JP2005216546A - マイクロリレー - Google Patents

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    • H01H51/2272Polarised relays comprising rockable armature, rocking movement around central axis parallel to the main plane of the armature
    • H01H51/2281Contacts rigidly combined with armature

Abstract

【課題】可動接点と固定接点との接触信頼性を向上可能なマイクロリレーを提供する。
【解決手段】電磁石装置2を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点14が設けられたベース基板1と、ベース基板1の一表面側に固着されるフレーム部31およびフレーム部31の内側に配置されて支持ばね部32を介してフレーム部31に揺動自在に支持され電磁石装置2により駆動されるアーマチュア30およびアーマチュア30に接圧ばね部35を介して支持された可動接点基台部34を有するアーマチュアブロック3と、アーマチュアブロック3におけるベース基板1とは反対側で周部がフレーム部31に固着されたカバー4とを備える。可動接点基台部34には一対の固定接点14に接離する可動接点39が設けられ、可動接点39における固定接点14との対向面を固定接点14側へ突出する凸曲面に形成してある。
【選択図】 図1

Description

本発明は、マイクロリレーに関するものである。
従来から、静電駆動型のマイクロリレーに比べて駆動力を大きくできるマイクロリレーとして、電磁石装置の電磁力を利用してアーマチュアを駆動し接点を開閉するようにしたマイクロリレーが知られている(例えば、特許文献1参照)。
ここにおいて、上記特許文献1に開示されたマイクロリレーは、厚み方向の一表面側において長手方向の両端部に各一対の固定接点が設けられ且つ2つの電磁石装置が挿入される2つの挿入孔が長手方向に離間して形成された矩形板状のセラミック基板からなるベース基板と、矩形枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて一対の枢支部を介してフレーム部に揺動自在に支持され各電磁石装置に対向する部位それぞれに磁性体部あるいは永久磁石が設けられた矩形板状のアーマチュアおよびアーマチュアの両端部に固着された可動接点を有するアーマチュアブロックと、ベース基板の周部とアーマチュアブロックのフレーム部との間に介在する矩形枠状のスペーサとを備えている。なお、各可動接点はそれぞれ一対の固定接点間を開放する位置と短絡する位置との間で変位可能となっている。
特開平5−114347号公報
ところで、上記特許文献1に開示されたマイクロリレーでは、可動接点が一対の枢支部を介してフレーム部に揺動自在に支持された矩形板状のアーマチュアの両端部に固着され、しかも、可動接点と固定接点との互いの対向面が平面状に形成されているので、可動接点と固定接点との接触が不十分となることがあり、接触信頼性の向上が望まれる。なお、上記特許文献1に開示されたマイクロリレーでは、アーマチュアおよび固定接点および可動接点が外気に曝される構造となっており、製造時、製造後に関わらず可動接点と固定接点との間に異物などが侵入して可動接点が固定接点に接触できなくなる可能性もあった。
本発明は上記事由に鑑みて為されたものであり、その目的は、可動接点と固定接点との接触信頼性を向上可能なマイクロリレーを提供することにある。
請求項1の発明は、電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび固定接点に接離する可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーとを備え、固定接点と可動接点との互いの対向面の少なくとも一方が他方側へ突出する凸曲面に形成されてなることを特徴とする。
この発明によれば、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーを備えていることにより、アーマチュアおよび固定接点および可動接点が密閉空間内に配置されているので、可動接点と固定接点との間に異物が侵入するのを防止できて可動接点と固定接点との接触信頼性を向上でき、しかも、固定接点と可動接点との互いの対向面の一方が他方側へ突出する凸曲面に形成されているので、可動接点と固定接点との接触信頼性をより向上させることができる。
請求項2の発明は、電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび固定接点に接離する可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーとを備え、可動接点は、互いに電気的に接続されそれぞれ固定接点と弾接可能な一対の可動接点片を有することを特徴とする。
この発明によれば、固定接点における可動接点との対向面において、一対の可動接点片のうちの一方の可動接点片が接離する部位に異物が付着したとしても、他方の可動接点片が固定接点に接離可能なので、可動接点と固定接点との接触不良が起こる可能性を低減でき、接触信頼性をさらに向上させることができる。
