JP2005029632A - インクジェット用インク組成物、画像形成方法及びエポキシ化合物 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明の目的は、低照度光源を用いても、湿度などの印字環境による影響を受けず、インク硬化性、滲み耐性に優れた高品位の画像が得られ、かつ皮膚感作性がなく作業環境面からも好ましいインクジェット用インク組成物、それを用いた画像形成方法及び新規なエポキシ化合物を提供することにある。
【解決手段】下記一般式（Ａ）で表されるエポキシ化合物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
【化１】

〔式中、Ｒ_１００は置換基を表し、ｍ０は０〜２の整数を、ｒ０は１〜３の整数を表す。Ｌ_０は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ０＋１価の連結基または単結合を表す。〕
【選択図】 なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インクジェット用インク組成物、画像形成方法及び新規のエポキシ化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、インクジェット記録方式は簡便・安価に画像を作成出来るため、写真、各種印刷、マーキング、カラーフィルター等の特殊印刷など、様々な印刷分野に応用されてきている。特に、微細なドットを出射、制御する記録装置や、色再現域、耐久性、出射適性等を改善したインク及びインクの吸収性、色材の発色性、表面光沢などを飛躍的に向上させた専用紙を用い、銀塩写真に匹敵する画質を得ることも可能となっている。今日のインクジェット記録方式の画質向上は、記録装置、インク、専用紙の全てが揃って初めて達成されている。
【０００３】
しかしながら、専用紙を必要とするインクジェットシステムは、記録媒体が制限されること、記録媒体のコストアップが問題となる。そこで、専用紙と異なる被転写媒体へインクジェット方式により記録する試みが多数なされている。具体的には、室温で固形のワックスインクを用いる相変化インクジェット方式、速乾性の有機溶剤を主体としたインクを用いるソルベント系インクジェット方式や、記録後紫外線（ＵＶ）光により架橋させるＵＶインクジェット方式などである。
【０００４】
中でも、ＵＶインクジェット方式は、ソルベント系インクジェット方式に比べ比較的低臭気であり、速乾性、インク吸収性の無い記録媒体への記録が出来る点で、近年注目されつつあり、紫外線硬化型インクジェットインクが種々開示されている（例えば、特許文献１、２参照。）。
【０００５】
紫外線硬化型インクとしては、主にラジカル重合型、カチオン重合型が知られている。紫外線硬化型インクジェット記録方式においては、画質、即ち着弾ドット径は、着弾後の光照射タイミング、光照射照度、エネルギー、インク液滴サイズ、インクの感度、表面エネルギー、粘度、基材の濡れ性、着弾配列、誤差拡散パターンなどの因子により制御される。特に、画質を大きく左右する要因としては、インクの感度、粘度、表張、基材濡れ性と露光条件である。この中でも、インク感度は、ラジカル重合系の場合は酸素による重合阻害の影響を受けるためインク膜厚や露光照度に大きく依存し、カチオン重合系においては温度と湿度に大きく依存する。
【０００６】
ラジカル重合型紫外線硬化インクにおいては、酸素による重合阻害を改善するためには、酸素阻害を受けないモノマー、開始剤、開始助剤の工夫や、窒素などの不活性化ガスによりパージする方法等が知られている。
【０００７】
カチオン重合型紫外線硬化インクにおいては、湿度依存の影響を改善するために、着弾したインクを加熱する方法が知られている（例えば、特許文献３参照。）。カチオン重合型紫外線硬化インクで用いられるカチオン重合性のモノマーとしては、オキシラン環を持つエポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物が知られている。
【０００８】
特に、エポキシ化合物とオキセタン化合物とを共に用いることにより、重合速度を顕著に増加させることが知られている。例えば、東亞合成研究年報 ＴＲＥＮＤ２号（１９９９年）、「オキセタン化合物の光カチオン硬化システムへの応用」、特許第２６７９５８６号公報等に記載されている。
【０００９】
この技術の応用例として、紫外線硬化型のインクジェットに用いることが開示されている（例えば、特許文献４参照。）。紫外線によりインクを硬化する紫外線硬化型インクジェット記録方式は、インク吸収性の乏しい基材に対しても画像形成する方法として、近年注目を集めている。
【００１０】
一般的には、紫外線硬化型のインクとしては、ラジカル重合型インクのものが良く知られ、実用化されている。一方、カチオン重合型のインクは、ラジカル重合型インクに見られるような酸素による重合阻害が無く、低照度の光源を用いることができること、アクリルモノマーが持つ臭気も無いこと、素材が低刺激性であることなど有利な点があるが、未だ実用化に至っていない。
【００１１】
その一因としては、高湿下で著しく感度低下する性質、温度により感度が依存する性質が挙げられる。環境依存性のあるインクは、その画質が環境に依存するという本質的な課題を有する。またカチオン重合型インクに主に用いられているエポキシモノマーの多くは、高い皮膚感作性を有しており、使用できる環境等に対しても自ずと制限を受けているのが現状である。
【００１２】
【特許文献１】
特開平６−２００２０４号公報
【００１３】
【特許文献２】
特表２０００−５０４７７８号公報
【００１４】
【特許文献３】
特開２０００−１３７３７５号公報
【００１５】
【特許文献４】
特開２００１−２２０５２６号公報
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、低照度光源を用いても、湿度などの印字環境による影響を受けず、インク硬化性、滲み耐性に優れた高品位の画像が得られ、かつ皮膚感作性がなく作業環境面からも好ましいインクジェット用インク組成物、それを用いた画像形成方法及び新規なエポキシ化合物を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記課題は、以下の構成により達成された。
【００１８】
１．前記一般式（Ａ）で表されるエポキシ化合物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
【００１９】
２．前記一般式（Ｉ）で表されるエポキシ化合物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
【００２０】
３．前記一般式（ＩＩ）で表されるエポキシ化合物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
【００２１】
４．前記一般式（ＩＩＩ）〜一般式（ＶＩ）で表されるエポキシ化合物から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
【００２２】
５．紫外線照射により酸を発生する光酸発生剤を含有することを特徴とする前記１〜４項のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物。
【００２３】
６．前記光酸発生剤がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする前記４項に記載のインクジェット用インク組成物。
【００２４】
７．オキセタン化合物を含有することを特徴とする前記１〜６項のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物。
【００２５】
８．少なくとも１つのノズルを有するインクジェット記録ヘッドより、前記１〜７項のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物を画像様に吐出し、インクジェット記録材料上にインクを着弾させた後、紫外線を照射することにより該インクジェット用インク組成物を硬化させることを特徴とする画像形成方法。
【００２６】
９．前記一般式（Ａ）で表されることを特徴とするエポキシ化合物。
１０．前記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とするエポキシ化合物。
【００２７】
１１．前記一般式（ＩＩ）で表されることを特徴とするエポキシ化合物。
１２．前記一般式（ＩＩＩ）〜一般式（ＶＩ）で表される少なくとも１つであることを特徴とするエポキシ化合物。
【００２８】
１３．分子量を分子内のエポキシ基の総数で除した数値が１６０以上、３００以下であることを特徴とする前記９〜１２項のいずれか１項に記載のエポキシ化合物。
【００２９】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、エポシキ化合物として、前記一般式（Ａ）で表される脂環式エポキシド化合物、前記一般式（Ｉ）で表される脂環式エポキシド化合物、前記一般式（ＩＩ）で表される脂環式エポキシド化合物、あるいは前記一般式（ＩＩＩ）〜一般式（ＶＩ）で表される脂環式エポキシド化合物から選ばれる少なくとも１種を用いたインクジェット用インク組成物により、低照度光源を用いても、湿度などの印字環境による影響を受けず、インク硬化性、滲み耐性に優れた高品位の画像が得られ、かつ皮膚感作性がなく作業環境面からも好ましいインクジェット用インク組成物を実現できることを見出し、本発明に至った次第である。
【００３０】
更に、上記構成に加えて、紫外線照射により酸を発生する光酸発生剤、好ましくはスルホニウム塩化合物を用いること、オキセタン化合物を含有することにより、上記本発明の目的効果がより一層発揮されることを見出したものである。
【００３１】
以下、本発明の詳細について説明する。
はじめに、本発明に係る前記一般式（Ａ）、一般式（Ｉ）〜一般式（ＶＩ）で表される脂環式エポキシド化合物の詳細について説明する。
【００３２】
前記一般式（Ａ）、一般式（Ｉ）〜一般式（ＶＩ）において、Ｒ_１００、Ｒ_１０１、Ｒ_１０２、Ｒ_１０３、Ｒ_１０４、Ｒ_１０５、Ｒ_１０６は各々置換基を表す。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）等が挙げられる。上記置換基の中でも好ましいものは、アルキル基、アルコキシ基、またはアルコキシカルボニル基である。
【００３３】
前記一般式（Ａ）、一般式（Ｉ）〜一般式（ＶＩ）において、ｍ０、ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｍ４、ｍ６は各々０〜２の整数を表し、０または１が好ましい。また、ｍ５は１または２を表す。
【００３４】
前記一般式（Ａ）において、Ｌ_０は、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ０＋１価の連結基あるいは単結合を、前記一般式（Ｉ）において、Ｌ_１は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ１＋１価の連結基あるいは単結合を、前記一般式（ＩＩ）において、Ｌ_２は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ２＋１価の連結基あるいは単結合を、前記一般式（ＩＩＩ）、前記一般式（ＩＶ）において、Ｌ_３、Ｌ_４は各々主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数８の２価の連結基あるいは単結合を表す。
【００３５】
上記主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い２価の連結基の例としては、以下の列挙する基及びこれらの基と−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
【００３６】
メチレン基［−ＣＨ_２−］、
エチリデン基［＞ＣＨＣＨ_３］、
イソプロピリデン［＞Ｃ（ＣＨ_３）_２］
１，２−エチレン基［−ＣＨ_２ＣＨ_２−］、
１，２−プロピレン基［−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−］、
１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−］、
２，２−ジメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２−］、
２，２−ジメトキシ−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ_２Ｃ（ＯＣＨ_３）_２ＣＨ_２−］、
２，２−ジメトキシメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＨ_３）_２ＣＨ_２−］、
１−メチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２−］、
１，４−ブタンジイル基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−］、
１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−］、
オキシジエチレン基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−］、
チオジエチレン基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣＨ_２ＣＨ_２−］、
３−オキソチオジエチレン基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＯＣＨ_２ＣＨ_２−］、
３，３−ジオキソチオジエチレン基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＳＯ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−］、
１，４−ジメチル−３−オキサ−１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−］、
３−オキソペンタンジイル基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＣＨ_２ＣＨ_２−］、
１，５−ジオキソ−３−オキサペンタンジイル基［−ＣＯＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＯ−］、
４−オキサ−１，７−ヘプタンジイル基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−］、
３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−］、
１，４，７−トリメチル−３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−］、
５，５−ジメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−］、
５，５−ジメトキシ−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｃ（ＯＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−］、
５，５−ジメトキシメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２ＯＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２−］、
４，７−ジオキソ−３，８−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基［−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ−ＯＣＨ_２ＣＨ_２−］、
３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯ−ＯＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＣＨ_２ＣＨ_２−］、
１，３−シクロペンタンジイル基［−１，３−Ｃ_５Ｈ_８−］、
１，２−シクロヘキサンジイル基［−１，２−Ｃ_６Ｈ_１０−］、
１，３−シクロヘキサンジイル基［−１，３−Ｃ_６Ｈ_１０−］、
１，４−シクロヘキサンジイル基［−１，４−Ｃ_６Ｈ_１０−］、
２，５−テトラヒドロフランジイル基［２，５−Ｃ_４Ｈ_６Ｏ−］
ｐ−フェニレン基［−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−］、
ｍ−フェニレン基［−ｍ−Ｃ_６Ｈ_４−］、
α，α′−ｏ−キシリレン基［−ｏ−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−］、
α，α′−ｍ−キシリレン基［−ｍ−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−］、
α，α′−ｐ−キシリレン基［−ｐ−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_２−］、
フラン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ_２−Ｃ_４Ｈ_２Ｏ−ＣＨ_２−］
チオフェン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ_２−Ｃ_４Ｈ_２Ｓ−ＣＨ_２−］
イソプロピリデンビス−ｐ−フェニレン基［−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ（ＣＨ_３）_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−］
３価以上の連結基としては、上記で列挙した２価の連結基から任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基、及びそれらと−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
【００３７】
Ｌ_０、Ｌ_１、Ｌ_２、Ｌ_３、Ｌ_４は各々置換基を有していても良い。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）等が挙げられる。置換基として好ましいのは、アルキル基、アルコキシ基、またはアルコキシカルボニル基である。
【００３８】
Ｌ_０、Ｌ_１、Ｌ_２としては、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜８の２価の連結基が好ましく、あるいはＬ_０、Ｌ_１、Ｌ_２、Ｌ_３、Ｌ_４としては各々主鎖が炭素のみからなる炭素数１〜５の２価の連結基がより好ましい。
【００３９】
ｐ１、ｑ１は各々０または１を表し、ｐ１＋ｑ１が１以上であることが好ましい。ｐ２、ｑ２は各々０または１を表し、各々１が好ましい。ｐ３、ｐ４は各々０または１を表す。
【００４０】
以下に、好ましい脂環式エポキシドの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４１】
【化８】

