JP2005239937A - 活性光線硬化型インク、画像形成方法、及びインクジェット記録装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 低粘度かつ高感度で、高硬度で且つ柔軟な塗膜を様々な印字環境下、特に湿度の高い雰囲気下においても形成することが出来る活性光線硬化型インク、それを用いたインクジェット用インク、画像形成方法、及びインクジェット記録装置を提供する。
【解決手段】 光重合性化合物として下記一般式（Ａ）で表されるオキセタン環を有する化合物の少なくとも１種とエポキシ化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする活性光線硬化型インク。
【化１】

【選択図】 なし

Description

本発明は、本発明は、活性光線硬化組成物に関するものであり、低粘度で高感度で硬化し、更には形成された塗膜は密着性及び硬さと柔軟性に優れる活性光線硬化型インク、及びそれを用いたインクジェットインク、画像形成方法、及びインクジェット記録装置に関する。

従来、紫外線や電子線などの活性エネルギー線または熱により硬化する硬化組成物は、プラスチック、紙、木工及び無機質材等の塗料、接着剤、印刷インキ、印刷回路基板及び電気絶縁関係等の種々の用途に実用化されている。近年、その中でも印刷インキ、塗料、接着剤等ではより一層の耐候性と付着性の改善が望まれている。また、これらを使用したインクジェット用インクとしては、紫外線で硬化する紫外線硬化型ジェトインクがある。この紫外線硬化インクを用いたインクジェット方式は、比較的低臭気であり、速乾性、インク吸収性の無い記録媒体への記録が出来る点で、近年注目されつつあり、紫外線硬化型インクジェットインクが開示されて（例えば、特許文献１、２参照。）いる。この分野においては、低粘度であることに加え、形成される膜がより強固であること及び柔軟であることが求められている。インクジェット用インクに可塑剤を添加することにより可塑性をもたせることができることが開示されて（例えば、特許文献３参照。）いる。しかし、溶融型インクにおけるものであり、紫外線硬化型インクジェットインクについての記載は無い。

また、これらのインクを用いた場合、記録材料の種類や作業環境によって、硬化感度が変動しやすいという問題がある。

ラジカル重合性化合物を用いたインクは、酸素阻害作用を受けるため、インク液滴量が少ない場合には硬化阻害が起こりやすい。また、カチオン重合性化合物を用いたインク（例えば、特許文献４〜７参照。）は、酸素阻害作用をうけることはないが、分子レベルの水分（湿度）の影響を受けやすいといった問題がある。
特開平６−２００２０４号公報 特表２０００−５０４７７８号公報 特開平８−３４９３号公報 特開２００１−２２０５２６号公報（特許請求の範囲、実施例） 特開２００２−１８８０２５号公報（特許請求の範囲、実施例） 特開２００２−３１７１３９号公報（特許請求の範囲、実施例） 特開２００３−５５４４９号公報（特許請求の範囲、実施例）

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的は、低粘度かつ高感度で、高硬度で且つ柔軟な塗膜を様々な印字環境下、特に湿度の高い雰囲気下においても形成することが出来る活性光線硬化型インク、それを用いたインクジェット用インク、画像形成方法、及びインクジェット記録装置を提供することにある。

本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。

（請求項１）
光重合性化合物として下記一般式（Ａ）で表されるオキセタン環を有する化合物の少なくとも１種とエポキシ化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする活性光線硬化型インク。

〔式中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂、Ｒ₁₀₃、Ｒ₁₀₄、Ｒ₁₀₅、Ｒ₁₀₆は置換基を表し、ｍ１１、ｎ１１は０または１を表す。Ｒ₁₀₇は炭素数４以上の置換あるいは無置換のアルキル基を表し、このアルキル基は直鎖アルキル基でも分岐アルキル基または環状のアルキル基でも良い。〕
（請求項２）
エポキシ化合物が下記一般式（Ｂ）で表される化合物の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の活性光線硬化型インク。

〔式中、Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂は置換基を表し、ｍ２０、ｎ２０は０、１または２を表す。ｒ０は１〜３を表す。Ｌ₀は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ０＋１価の連結基または単結合を表す。〕
（請求項３）
光重合性化合物として、前記一般式（Ａ）で表されるオキセタン化合物と共に、２位に置換基を有さないオキセタン環を有する化合物を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の活性光線硬化型インク。

（請求項４）
一般式（Ａ）のＲ₁₀₇が炭素数７以上の置換、無置換のアルキル基であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。

（請求項５）
一般式（Ａ）のＲ₁₀₇がアルコキシ基で置換されたアルキル基であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。

（請求項６）
エポキシ化合物が下記一般式（Ｉ）または（II）で表される化合物の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。

〔式中、Ｒ₂₁₁、Ｒ₂₁₂は置換基を表し、ｍ２１、ｎ２１は０、１または２を表す。ｐ１、ｑ１はそれぞれ０または１を表す。ｒ１は１〜３を表す。Ｌ₁は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ１＋１価の連結基または単結合を表す。〕

〔式中、Ｒ₂₂₁、Ｒ₂₂₂は置換基を表し、ｍ２２、ｎ２２は０、１または２を表す。ｐ２、ｑ２はそれぞれ０または１を表す。ｒ２は１〜３を表す。Ｌ₂は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ２＋１価の連結基または単結合を表す。〕
（請求項７）
エポキシ化合物が下記一般式（III）または（IV）で表される化合物の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。

〔式中、Ｒ₂₃₁、Ｒ₂₃₂は置換基を表し、ｍ２３、ｎ２３は０または１を表す。ｐ３、ｑ３はそれぞれ０または１を表す。ｒ３は１〜３を表す。Ｌ₃は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ３＋１価の連結基または単結合を表す。〕

〔式中、Ｒ₂₄₁、Ｒ₂₄₂は置換基を表し、ｍ２４、ｎ２４は０または１を表す。ｐ４、ｑ４はそれぞれ０または１を表す。ｒ４は１〜３を表す。Ｌ₄は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ４＋１価の連結基または単結合を表す。〕
（請求項８）
２位に置換基を有さないオキセタン環を有する化合物が二つ以上のオキセタン環を有する多官能のオキセタン化合物であることを特徴とする請求項３〜７のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。

（請求項９）
活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。

（請求項１０）
活性光線の照射により酸を発生する化合物がオニウム塩化合物であることを特徴とする請求項９に記載の活性光線硬化型インク。

（請求項１１）
活性光線の照射により酸を発生する化合物がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする請求項９に記載の活性光線硬化型インク。

（請求項１２）
活性光線の照射により酸を発生する化合物が下記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）または（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩化合物であることを特徴とする請求項９に記載の活性光線硬化型インク。

〔式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃は置換基を表し、ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表す。Ｘ₁₁ ^-は対イオンを表す。〕

〔式中、Ｒ₁₄は置換基を表し、ｑは０〜２の整数を表す。Ｒ₁₅、Ｒ₁₆は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ₁₂ ^-は対イオンを表す。〕

〔式中、Ｒ₁₇は置換基を表し、ｒは０〜３の整数を表す。Ｒ₁₈は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ₁₃ ^-は対イオンを表す。〕
（請求項１３）
２５℃における粘度が７〜４０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。

（請求項１４）
顔料を含有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。

（請求項１５）
インクジェット記録ヘッドより、請求項１４に記載の活性光線硬化型インクを記録材料上に画像様に噴射し、該記録材料上に印刷を行う画像形成方法であって、該活性光線硬化型インクが着弾した後、０．００１〜１．０秒の間に活性光線を照射して活性光線硬化型インクを硬化させることを特徴とする画像形成方法。

（請求項１６）
インクジェット記録ヘッドより、請求項１４に記載の活性光線硬化型インクを記録材料上に画像様に噴射して該記録材料上に印刷を行う画像形成方法であって、該インクジェット記録ヘッドの各ノズルより吐出する最小インク液滴量が、２〜１５ｐｌであることを特徴とする画像形成方法。

（請求項１７）
請求項１５又は１６に記載の画像形成方法に用いられるインクジェット記録装置であって、活性光線硬化型インク及び記録ヘッドを３５〜１００℃に加熱した後、吐出することを特徴とするインクジェット記録装置。

（請求項１８）
請求項１５又は１６に記載の画像形成方法に用いられるインクジェット記録装置であって、３５〜６０℃に加温した記録媒体に、吐出することを特徴とするインクジェット記録装置。

本発明により、低粘度かつ高感度で、高硬度で且つ柔軟な塗膜を様々な印字環境下、特に湿度の高い雰囲気下においても形成することが出来る活性光線硬化型インク、それを用いたインクジェット用インク、画像形成方法、及びインクジェット記録装置を提供することができた。

本発明者は、上記課題に鑑みて鋭意検討を行った結果、オキセタン環の２位に特定の置換基を有するオキセタン化合物とエポキシ化合物を共に含有するインクジェットインクを用いた場合に、低照度の光源でも環境湿度に影響を受けずに強固で、かつ柔軟な硬化膜を形成し、高画質な画像が得られることを見いだし、本発明に至った次第である。

本発明の２位置換型オキセタン化合物と同様にオキセタン環の２位に電子供与性の置換基を有するベンゼン環の置換した単官能のオキセタンとしては特開２００１−１８１３８６号公報に記載されている２−（４−メトキシ−フェニル）−３，３−ジメチル−オキセタンがあるが、この特許ではエポキシ化合物との併用によるメリットは述べられておらず、両者を共に用いた場合に強固で、かつ柔軟な硬化膜を形成することについての言及もない。