請求項3の発明は、請求項2の発明において、前記固定接点を2つ1組として少なくとも1組備え、前記可動接点は、組となる前記固定接点間を短絡する位置と開放する位置との間で変位可能であり、前記一対の前記可動接点片を前記各固定接点ごとに有することを特徴とする。
この発明によれば、前記可動接点が組となる前記固定接点間を短絡する位置と開放する位置との間で変位可能となり、また、前記可動接点と前記両固定接点との接触不良が起こる可能性を低減できる。
請求項4の発明は、電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび固定接点に接離する可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーとを備え、アーマチュアブロックは、平行配置される一対の直線状の固定接点に対して当該一対の固定接点に跨って配置される可動接点を複数備え、固定接点の長手方向の両側の可動接点がアーマチュアに接圧ばねを介して支持された可動接点基台部の両端部に設けられ、可動接点基台部は、前記長手方向において隣り合う可動接点の間の部位が他の部位に比べて細幅に形成されてなることを特徴とする。
この発明によれば、可動接点が接圧ばねを介してアーマチュアに支持された可動接点基台部に設けられていることにより、接圧ばねのばね力を適宜設定することによって所望の接点圧を得ることができて接触信頼性をさらに向上させることができ、しかも、一対の固定接点に跨って配置される可動接点を複数備えており、可動接点基台部は、前記長手方向において隣り合う可動接点の間の部位が他の部位に比べて細幅に形成されているので、通電経路における可動接点の幅が小さくなるのを防止でき、可動接点の抵抗値を低減できる。
請求項5の発明は、電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび固定接点に接離する可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーとを備え、アーマチュアブロックは、固定接点に対して可動接点を2つ有しており、各可動接点は、それぞれ異なる接圧ばねを介して前記アーマチュアに支持された可動接点基台部に設けられてなることを特徴とする。
この発明によれば、それぞれ異なる接圧ばねを介してアーマチュアに支持された2つの可動接点基台部それぞれに可動接点が設けられており、各可動接点のうちの少なくとも一方が固定接点に接触すればよいから、接触信頼性をさらに向上させることができる。
請求項6の発明は、電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび固定接点に接離する可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーとを備え、可動接点は、2つの固定接点に跨って配置される可動接点基台部に設けられ、両固定接点間を短絡するように両固定接点に接触する位置と両固定接点間を開放するように両固定接点から離れた位置との間で変位可能であり、可動接点基台部は、両固定接点の並設方向における中央部がアーマチュアに1本の接圧ばねを介して支持されてなることを特徴とする。
この発明によれば、アーマチュアと可動接点基台部とを結ぶ方向に直交する面内で可動接点基台部が回動自在となるので、可動接点が両固定接点の一方のみに当たるのを防止することができ、接触信頼性を向上させることができる。
請求項7の発明は、請求項5の発明において、前記アーマチュアは、前記フレーム部の内側に配置され前記支持ばね部を介して前記フレーム部に支持された薄板状の可動基台部と、可動基台部において前記電磁石装置側に固着された磁性体材料からなる薄板状の磁性体部とで構成され、前記接圧ばねは、一端部が可動基台部において前記可動接点基台部との対向面に形成された切欠部の内周面に連続一体に連結されるとともに他端部が前記可動接点基台部における可動基台部との対向面に連続一体に連結され、磁性体部の外周に当接する部分を他の部位に比べて幅広の幅広部としてあることを特徴とする。
この発明によれば、前記接圧ばねは、一端部が可動基台部において前記可動接点基台部との対向面に形成された切欠部の内周面に連続一体に連結されるとともに他端部が前記可動接点基台部における可動基台部との対向面に連続一体に連結されていることにより、可動基台部と前記可動接点基台部との間の距離を比較的小さくしながらも所望の接点圧を得ることが可能となるので、リレー全体の小型化を図れ、しかも、前記接圧ばねは、磁性体部の外周に当接する部分を他の部位に比べて幅広の幅広部としてあるので、前記接圧ばねと磁性体部とが当たる際に前記接圧ばねが破損するのを防止することができる。
請求項8の発明は、請求項6または請求項7の発明において、前記可動接点は、互いに電気的に接続されそれぞれ前記固定接点と接離可能な一対の可動接点片を有することを特徴とする。
この発明によれば、前記固定接点における前記可動接点との対向面において、一対の可動接点片のうちの一方の可動接点片が接離する部位に異物が付着したとしても、他方の可動接点片が前記固定接点に接離可能なので、前記可動接点と前記固定接点との接触不良が起こる可能性を低減でき、接触信頼性をさらに向上させることができる。