【００４２】
【化９】

【００４３】
【化１０】

【００４４】
【化１１】

【００４５】
【化１２】

【００４６】
【化１３】

【００４７】
【化１４】

【００４８】
【化１５】

【００４９】
【化１６】

【００５０】
【化１７】

【００５１】
本発明に係る上記各脂環式エポキシド化合物においては、分子量を分子内のエポキシ基の総数で除した数値が１６０以上、３００以下であることが好ましい。
【００５２】
本発明に係る前記一般式（Ａ）、一般式（Ｉ）〜一般式（ＶＩ）で表される脂環式エポキシド化合物の合成は、例えば、以下に列挙する特許明細書に記載の方法に準じて行うことができる。
【００５３】
Ａ：米国特許２，７４５，８４７号明細書
Ｂ：米国特許２，７５０，３９５号明細書
Ｃ：米国特許２，８５３，４９８号明細書
Ｄ：米国特許２，８５３，４９９号明細書
Ｅ：米国特許２，８６３，８８１号明細書
以下に、上記特許明細書に記載されている方法に準じて、上記例示化合物の合成例の一例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５４】
〔合成例１〕
例示化合物ＥＰ−９：Ｅｔｈｙｌｅｎｇｌｙｃｏｌ−ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３，４−ｅｐｏｘｙ−ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の合成
〈Ｍｅｔｈｙｌ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の合成〉
公知のＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応によって、イソプレンとアクリル酸メチルを原料に、Ｍｅｔｈｙｌ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）を合成した。反応は、文献（Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．，２８５，１９８５，３３３−３４２、Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．，９５，５，１９９２，２２９３−２２９７、Ａｃｔａ．Ｃｈｅｍ．Ｓｃａｎｄ．，４７，６，１９９３，５８１−５９１）あるいは米国特許第１，９４４，７３１号明細書等に記載された条件に準じた反応条件で行ない、高収率で目的の化合物を得た。
【００５５】
〈Ｅｔｈｙｌｅｎｇｌｙｃｏｌ−ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の合成〉
Ｍｅｔｈｙｌ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の３４０ｇ（２ｍｏｌ）と、エチレングリコール６２ｇ（１ｍｏｌ）とにトルエンスルホン酸１水和物１ｇを添加し、８０〜９０℃で８時間反応した。反応液を重曹水で洗浄した後、減圧蒸留を行い、目的の化合物を得た。収率は９２％だった。
【００５６】
〈例示化合物ＥＰ−９の合成〉
Ｅｔｈｙｌｅｎｇｌｙｃｏｌ−ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の３０６ｇ（１ｍｏｌ）を２Ｌの三頭フラスコに入れ、内温を３５〜４０℃に保ったまま、過酢酸含有率が２５質量％のアセトン溶液７７０ｇ（過酢酸１９２ｇ（２．５ｍｏｌ））を４時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間後反応した。反応液は−１１℃で一晩保存した後、過酢酸の残量を調べ理論量の９８％以上が反応していることを確認した。
【００５７】
次いで、反応液をトルエン１Ｌで希釈し、水流アスピレーターによる減圧下で５０℃に加熱し溜出物がなくなるまで低沸点成分を溜去し除去した。残った反応組成物を減圧蒸留し、目的の例示化合物ＥＰ−９を得た。収率は７８％であった。
【００５８】
得られた例示化合物ＥＰ−９の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ分析で確認した。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：１．３１（ｓ，６Ｈ，ＣＨ_３−）、１．４５〜２．５０（ｍ，１４Ｈ，シクロヘキサン環）、３．１０（ｍ，２Ｈ，エポキシ根元）、４．１０（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ_２−Ｏ−）
〔合成例２〕
例示化合物ＥＰ−１２：Ｐｒｏｐａｎｅ−１，２−ｄｉｏｌ−ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３，４−ｅｐｏｘｙ−ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の合成
〈Ｐｒｏｐａｎｅ−１，２−ｄｉｏｌ−ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の合成〉
Ｍｅｔｈｙｌ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の３４０ｇ（２ｍｏｌ）と、Ｐｒｏｐａｎｅ−１，２−ｄｉｏｌの７６ｇ（１ｍｏｌ）にトルエンスルホン酸１水和物１ｇを添加し、８０〜９０℃で８時間反応した。反応液を重曹水で洗浄した後、減圧蒸留を行い目的の化合物を得た。収率は９０％だった。
【００５９】
〈例示化合物ＥＰ−１２の合成〉
Ｐｒｏｐａｎｅ−１，２−ｄｉｏｌ−ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の３２０ｇ（１ｍｏｌ）を２Ｌの三頭フラスコに入れ、内温を３５〜４０℃に保ったまま、過酢酸含有率が２５質量％のアセトン溶液７７０ｇ（過酢酸１９２ｇ（２．５ｍｏｌ））を４時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間後反応した。反応液は−１１℃で一晩保存した後、過酢酸の残量を調べ理論量の９８％以上が反応していることを確認した。
【００６０】
次いで、反応液をトルエン１Ｌで希釈し、水流アスピレーターによる減圧下で５０℃に加熱し溜出物がなくなるまで低沸点成分を溜去し除去した。
【００６１】
残った反応組成物を減圧蒸留し、目的の例示化合物ＥＰ−１２を得た。収率は７５％だった。
【００６２】
得られた例示化合物ＥＰ−１２の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ分析で確認した。１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：１．２３（ｄ，３Ｈ，ＣＨ_３−）、１．３１（ｓ，６Ｈ，ＣＨ_３−）、１．４５〜２．５０（ｍ，１４Ｈ，シクロヘキサン環）、３．１５（ｍ，２Ｈ，エポキシ根元）、４．０３（ｍ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−）、４．１８（ｍ，１Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−）、５．１５（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−Ｏ−）
〔合成例３〕
例示化合物ＥＰ−１７：２，２−Ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｐｒｏｐａｎｅ−１，３−ｄｉｏｌ−ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３，４−ｅｐｏｘｙ−ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の合成
〈２，２−Ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｐｒｏｐａｎｅ−１，３−ｄｉｏｌ−ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の合成〉
Ｍｅｔｈｙｌ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の３４０ｇ（２ｍｏｌ）と、２，２−Ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｐｒｏｐａｎｅ−１，３−ｄｉｏｌの１０４ｇ（１ｍｏｌ）とに、トルエンスルホン酸１水和物１ｇを添加し８０〜９０℃で１２時間反応した。反応液を重曹水で洗浄した後、減圧蒸留を行い目的の化合物を得た。収率は８６％だった。
【００６３】
〈例示化合物ＥＰ−１７の合成〉
２，２−Ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｐｒｏｐａｎｅ−１，３−ｄｉｏｌ−ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｅｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ）の３４８ｇ（１ｍｏｌ）を２Ｌの三頭フラスコに入れ、内温を４０℃に保ったまま、過酢酸含有率が２５質量％のアセトン溶液７７０ｇ（過酢酸１９２ｇ（２．５ｍｏｌ））を４時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間後反応した。反応液は−１１℃で一晩保存した後、過酢酸の残量を調べ理論量の９８％以上が反応していることを確認した。