本発明の２位置換型オキセタン化合物は３位に置換基を持たせることで、インク組成物として用いる場合に、その他の重合性化合物との相溶性を向上させることができ、安全性、疎水性、粘度、表面張力、その他の物性なども適宜設計することが可能となった。

本発明のインクジェットインクにおいては、２位置換型オキセタン化合物と共に用いるエポキシ化合物として、脂環式エポキシ化合物と併用することで、より好ましい反応性の向上、硬化膜強度の強化が可能となる。

以下、本発明の詳細について説明する。一般式（Ａ）のＲ₁₀₁〜Ｒ₁₀₆で表される置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、等）、炭素数１〜６個のアルキ二ル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、アリールオキシカルボニル基、等が挙げられる。

Ｒ₁₀₁とＲ₁₀₂、Ｒ₁₀₃とＲ₁₀₄は、同一炭素上の２つの置換基が互いに末端で結合して２価の基となり環を形成してもよい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、等が挙がられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。

本発明のオキセタンとしてはオキセタン環の３位には１つ以上の置換基を有するのが好ましい。好ましい置換基としては、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、等が挙げられる。これらはさらに置換されていても良く、置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。

本発明のオキセタンとしては、３位に置換、無置換のアルキル基が置換されているのが好ましく、２つのアルキル基で置換されることでオキセタンの３位が３級の炭素になることがより好ましい。アルキル基の置換基として好ましいものは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。

本発明のオキセタンは、４位に電子吸引性基を置換することで、より反応性を高くすることが可能である。電子吸引性基とはハメットの置換基定数σｐが正の値を取る置換基のことであり、電子吸引性基の具体例としては、−ＮＯ₂、−ＣＮ、−ＳＯ₂−Ａｌｋｙｌ、−ＳＯ₂−Ａｒｙｌ、−ＣＯ−Ａｌｋｙｌ、−ＣＯ−Ａｒｙｌ、−ＣＯ−Ｏ−Ａｌｋｙｌ、−ＣＯ−Ｏ−Ａｒｙｌ、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子）が挙げられる。本発明のオキセタン化合物において４位の置換基として好ましい電子吸引性基はα〜γ位の炭素原子上に前記の電子吸引性基の置換したアルキル基であり、特にフッ素原子で置換されたアルキル基が好ましい。

一般式（Ａ）において、Ｒ₁₀₇は炭素数４以上の置換、無置換のアルコキシ基を表す。このアルキル基は直鎖アルキル基でも分岐アルキル基または環状アルキル基でも良い。
Ｒ₁₀₇として炭素数３以下のアルキル基ではインク硬化膜の柔軟性が不充分である。炭素数４以上のアルキル基にすることで硬化膜への柔軟性付与効果が発現する。柔軟性付与の点からは炭素数はより大きくなる方が好ましいが、同時に硬化速度の低下を伴うためＲ₁₀₇の炭素数は大きくなり過ぎるのも好ましくない。炭素数７〜１５程度が好ましい。

Ｒ₁₀₇は置換基を有しても良い、置換基としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）である。

これらの置換基のうち置換が可能なものはさらに置換基を有しても良い、置換基としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、置換、無置換のアルコキシ基である。

以下に、本発明のオキセタン化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明のオキセタン化合物の合成は、以下に文献に記載の方法に準じて、行うことができる。

Ａ：Ｈｕ Ｘｉａｎｍｉｎｇ，Ｒｉｃｈａｒｄ Ｍ．Ｋｅｌｌｏｇｇ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，５３３〜５３８，Ｍａｙ（１９９５）
Ｂ：Ａ．Ｏ．Ｆｉｔｔｏｎ，Ｊ．Ｈｉｌｌ，Ｄ．Ｅｊａｎｅ，Ｒ．Ｍｉｌｌｅｒ，Ｓｙｎｔｈ．，１２，１１４０（１９８７）
Ｃ：Ｔｏｓｈｉｒｏ Ｉｍａｉ ａｎｄ Ｓｈｉｎｙａ Ｎｉｓｈｉｄａ，Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｖｏｌ．５９，２５０３〜２５０９（１９８１）
Ｄ：Ｎｏｂｕｊｉｒｏ Ｓｈｉｍｉｚｕ，Ｓｈｉｎｔａｒｏ Ｙａｍａｏｋａ ａｎｄ Ｙｕｈｏ Ｔｓｕｎｏ，Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，５６，３８５３〜３８５４（１９８３）
Ｅ：Ｗａｌｔｅｒ Ｆｉｓｈｅｒ ａｎｄ Ｃｙｒｉｌ Ａ．Ｇｒｏｂ，Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ．，６１，２３３６（１９７８）
Ｆ：Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．１０１，１８５０（１９６８）
Ｇ：“Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ ｗｉｔｈ Ｔｈｒｅｅ− ａｎｄ Ｆｏｕｒ−ｍｅｍｂｅｒｅｄ Ｒｉｎｇｓ”，Ｐａｒｔ Ｔｗｏ，Ｃｈａｐｔｅｒ ＩＸ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ（１９６４）
Ｈ：Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，６１，１６５３（１９８８）
Ｉ：Ｐｕｒｅ Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ａ２９（１０），９１５（１９９２）
Ｊ：Ｐｕｒｅ Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ａ３０（２＆ａｍｐ；３），１８９（１９９３）
Ｋ：特開平６−１６８０４号公報
Ｌ：ドイツ特許第１，０２１，８５８号
前記文献に従って、例示化合物の合成例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

〔合成例１〕
例示化合物ＯＸ−１：１−ｎ−Ｂｕｔｏｘｙ−４−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｂｅｎｚｅｎの合成
イソブチルアルデヒド２．５当量とｎ−ブトキシベンズアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム１．５当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液から酢酸エチルで抽出を行い、酢酸エチル抽出液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物から１ｍｍＨｇ（１ｍｍＨｇは１３３．３２２Ｐａである）の減圧下に低沸点物を減圧溜去し粘調オイルの１−（４−ｎ−Ｂｕｔｏｘｙ−ｐｈｅｎｙｌ）−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌを得た。収率は６０〜６５％だった。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８１＆０．８５（ｓ，６Ｈ，ＣＨ₃−）、１．００（ｔ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、１．５０（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、１．７６（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、３．０５（ｄ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４０（ｍ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４５〜３．６０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＯＨ）、３．９５（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、４．６０（ｄ，１Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．８５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２３（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
このテトラオール化合物を１．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いてトルエン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタンを得た。粗収率は９０〜９５％だった。

この粗製物をヘキサンでアルミナカラム精製し、例示化合物ＯＸ−１のオキセタン化合物を得た。収率は８０〜８５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ₃） δ（ｐｐｍ）：０．７９（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、０．９８（ｔ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、１．３７（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、１．５０（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、１．７７（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、３．９６（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、４．２５（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、４．５０（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、５．４４（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．９０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
〔合成例２〕
例示化合物ＯＸ−２：１−ｉｓｏ−Ｂｕｔｏｘｙ−４−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｂｅｎｚｅｎの合成
イソブチルアルデヒド２．５当量とｉｓｏ−ブトキシベンズアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム１．５当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液から酢酸エチルで抽出を行い、酢酸エチル抽出液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物から１ｍｍＨｇの減圧下に低沸点物を減圧溜去し粘調オイルの１−（４−ｉｓｏ−Ｂｕｔｏｘｙ−ｐｈｅｎｙｌ）−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌを得た。収率は６０〜６５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８２＆０．８５（ｓ，６Ｈ，ＣＨ₃−）、１．０３（ｄ，６Ｈ，ＣＨ₃−）、２．０８（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−）、３．２１（ｄ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４０（ｍ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４５〜３．６０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＯＨ）、３．７１（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−Ｏ−）、４．５９（ｄ，１Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．８５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２３（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
このテトラオール化合物を１．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いてトルエン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタンを得た。粗収率は９０〜９５％だった。

この粗製物をヘキサンでアルミナカラム精製し、例示化合物ＯＸ−２のオキセタン化合物を得た。収率は８０〜８５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、１．０３（ｄ，６Ｈ，ＣＨ₃−）、１．３７（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、２．０７（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−）、３．７１（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂−Ｏ−）、４．２４（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、４．５０（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、５．４４（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．９０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
〔合成例３〕
例示化合物ＯＸ−２３：１−（２−Ｍｅｔｈｏｘｙ−ｅｔｈｏｘｙ）−４−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｂｅｎｚｅｎの合成
イソブチルアルデヒド２．５当量と２−メトキシエトキシベンズアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム１．５当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液から酢酸エチルで抽出を行い、酢酸エチル抽出液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物から１ｍｍＨｇの減圧下に低沸点物を減圧溜去し粘調オイルの１−〔４−（２−Ｍｅｔｈｏｘｙ−ｅｔｈｏｘｙ）−ｐｈｅｎｙｌ〕−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌを得た。収率は６０〜６５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８０＆０．８３（ｓ，６Ｈ，ＣＨ₃−）、３．４３（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、３．２５（ｍ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４０（ｍ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４５〜３．５５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＯＨ）、３．７４＆４．１０（ｍ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−Ｏ−）、４．５６（ｄ，１Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．８８（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２２（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
このテトラオール化合物を１．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いてトルエン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタンを得た。粗収率は９０〜９５％だった。