請求項9の発明は、請求項6ないし請求項8の発明において、前記可動接点は、前記各固定接点ごとに、互いに電気的に接続されそれぞれ前記固定接点と弾接可能な一対の可動接点片を有することを特徴とする。
この発明によれば、前記固定接点における前記可動接点との対向面において、一対の可動接点片のうちの一方の可動接点片が接離する部位に異物が付着したとしても、他方の可動接点片が前記固定接点に接離可能なので、前記可動接点と前記固定接点との接触不良が起こる可能性を低減でき、接触信頼性をさらに向上させることができる。
請求項10の発明は、請求項2ないし請求項9の発明において、前記固定接点と前記可動接点との互いの対向面の少なくとも一方が他方側へ突出する凸曲面に形成されてなることを特徴とする。
この発明によれば、固定接点と可動接点との互いの対向面の一方が他方側へ突出する凸曲面に形成されているので、可動接点と固定接点との接触信頼性をより向上させることができる。
請求項11の発明は、請求項1ないし請求項10の発明において、前記可動接点は、互いに電気的に接続されそれぞれ前記固定接点と弾接可能な一対の可動接点片を有し、接圧ばねを介して前記アーマチュアに支持された可動接点基台部に設けられてなることを特徴とする。
この発明によれば、前記固定接点における前記可動接点との対向面において、一対の可動接点片のうちの一方の可動接点片が接離する部位に異物が付着したとしても、他方の可動接点片が前記固定接点に接離可能なので、前記可動接点と前記固定接点との接触不良が起こる可能性を低減でき、しかも、前記可動接点が接圧ばねを介して前記アーマチュアに支持された可動接点基台部に設けられていることにより、接圧ばねのばね力を適宜設定することによって所望の接点圧を得ることができて接触信頼性をさらに向上させることができるとともに、前記アーマチュアと前記可動接点との間のばね負荷(つまり、前記可動接点に作用するばね負荷)を小さくできる。
請求項12の発明は、請求項1または請求項10の発明において、前記凸曲面は前記固定接点に形成され、前記固定接点は、前記ベース基板の厚み方向に貫設したスルーホールを前記一表面側で閉塞する金属ボールからなり、当該金属ボールにおいて前記ベース基板の前記一表面側へ露出した部分の表面が前記凸曲面を構成していることを特徴とする。
この発明によれば、前記固定接点によりスルーホールの開口面を閉塞することができるから、スルーホールを通した配線を可能としながらもスルーホールを通して外部から粉塵などが侵入するのを防止できる。
請求項13の発明は、請求項1または請求項10の発明において、前記凸曲面は前記固定接点に形成され、前記固定接点は、前記ベース基板の厚み方向に貫設したスルーホールを前記一表面側で閉塞する金属ボールにおいて前記ベース基板の前記一表面側へ露出した部分を所望の形状にフォーミングすることにより前記凸曲面が形成されてなることを特徴とする。
この発明によれば、前記固定接点によりスルーホールの開口面を閉塞することができるから、スルーホールを通した配線を可能としながらもスルーホールを通して外部から粉塵などが侵入するのを防止でき、しかも、金属ボールにおいて前記ベース基板の前記一表面側へ露出した部分を所望の形状にフォーミングすることにより前記凸曲面が形成されているので、フォーミングを行わない場合に比べて接触信頼性を向上させることが可能となる。
請求項1の発明では、アーマチュアおよび固定接点および可動接点が密閉空間内に配置されているので、可動接点と固定接点との間に異物が侵入するのを防止できて可動接点と固定接点との接触信頼性を向上でき、しかも、固定接点と可動接点との互いの対向面の一方が他方側へ突出する凸曲面に形成されているので、可動接点と固定接点との接触信頼性をより向上させることができるという効果がある。
請求項2の発明では、固定接点における可動接点との対向面において、一対の可動接点片のうちの一方の可動接点片が接離する部位に異物が付着したとしても、他方の可動接点片が固定接点に接離可能なので、可動接点と固定接点との接触不良が起こる可能性を低減でき、接触信頼性をさらに向上させることができるという効果がある。
請求項4の発明では、可動接点が接圧ばねを介してアーマチュアに支持された可動接点基台部に設けられていることにより、接圧ばねのばね力を適宜設定することによって所望の接点圧を得ることができて接触信頼性をさらに向上させることができ、しかも、一対の固定接点に跨って配置される可動接点を複数備えており、可動接点基台部は、前記長手方向において隣り合う可動接点の間の部位が他の部位に比べて細幅に形成されているので、通電経路における可動接点の幅が小さくなるのを防止でき、可動接点の抵抗値を低減できるという効果がある。
請求項5の発明では、それぞれ異なる接圧ばねを介してアーマチュアに支持された2つの可動接点基台部それぞれに可動接点が設けられており、各可動接点のうちの少なくとも一方が固定接点に接触すればよいから、接触信頼性をさらに向上させることができるという効果がある。
請求項6の発明では、アーマチュアと可動接点基台部とを結ぶ方向に直交する面内で可動接点基台部が回動自在となるので、可動接点が両固定接点の一方のみに当たるのを防止することができ、接触信頼性を向上させることができるという効果がある。
(実施形態1)
以下、本実施形態のマイクロリレーについて図1〜図6を参照しながら説明する。