【００６４】
次いで、反応液をトルエン１Ｌで希釈し、水流アスピレーターによる減圧下で５０℃に加熱し溜出物がなくなるまで低沸点成分を溜去し除去した。
【００６５】
残った反応組成物を減圧蒸留し、目的の例示化合物ＥＰ−１７を得た。収率は７０％だった。
【００６６】
例示化合物ＥＰ−１７の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ分析で確認した。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：０．９６（ｓ，６Ｈ，ＣＨ_３−）、１．３１（ｓ，６Ｈ，ＣＨ_３−）、１．４５〜２．５０（ｍ，１４Ｈ，シクロヘキサン環）、３．００（ｍ，２Ｈ，エポキシ根元）、３．８７（ｓ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ_２−）
〔合成例４〕
例示化合物ＥＰ−３１：１，３−Ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３，４−ｅｐｏｘｙ−ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｍｅｔｈｙｌｏｘｙ）−２−ｐｒｏｐａｎｏｌの合成
〈４−Ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｍｅｔｈａｎｏｌの合成〉
公知のＤｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応によって、イソプレンとアクロレインを原料に、４−Ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌ ａｌｄｅｈｙｄｅを合成した。反応は、文献（Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１９，１５，１９９７，３５０７−３５１２、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，４０，３２，１９９９，５８１７−５８２２）等に記載された条件に準じた反応条件で行ない、高収率で目的の化合物を得た。次いで、この化合物を還元することで４−Ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｍｅｔｈａｎｏｌを高収率で合成した。
【００６７】
〈１，２−Ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌｏｘｙ）−２−ｐｒｏｐａｎｏｌの合成〉
４−Ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｍｅｔｈａｎｏｌの２８４ｇ（２ｍｏｌ）と、エピクロルヒドリンを９２ｇ（１ｍｏｌ）含むアセトン１Ｌ溶液に炭酸カリウムを３０５ｇ（２．２ｍｏｌ）添加し、５０℃で８時間反応した。析出した塩をろ過によって除去し、反応液を減圧濃縮した後、残った粗生物の減圧蒸留を行い目的の化合物を得た。収率は９０％だった。
【００６８】
〈例示化合物ＥＰ−３１の合成〉
１，２−Ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌｏｘｙ）−２−ｐｒｏｐａｎｏｌの３０８ｇ（１ｍｏｌ）を２Ｌの三頭フラスコに入れ、内温を３５〜４０℃に保ったまま、過酢酸含有率が２５質量％のアセトン溶液７７０ｇ（過酢酸１９２ｇ（２．５ｍｏｌ））を４時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間後反応した。反応液は−１１℃で一晩保存した後、過酢酸の残量を調べ理論量の９８％以上が反応していることを確認した。
【００６９】
次いで、反応液をトルエン１Ｌで希釈し、水流アスピレーターによる減圧下で５０℃に加熱し溜出物がなくなるまで低沸点成分を溜去し除去した。
【００７０】
残った反応組成物を減圧蒸留し、目的の例示化合物ＥＰ−３１を得た。収率は８３％だった。
【００７１】
例示化合物ＥＰ−３１の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ分析で確認した。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ_３） δ（ｐｐｍ）：１．３１（ｓ，６Ｈ，ＣＨ_３−）、１．４〜２．０（ｍ，１４Ｈ，シクロヘキサン環）、２．７（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ）、３．１０（ｍ，２Ｈ，エポキシ根元）、３．４５（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ_２−Ｏ−）、３．５０（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ_２−Ｏ−）、３．９２（ｍ，１Ｈ，＞ＣＨ−）
〔合成例５〕
例示化合物ＥＰ−３５：Ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３，４−ｅｐｏｘｙ−ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｏｘａｌａｔｅの合成
〈Ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｓｕｃｃｉｎａｔｅの合成〉
４−Ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｍｅｔｈａｎｏｌの２８４ｇ（２ｍｏｌ）と、コハク酸無水物を１００ｇ（１ｍｏｌ）含むトルエン１Ｌ溶液とに、トルエンスルホン酸１水和物５ｇを添加し、生成する水を水分離装置で除去しながら１１０〜１２０℃で８時間反応した。反応液を重曹水で洗浄した後、減圧濃縮でトルエンを溜去した。残った粗生物の減圧蒸留を行い目的の化合物を得た。収率は９０％だった。
【００７２】
〈例示化合物ＥＰ−３５の合成〉
Ｂｉｓ−（４−ｍｅｔｈｙｌ−３−ｃｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｍｅｔｈｙｌ）ｓｕｃｃｉｎａｔｅの３３５ｇ（１ｍｏｌ）を２Ｌの三頭フラスコに入れ、内温を３５〜４０℃に保ったまま、過酢酸含有率が２５質量％のアセトン溶液７７０ｇ（過酢酸１９２ｇ（２．５ｍｏｌ））を４時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間後反応した。反応液は−１１℃で一晩保存した後、過酢酸の残量を調べ理論量の９８％以上が反応していることを確認した。
【００７３】
次いで、反応液をトルエン１Ｌで希釈し、水流アスピレーターによる減圧下で５０℃に加熱し、溜出物がなくなるまで低沸点成分を溜去し除去した。
【００７４】
残った反応組成物を減圧蒸留し、例示化合物ＥＰ−３５を得た。収率は７５％だった。
【００７５】
例示化合物ＥＰ−３５の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ分析で確認した。
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：１．３１（ｓ，６Ｈ，ＣＨ_３−）、１．４〜２．０（ｍ，１４Ｈ，シクロヘキサン環）、３．１０（ｍ，２Ｈ，エポキシ根元）、２．６２（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ_２−ＣＯ−）、４．０５（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ_２−Ｏ−）
その他の上記で列挙した本発明に係る各脂環式エポキシド化合物も、上記の方法と同様にして収率良く合成できる。
【００７６】
本発明のインクジェット用インク組成物においては、上記説明した本発明に係る前記一般式（Ａ）、一般式（Ｉ）〜一般式（ＶＩ）で表される脂環式エポキシド化合物と共に、紫外線照射により酸を発生する光酸発生剤を含有することが好ましい。
【００７７】
本発明のインクジェット用インク組成物で用いる光酸発生剤としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる（有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版（１９９３年）、１８７〜１９２ページ参照）。本発明に好適な化合物の例を以下に挙げる。
【００７８】
第１に、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウムなどの芳香族オニウム化合物のＢ（Ｃ_６Ｆ_５）_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻、ｐ−ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４ＳＯ_３ ⁻塩、ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻塩などのスルホン酸塩を挙げることができる。
【００７９】
対アニオンとしてボレート化合物をもつものおよびＰＦ_６ ⁻塩が酸発生能力が高く好ましい。オニウム化合物の具体的な例を以下に示す。
【００８０】
【化１８】

