343899C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-09 US US11/074,643 patent/US7289305B2/en active Active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7719800B2 (en) | 2006-01-11 | 2010-05-18 | Kabuhsiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistive effect element and manufacturing method thereof, and magnetic head, magnetic reproducing apparatus, and magnetic memory using the same |
US7808747B2 (en) | 2006-02-16 | 2010-10-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistive effect element, magnetic head and magnetic recording/reproducing apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1674094A (zh) | 2005-09-28 |
CN100343899C (zh) | 2007-10-17 |
US20050201020A1 (en) | 2005-09-15 |
US7289305B2 (en) | 2007-10-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7289305B2 (en) | Magnetoresistive element, magnetic head, and magnetic recording and reproducing apparatus | |
JP4724202B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果ヘッド、および磁気記録再生装置 | |
JP4244312B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド及び磁気再生装置 | |
JP3590006B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド及び磁気再生装置 | |
JP4024499B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド及び磁気再生装置 | |
JP4735872B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JP3807254B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果型磁気センサ、および磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
JP4692787B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JP3565268B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド及び磁気再生装置 | |
JP4942445B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、薄膜磁気ヘッド、ヘッドジンバルアセンブリ、ヘッドアームアセンブリおよび磁気ディスク装置 | |
JP3557140B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子及び磁気再生装置 | |
JP4088641B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、薄膜磁気ヘッド、ヘッドジンバルアセンブリ、ヘッドアームアセンブリ、磁気ディスク装置、磁気メモリセルおよび電流センサ | |
JP4867973B2 (ja) | Cpp型磁気抵抗効果素子 | |
JP3849460B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果型磁気センサ、および磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
JP4237171B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子および薄膜磁気ヘッド | |
JP2004214234A (ja) | 磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果型ヘッドおよび磁気記録再生装置 | |
JP4449951B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、薄膜磁気ヘッド、ヘッドジンバルアセンブリおよびハードディスク装置 | |
JP2007287863A (ja) | 磁気抵抗効果素子およびその製造方法、ならびに磁気抵抗効果素子集合体、薄膜磁気ヘッド、ヘッドジンバルアセンブリ、ヘッドアームアセンブリおよび磁気ディスク装置 | |
JP2006261454A (ja) | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッド、および磁気記憶装置 | |
JP4167428B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、磁気抵抗効果ヘッド、および磁気記録再生装置 | |
US20080100969A1 (en) | Magneto-resistance effect element including free layer having multilayer constitution including magnetic body mixed with element having 4f electrons | |
JP4818720B2 (ja) | Cpp−gmrデバイスおよびその製造方法 | |
US7580231B2 (en) | Magneto-resistive element having a free layer provided with a ternary alloy layer | |
JP4469570B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、磁気ヘッドおよび磁気記録再生装置 | |
JP4160945B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子、薄膜磁気ヘッド、ヘッドジンバルアセンブリ、およびハードディスク装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071225 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080527 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090120 |