本実施形態のマイクロリレーは、ヨーク20に巻回されたコイル22,22への励磁電流に応じて磁束を発生する電磁石装置2と、矩形板状のガラス基板からなり厚み方向の一面側において長手方向の両端部それぞれに各一対の固定接点14が設けられたベース基板1と、ベース基板1の上記一表面側に固着される枠状(矩形枠状)のフレーム部31およびフレーム部31の内側に配置されて4本の支持ばね部32を介してフレーム部31に揺動自在に支持され電磁石装置2により駆動されるアーマチュア30およびアーマチュア30にそれぞれ2本の接圧ばね部35を介して支持されそれぞれ可動接点39が設けられた2つの可動接点基台部34を有するアーマチュアブロック3と、アーマチュアブロック3におけるベース基板1とは反対側で周部がフレーム部31に固着された矩形板状のガラス基板からなるカバー4とを備えている。
電磁石装置2におけるヨーク20は、2つのコイル22,22が直接巻回される細長の矩形板状のコイル巻回部20aと、コイル巻回部20aの長手方向の両端部それぞれからアーマチュア30に近づく向きに延設されコイル22,22への励磁電流に応じて互いの先端面が異極に励磁される一対の脚片20b,20bと、ヨーク20の両脚片20b,20bの間でコイル巻回部20aの長手方向の中央部に重ねて配置された矩形板状の永久磁石21と、細長の矩形板状であってヨーク20のコイル巻回部20aにおける永久磁石21との対向面とは反対側でコイル巻回部20aと直交するようにコイル巻回部20aに固着されるプリント基板23とを備えている。なお、ヨーク20は、電磁軟鉄などの鉄板を曲げ加工、鋳造加工、プレス加工などにより加工することによって形成されており、両脚片20b,20bの断面が矩形状に形成されている。
永久磁石21は、コイル巻回部20aとの重ね方向(厚み方向)の両面それぞれの磁極面21a,21bが異極に着磁されており、一方の磁極面21bがヨーク20のコイル巻回部20aに当接し、他方の磁極面21aがヨーク20の両脚片20b,20bの先端面と同一平面上に位置するように厚み寸法を設定してある。
また、各コイル22,22はそれぞれ、永久磁石21とヨーク20の脚片20b,20bとによって口軸方向(つまり、コイル巻回部20aの長手方向)への移動が規制される。プリント基板23は、絶縁基板23aの一表面における長手方向の両端部に導体パターン23bが形成されており、各導体パターン23bにおいて円形状に形成された部位が外部接続用電極を構成し、矩形状に形成された部位がコイル接続部を構成している。ここにおいて、コイル接続部には、コイル22,22の端末が接続されるが、コイル22,22は、外部接続用電極間に電源を接続してコイル22,22へ励磁電流を流したときにヨーク20の両脚片20b,20bの先端面が互いに異なる磁極となるように接続されている。なお、各導体パターン23bにおける外部接続用電極には、導電性材料(例えば、Au,Ag,Cu,半田など)からなるバンプ24が適宜固着されるが、バンプ24を固着する代わりに、ボンディングワイヤをボンディングしてもよい。
ベース基板1は、パイレックス(R)のような耐熱ガラスにより形成されており、外周形状が矩形状であって、中央部には厚み方向に貫通し電磁石装置2を収納する収納孔16が貫設され、四隅の各近傍には厚み方向に貫通するスルーホール10が貫設されている。また、ベース基板1の厚み方向の両面であって各スルーホール10それぞれの周縁にはランド12が形成されている。ここに、ベース基板1の厚み方向において重なるランド12同士はスルーホール10の内周面に被着された導電性材料(例えば、Cu,Cr,Ti,Pt,Co,Ni,Au,あるいはこれらの合金など)からなる導体層(図示せず)により電気的に接続されている。また、ベース基板1の厚み方向の他表面側の各ランド12にはバンプ13が適宜固着されており、バンプ13をランド12に固着することによって、ベース基板1の上記他表面側ではスルーホール10の開口面がバンプ13により覆われる。スルーホール10の開口面は円形状であって、ベース基板1の上記一表面には、それぞれスルーホール10の開口面およびランド12を覆う4枚のシリコン薄膜からなる蓋体19が固着されている。
また、上述の各一対の固定接点14は、ベース基板1の長手方向の両端部においてベース基板1の短手方向に離間して形成された2つのスルーホール10の間で上記短手方向に並設されており、上記短手方向において隣り合うスルーホール10の周縁に形成されたランド12と導電パターン18を介して電気的に接続されている。ここに、固定接点14および導電パターン18およびランド12の材料としては、例えば、Cr,Ti,Pt,Co,Cu,Ni,Au,あるいはこれらの合金などの導電性材料を採用すればよく、バンプ13の材料としては、例えば、Au,Ag,Cu,半田などの導電性材料を採用すればよい。なお、上述のスルーホール10および収納孔16は、例えば、サンドブラスト法やエッチング法などによって形成すればよく、上述の導体層は、例えば、めっき法、蒸着法、スパッタ法などによって形成すればよい。