【００８１】
第２に、スルホン酸を発生するスルホン化物を挙げることができる。具体的な化合物を以下に例示する。
【００８２】
【化１９】

【００８３】
第３に、ハロゲン化水素を発生するハロゲン化物も用いることができる。以下に具体的な化合物を例示する。
【００８４】
【化２０】

【００８５】
第４に、鉄アレン錯体を挙げることができる。
【００８６】
【化２１】

【００８７】
本発明で用いられる光酸発生剤としては、アリールスルホニウム塩誘導体（例えば、ユニオン・カーバイド社製のサイラキュアＵＶＩ−６９９０、サイラキュアＵＶＩ−６９７４、旭電化工業社製のアデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７２）、アリルヨードニウム塩誘導体（例えば、ローディア社製のＲＰ−２０７４）、アレン−イオン錯体誘導体（例えば、チバガイギー社製のイルガキュア２６１）、ジアゾニウム塩誘導体、トリアジン系開始剤及びその他のハロゲン化物等の酸発生剤が挙げられる。光酸発生剤は、カチオン重合性を有する化合物１００質量部に対して、０．２〜２０質量部の比率で含有させることが好ましい。光酸発生剤の含有量が０．２質量部未満では、硬化物を得ることが困難であり、２０質量部を越えて含有させても、更なる硬化性向上効果はない。これら光酸発生剤は、１種または２種以上を選択して使用することができる。
【００８８】
本発明で用いられる光酸発生剤として好ましいのはスルホニウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、等のオニウム塩であり、中でもスルホニウム塩化合物が好ましい。
【００８９】
より好ましいスルホニウム塩化合物の構造として、下記の一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩が挙げられる。
【００９０】
【化２２】

【００９１】
上記一般式（Ｉ−１）中、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_１３は置換基を表し、ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表す。Ｘ_１１ ⁻は対イオンを表す。
【００９２】
【化２３】

【００９３】
上記一般式（Ｉ−２）中、Ｒ_１４は置換基を表し、ｑは０〜２の整数を表す。Ｒ_１５、Ｒ_１６は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ_１２ ⁻は対イオンを表す。
【００９４】
【化２４】

【００９５】
上記一般式（Ｉ−３）中、Ｒ_１７は置換基を表し、ｒは０〜３の整数を表す。Ｒ_１８は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ_１９、Ｒ_２０は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ_１３ ⁻は対イオンを表す。
【００９６】
更に、一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩について説明する。一般式（Ｉ−１）で、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_１３は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。
【００９７】
置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシル基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表わしそれぞれが１以上であることが好ましい。Ｘ_１１ ⁻は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ_４ ⁻、Ｂ（Ｃ_６Ｆ_５）_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻などの錯イオン、ｐ−ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４ＳＯ_３ ⁻、ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ_６ ⁻が酸発生能力が高く好ましい。
【００９８】
一般式（Ｉ−２）で、Ｒ_１４は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。ｑは０〜２の整数を表わし１以上であることが好ましく、より好ましくは２である。
【００９９】
またＲ_１５、Ｒ_１６は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、水酸基等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基である。
【０１００】
Ｒ_１５、Ｒ_１６として好ましくは、置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、水酸基である。
【０１０１】
Ｘ_１２ ⁻は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ_４ ⁻、Ｂ（Ｃ_６Ｆ_５）_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻などの錯イオン、ｐ−ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４ＳＯ_３ ⁻、ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ_６ ⁻が酸発生能力が高く好ましい。
【０１０２】
一般式（Ｉ−３）で、Ｒ_１７は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。ｒは０〜３の整数を表わし１以上であることが好ましく、より好ましくは２である。
【０１０３】
Ｒ_１８は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ_１９、Ｒ_２０は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。
【０１０４】
Ｒ_１８として好ましくは、水素原子または無置換の低級アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基）であり、Ｒ_１９、Ｒ_２０として、好ましくは置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として、好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。Ｘ_１３ ⁻は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ_４ ⁻、Ｂ（Ｃ_６Ｆ_５）_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＡｓＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻などの錯イオン、ｐ−ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_４ＳＯ_３ ⁻、ＣＦ_３ＳＯ_３ ⁻などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ_６ ⁻が酸発生能力が高く好ましい。
【０１０５】
以下に、一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０６】
【化２５】