この粗製物をヘキサンでアルミナカラム精製し、例示化合物ＯＸ−２３のオキセタン化合物を得た。収率は８０〜８５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：０．７８（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、１．３７（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、３．４６（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、３．７５＆４．１２（ｍ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−Ｏ−）、４．２４（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、４．５０（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、５．４４（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．９４（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２１（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
〔合成例４〕
例示化合物ＯＸ−３０：１−（１−Ｍｅｔｈｙｌ−２−Ｍｅｔｈｏｘｙ−ｅｔｈｏｘｙ）−４ −（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｂｅｎｚｅｎの合成
イソブチルアルデヒド２．５当量と１−メチル−２−メトキシエトキシベンズアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム１．５当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液から酢酸エチルで抽出を行い、酢酸エチル抽出液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物から１ｍｍＨｇの減圧下に低沸点物を減圧溜去し粘調オイルの１−〔４−（１−Ｍｅｔｈｙｌ−２−Ｍｅｔｈｏｘｙ−ｅｔｈｏｘｙ）−ｐｈｅｎｙｌ〕−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌを得た。収率は６０〜６５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８１＆０．８５（ｓ，６Ｈ，ＣＨ₃−）、１．３１（ｍ，３Ｈ，ＣＨ₃−ＣＨ＜）、３．４０（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−Ｏ−）、３．０７（ｍ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．１５（ｍ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４７（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＣＨ＜）、３．５０〜３．６０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＯＨ）、４．５２（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−ＣＨ₂−Ｏ−）、４．５７（ｄ，１Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．８９（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２２（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
このテトラオール化合物を１．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いてトルエン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタンを得た。粗収率は９０〜９５％だった。

この粗製物をヘキサンでアルミナカラム精製し、例示化合物ＯＸ−３０のオキセタン化合物を得た。収率は８０〜８５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：０．８６（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、１．３１（ｍ，３Ｈ， ＣＨ₃−ＣＨ＜）、１．３６（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、３．４１（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−Ｏ−）、３．５０＆３．５８（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＣＨ＜）、４．２４（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、４．５０（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、４．５６（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−ＣＨ₂−Ｏ−）、５．４４（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．９４（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
〔合成例５〕
例示化合物ＯＸ−８：１−（２−Ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ−ｏｘｙ）−４−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｂｅｎｚｅｎの合成
イソブチルアルデヒド２．５当量と２−エチルヘキシルオキシベンズアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム１．５当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液から酢酸エチルで抽出を行い、酢酸エチル抽出液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物から１ｍｍＨｇの減圧下に低沸点物を減圧溜去し粘調オイルの１−〔（２−Ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ−ｏｘｙ）−ｐｈｅｎｙｌ〕−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌを得た。収率は６０〜６５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８２＆０．８５（ｓ，６Ｈ，ＣＨ₃−）、１．００（ｄ，６Ｈ，ＣＨ₃−）、１．４０〜１．６０（ｍ，８Ｈ，−ＣＨ₂−）、２．０５（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−）、３．２２（ｄ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４１（ｍ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４５〜３．６０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＯＨ）、３．９３（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−Ｏ−）、４．５９（ｄ，１Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．８５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２３（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
このテトラオール化合物を１．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いてトルエン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタンを得た。粗収率は９０〜９５％だった。

この粗製物をヘキサンでアルミナカラム精製し、例示化合物ＯＸ−８のオキセタン化合物を得た。収率は８０〜８５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：０．８６（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、１．０３（ｔ，６Ｈ，ＣＨ₃−）、１．３８（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、１．４０〜１．６０（ｍ，８Ｈ，−ＣＨ₂−）、２．０７（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−）、３．９６（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、４．２４（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、４．５０（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、５．４４（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．９０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
〔合成例６〕
例示化合物ＯＸ−９：１−（３，３，５−Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ−ｏｘｙ）−４−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｂｅｎｚｅｎの合成
イソブチルアルデヒド２．５当量と３，３，５−トリメチルヘキシルオキシベンズアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム１．５当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液から酢酸エチルで抽出を行い、酢酸エチル抽出液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物から１ｍｍＨｇの減圧下に低沸点物を減圧溜去し粘調オイルの１−〔（３，３，５−Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ−ｏｘｙ）−ｐｈｅｎｙｌ〕−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌを得た。収率は６０〜６５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８２＆０．８５（ｓ，６Ｈ，ＣＨ₃−）、１．１０（ｓ，９Ｈ，ＣＨ₃−）、１．２０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、１．７０（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−）、１．７５（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、３．２１（ｄ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４０（ｍ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４５〜３．６０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＯＨ）、３．９５（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−Ｏ−）、４．５９（ｄ，１Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．８５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２３（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
このテトラオール化合物を１．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いてトルエン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタンを得た。粗収率は９０〜９５％だった。

この粗製物をヘキサンでアルミナカラム精製し、例示化合物ＯＸ−９のオキセタン化合物を得た。収率は８０〜８５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、１．１２（ｓ，９Ｈ，ＣＨ₃−）、１．２０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、１．３７（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、１．７０（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−）、１．７６（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、３．９６（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂−Ｏ−）、４．２４（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、４．５０（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、５．４４（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．９０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
〔合成例７〕
例示化合物ＯＸ−３３：１−（３−Ｍｅｔｈｏｘｙ−ｂｕｔｏｘｙ）−４−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｂｅｎｚｅｎの合成
イソブチルアルデヒド２．５当量と３−メトキシブトキシベンズアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム１．５当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液から酢酸エチルで抽出を行い、酢酸エチル抽出液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物から１ｍｍＨｇの減圧下に低沸点物を減圧溜去し粘調オイルの１−〔４−（３−Ｍｅｔｈｏｘｙ−ｂｕｔｏｘｙ）−ｐｈｅｎｙｌ〕−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌを得た。収率は６０〜６５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ₃ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：０．８１＆０．８５（ｓ，６Ｈ，ＣＨ₃−）、１．１６（ｄ，３Ｈ，ＣＨ₃−ＣＨ＜）、２．０１（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＣＨ＜）、３．０７（ｍ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．１５（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−ＯＣＨ₃）、３．２０（ｍ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．４０（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−Ｏ−）、３．９５（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、３．５０〜３．６０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＯＨ）、４．５７（ｄ，１Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．８９（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２２（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
このテトラオール化合物を１．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いてトルエン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタンを得た。粗収率は９０〜９５％だった。

この粗製物をヘキサンでアルミナカラム精製し、例示化合物ＯＸ−３３のオキセタン化合物を得た。収率は８０〜８５％だった。

１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）：０．８６（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、１．１６（ｄ，３Ｈ，ＣＨ₃−ＣＨ＜）、１．３６（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−）、２．０１（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＣＨ＜）、３．１６（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−ＯＣＨ₃）、３．４１（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃−Ｏ−）、３．５３＆３．６０（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−ＣＨ＜）、３．９５（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ₂−）、４．２４（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、４．５０（ｄ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ₂−オキセタン環）、５．４４（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．９４（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２０（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）
その他の本発明のオキセタン化合物も、同様の方法で収率良く合成できる。

本発明のオキセタン化合物の添加量としては、１０〜４０質量％含有することが好ましい。１０質量％未満であると硬化膜への柔軟性の付与が不充分になり。４０質量％を超えると、硬化後の膜物性が弱く、使えない。本発明では、本発明のオキセタン化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。

本発明のインクジェットインクにおいては、一般式（Ａ）で表されるオキセタン化合物と共に、エポキシ化合物を含有することが必須の構成要件である。

エポキシ化合物において、芳香族エポキシドとして好ましいものは、少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジまたはポリグリシジルエーテルであり、例えばビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、ならびにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。

脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセンまたはシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによつて得られる、シクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましい。

脂肪族エポキシドの好ましいものとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテルまたは１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。

これらのエポキシドのうち、迅速な硬化性を考慮すると、芳香族エポキシドおよび脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシドの１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。

脂環式エポキシドとして好ましいのは前記一般式（Ｂ）で表される多官能のエポキシ化合物である。一般式（Ｂ）において、Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂は置換基を表す、置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。

ｍ₂₀、ｎ₂₀は０〜２を表し、０または１が好ましい。

Ｌ₀は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ₀＋１価の連結基あるいは単結合を表す。主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５の２価の連結基の例としては以下の基およびこれらの基と−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。