また、収納孔16の開口面は十字状であって、ベース基板1の上記一表面側には、収納孔16を閉塞するシリコン薄膜からなる蓋体17が固着されている。すなわち、電磁石装置2は、ヨーク20の両脚片20b,20bの各先端面が蓋体17と対向する形で収納孔16に挿入される。なお、本実施形態では、収納孔16の内周面と蓋体17とで囲まれる空間が電磁石装置2を収納する収納部を構成しており、電磁石装置20は、永久磁石21がベース基板1の厚み寸法内でアーマチュア30とヨーク20とにより形成される磁路中に設けられ、プリント基板23における絶縁基板23aの表面がベース基板1の上記他表面と略面一となっている。なお、蓋体17,19は、シリコン基板をエッチングや研磨などで薄膜化することにより形成したシリコン薄膜により構成されており、厚み寸法を20μmに設定してある。ここに、蓋体17の厚み寸法は20μmに限定するものではなく、例えば、5μm〜50μm程度の範囲内で適宜設定すればよい。また、蓋体17,19は、シリコン薄膜に限らず、ガラス基板をエッチングや研磨などで薄膜化することにより形成したガラス薄膜により構成してもよい。
収納孔16は、ベース基板1の上記一表面から上記他表面に近づくにつれて徐々に開口面積が大きくなるテーパ形状となっており、ベース基板1の上記他表面側から電磁石装置2を挿入しやすく、且つ、ベース基板1の上記一表面における収納孔16の開口面積を比較的小さくすることができる。
アーマチュアブロック3は、シリコン基板からなる半導体基板を半導体微細加工プロセスにより加工することによって、上述の矩形枠状のフレーム部31と、上述の4本の支持ばね32と、フレーム部31の内側に配置されアーマチュア30の一部を構成する矩形板状の可動基台部30aと、上述の4本の接圧ばね35と、上述の2つの可動接点基台部34とを形成してあり、可動基台部30aと、可動基台部30aにおけるベース基板1との対向面に固着された磁性体(例えば、軟鉄、電磁ステンレス、パーマロイなど)からなる矩形板状の磁性体部30bとでアーマチュア30を構成している。したがって、アーマチュア30が4本の支持ばね部32を介してフレーム部31に揺動自在に支持されている。なお、可動基台部30aはフレーム部31よりも薄肉であり、アーマチュア30の厚み寸法は、アーマチュアブロック3とベース基板1とを固着した状態においてアーマチュア30の磁性体部30bと蓋体17との間に所定のギャップが形成されるように設定されている。
上述の支持ばね部32は、可動基台部30aの短手方向の両側面側で可動基台部30aの長手方向に離間して2箇所に形成されている。各支持ばね部32は、一端部がフレーム部31に連続一体に連結され他端部が可動基台部30aに連続一体に連結されている。なお、各支持ばね部32は、平面形状において上記一端部と上記他端部との間の部位を同一面内で蛇行した形状に形成することにより長さ寸法を長くしてあり、アーマチュア30が揺動する際に各支持ばね部32にかかる応力を分散させることができ、各支持ばね部32が破損するのを防止することができる。
また、可動基台部30aは、短手方向の両側縁の中央部から矩形状の突片36が連続一体に延設され、フレーム部31の内周面において突片36に対応する部位からも矩形状の突片37が連続一体に延設されている。すなわち、可動基台部30aから延設された突片36とフレーム部31から延設された突片37とは互いの先端面同士が対向している。ここに、可動基台部30aから延設された各突片36の先端面には凸部36aが形成されており、フレーム部31から延設された各突片37の先端面には、凸部36aが入り込む凹部37aが形成されている。したがって、凸部36aが凹部37aの内周面に当接することでフレーム部31の厚み方向に直交する面内におけるアーマチュア30の移動が規制される。なお、アーマチュア30の同一の側縁側に配設される2つの支持ばね部32は、突片36の両側に位置している。
また、アーマチュアブロック3は、アーマチュア30の長手方向においてアーマチュア30の両端部とフレーム部31との間にそれぞれ可動接点基台部34が配置されており、各可動接点基台部34におけるベース基板1との対向面に導電性材料からなる可動接点39が固着されている。ここに、可動接点基台部34は上述の2本の接圧ばね部35を介して可動基台部30aに支持されている。なお、可動基台部30aは上述のように矩形板状に形成されており、磁性体部30bの変位量を制限するストッパ部33が四隅それぞれから連続一体に延設されており、接圧ばね部35の平面形状は、ストッパ部33の外周縁の3辺に沿ったコ字状に形成されている。このストッパ部33は、ベース基板1の上記一表面と接触することにより磁性体部30bの変位量を制限する。
なお、アーマチュアブロック3は、上述の説明から分かるように、フレーム部31、可動基台部30a、支持ばね部32、可動接点保持部34、接圧ばね部35が上述の半導体基板の一部により構成されている。半導体基板としては、例えば厚み寸法が200μm程度のシリコン基板を用いればよいが、当該厚み寸法は特に限定するものではなく、例えば、50μm〜300μm程度の範囲で適宜設定すればよい。
また、可動接点基台部34の厚み寸法と可動接点39の厚み寸法との合計寸法についても、接点開成状態において可動接点39と固定接点14との間の距離が所定距離となるように設定されている。
カバー4は、パイレックス(R)のような耐熱ガラスにより構成されており、アーマチュアブロック3との対向面にアーマチュア30の揺動空間を確保する凹所4aが形成されている。