【０１０７】
【化２６】

【０１０８】
【化２７】

【０１０９】
【化２８】

【０１１０】
【化２９】

【０１１１】
光重合促進剤としては、アントラセン、アントラセン誘導体（例えば、旭電化工業社製のアデカオプトマーＳＰ−１００）、フェノチアジン（１０Ｈ−フェノチアジン）、フェノチアジン誘導体（例えば、１０−メチルフェノチアジン、１０−エチルフェノチアジン、１０−デシルフェノチアジン、１０−アセチルフェノチアジン１０−デシルフェノチアジン−５−オキシド、１０−デシルフェノチアジン−５，５−ジオキシド、１０−アセチルフェノチアジン−５，５−ジオキシド）が挙げられる。これらの光重合促進剤は１種または複数を組み合わせて使用することができる。
【０１１２】
本発明のインクジェット用インク組成物においては、上記説明した本発明に係る前記一般式（Ａ）、一般式（Ｉ）〜一般式（ＶＩ）で表される脂環式エポキシド化合物と共に、オキセタン化合物を含有することが好ましい。オキセタン化合物としては、従来公知のオキセタン化合物を用いることができるが、特に２位が置換されていないオキセタン化合物を併用することで、感度向上効果あるいは硬化膜物性の改良効果を得ることができ好ましい。
【０１１３】
以下、２位が置換されていないオキセタン化合物について説明する。
２位が置換されていないオキセタン化合物の一例としては、下記一般式（１０１）で示される化合物が挙げられる。
【０１１４】
【化３０】

【０１１５】
一般式（１０１）において、Ｒ^１は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基である。Ｒ^２はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜６個のアルキル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等の炭素数２〜６個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等の芳香環を有する基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等の炭素数２〜６個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の炭素数２〜６個のアルコキシカルボニル基、またはエチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等の炭素数２〜６個のＮ−アルキルカルバモイル基等である。本発明で使用するオキセタン化合物としては、１個のオキセタン環を有する化合物を使用することが、得られる組成物が粘着性に優れ、低粘度で作業性に優れるため、特に好ましい。
【０１１６】
２個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式（１０２）で示される化合物等が挙げられる。
【０１１７】
【化３１】

【０１１８】
一般式（１０２）において、Ｒ^１は上記一般式（１０１）におけるそれと同様の基である。Ｒ^３は、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線状または分枝状アルキレン基、ポリ（エチレンオキシ）基、ポリ（プロピレンオキシ）基等の線状または分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状または分枝状不飽和炭化水素基、またはカルボニル基またはカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基等である。
【０１１９】
また、Ｒ^３としては、下記一般式（１０３）、（１０４）及び（１０５）で示される基から選択される多価基も挙げることができる。
【０１２０】
【化３２】

【０１２１】
一般式（１０３）において、Ｒ^４は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜４個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、またはカルバモイル基である。
【０１２２】
【化３３】

【０１２３】
一般式（１０４）において、Ｒ^５は酸素原子、硫黄原子、メチレン基、ＮＨ、ＳＯ、ＳＯ_２、Ｃ（ＣＦ_３）_２、またはＣ（ＣＨ_３）_２を表す。
【０１２４】
【化３４】

【０１２５】
一般式（１０５）において、Ｒ^６はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。ｎは０〜２０００の整数である。Ｒ^７はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。Ｒ^７としては、更に下記一般式（１０６）で示される基から選択される基も挙げることができる。
【０１２６】
【化３５】

【０１２７】
一般式（１０６）において、Ｒ^８はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。ｍは０〜１００の整数である。
【０１２８】
２個のオキセタン環を有する化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０１２９】
【化３６】

【０１３０】
例示化合物１１は、前記一般式（１０２）において、Ｒ^１がエチル基、Ｒ^３がカルボキシル基である化合物である。また、例示化合物１２は、前記一般式（１０２）において、Ｒ^１がエチル基、Ｒ^３が前記一般式（１０５）でＲ^６及びＲ^７がメチル基、ｎが１である化合物である。
【０１３１】
２個のオキセタン環を有する化合物において、上記の化合物以外の好ましい例としては、下記一般式（１０７）で示される化合物がある。
【０１３２】
【化３７】

【０１３３】
一般式（１０７）において、Ｒ^１は前記一般式（１０１）のＲ^１と同義である。また、３〜４個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式（１０８）で示される化合物が挙げられる。
【０１３４】
【化３８】

【０１３５】
一般式（１０８）において、Ｒ^１は前記一般式（１０１）におけるＲ^１と同義である。Ｒ^９としては、例えば、下記Ａ〜Ｃで示される基等の炭素数１〜１２の分枝状アルキレン基、下記Ｄで示される基等の分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基または下記Ｅで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。ｊは３または４である。
【０１３６】
【化３９】

【０１３７】
上記Ａにおいて、Ｒ^１０はメチル基、エチル基またはプロピル基等の低級アルキル基である。また、上記Ｄにおいて、ｐは１〜１０の整数である。
【０１３８】
３〜４個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、例示化合物１３が挙げられる。
【０１３９】
【化４０】

【０１４０】
更に、上記説明した以外の１〜４個のオキセタン環を有する化合物の例としては、下記一般式（１０９）で示される化合物が挙げられる。
【０１４１】
【化４１】

【０１４２】
一般式（１０９）において、Ｒ^８は前記一般式（１０６）のＲ^８と同義である。Ｒ^１１はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基またはトリアルキルシリル基であり、ｒは１〜４である。
【０１４３】
本発明で使用するオキセタン化合物の好ましい具体例としては、以下に示す化合物がある。
【０１４４】
【化４２】

【０１４５】
【化４３】

【０１４６】
上述したオキセタン環を有する各化合物の製造方法は、特に限定されず、従来知られた方法に従えばよく、例えば、パティソン（Ｄ．Ｂ．Ｐａｔｔｉｓｏｎ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，３４５５，７９（１９５７））が開示している、ジオールからのオキセタン環合成法等がある。また、これら以外にも、分子量１０００〜５０００程度の高分子量を有する１〜４個のオキセタン環を有する化合物も挙げられる。これらの具体的化合物例としては、以下の化合物が挙げられる。
【０１４７】
【化４４】