メチレン基［−ＣＨ₂−］
エチリデン基［＞ＣＨＣＨ₃］
イソプロピリデン基［＞Ｃ（ＣＨ₃）₂］
１，２−エチレン基［−ＣＨ₂ＣＨ₂−］
１，２−プロピレン基［−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂−］
１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−］
２，２−ジメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂−］
２，２−ジメトキシ−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ₂Ｃ（ＯＣＨ₃）₂ＣＨ₂−］
２，２−ジメトキシメチル−１，３−プロパンジイル基
［−ＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₂ＯＣＨ₃）₂ＣＨ₂−］
１−メチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＣＨ₂−］
１，４−ブタンジイル基［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−］
１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−］
オキシジエチレン基［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−］
チオジエチレン基［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＣＨ₂ＣＨ₂−］
３−オキソチオジエチレン基［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯＣＨ₂ＣＨ₂−］
３，３−ジオキソチオジエチレン基［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＳＯ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−］
１，４−ジメチル−３−オキサ−１，５−ペンタンジイル基
［−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＯＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂−］
３−オキソペンタンジイル基［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−］
１，５−ジオキソ−３−オキサペンタンジイル基［−ＣＯＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＯ−］
４−オキサ−１，７−ヘプタンジイル基［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−］
３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基
［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−］
１，４，７−トリメチル−３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基
［−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＯＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＯＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂−］
５，５−ジメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基
［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−］
５，５−ジメトキシ−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基
［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｃ（ＯＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−］
５，５−ジメトキシメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基
［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₂ＯＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂ＣＨ₂−］
４，７−ジオキソ−３，８−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基
［−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−ＣＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯ−ＯＣＨ₂ＣＨ₂−］
３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基
［−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯ−ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−ＣＯＣＨ₂ＣＨ₂−］
１，３−シクロペンタンジイル基［−１，３−Ｃ₅Ｈ₈−］
１，２−シクロヘキサンジイル基［−１，２−Ｃ₆Ｈ₁₀−］
１，３−シクロヘキサンジイル基［−１，３−Ｃ₆Ｈ₁₀−］
１，４−シクロヘキサンジイル基［−１，４−Ｃ₆Ｈ₁₀−］
２，５−テトラヒドロフランジイル基［２，５−Ｃ₄Ｈ₆Ｏ−］
ｐ−フェニレン基［−ｐ−Ｃ₆Ｈ₄−］
ｍ−フェニレン基［−ｍ−Ｃ₆Ｈ₄−］
α，α′−ｏ−キシリレン基［−ｏ−ＣＨ₂−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＨ₂−］
α，α′−ｍ−キシリレン基［−ｍ−ＣＨ₂−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＨ₂−］
α，α′−ｐ−キシリレン基［−ｐ−ＣＨ₂−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＨ₂−］
フラン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ₂−Ｃ₄Ｈ₂Ｏ−ＣＨ₂−］
チオフェン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ₂−Ｃ₄Ｈ₂Ｓ−ＣＨ₂−］ イソプロピリデンビス−ｐ−フェニレン基
［−ｐ−Ｃ₆Ｈ₄−Ｃ（ＣＨ₃）₂−ｐ−Ｃ₆Ｈ₄−］。

３価以上の連結基としては以上に挙げた２価の連結基から任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基およびそれらと−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。

Ｌ₀は置換基を有していても良い。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。

Ｌ₀としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜８の２価の連結基が好ましく、主鎖が炭素のみからなる炭素数１〜５の２価の連結基がより好ましい。

高硬度の硬化膜を生成し、さらに硬化膜の基材密着性を良くすると言う点で特に好ましい脂環式エポキシドは前記一般式（Ｉ）または（II）で表される化合物である。

一般式（Ｉ）または（II）において、Ｒ₂₁₁、Ｒ₂₁₂、Ｒ₂₂₁、Ｒ₂₂₂は置換基を表す、置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。

ｍ₂₁、ｎ₂₁、ｍ₂₂、ｎ₂₂は０〜２を表し、０または１が好ましい。

Ｌ₁は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ₁＋１価の連結基あるいは単結合を表し、Ｌ₂は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ₂＋１価の連結基あるいは単結合を表す。

主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５の２価の連結基の例としてはＬ₀の説明で示したものを同じものが挙げられる。

Ｌ₁、Ｌ₂としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜８の２価の連結基が好ましく、主鎖が炭素のみからなる炭素数１〜５の２価の連結基がより好ましい。

硬化感度が高く、さらに印字環境の変動によっても硬化感度が影響されにくいという点で特に好ましい脂環式エポキシドは前記一般式（III）または（IV）で表される化合物である。

一般式（III）または（IV）において、Ｒ₂₃₁、Ｒ₂₃₂、Ｒ₂₄₁、Ｒ₂₄₂は置換基を表す、置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子、等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、等）、アシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、等）、等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。

ｍ₂₃、ｎ₂₃、ｍ₂₄、ｎ₂₄は０〜２を表し、０または１が好ましい。

Ｌ₃は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ₃＋１価の連結基あるいは単結合を表し、Ｌ₄は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ₄＋１価の連結基あるいは単結合を表す。

主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５の２価の連結基の例としてはＬ₀の説明で示したものを同じものが挙げられる。

Ｌ₃、Ｌ₄としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜８の２価の連結基が好ましく、主鎖が炭素のみからなる炭素数１〜５の２価の連結基がより好ましい。

以下に、好ましい脂環式エポキシドの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

エポキシ化合物の添加量としては、１０〜８０質量％含有することが好ましい。１０質量％未満であると硬化環境（温度、湿度）により硬化性が著しく変わってしまい使えない。８０質量％を超えると、硬化後の膜物性が弱く、使えない。より好ましい添加量としては２０〜４０質量％含有することが好ましい。本発明では、エポキシ化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。

また、これらの脂環式エポキシ化合物は、その製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成II、２１３〜、平成４年、Ｅｄ． ｂｙ Ａｌｆｒｅｄ Ｈａｓｆｎｅｒ， Ｔｈｅ ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｓｍａｌｌ Ｒｉｎｇ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ ｐａｒｔ３ Ｏｘｉｒａｎｅｓ， Ｊｏｈｎ ＆ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ， Ａｎ Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ， １９８５、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号、特開平４−３６２６３号、特開平４−６９３６０号公報等の文献を参考にして合成できる。

本発明のインクジェットインクにおいては、一般式（Ａ）で表されるオキセタン化合物と共に、２位が置換されていないオキセタン化合物を併用することで、感度向上効果あるいは硬化膜物性の改良効果を得ることができ好ましい。

以下、２位が置換されていないオキセタン化合物について説明する。２位が置換されていないオキセタン化合物の一例としては、下記一般式（１０１）で示される化合物が挙げられる。

一般式（１０１）において、Ｒ¹は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基である。Ｒ²はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜６個のアルキル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等の炭素数２〜６個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等の芳香環を有する基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等の炭素数２〜６個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の炭素数２〜６個のアルコキシカルボニル基、またはエチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等の炭素数２〜６個のＮ−アルキルカルバモイル基等である。本発明で使用するオキセタン化合物としては、２個のオキセタン環を有する化合物を使用することが、得られる組成物が粘着性に優れ、低粘度で作業性に優れるため、特に好ましい。

２個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式（１０２）で示される化合物等が挙げられる。

一般式（１０２）において、Ｒ¹は上記一般式（１０１）におけるそれと同様の基である。Ｒ³は、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線状または分枝状アルキレン基、ポリ（エチレンオキシ）基、ポリ（プロピレンオキシ）基等の線状または分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状または分枝状不飽和炭化水素基、またはカルボニル基またはカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基等である。

また、Ｒ³としては、下記一般式（１０３）、（１０４）及び（１０５）で示される基から選択される多価基も挙げることができる。

一般式（１０３）において、Ｒ⁴は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜４個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、またはカルバモイル基である。

一般式（１０４）において、Ｒ⁵は酸素原子、硫黄原子、メチレン基、ＮＨ、ＳＯ、ＳＯ₂、Ｃ（ＣＦ₃）₂、またはＣ（ＣＨ₃）₂を表す。

一般式（１０５）において、Ｒ⁶はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。ｎは０〜２０００の整数である。Ｒ⁷はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。Ｒ⁷としては、更に下記一般式（１０６）で示される基から選択される基も挙げることができる。

一般式（１０６）において、Ｒ⁸はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。ｍは０〜１００の整数である。

２個のオキセタン環を有する化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。

例示化合物１１は、前記一般式（１０２）において、Ｒ¹がエチル基、Ｒ³がカルボキシル基である化合物である。また、例示化合物１２は、前記一般式（１０２）において、Ｒ¹がエチル基、Ｒ³が前記一般式（１０５）でＲ⁶及びＲ⁷がメチル基、ｎが１である化合物である。

２個のオキセタン環を有する化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。

一般式（１０７）において、Ｒ¹は前記一般式（１０１）のＲ¹と同義である。

また、３〜４個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式（１０８）で示される化合物が挙げられる。

一般式（１０８）において、Ｒ¹は前記一般式（１０１）におけるＲ¹と同義である。Ｒ⁹としては、例えば、下記Ａ〜Ｃで示される基等の炭素数１〜１２の分枝状アルキレン基、下記Ｄで示される基等の分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基または下記Ｅで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。ｊは３または４である。

上記Ａにおいて、Ｒ¹⁰はメチル基、エチル基またはプロピル基等の低級アルキル基である。また、上記Ｄにおいて、ｐは１〜１０の整数である。

３〜４個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、例示化合物１３が挙げられる。

更に、上記説明した以外の１〜４個のオキセタン環を有する化合物の例としては、下記一般式（１０９）で示される化合物が挙げられる。

一般式（１０９）において、Ｒ⁸は前記一般式（１０６）のＲ⁸と同義である。Ｒ¹¹はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基またはトリアルキルシリル基であり、ｒは１〜４である。