ところで、上述のアーマチュアブロック3のフレーム部31におけるベース基板1との対向面の周部には全周に亙って接合用金属薄膜38bが形成され、カバー4との対向面の周部には全周に亙って接合用金属薄膜38aが形成されている。また、ベース基板1におけるアーマチュアブロック3との対向面の周部にも全周に亙って接合用金属薄膜15が形成され、カバー4におけるアーマチュアブロック3との対向面の周部にも全周に亙って接合用金属薄膜42が形成されている。したがって、アーマチュアブロック3とベース基板1およびカバー4とを圧接または陽極接合により気密的に接合することができ、ベース基板1とカバー4とフレーム部31とで囲まれる空間の気密性を向上できる。
その結果、本実施形態のマイクロリレーは、ベース基板1と、カバー4と、ベース基板1とカバー4との間に介在するフレーム部31とで囲まれる気密空間(密閉空間)内に、アーマチュア30、可動接点33、固定接点14が収納される。なお、上述の接合用金属薄膜15,38a,38b,42の材料としては、例えば、Au,Al−Siなどを採用すればよい。
以上説明した本実施形態のマイクロリレーをプリント基板のような実装基板に実装する際には、例えばベース基板1の上記他表面側において露出した2個のバンプ24および4個のバンプ13それぞれを上記実装基板の一表面側に形成された導体パターンに接続すればよい。
次に、本実施形態のマイクロリレーの動作について説明する。
本実施形態のマイクロリレーでは、コイル22,22への通電が行われると、磁化の向きに応じて磁性体部30bの長手方向の一端部がヨーク20の一方の脚片20bに吸引されてアーマチュア30が揺動しアーマチュア30の一端側の可動接点基台部34に固着された可動接点39が対向する一対の固定接点14,14に所定の接点圧で接触する(つまり、一対の固定接点14,14間が可動接点39を介して短絡される)。この状態で通電を停止しても、永久磁石21の発生する磁束により、吸引力が維持され、そのままの状態が保持される。
また、コイル22,22への通電方向を逆向きにすると、アーマチュア30の磁性体部30bがヨーク20の他方の脚片20bに吸引されてアーマチュア30が揺動しアーマチュア30の他端側の可動接点基台部34に保持された可動接点39が対向する一対の固定接点14,14に所定の接点圧で接触する。この状態で通電を停止しても、永久磁石21の発生する磁束により、吸引力が維持され、そのままの状態が保持される。
なお、本実施形態のマイクロリレーは、永久磁石21による磁性体部30bの吸引力が支持ばね32による復帰力よりも強くなるように支持ばね32のばね定数を設定してあるが、永久磁石21による磁性体部30bの吸引力が支持ばね32による復帰力よりも弱くなるように支持ばね32のばね定数を設定してもよい。
以上説明した本実施形態のマイクロリレーによれば、アーマチュアブロック3におけるベース基板1とは反対側で周部がフレーム部31に固着されたカバー4を備えていることにより、アーマチュア3および固定接点14および可動接点39が密閉空間内に配置されるので、可動接点39と固定接点14との間に異物が侵入するのを防止できて可動接点39と固定接点14との接触信頼性を向上させることができる。また、リレー全体の厚み寸法をベース基板1の厚み寸法とアーマチュアブロック3のフレーム部31の厚み寸法とカバー4の厚み寸法との合計寸法によって規定することができ、ベース基板1とカバー4とフレーム部31とで構成される器体の薄型化が可能となる。
また、本実施形態のマイクロリレーでは、永久磁石21がコイル巻回部20aの長手方向の中央部におけるアーマチュア30側に重ねて配置され重ね方向の両面が異極に着磁されているので、アーマチュア30の長手方向の中心部を中心としてアーマチュア30が揺動可能となり、耐衝撃性が向上する。また、アーマチュア30の可動基台部30aから延設した各突片36におけるベース基板1との対向面から支点突起36bを突設してあるので、このような一対の支点突起36bを設けることでアーマチュア30の揺動動作をより安定させることができる。
ところで、本実施形態のマイクロリレーでは、図1(b)に示すように、可動接点39における固定接点14との対向面を固定接点14側へ突出する凸曲面に形成しているので、従来のように固定接点と可動接点との互いの対向面が平面状に形成されている場合に比べて、可動接点39と固定接点14との接触信頼性をより向上させることができ、しかも、アーマチュア30に2本の接圧ばね35を介して支持された可動接点基台部34に可動接点39が設けられているので、所望の接点圧を得ることができるとともに接触信頼性の更なる向上を図れる。なお、上記凸曲面については所望の曲率半径を設定した曲面としてもよいし、仮想的な球面の一部を構成する曲面(いわゆるSR形状)としてもよい。
ところで、上述の例では、可動接点39における固定接点14との対向面を固定接点14側へ突出する凸曲面に形成しているが、図7に示すように固定接点14における可動接点39との対向面を可動接点39側へ突出する凸曲面に形成してもよいし、固定接点14と可動接点39との互いの対向面を他方側へ突出する凸曲面に形成してもよい。
(実施形態2)