【０１４８】
本発明のインクジェット用インク組成物においては、上記説明した本発明に係る前記一般式（Ａ）、一般式（Ｉ）〜一般式（ＶＩ）で表される脂環式エポキシド化合物、本発明に係る紫外線照射により酸を発生する光酸発生剤、本発明に係るオキセタン化合物の他に、従来公知の各種添加剤を含有することができる。
【０１４９】
本発明のインクジェット用インク組成物で用いる色材としては、重合性化合物の主成分に溶解または分散できる色材が使用出来るが、耐候性の点から顔料が好ましい。
【０１５０】
本発明で好ましく用いることのできる顔料を、以下に列挙する。
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ−１、３、１２、１３、１４、１７、８１、８３、８７、９５、１０９、４２、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ−１６、３６、３８、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ−５、２２、３８、４８：１、４８：２、４８：４、４９：１、５３：１、５７：１、６３：１、１４４、１４６、１８５、１０１、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ−１９、２３、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ−１５：１、１５：３、１５：４、１８、６０、２７、２９、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ−７、３６、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｗｈｉｔｅ−６、１８、２１、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ−７、
上記顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。また、顔料の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。分散剤としては、高分子分散剤を用いることが好ましく、高分子分散剤としてはＡｖｅｃｉａ社のＳｏｌｓｐｅｒｓｅシリーズが挙げられる。また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。これらの分散剤および分散助剤は、顔料１００質量部に対し、１〜５０質量部添加することが好ましい。分散媒体は、溶剤または重合性化合物を用いて行うが、本発明に用いる紫外線硬化型インクでは、インク着弾直後に反応・硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。溶剤が硬化画像に残ってしまうと、耐溶剤性の劣化、残留する溶剤のＶＯＣの問題が生じる。よって、分散媒体は溶剤ではなく重合性化合物、その中でも最も粘度の低いモノマーを選択することが分散適性上好ましい。
【０１５１】
顔料の分散は、顔料粒子の平均粒径を０．０８〜０．５μｍとすることが好ましく、最大粒径は０．３〜１０μｍ、好ましくは０．３〜３μｍとなるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を適宜設定する。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インクの保存安定性、インク透明性および硬化の感度を維持することができる。
【０１５２】
本発明のインクジェット用インク組成物においては、色材濃度として、インク全体の１〜１０質量％であることが好ましい。
【０１５３】
本発明においては、吐出安定性、保存性を向上させる目的で、熱塩基発生剤も用いることができる。
【０１５４】
熱塩基発生剤としては、例えば、加熱により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、分子内求核置換反応、ロッセン転位、ベックマン転位等の反応により分解してアミン類を放出する化合物や、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出するものが好ましく用いられる。具体的には、英国特許第９９８，９４９号明細書に記載のトリクロロ酢酸の塩、米国特許第４，０６０，４２０号明細書に記載のアルファースルホニル酢酸の塩、特開昭５９−１５７６３７号公報に記載のプロピール酸類の塩、２−カルボキシカルボキサミド誘導体、特開昭５９−１６８４４０号公報に記載の塩基成分に有機塩基の他にアルカリ金属、アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩、特開昭５９−１８０５３７号公報に記載のロッセン転位を利用したヒドロキサムカルバメート類、加熱によりニトリルを生成する特開昭５９−１９５２３７号公報に記載のアルドキシムカルバメート類等が挙げられる。その他、英国特許第９９８，９４５号、米国特許第３，２２０，８４６号、英国特許第２７９，４８０号の各明細書、特開昭５０−２２６２５号、同６１−３２８４４号、同６１−５１１３９号、同６１−５２６３８号、同６１−５１１４０号、同６１−５３６３４号〜同６１−５３６４０号、同６１−５５６４４号、同６１−５５６４５号の各公報に記載の熱塩基発生剤が有用である。
【０１５５】
更に具体的に例を挙げると、トリクロロ酢酸グアニジン、トリクロロ酢酸メチルグアニジン、トリクロロ酢酸カリウム、フェニルスルホニル酢酸グアニジン、ｐ−クロロフェニルスルホニル酢酸グアニジン、ｐ−メタンスルホニルフェニルスルホニル酢酸グアニジン、フェニルプロピオール酸カリウム、フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルプロピオール酸セシウム、ｐ−クロロフェニルプロピオール酸グアニジン、ｐ−フェニレン−ビス−フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルスルホニル酢酸テトラメチルアンモニウム、フェニルプロピオール酸テトラメチルアンモニウムがある。上記の熱塩基発生剤は広い範囲で用いることができる。
【０１５６】
本発明のインクジェット用インク組成物は、紫外線硬化性化合物、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め、顔料高濃度の濃縮液を調製しておき、活性エネルギー線硬化性化合物で希釈することが好ましい。通常の分散機による分散でも充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インク成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインクが調製される。インクは、孔径３μｍ以下、更には１μｍ以下のフィルターにて濾過することが好ましい。
【０１５７】
本発明のインクジェット用インク組成物は、２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓと高めに調整することが好ましい。２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓのインクは、特に通常の４〜１０ＫＨｚの周波数を有するヘッドから、１０〜５０ＫＨｚの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。粘度が５ｍＰａ・ｓ未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、５０ｍＰａ・ｓを越える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出特性そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、全く吐出できなくなる。
【０１５８】
また、本発明のインクジェット用インク組成物は、ピエゾヘッドにおいては、１０μＳ／ｃｍ以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインクとすることが好ましい。また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、０．５ｍＳ／ｃｍ以上の電導度に調整する必要がある。
【０１５９】
本発明においては、インクの２５℃における表面張力が、２５〜４０ｍＮ／ｍの範囲にあることが好ましい。２５℃におけるインクの表面張力が２５ｍＮ／ｍ未満では、安定した出射が得られにくく、また４０ｍＮ／ｍを越えると所望のドット径を得ることができない。２５〜４０ｍＮ／ｍの範囲外では、本発明のように、インクの粘度や含水率を制御しながら出射、光照射しても、様々な支持体に対して均一なドット径を得ることが困難となる。
【０１６０】
表面張力を調整するために、必要に応じて、界面活性剤を含有させてもよい。本発明に使用される界面活性剤としては、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第４級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、重合性基を有する界面活性化合物などが挙げられる。これらの中で特に、シリコーン変性アクリレート、フッ素変性アクリレート、シリコーン変性エポキシ、フッ素変性エポキシ、シリコーン変性オキセタン、フッ素変性オキセタンなど、不飽和結合やオキシラン、オキセタン環など重合性基を有する界面活性化合物が好ましい。
【０１６１】
本発明のインクジェット用インク組成物には、上記説明した以外に様々な添加剤を用いることができる。例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類を添加することが出来る。記録媒体との密着性を改善するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。この場合、耐溶剤性やＶＯＣの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その使用量は０．１〜５％の範囲であり、好ましくは０．１〜３％である。また、ラジカル重合性モノマーと開始剤を組み合わせ、ラジカル・カチオンのハイブリッド型硬化インクとすることも可能である。
【０１６２】
本発明の画像形成方法においては、少なくとも１つのノズルを有するインクジェット記録ヘッドより、上記説明した本発明のインクジェット用インク組成物を画像様に吐出し、インクジェット記録材料上にインクを着弾させた後、紫外線を照射することによりインクジェット用インク組成物を硬化させることを特徴とする。
【０１６３】
本発明の画像形成方法においては、インク出射時にはインクをインクジェットノズルごと加温し、インク液を低粘度させることが好ましい。加熱温度としては、３０〜８０℃、好ましくは３５〜６０℃である。
【０１６４】
本発明において、インクが着弾し、紫外線を照射して硬化した後の総インク膜厚が２〜２０μｍであることが好ましい。スクリーン印刷分野の紫外線硬化型インクジェット記録では、総インク膜厚が２０μｍを越えているのが現状であるが、記録材料が薄いプラスチック材料であることが多い軟包装印刷分野では、前述した記録材料のカール・しわの問題でだけでなく、印刷物全体のこし・質感が変わってしまうという問題が有るため使えない。また、本発明では、各ノズルより吐出する液滴量が２〜１５ｐｌであることが好ましい。
【０１６５】
本発明においては、高精細な画像を形成するためには、照射タイミングができるだけ早い方が好ましいが、本発明においては、インクの粘度または含水率が好ましい状態となるタイミングで光照射を開始することが好ましい。
【０１６６】
詳しくは、発生光線の照射条件として、インク着弾後０．００１〜２．０秒の間に紫外線照射を開始することが好ましく、より好ましくは０．００１〜０．４秒である。また、０．１〜３秒後、好ましくは０．２〜１秒以内に、インクの流動性が失われる程度まで光照射を行なった後、終了させることが好ましい。上記条件とすることにより、ドット径の拡大やドット間の滲みを防止することができる。
【０１６７】
紫外線の照射方法として、その基本的な方法が特開昭６０−１３２７６７号公報に開示されている。これによると、記録ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式で記録ヘッドと光源を走査する。照射は、インク着弾後、一定時間を置いて行われることになる。更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させる。米国特許第６，１４５，９７９号明細書では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメートされた光源を記録ヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へＵＶ光を照射する方法が開示されている。本発明の画像形成方法においては、これらのいずれの照射方法も用いることができる。
【０１６８】
また、紫外線を照射を２段階に分け、まずインク着弾後０．００１〜２．０秒の間に前述の方法で紫外線を照射し、かつ、全印字終了後、更に紫外線を照射する方法も好ましい態様の１つである。紫外線の照射を２段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。
【０１６９】
紫外線照射で用いる光源の例としては、水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複写ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ＵＶランプ、低圧水銀ランプ、ＵＶレーザー、キセノンフラッシュランプ、捕虫灯、ブラックライト、殺菌灯、冷陰極管、ＬＥＤをなどがあるが、これらに限定されないが、この中でも蛍光管が低エネルギー・低コストであり、好ましい。光源波長としては２５０〜３７０ｎｍ、好ましくには２７０〜３２０ｎｍに発光波長のピークがある光源が、感度の点で好ましい。照度は、１〜３０００ｍＷ／ｃｍ^２、好ましくは１〜２００ｍＷ／ｃｍ^２である。また、電子線により硬化させる場合には、通常３００ｅＶの以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、１〜５Ｍｒａｄの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。
【０１７０】
本発明のインクジェット用インク組成物を用いて、インクジェット記録材料（基材ともいう）への画像印字を行うが、インクジェット記録材料としては、従来各種の用途で使用されている広汎な合成樹脂を全て用いることができ、具体的には、例えば、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブタジエンテレフタレート等が挙げられ、これらの合成樹脂基材の厚みや形状は何ら限定されない。
【０１７１】
本発明で用いることのできる基材としては、通常の非コート紙、コート紙などの他に、非吸収性支持体を用いることができるが、その中でも、基材として非吸収性支持体を用いることが好ましい。
【０１７２】
本発明においては、非吸収性支持体としては、各種非吸収性のプラスチックおよびそのフィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、ＯＰＳ（延伸ポリスチレン）フィルム、ＯＰＰ（延伸ポリプロピレン）フィルム、ＯＮｙ（延伸ナイロン）フィルム、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）フィルム、ＰＥ（ポリエチレン）フィルム、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フィルムを挙げることができる。その他のプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ＡＢＳ、ポリアセタール、ＰＶＡ、ゴム類などが使用できる。また、金属類やガラス類にも適用可能である。これらの記録材料の中でも、特に熱でシュリンク可能な、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルムへ画像を形成する場合に本発明の構成は、有効となる。これらの基材はインクの硬化収縮、硬化反応時の発熱などにより、フィルムのカール、変形が生じやすいばかりでなく、インク膜が基材の収縮に追従し難い。
【０１７３】
これら、各種プラスチックフィルムの表面エネルギーは大きく異なり、インクジェット記録材料によってインク着弾後のドット径が変わってしまうことが、従来から問題となっていた。本発明の構成では、表面エネルギーの低いＯＰＰフィルム、ＯＰＳフィルムや表面エネルギーの比較的大きいＰＥＴまでを含むが、基材として、濡れ指数が４０〜６０ｍＮ／ｍであることが好ましい。
【０１７４】
本発明において、包装の費用や生産コスト等のインクジェット記録材料のコスト、プリントの作成効率、各種のサイズのプリントに対応できる等の点で、長尺（ウェブ）なインクジェット記録材料を使用する方が有利である。
【０１７５】
【実施例】
実施例１
《インクジェットインクの調製》
（マゼンタインク１の調製）
下記の組成からなるマゼンタインク１を調製した。マゼンタインク１は、光酸発生剤を除く各組成物を、サンドグラインダーを用いて４時間分散した後、光酸発生剤を添加し、０．８μｍのメンブランフィルターで濾過を行った後、５０℃に加熱しながら減圧脱水を行って調製した。
【０１７６】
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８４ ３質量部
脂環式エポキシ化合物１ ３０質量部
オキセタン化合物ＯＸＴ−２２１（東亞合成社製） ７０質量部
ソルスパース２４０００（Ａｖｅｃｉａ社製） １質量部
ＵＶＩ６９９０ ５質量部
（マゼンタインク２〜２４の調製）
上記マゼンタインク１の調製において、顔料、エポキシ化合物、オキセタン化合物、光酸発生剤を、表１に記載の様な構成に変更した以外は同様にして、紫外線硬化型のインクジェット用インク組成物であるマゼンタインク２〜２４を調製した。
【０１７７】
【表１】