本発明で使用するオキセタン化合物の好ましい具体例としては、以下に示す化合物がある。

上述したオキセタン環を有する各化合物の製造方法は、特に限定されず、従来知られた方法に従えばよく、例えば、パティソン（Ｄ．Ｂ．Ｐａｔｔｉｓｏｎ， Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，３４５５，７９（１９５７））が開示している、ジオールからのオキセタン環合成法等がある。また、これら以外にも、分子量１０００〜５０００程度の高分子量を有する１〜４個のオキセタン環を有する化合物も挙げられる。これらの具体的化合物例としては、以下の化合物が挙げられる。

本発明のインクジェット用インク組成物においては、本発明のオキセタン化合物と共に、光酸発生剤を含有することが好ましい。

カチオン重合型インクで用いる光酸発生剤としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる（有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版（１９９３年）、１８７〜１９２ページ参照）。本発明に好適な化合物の例を以下に挙げる。

第１に、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウムなどの芳香族オニウム化合物のＢ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、ｐ−ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₄ＳＯ₃ ^-塩、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-塩などのスルホン酸塩を挙げることができる。

対アニオンとしてボレート化合物をもつものおよびＰＦ₆ ^-塩が酸発生能力が高く好ましい。オニウム化合物の具体的な例を以下に示す。

第２に、スルホン酸を発生するスルホン化物を挙げることができる。具体的な化合物を以下に例示する。

第３に、ハロゲン化水素を発生するハロゲン化物も用いることができる。以下に具体的な化合物を例示する。

第４に、鉄アレン錯体を挙げることができる。

本発明で用いられる光酸発生剤としては、アリールスルホニウム塩誘導体（例えば、ユニオン・カーバイド社製のサイラキュアＵＶＩ−６９９０、サイラキュアＵＶＩ−６９７４、旭電化工業社製のアデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７２）、アリルヨードニウム塩誘導体（例えば、ローディア社製のＲＰ−２０７４）、アレン−イオン錯体誘導体（例えば、チバガイギー社製のイルガキュア２６１）、ジアゾニウム塩誘導体、トリアジン系開始剤及びその他のハロゲン化物等の酸発生剤が挙げられる。光酸発生剤は、カチオン重合性を有する化合物１００質量部に対して、０．２〜２０質量部の比率で含有させることが好ましい。光酸発生剤の含有量が０．２質量部未満では、硬化物を得ることが困難であり、２０質量部を越えて含有させても、更なる硬化性向上効果はない。これら光酸発生剤は、１種または２種以上を選択して使用することができる。

本発明で用いられる光酸発生剤として好ましいのはスルホニウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、等のオニウム塩であり、中でもスルホニウム塩化合物が好ましい。より好ましいスルホニウム塩化合物の構造として、前記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩が挙げられる。

一般式（Ｉ−１）中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃は置換基を表し、ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表す。Ｘ₁₁ ^-は対イオンを表す。

一般式（Ｉ−２）中、Ｒ₁₄は置換基を表し、ｑは０〜２の整数を表す。Ｒ₁₅、Ｒ₁₆は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ₁₂ ^-は対イオンを表す。

一般式（Ｉ−３）中、Ｒ₁₇は置換基を表し、ｒは０〜３の整数を表す。Ｒ₁₈は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ₁₃ ^-は対イオンを表す。

更に、一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩について説明する。一般式（Ｉ−１）で、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。

置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシル基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表しそれぞれが１以上であることが好ましい。Ｘ₁₁ ^-は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ₄ ^-、Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-などの錯イオン、ｐ−ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₄ＳＯ₃ ^-、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ₆ ^-が酸発生能力が高く好ましい。

一般式（Ｉ−２）で、Ｒ₁₄は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。ｑは０〜２の整数を表し１以上であることが好ましく、より好ましくは２である。

Ｒ₁₅、Ｒ₁₆として好ましくは、置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、水酸基である。

Ｘ₁₂ ^-は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ₄ ^-、Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-などの錯イオン、ｐ−ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₄ＳＯ₃ ^-、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ₆ ^-が酸発生能力が高く好ましい。

一般式（Ｉ−３）で、Ｒ₁₇は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。ｒは０〜３の整数を表し１以上であることが好ましく、より好ましくは２である。

Ｒ₁₈は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。

Ｒ₁₈として好ましくは、水素原子または無置換の低級アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基）であり、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀として、好ましくは置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として、好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。Ｘ₁₃ ^-は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ₄ ^-、Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-などの錯イオン、ｐ−ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₄ＳＯ₃ ^-、ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ₆ ^-が酸発生能力が高く好ましい。

以下に、一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

光重合促進剤としては、アントラセン、アントラセン誘導体（例えば、旭電化工業社製のアデカオプトマーＳＰ−１００）、フェノチアジン（１０Ｈ−フェノチアジン）、フェノチアジン誘導体（例えば、１０−メチルフェノチアジン、１０−エチルフェノチアジン、１０−デシルフェノチアジン、１０−アセチルフェノチアジン１０−デシルフェノチアジン−５−オキシド、１０−デシルフェノチアジン−５，５−ジオキシド、１０−アセチルフェノチアジン−５，５−ジオキシド）が挙げられる。これらの光重合促進剤は１種または複数を組み合わせて使用することができる。

本発明のインクジェット用インク組成物には、上記説明した構成要素の他に、各種の添加剤を用いることができる。

本発明のインクジェット用インク組成物で用いる色材としては、重合性化合物の主成分に溶解または分散できる色材が使用出来るが、耐候性の点から顔料が好ましい。

本発明で好ましく用いることのできる顔料を、以下に列挙する。

Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ−１、３、１２、１３、１４、１７、８１、８３、８７、９５、１０９、４２、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ−１６、３６、３８、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ−５、２２、３８、４８：１、４８：２、４８：４、４９：１、５３：１、５７：１、６３：１、１４４、１４６、１８５、１０１、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ−１９、２３、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ−１５：１、１５：３、１５：４、１８、６０、２７、２９、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ−７、３６、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｗｈｉｔｅ−６、１８、２１、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ−７、
上記顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。また、顔料の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。分散剤としては、高分子分散剤を用いることが好ましく、高分子分散剤としてはＡｖｅｃｉａ社のＳｏｌｓｐｅｒｓｅシリーズが挙げられる。また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。これらの分散剤および分散助剤は、顔料１００質量部に対し、１〜５０質量部添加することが好ましい。分散媒体は、溶剤または重合性化合物を用いて行うが、本発明に用いる活性光線硬化型インクでは、インク着弾直後に反応・硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。溶剤が硬化画像に残ってしまうと、耐溶剤性の劣化、残留する溶剤のＶＯＣの問題が生じる。よって、分散媒体は溶剤ではなく重合性化合物、その中でも最も粘度の低いモノマーを選択することが分散適性上好ましい。

顔料の分散は、顔料粒子の平均粒径を０．０８〜０．５μｍとすることが好ましく、最大粒径は０．３〜１０μｍ、好ましくは０．３〜３μｍとなるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を適宜設定する。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インクの保存安定性、インク透明性および硬化の感度を維持することができる。

本発明のインクジェット用インク組成物においては、色材濃度として、インク全体の１質量％乃至１０質量％であることが好ましい。

本発明においては、吐出安定性、保存性を向上させる目的で、熱塩基発生剤も用いることができる。

熱塩基発生剤としては、例えば、加熱により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、分子内求核置換反応、ロッセン転位、ベックマン転位等の反応により分解してアミン類を放出する化合物や、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出するものが好ましく用いられる。具体的には、英国特許第９９８，９４９号明細書に記載のトリクロロ酢酸の塩、米国特許第４，０６０，４２０号明細書に記載のアルファースルホニル酢酸の塩、特開昭５９−１５７６３７号公報に記載のプロピール酸類の塩、２−カルボキシカルボキサミド誘導体、特開昭５９−１６８４４０号公報に記載の塩基成分に有機塩基の他にアルカリ金属、アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩、特開昭５９−１８０５３７号公報に記載のロッセン転位を利用したヒドロキサムカルバメート類、加熱によりニトリルを生成する特開昭５９−１９５２３７号公報に記載のアルドキシムカルバメート類等が挙げられる。その他、英国特許第９９８，９４５号、米国特許第３，２２０，８４６号、英国特許第２７９，４８０号の各明細書、特開昭５０−２２６２５号、同６１−３２８４４号、同６１−５１１３９号、同６１−５２６３８号、同６１−５１１４０号、同６１−５３６３４号〜同６１−５３６４０号、同６１−５５６４４号、同６１−５５６４５号の各公報に記載の熱塩基発生剤が有用である。

更に具体的に例を挙げると、トリクロロ酢酸グアニジン、トリクロロ酢酸メチルグアニジン、トリクロロ酢酸カリウム、フェニルスルホニル酢酸グアニジン、ｐ−クロロフェニルスルホニル酢酸グアニジン、ｐ−メタンスルホニルフェニルスルホニル酢酸グアニジン、フェニルプロピオール酸カリウム、フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルプロピオール酸セシウム、ｐ−クロロフェニルプロピオール酸グアニジン、ｐ−フェニレン−ビス−フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルスルホニル酢酸テトラメチルアンモニウム、フェニルプロピオール酸テトラメチルアンモニウムがある。上記の熱塩基発生剤は広い範囲で用いることができる。