本実施形態のマイクロリレーの基本構成は実施形態1と略同じであって、実施形態1にて説明した接圧ばね35、可動接点基台部34を設ける代わりに、図8(a)に示すように、アーマチュア30における可動基台部30aの長手方向(図8(a)の左右方向)の両端部から連続一体に突出する2つ1組の弾性片30c,30cを短手方向に離間して2組設けて可動接点39の平面形状を変更している点が相違する。他の構成は実施形態1と同様なので図示および説明を省略する。なお、本実施形態においても、実施形態1と同様に、可動接点39と固定接点14との互いの対向面の一方に他方側へ突出する凸曲面を形成してあるので、実施形態1と同様に可動接点39と固定接点14との接触信頼性を向上できる。
本実施形態における可動接点39の平面形状は図8(b)に示すような形状に形成されている。すなわち、可動接点39は、互いに電気的に接続されそれぞれ固定接点14と弾接可能な一対の可動接点片39b,39bを有する可動接点部39aを2つ備え、可動接点部39a同士が可動基台部30aの短辺に沿って配置される連絡片39c(つまり、連絡片39cは一対の固定接点14の並設方向に沿って配置される)を介して電気的に接続されている。なお、可動接点39における各可動接点片39bは弾性片30cにおける固定接点14との対向面に固着されている。
しかして、本実施形態のマイクロリレーでは、可動接点39の各可動接点部39aが、互いに電気的に接続されそれぞれ固定接点14と弾接可能な一対の可動接点片39b,39bを有するので、図9(a)に示すように接点開成時に固定接点14における可動接点部39aとの対向面において、一対の可動接点片39b,39bのうちの一方の可動接点片39bが接離する部位に絶縁性を有する異物Bが付着しているとしても、図9(b)に示すように接点閉成時に他方の可動接点片39bが固定接点14に接触可能となるから、可動接点部39と固定接点14との接触不良が起こる可能性を低減でき、接触信頼性をさらに向上させることができる。
(実施形態3)
本実施形態のマイクロリレーの基本構成は実施形態1と略同じであって、図10(a)に示すように可動接点基台部34の平面形状が相違し、図10(b)に示すように可動接点39の平面形状が相違する。他の構成は実施形態1と同様なので図示および説明を省略する。なお、本実施形態においても、実施形態1と同様に、可動接点39と固定接点14との互いの対向面の一方に他方側へ突出する凸曲面を形成してあるので、実施形態1と同様に可動接点39と固定接点14との接触信頼性を向上できる。
本実施形態における可動接点基台部34は長手方向の両端部それぞれにスリット34aを設けることで両端部を二股状に分割し、長手方向の中間部にアーマチュア30とは反対側の端縁が開放された切欠部34を設けることで中間部の幅を狭くしてある。また、可動接点39の平面形状は可動接点基台部34の平面形状と略同じである。この可動接点39は、図10(b)に示すように、互いに電気的に接続されそれぞれ固定接点14と弾接可能な一対の可動接点片39b,39bを有する可動接点部39aを2つ備え、可動接点部39a同士が可動接点基台部34の長手方向(一対の固定接点14の並設方向)に沿って配置される連絡片39cを介して電気的に接続されている。
しかして、本実施形態のマイクロリレーでは、可動接点39の各可動接点部39aが、互いに電気的に接続されそれぞれ固定接点14と弾接可能な一対の可動接点片39b,39bを有するので、実施形態2と同様に、接点開成時に固定接点14における可動接点部39aとの対向面において、一対の可動接点片39b,39bのうちの一方の可動接点片39bが接離する部位に絶縁性を有する異物が付着しているとしても、接点閉成時に他方の可動接点片39bが固定接点14に接触可能となるから、可動接点部39と固定接点14との接触不良が起こる可能性を低減でき、接触信頼性をさらに向上させることができる。しかも、可動接点39が2本の接圧ばね35を介してアーマチュア30に支持された可動接点基台部34に設けられていることにより、接圧ばね35,35のばね力を適宜設定することによって所望の接点圧を得ることができて接触信頼性をさらに向上させることができるとともに、アーマチュア30と可動接点39との間のばね負荷(つまり、可動接点39に作用するばね負荷)を小さくできる。
(実施形態4)
本実施形態のマイクロリレーの基本構成は実施形態1と略同じであって、図11(a)に示すように可動接点基台部34の平面形状が相違し、図11(b)に示すように可動接点39の平面形状が相違する。他の構成は実施形態1と同様なので図示および説明を省略する。なお、本実施形態においても、実施形態1と同様に、可動接点39と固定接点14との互いの対向面の一方に他方側へ突出する凸曲面を形成してあるので、実施形態1と同様に可動接点39と固定接点14との接触信頼性を向上できる。
本実施形態における可動接点基台部34は長手方向の両端部それぞれにアーマチュア30とは反対側の端縁が開放されたスリット34aを設けてある。また、可動接点39の平面形状は可動接点基台部34の平面形状と略同じである。この可動接点39は、図11(b)に示すように、互いに電気的に接続されそれぞれ固定接点14と弾接可能な一対の可動接点片39b,39bを有する可動接点部39aを2つ備え、両可動接点部39aの各一方の可動接点片39b同士が連続一体に形成されて電気的に接続されている。