【０１７８】
なお、表１に記載のマゼンタインク１〜２４の調製に用いた各添加剤の詳細は、以下の通りである。
【０１７９】
〈顔料〉
Ｐ０：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８４
Ｐ１：粗製銅フタロシアニン（東洋インク製造社製「銅フタロシアニン」）の２５０部、塩化ナトリウムの２５００部及びポリエチレングリコール（東京化成社製「ポリエチレングリコール３００」）の１６０部を、スチレン製４．５５Ｌ（１ガロン）のニーダー（井上製作所社製）に仕込み、３時間混練した。次に、この混合物を２．５リットルの温水に投入し、約８０℃に加熱しながらハイスピードミキサーで約１時間攪拌しスラリー状とした後、濾過、水洗を５回繰り返して塩化ナトリウムおよび溶剤を除き、次いでスプレードライをして乾燥して顔料Ｐ１を得た。
【０１８０】
Ｐ２：キナクリドン系赤顔料（Ｃｉｂａ Ｇｅｉｇｙ社製「シンカシアマゼンタＲＴ−３５５−Ｄ」）の２５０部、塩化ナトリウムの２５００部及び「ポリエチレングリコール３００」の１６０部を、スチレン製４．５５Ｌ（１ガロン）ニーダーに仕込み、Ｐ１と同様にして顔料Ｐ２を得た。
【０１８１】
〈エポキシ化合物〉
脂環式エポキシ化合物１：セロキサイド３０００（ダイセルＵＣＢ社製）
脂環式エポキシ化合物２：セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセルＵＣＢ社製）
〈光酸発生剤〉
ＳＰ−１５２：トリフェニルスルホニウム塩アデカオプトマーＳＰ−１５２（旭電化社製）
ＵＶＩ６９９０：トリフェニルスルホニウム塩（サイラキュアＵＶＩ６９９０ユニオンカーバイド社製）
〈オキセタン化合物〉
ＯＸＴ−２２１：ジ〔１−エチル（３−オキセタニル）〕メチルエーテル
（東亞合成社製）
《インクジェット画像記録及び評価》
上記調製した各マゼンタインクを用いて、下記の方法に従って画像記録を行い、得られた画像の評価を行った。
【０１８２】
〔画像評価Ａ〕
（画像記録）
得られた各マゼンタインクを、液滴サイズ７ｐｌが得られるピエゾタイプのインクジェットノズル（ノズルピッチ３６０ｄｐｉ、本発明でいうｄｐｉとは２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）を、ノズル部分を５０℃に加熱制御し、コロナ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを基材として用いて出射し、マゼンタベタ画像と６ポイントＭＳ明朝体文字を印字した。光源は、３０８ｎｍに主ピークを持つ蛍光管を用い、光源直下、基材面の照度が１０ｍＷ／ｃｍ^２の条件で、着弾後０．２秒後に露光を開始し、０．７秒後に露光を終了させた。なお、露光エネルギーは５ｍＪ／ｃｍ^２であった。この画像印字を低湿環境（２５℃、２０％ＲＨ）及び高湿環境（２５℃、８０％ＲＨ）にて行った。
【０１８３】
（画像の評価）
以上のようにして得られた各画像について、下記の評価を行った。
【０１８４】
〈インク硬化性の評価〉
各環境下で形成した印字画像について、下記の基準に則りインク硬化性の評価を行った。
【０１８５】
○：露光終了直後に触っても画像はタッキネスがない
△：露光終了直後に触ると画像はタッキネスが若干あるが、１分後にはタッキネスが無くなる
×：露光終了１分後でもタッキネスが残る
〈基材接着性の評価〉
各環境下で形成したベタ画像上に、幅２５ｍｍのセロテープ（Ｒ）を貼り付けて強く圧着した後、９０度の剥離角度で素早く剥離し、隔離後の画像の状態を目視観察し、下記の基準に則り基材接着性の評価を行った。
【０１８６】
○：テープ剥離でも画像は剥がれない
△：テープ剥離で画像が一部剥がれる
×：テープ剥離で画像が全て剥がれる
〈画像滲み耐性の評価〉
各環境下で形成した６ポイントＭＳ明朝体文字をルーペで観察し、隣り合うドットの状態を観察し、下記の基準に則り画像滲み耐性の評価を行った。
【０１８７】
○：２ドット間の滲みが殆どない
△：２ドット間の滲みが僅かに見られる
×：ドットが大きく滲む
以上により得られた結果を表２に示す。
【０１８８】
【表２】