本発明のインクジェット用インク組成物は、特開平８−２４８５６１号、同９−３４１０６号の各公報をはじめとし、既に公知となっている活性光線の照射で発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤を含有することも可能である。

本発明のインクジェット用インク組成物は、活性エネルギー線硬化性化合物、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め、顔料高濃度の濃縮液を調製しておき、活性エネルギー線硬化性化合物で希釈することが好ましい。通常の分散機による分散でも充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インク成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインクが調製される。インクは、孔径３μｍ以下、更には１μｍ以下のフィルターにて濾過することが好ましい。

本発明のインクジェット用インク組成物は、２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓと高めに調整することが好ましい。２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓのインクは、特に通常の４〜１０ＫＨｚの周波数を有するヘッドから、１０〜５０ＫＨｚの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。粘度が５ｍＰａ・ｓ未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、５０ｍＰａ・ｓを越える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出特性そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、全く吐出できなくなる。

また、本発明のインクジェット用インク組成物は、ピエゾヘッドにおいては、１０μＳ／ｃｍ以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインクとすることが好ましい。また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、０．５ｍＳ／ｃｍ以上の電導度に調整する必要がある。

本発明においては、インクの２５℃における表面張力が、２５〜４０ｍＮ／ｍの範囲にあることが好ましい。２５℃におけるインクの表面張力が２５ｍＮ／ｍ未満では、安定した出射が得られにくく、また４０ｍＮ／ｍを越えると所望のドット径を得ることができない。２５〜４０ｍＮ／ｍの範囲外では、本発明のように、インクの粘度や含水率を制御しながら出射、光照射しても、様々な支持体に対して均一なドット径を得ることが困難となる。

表面張力を調整するために、必要に応じて、界面活性剤を含有させてもよい。本発明に使用される界面活性剤としては、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第４級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、重合性基を有する界面活性化合物などが挙げられる。これらの中で特に、シリコーン変性アクリレート、フッ素変性アクリレート、シリコーン変性エポキシ、フッ素変性エポキシ、シリコーン変性オキセタン、フッ素変性オキセタンなど、不飽和結合やオキシラン、オキセタン環など重合性基を有する界面活性化合物が好ましい。

本発明のインクジェット用インク組成物には、上記説明した以外に様々な添加剤を用いることができる。例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類を添加することが出来る。記録媒体との密着性を改善するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。この場合、耐溶剤性やＶＯＣの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その使用量は０．１〜５％の範囲であり、好ましくは０．１〜３％である。また、ラジカル重合性モノマーと開始剤を組み合わせ、ラジカル・カチオンのハイブリッド型硬化インクとすることも可能である。

本発明の画像形成方法においては、インク組成物をインクジェット記録方式により記録材料上に吐出、描画し、次いで紫外線などの活性光線を照射してインクを硬化させる。

本発明の画像形成方法においては、インク出射時にはインクをインクジェットノズルごと加温し、インク液を低粘度させることが好ましい。加熱温度としては、３０〜８０℃、好ましくは３５〜６０℃である。

本発明において、インクが着弾し、活性光線を照射して硬化した後の総インク膜厚が２〜２０μｍであることが好ましい。スクリーン印刷分野の活性光線硬化型インクジェット記録では、総インク膜厚が２０μｍを越えているのが現状であるが、記録材料が薄いプラスチック材料であることが多い軟包装印刷分野では、前述した記録材料のカール・しわの問題でだけでなく、印刷物全体のこし・質感が変わってしまうという問題が有るため使えない。また、本発明では、各ノズルより吐出する液滴量が２〜１５ｐｌであることが好ましい。

本発明においては、高精細な画像を形成するためには、照射タイミングができるだけ早い方が好ましいが、本発明においては、インクの粘度または含水率が好ましい状態となるタイミングで光照射を開始することが好ましい。

詳しくは、発生光線の照射条件として、インク着弾後０．００１〜２．０秒の間に活性光線照射を開始することが好ましく、より好ましくは０．００１〜０．４秒である。また、０．１〜３秒後、好ましくは０．２〜１秒以内に、インクの流動性が失われる程度まで光照射を行なった後、終了させることが好ましい。上記条件とすることにより、ドット径の拡大やドット間の滲みを防止することができる。

活性光線の照射方法として、その基本的な方法が特開昭６０−１３２７６７号公報に開示されている。これによると、記録ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式で記録ヘッドと光源を走査する。照射は、インク着弾後、一定時間を置いて行われることになる。更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させる。米国特許第６，１４５，９７９号明細書では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメートされた光源を記録ヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へＵＶ光を照射する方法が開示されている。本発明の画像形成方法においては、これらのいずれの照射方法も用いることができる。

また、活性光線を照射を２段階に分け、まずインク着弾後０．００１〜２．０秒の間に前述の方法で活性光線を照射し、かつ、全印字終了後、更に活性光線を照射する方法も好ましい態様の１つである。活性光線の照射を２段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。

活性光線照射で用いる光源の例としては、水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複写ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ＵＶランプ、低圧水銀ランプ、ＵＶレーザー、キセノンフラッシュランプ、捕虫灯、ブラックライト、殺菌灯、冷陰極管、ＬＥＤをなどがあるが、これらに限定されないが、この中でも蛍光管が低エネルギー・低コストであり、好ましい。光源波長としては２５０〜３７０ｎｍ、好ましくには２７０〜３２０ｎｍに発光波長のピークがある光源が、感度の点で好ましい。照度は、１〜３０００ｍＷ／ｃｍ²、好ましくは１〜２００ｍＷ／ｃｍ²である。また、電子線により硬化させる場合には、通常３００ｅＶの以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、１〜５Ｍｒａｄの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。

本発明のインクジェット用インク組成物を用いて、被記録媒体（基材ともいう）への画像印字を行うが、被記録媒体としては、従来各種の用途で使用されている広汎な合成樹脂を全て用いることができ、具体的には、例えば、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブタジエンテレフタレート等が挙げられ、これらの合成樹脂基材の厚みや形状は何ら限定されない。

本発明で用いることのできる基材としては、通常の非コート紙、コート紙などの他に、非吸収性支持体を用いることができるが、その中でも、基材として非吸収性支持体を用いることが好ましい。

本発明においては、非吸収性支持体としては、各種非吸収性のプラスチックおよびそのフィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルム、ＰＥフィルム、ＴＡＣフィルムを挙げることができる。その他のプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ＡＢＳ、ポリアセタール、ＰＶＡ、ゴム類などが使用できる。また、金属類やガラス類にも適用可能である。これらの記録材料の中でも、特に熱でシュリンク可能な、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルムへ画像を形成する場合に本発明の構成は、有効となる。これらの基材はインクの硬化収縮、硬化反応時の発熱などにより、フィルムのカール、変形が生じやすいばかりでなく、インク膜が基材の収縮に追従し難い。

これら、各種プラスチックフィルムの表面エネルギーは大きく異なり、記録材料によってインク着弾後のドット径が変わってしまうことが、従来から問題となっていた。本発明の構成では、表面エネルギーの低いＯＰＰフィルム、ＯＰＳフィルムや表面エネルギーの比較的大きいＰＥＴまでを含むが、基材として、濡れ指数が４０〜６０ｍＮ／ｍであることが好ましい。

本発明において、包装の費用や生産コスト等の記録材料のコスト、プリントの作製効率、各種のサイズのプリントに対応できる等の点で、長尺（ウェブ）な記録材料を使用する方が有利である。

次いで、本発明の記録装置について説明する。

以下、本発明の記録装置について、図面を適宜参照しながら説明する。尚、図面の記録装置はあくまでも本発明の記録装置の一態様であり、本発明の記録装置はこの図面に限定されない。

図１は、本発明の記録装置の要部の構成を示す正面図である。記録装置１は、ヘッドキャリッジ２、記録ヘッド３、照射手段４、プラテン部５等を備えて構成される。この記録装置１は、記録材料Ｐの下にプラテン部５が設置されている。プラテン部５は、紫外線を吸収する機能を有しており、記録材料Ｐを通過してきた余分な紫外線を吸収する。その結果、高精細な画像を非常に安定に再現できる。

記録材料Ｐは、ガイド部材６に案内され、搬送手段（図示せず）の作動により、図１における手前から奥の方向に移動する。ヘッド走査手段（図示せず）は、ヘッドキャリッジ２を図１におけるＹ方向に往復移動させることにより、ヘッドキャリッジ２に保持された記録ヘッド３の走査を行なう。

ヘッドキャリッジ２は記録材料Ｐの上側に設置され、記録材料Ｐ上の画像印刷に用いる色の数に応じて後述する記録ヘッド３を複数個、吐出口を下側に配置して収納する。ヘッドキャリッジ２は、図１におけるＹ方向に往復自在な形態で記録装置１本体に対して設置されており、ヘッド走査手段の駆動により、図１におけるＹ方向に往復移動する。

尚、図１ではヘッドキャリッジ２がホワイト（Ｗ）、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）、ホワイト（Ｗ）の記録ヘッド３を収納するものとして描図を行なっているが、実施の際にはヘッドキャリッジ２に収納される記録ヘッド３の色数は適宜決められるものである。