【０１８９】
〔画像評価Ｂ〕
上記画像評価Ａにおいて、インクを印字した後の露光照射開始時間を０．６秒に、また露光照射終了時間を１．１秒後に変更した以外は、同様にして、画像記録及び評価を行った。露光時間、露光エネルギーは画像評価Ａと同じくそれぞれ０．５秒間、５ｍＪ／ｃｍ^２であった。得られた結果を表３に示す。
【０１９０】
【表３】

【０１９１】
表２、表３より明らかなように、本発明の脂環式エポキシ化合物を含有するインクジェット用インク組成物は、比較例に対し、高湿環境下や様々な露光環境でもインク硬化性、基材接着性に優れ、滲みのない高品位の画像を得られることが分かる。
【０１９２】
実施例２
本発明に係る脂環式エポキシド化合物（例示化合物ＥＰ−２、９、１２、１３、１７）及び比較のエポシキ化合物（脂環式エポキシ化合物１、２ 前出）について、下記の手順に従って皮膚感作性試験を行った。
【０１９３】
〔試験概要〕
皮膚感作性の有無を確認するため、ハートレー系白色モルモットを用いて、Ｍａｘｉｍｉｚａｔｉｏｎ Ｔｅｓｔを実施した。
【０１９４】
〔試験方法〕
ＯＥＣＤ Ｔｅｓｔ Ｇｕｉｄｅｌｉｎｅ ４０６ に従った。
【０１９５】
溶媒（陰性対照）としてオリーブ油、陽性対照物質とＭｅｒｃａｐｔｏｂｅｎｚｏｔｈｉａｚｏｌｅを使用した。予備試験の結果から被験物質濃度は、皮内投与２５％、経皮投与１００％、惹起濃度１００％とした。陰性対照群５匹、被験物質処理群１０匹、陽性対照群５匹を用いて試験を実施した。
【０１９６】
〔試験結果〕
被験物質処理群（本発明の例示化合物ＥＰ−２、９、１２、１３、１７）では、惹起貼付除去２４時間後及び４８時間後のいずれでも皮膚反応は認められず、平均評点は各々０であり、陽性率は０％であった。被験物質処理群（比較：脂環式エポキシ化合物１、２）では、惹起貼付除去２４時間後及び４８時間後のいずれにおいても皮膚反応が認められ、平均評点は各々２．４及び２．６であり、陽性率は１００％であった。また、陰性対照群における惹起部位も同様に、惹起貼付除去２４時間後及び４８時間後の観察で皮膚反応は認められなかった。なお、陽性対照群においては、惹起貼付除去２４時間後及び４８時間後の観察ともに、全例（５／５例）で明らかな皮膚感作反応が認められ、試験が適切に実施されたことが示された。
【０１９７】
以上の結果より、本試験条件下において、被験物質処理群（本発明：ＥＰ−２、９、１２、１３、１７）は皮膚感作性はないものと判断することができる。
【０１９８】
【発明の効果】
本発明により、低照度光源を用いても、湿度などの印字環境による影響を受けず、インク硬化性、滲み耐性に優れた高品位の画像が得られ、かつ皮膚感作性がなく作業環境面からも好ましいインクジェット用インク組成物、それを用いた画像形成方法及び新規なエポキシ化合物を提供することができた。

Claims (13)

1. 下記一般式（Ａ）で表されるエポキシ化合物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
   

   

   〔式中、Ｒ_１００は置換基を表し、ｍ０は０〜２の整数を、ｒ０は１〜３の整数を表す。Ｌ_０は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ０＋１価の連結基または単結合を表す。〕
2. 下記一般式（Ｉ）で表されるエポキシ化合物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
   

   

   〔式中、Ｒ_１０１は置換基を表し、ｍ１は０〜２の整数を、ｐ１、ｑ１はそれぞれ０または１を、ｒ１は１〜３の整数を表す。Ｌ_１は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ１＋１価の連結基または単結合を表す。〕
3. 下記一般式（ＩＩ）で表されるエポキシ化合物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
   

   

   〔式中、Ｒ_１０２は置換基を表し、ｍ２は０〜２の整数を、ｐ２、ｑ２はそれぞれ０または１を、ｒ２は１〜３の整数を表す。Ｌ_２は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜１５のｒ２＋１価の連結基または単結合を表す。〕
4. 下記一般式（ＩＩＩ）〜一般式（ＶＩ）で表されるエポキシ化合物から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
   

   

   〔式中、Ｒ_１０３は置換基を表し、ｍ３は０〜２の整数を、ｐ３は０または１を表す。Ｌ_３は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜８の２価の連結基または単結合を表す。〕
   

   

   〔式中、Ｒ_１０４は置換基を表し、ｍ４は０〜２の整数を、ｐ４は０または１を表す。Ｌ_４は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでも良い炭素数１〜８の２価の連結基または単結合を表す。〕
   

   

   〔式中、Ｒ_１０５は置換基を表し、ｍ５は１または２を表す。〕
   

   

   〔式中、Ｒ_１０６は置換基を表し、ｍ６は０〜２の整数を表す。〕
5. 紫外線照射により酸を発生する光酸発生剤を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物。
6. 前記光酸発生剤がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする請求項４に記載のインクジェット用インク組成物。
7. オキセタン化合物を含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物。
8. 少なくとも１つのノズルを有するインクジェット記録ヘッドより、請求項１〜７のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物を画像様に吐出し、インクジェット記録材料上にインクを着弾させた後、紫外線を照射することにより該インクジェット用インク組成物を硬化させることを特徴とする画像形成方法。
9. 前記一般式（Ａ）で表されることを特徴とするエポキシ化合物。
10. 前記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とするエポキシ化合物。
11. 前記一般式（ＩＩ）で表されることを特徴とするエポキシ化合物。
12. 前記一般式（ＩＩＩ）〜一般式（ＶＩ）で表される少なくとも１つであることを特徴とするエポキシ化合物。
13. 分子量を分子内のエポキシ基の総数で除した数値が１６０以上、３００以下であることを特徴とする請求項９〜１２のいずれか１項に記載のエポキシ化合物。