記録ヘッド３は、インク供給手段（図示せず）により供給された活性光線硬化型インク（例えば、紫外線硬化インク）を、内部に複数個備えられた吐出手段（図示せず）の作動により、吐出口から記録材料Ｐに向けて吐出する。記録ヘッド３により吐出される紫外線硬化インクは色材、重合性モノマー、開始剤等を含んで組成されており、紫外線の照射を受けることで開始剤が触媒として作用することに伴なうモノマーの架橋、重合反応によって硬化する性質を有する。

記録ヘッド３は記録材料Ｐの一端からヘッド走査手段の駆動により、図１におけるＹ方向に記録材料Ｐの他端まで移動するという走査の間に、記録材料Ｐにおける一定の領域（着弾可能領域）に対して紫外線硬化インクをインク滴として吐出し、該着弾可能領域にインク滴を着弾させる。

上記走査を適宜回数行ない、１領域の着弾可能領域に向けて紫外線硬化インクの吐出を行なった後、搬送手段で記録材料Ｐを図１における手前から奥方向に適宜移動させ、再びヘッド走査手段による走査を行ないながら、記録ヘッド３により上記着弾可能領域に対し、図１における奥方向に隣接した次の着弾可能領域に対して紫外線硬化インクの吐出を行なう。

上述の操作を繰り返し、ヘッド走査手段及び搬送手段と連動して記録ヘッド３から紫外線硬化インクを吐出することにより、記録材料Ｐ上に紫外線硬化インク滴の集合体からなる画像が形成される。

照射手段４は特定の波長領域の紫外線を安定した露光エネルギーで発光する紫外線ランプ及び特定の波長の紫外線を透過するフィルターを備えて構成される。ここで、紫外線ランプとしては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマーレーザー、紫外線レーザー、冷陰極管、ブラックライト、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ）等が適用可能であり、帯状のメタルハライドランプ管、冷陰極管、水銀ランプ管もしくはブラックライトが好ましい。特に波長３６５ｎｍの紫外線を発光する冷陰極管及びブラックライトが滲み防止、ドット径制御を効率よく行なえ、かつ、硬化の際の皺も低減でき好ましい。ブラックライトを照射手段４の放射線源に用いることで、紫外線硬化インクを硬化するための照射手段４を安価に作製することができる。

照射手段４は、記録ヘッド３がヘッド走査手段の駆動による１回の走査によって紫外線硬化インクを吐出する着弾可能領域のうち、記録装置（紫外線硬化型インクジェットプリンタ）１で設定できる最大のものとほぼ同じ形状か、着弾可能領域よりも大きな形状を有する。

照射手段４はヘッドキャリッジ２の両脇に、記録材料Ｐに対してほぼ平行に、固定して設置される。

前述したようにインク吐出部の照度を調整する手段としては、記録ヘッド３全体を遮光することはもちろんであるが、加えて照射手段４と記録材料Ｐの距離ｈ１より、記録ヘッド３のインク吐出部３１と記録材料Ｐとの距離ｈ２を大きくしたり（ｈ１＜ｈ２）、記録ヘッド３と照射手段４との距離ｄを離したり（ｄを大きく）することが有効である。又、記録ヘッド３と照射手段４の間を蛇腹構造７にすると更に好ましい。

ここで、照射手段４で照射される紫外線の波長は、照射手段４に備えられた紫外線ランプ又はフィルターを交換することで適宜変更することができる。

図２は、インクジェット記録装置の要部の構成の他の一例を示す図である。

図２で示したインクジェット記録装置は、ラインヘッド方式と呼ばれており、ヘッドキャリッジ２に、各色のインクジェット記録ヘッド３を、記録材料Ｐの全幅をカバーするようにして、複数個、固定配置されている。ヘッドキャリッジ２は遮光されている。

一方、ヘッドキャリッジ２の下流側には、同じく記録材料Ｐの全幅をカバーするようにして、インク印字面全域をカバーするように配置されている照射手段４が設けられている。照明手段４に用いられる紫外線ランプは、図１に記載したのと同様のものを用いることができる。

このラインヘッド方式では、ヘッドキャリッジ２及び照射手段４は固定され、記録材料Ｐのみが、搬送されて、インク出射及び硬化を行って画像形成を行う。

実施例１
硬化組成物の作製
光重合性化合物、光重合開始剤、本発明の化合物及びその他添加剤を表１に示すように添加、溶解させて光硬化性組成物を作製した。

硬化組成物の硬化
以下の方法によって、塗膜を形成した後、硬化させた。得られた硬化組成物を合成紙（ユポ・コーポレーション（株）社製の合成紙ユポＦＧＳ）に膜厚が３μｍになるように塗布した後、８００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線をメタルハライドランプにより１秒以内で照射し、硬化物を得た。

硬化物の評価方法
得られた硬化物の物理的特性を下記に示す試験で評価した。
１）鉛筆引っかき試験：ＪＩＳ Ｋ ５４００に従って、荷重１０００ｇで鉛筆（三菱ユニ）によって各硬化物の硬度を測定した。

即ち、ＪＩＳ Ｋ５４０１に準拠した鉛筆引っ掻き試験機を用いた試験機法によって硬化膜の硬度を試験した。荷重は１０００ｇで三菱ユニ鉛筆を使用して行なった。評価は、塗膜のすり傷で判定し、濃度記号の隣り合う２つの鉛筆について、すり傷が２回以上と２回未満とになる１組を求め、２回未満となる鉛筆の濃度記号を塗膜の鉛筆引っかき値とした。
２）基盤目テープ剥離残留付着率試験：ＪＩＳ Ｋ ５４００の碁盤目試験で得た硬化組成物試料に粘着テ−プ（スコッチ＃２５０、住友スリ−エム製）を張り合わせて２ｋｇのロ−ラ−で１往復圧着した後、一気に剥がし、残留している碁盤目状の試料の数を調査した。
３）柔軟性の評価：硬化組成物を合成紙（ユポ・コーポレーション（株）社製の合成紙ユポＦＧＳ）に膜厚が３０μｍになるように塗布した後、８００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線をメタルハライドランプにより１秒以内で照射し、硬化物を得た。得られた硬化膜をＪＩＳ Ｋ ５６００ の耐屈曲性評価の方法にのっとり評価した。結果は表２に示す。

使用した化合物を以下に示す。
セロキサイド２０２１Ｐ：ダイセル化学工業社製
オキセタンＡ：２−（４−メトキシ−フェニル）−３，３−ジメチル−オキセタン
ＯＸＴ−２２１：東亞合成社製
ＯＸＴ−２１２：東亞合成社製
Ｖｆ７０１０：Ｖｉｋｏｆｌｅｘ７０１０（ＡＴＯＦＩＮＡ社製）
ＵＶＩ−６９９２：ダウ・ケミカル社製 プロピオンカーボネート５０％液
ＳＰ−１５２：アデカオプトマーＳＰ−１５２ 旭電化社製
塩基性化合物Ａ：Ｎ−エチルジエタノールアミン
塩基性化合物Ｂ：トリイソプロパノールアミン

表２より、本発明の試料は、膜硬度の劣化が殆ど無く、且つ、密着性及び柔軟性が向上していることが判る。

実施例２
《インク組成》
分散剤（ＰＢ８２２ 味の素ファインテクノ社製）を５質量部と、表３に記載の各光重合性化合物をステンレスビーカーに入れ、６５℃のホットプレート上で加熱しながら１時間かけて撹拌、混合して溶解させた。次いで、この溶液に各種顔料を３質量部添加した後、直径１ｍｍのジルコニアビーズ２００ｇと共にポリ瓶に入れ密栓し、ペイントシェーカーにて２時間分散処理を行った。次いで、ジルコニアビーズを取り除き、各光重合開始剤、塩基性化合物、界面活性剤等の各種添加剤を表３に記載の組み合わせで添加し、これをプリンター目詰まり防止のため０．８μｍメンブランフィルターで濾過して、インク組成物セットを調製した。

使用した顔料は下記の通り
Ｋ：ＣＩ ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ７
Ｃ：ＣＩ ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：３
Ｍ：ＣＩ ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ５７：１
Ｙ：ＣＩ ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３
Ｗ：酸化チタン（アナターゼ型：粒径０．２μｍ）
Ｌｋ：ＣＩ ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ７
Ｌｃ：ＣＩ ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：３
Ｌｍ：ＣＩ ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ５７：１
Ｌｙ：ＣＩ ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １３
《インクジェット画像形成方法》
ピエゾ型インクジェットノズルを備えた図１に記載の構成からなるインクジェット記録装置に、上記調製した各硬化組成物インクを装填し、巾６００ｍｍ、長さ２０ｍの長尺の各記録材料へ、下記の画像記録を連続して行った。インク供給系は、インクタンク、供給パイプ、ヘッド直前の前室インクタンク、フィルター付き配管、ピエゾヘッドからなり、前室タンクからヘッド部分まで断熱して５０℃の加温を行った。なお、各硬化組成物インクの粘度にあわせてヘッド部を加温し、２〜１５ｐｌの液滴量のマルチサイズドットを７２０×７２０ｄｐｉ（ｄｐｉとは１インチ、即ち２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）の解像度で吐出できるよう駆動して、上記記載の硬化組成物インクを連続吐出した。また、記録材料は面ヒーターにより５０℃に加温した。着弾した後、キャリッジ両脇の照射光源Ａ：高圧水銀ランプＶＺｅｒｏ０８５（ＩＮＴＥＧＲＡＴＩＯＮ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ社製）または、照射光源Ｂ：メタルハライドランプ（日本電池社製 ＭＡＬ４００ＮＬ 電力＝３ｋＷ・ｈｒ １２０Ｗ／ｃｍ）により瞬時（着弾後０．５秒未満）に硬化させた。画像記録後に、総インク膜厚を測定したところ、２．３〜１３μｍの範囲であった。なお、インクジェット画像の形成は、上記方法に従って、３０℃・８０％ＲＨと２５℃・２０％ＲＨの環境下で印字を行った。

なお、各照射光源の照度は、岩崎電機社製のＵＶＰＦ−Ａ１を用いて、２５４ｎｍの積算照度を測定した。

また、記載した各記録材料の略称の詳細は、以下の通りである。

合成紙：ユポコーポレーション社製合成紙 ユポＦＧＳ
ＰＶＣ：ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ｃｈｉｏｒｉｄｅ
粘度の測定
２５℃、せん断速度１０００１／ｓ時の粘度を測定した。

射出性の評価
連続でインクを３０分間吐出させた後、インク欠の状況を目視にて評価した。
◎：欠がなく、良好なレベル
○：欠がわずかにあるが、問題の無いレベル
△：欠があり、画質に影響を与えるレベル
×：欠が多発し、許容できないレベル。

インクジェット記録画像の評価
上記画像形成方法で記録した各画像について、下記の各評価を行った。目標濃度で６ポイントＭＳ明朝体文字を印字し、文字のガサツキをルーペで拡大評価し、下記の基準に則り文字品質の評価を行った。
◎：ガサツキなし
○：僅かにガサツキが見える
△：ガサツキが見えるが、文字として判別でき、ギリギリ使えるレベル
×：ガサツキがひどく、文字がかすれていて使えないレベル。

（色混じり（滲み、皺））
７２０ｄｐｉで、Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｋ各色１ドットが隣り合うように印字し、隣り合う各色ドットをルーペで拡大し、滲み及び皺の具合を目視観察し、下記の基準に則り色混じりの評価を行った。
◎：隣り合うドット形状が真円を保ち、滲みがない
○：隣り合うドット形状はほぼ真円を保ち、ほとんど滲みがない
△：隣り合うドットが少し滲んでいてドット形状が少しくずれているが、ギリ
ギリ使えるレベル
×：隣り合うドットが滲んで混じりあっており、また、重なり部に皺の発生が
あり、使えないレベル。

硬化膜硬度、硬化膜の耐屈曲性の評価
シアン顔料を分散したシアンインクを用い上記のインクジェット画像形成方法によって印刷して作製した硬化膜の物理的特性を下記に示す試験で評価した。
１）鉛筆引っかき試験：ＪＩＳ Ｋ ５４００に従って、各硬化物の硬度を測定した。
２）柔軟性の評価：硬化組成物を合成紙（ユポ・コーポレーション（株）社製の合成紙ユポＦＧＳ）に膜厚が３０μｍになるように射出塗布した後、８００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線をメタルハライドランプにより１秒以内で照射し、硬化膜を得た。得られた硬化膜をＪＩＳ Ｋ ５６００ の耐屈曲性評価の方法にのっとり評価した。結果を表４に示す。

使用した化合物を以下に示す。
Ｆ１４０５：メガファックスＦ１４０５
１４５Ｐ：ハリタック１４５Ｐ（ロジン変性マレイン酸樹脂 播磨化学社製）
Ｒ１００：ハリタックＲ１００（ロジン変性マレイン酸樹脂 播磨化学社製）

表４の結果より、本発明の試料は、射出性も良く、かつ、画質も向上していることが判る。本発明の試料は、環境の違いによらず、良好な硬化性を示すことが判る。

本発明に用いられる記録装置の要部の構成を示す図である。 本発明に用いられる別の記録装置の要部の構成を示す図である。

符号の説明

１ 記録装置
２ ヘッドキャリッジ
３ 記録ヘッド
４ 照射手段
５ プラテン部
６ ガイド部材
７ 蛇腹構造
Ｐ 記録材料

Claims (18)

1. 光重合性化合物として下記一般式（Ａ）で表されるオキセタン環を有する化合物の少なくとも１種とエポキシ化合物の少なくとも１種を含有することを特徴とする活性光線硬化型インク。
   

   

   〔式中、Ｒ₁₀₁、Ｒ₁₀₂、Ｒ₁₀₃、Ｒ₁₀₄、Ｒ₁₀₅、Ｒ₁₀₆は置換基を表し、ｍ１１、ｎ１１は０または１を表す。Ｒ₁₀₇は炭素数４以上の置換あるいは無置換のアルキル基を表し、このアルキル基は直鎖アルキル基でも分岐アルキル基または環状のアルキル基でも良い。〕
2. エポキシ化合物が下記一般式（Ｂ）で表される化合物の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１に記載の活性光線硬化型インク。
   

   

   〔式中、Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂は置換基を表し、ｍ２０、ｎ２０は０、１または２を表す。ｒ０は１〜３を表す。Ｌ₀は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ０＋１価の連結基または単結合を表す。〕
3. 光重合性化合物として、前記一般式（Ａ）で表されるオキセタン化合物と共に、２位に置換基を有さないオキセタン環を有する化合物を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の活性光線硬化型インク。
4. 一般式（Ａ）のＲ₁₀₇が炭素数７以上の置換、無置換のアルキル基であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
5. 一般式（Ａ）のＲ₁₀₇がアルコキシ基で置換されたアルキル基であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
6. エポキシ化合物が下記一般式（Ｉ）または（II）で表される化合物の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
   

   

   〔式中、Ｒ₂₁₁、Ｒ₂₁₂は置換基を表し、ｍ２１、ｎ２１は０、１または２を表す。ｐ１、ｑ１はそれぞれ０または１を表す。ｒ１は１〜３を表す。Ｌ₁は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ１＋１価の連結基または単結合を表す。〕
   

   

   〔式中、Ｒ₂₂₁、Ｒ₂₂₂は置換基を表し、ｍ２２、ｎ２２は０、１または２を表す。ｐ２、ｑ２はそれぞれ０または１を表す。ｒ２は１〜３を表す。Ｌ₂は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ２＋１価の連結基または単結合を表す。〕
7. エポキシ化合物が下記一般式（III）または（IV）で表される化合物の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
   

   

   〔式中、Ｒ₂₃₁、Ｒ₂₃₂は置換基を表し、ｍ２３、ｎ２３は０または１を表す。ｐ３、ｑ３はそれぞれ０または１を表す。ｒ３は１〜３を表す。Ｌ₃は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ３＋１価の連結基または単結合を表す。〕
   

   

   〔式中、Ｒ₂₄₁、Ｒ₂₄₂は置換基を表し、ｍ２４、ｎ２４は０または１を表す。ｐ４、ｑ４はそれぞれ０または１を表す。ｒ４は１〜３を表す。Ｌ₄は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ４＋１価の連結基または単結合を表す。〕
8. ２位に置換基を有さないオキセタン環を有する化合物が二つ以上のオキセタン環を有する多官能のオキセタン化合物であることを特徴とする請求項３〜７のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
9. 活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
10. 活性光線の照射により酸を発生する化合物がオニウム塩化合物であることを特徴とする請求項９に記載の活性光線硬化型インク。
11. 活性光線の照射により酸を発生する化合物がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする請求項９に記載の活性光線硬化型インク。
12. 活性光線の照射により酸を発生する化合物が下記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）または（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩化合物であることを特徴とする請求項９に記載の活性光線硬化型インク。
    

    

    〔式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃は置換基を表し、ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表す。Ｘ₁₁ ^-は対イオンを表す。〕
    

    

    〔式中、Ｒ₁₄は置換基を表し、ｑは０〜２の整数を表す。Ｒ₁₅、Ｒ₁₆は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ₁₂ ^-は対イオンを表す。〕
    

    

    〔式中、Ｒ₁₇は置換基を表し、ｒは０〜３の整数を表す。Ｒ₁₈は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ₁₃ ^-は対イオンを表す。〕
13. ２５℃における粘度が７〜４０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
14. 顔料を含有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の活性光線硬化型インク。
15. インクジェット記録ヘッドより、請求項１４に記載の活性光線硬化型インクを記録材料上に画像様に噴射し、該記録材料上に印刷を行う画像形成方法であって、該活性光線硬化型インクが着弾した後、０．００１〜１．０秒の間に活性光線を照射して活性光線硬化型インクを硬化させることを特徴とする画像形成方法。
16. インクジェット記録ヘッドより、請求項１４に記載の活性光線硬化型インクを記録材料上に画像様に噴射して該記録材料上に印刷を行う画像形成方法であって、該インクジェット記録ヘッドの各ノズルより吐出する最小インク液滴量が、２〜１５ｐｌであることを特徴とする画像形成方法。
17. 請求項１５又は１６に記載の画像形成方法に用いられるインクジェット記録装置であって、活性光線硬化型インク及び記録ヘッドを３５〜１００℃に加熱した後、吐出することを特徴とするインクジェット記録装置。
18. 請求項１５又は１６に記載の画像形成方法に用いられるインクジェット記録装置であって、３５〜６０℃に加温した記録媒体に、吐出することを特徴とするインクジェット記録装置。

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