しかして、本実施形態のマイクロリレーでは、可動接点39の各可動接点部39aが、互いに電気的に接続されそれぞれ固定接点14と弾接可能な一対の可動接点片39b,39bを有するので、実施形態2と同様に、接点開成時に固定接点14における可動接点部39aとの対向面において、一対の可動接点片39b,39bのうちの一方の可動接点片39bが接離する部位に絶縁性を有する異物が付着しているとしても、接点閉成時に他方の可動接点片39bが固定接点14に接触可能となるから、可動接点部39と固定接点14との接触不良が起こる可能性を低減でき、接触信頼性をさらに向上させることができる。しかも、可動接点39が2本の接圧ばね35を介してアーマチュア30に支持された可動接点基台部34に設けられていることにより、接圧ばね35,35のばね力を適宜設定することによって所望の接点圧を得ることができて接触信頼性をさらに向上させることができるとともに、アーマチュア30と可動接点39との間のばね負荷(つまり、可動接点39に作用するばね負荷)を小さくできる。
(実施形態5)
本実施形態のマイクロリレーの基本構成は実施形態1と略同じであって、図12に示すように一対の固定接点14,14がアーマチュア30の長手方向(図12の左右方向)に並設されている点、可動接点基台部34の形状、可動接点基台部34に一対の固定接点14,14に接離可能な可動接点39を2つ設けている点が相違する。他の構成は実施形態1と同様なので図示および説明を省略する。なお、本実施形態においても、実施形態1と同様に、可動接点39と固定接点14との互いの対向面の一方に他方側へ突出する凸曲面を形成してあるので、実施形態1と同様に可動接点39と固定接点14との接触信頼性を向上できる。
本実施形態における可動接点基台部34は長手方向の両端部それぞれに平面形状が矩形状で一対の固定接点14に跨って配置される可動接点39を設け、長手方向の中間部を両端部に比べて細幅に形成してある。
しかして、本実施形態のマイクロリレーでは、上記実施形態2〜5のように可動接点39が一対の可動接点片39b,39bを有する可動接点部39aを2つ備えている場合のように、可動接点39の平面形状において幅が狭くなる部分(電路の断面積が小さくなる部分)が形成されているものに比べて、一対の固定接点14,14間を短絡する可動接点39の抵抗値を小さくすることができる。
(実施形態6)
本実施形態のマイクロリレーの基本構成は実施形態1と略同じであって、アーマチュア30の長手方向の両側において、図13に示すように一対の固定接点14,14に跨って配置される可動接点基台部34を2つ備え、可動接点基台部34がそれぞれ異なる2本ずつの接圧ばね35を介してアーマチュア30に支持されている点が相違する。なお、本実施形態においても、実施形態1と同様に、可動接点39と固定接点14との互いの対向面の一方に他方側へ突出する凸曲面を形成してあるので、実施形態1と同様に可動接点39と固定接点14との接触信頼性を向上できる。
しかして、本実施形態のマイクロリレーでは、アーマチュア30の長手方向の両側でそれぞれ一対の固定接点14に接離する可動接点39を2つずつ備えており、各可動接点39はそれぞれ異なる接圧ばね35を介してアーマチュア30に支持された可動接点基台部34に設けられているので、一対の固定接点14,14間を短絡する場合には、各2つずつの可動接点39のうちの少なくとも一方が一対の固定接点14に接触すればよいから、接触信頼性をさらに向上させることができる。
(実施形態7)
本実施形態のマイクロリレーの基本構成は実施形態1と略同じであって、実施形態1では可動接点基台部34が2本の接圧ばね35を介してアーマチュア30の可動基台部30aに支持されていたのに対して、図14に示すように可動接点基台部34が1本の接圧ばね35を介してアーマチュア30の可動基台部30aに支持されている点、接圧ばね35の形状などが相違する。なお、本実施形態においても、実施形態1と同様に、可動接点39と固定接点14との互いの対向面の一方に他方側へ突出する凸曲面を形成してあるので、実施形態1と同様に可動接点39と固定接点14との接触信頼性を向上できる。
本実施形態における可動接点39は、実施形態1と同様に一対の固定接点14に跨って配置される可動接点基台部34に設けられ、一対の固定接点14,14間を短絡するように一対の固定接点14,14に接触する位置と一対の固定接点14,14間を開放するように一対の固定接点14,14から離れた位置との間で変位可能である。ただし、本実施形態における可動接点基台部34は、一対の固定接点14,14の並設方向における中央部がアーマチュア30の可動基台部30aに1本の接圧ばね35を介して支持されている。ここにおいて、接圧ばね35は、平面形状が蛇行状に形成されており、一端部が可動基台部30aにおいて可動接点基台部34との対向面に形成された切欠部30dの内周面に連続一体に連結されるとともに他端部が可動接点基台部34における可動基台部30aとの対向面に連続一体に連結されている。
しかして、本実施形態のマイクロリレーでは、アーマチュア30と可動接点基台部34とを結ぶ方向(一対の固定接点14の並設方向に直交する方向)に直交する面内で可動接点基台部34が回動自在となるので、可動接点39が一対の固定接点14,14の一方のみに当たる片当たりを防止することができ、接触信頼性を向上させることができる。
また、本実施形態のマイクロリレーでは、接圧ばね35の一端部が可動基台部30aに形成された切欠部30dの内周面に連続一体に連結されるとともに他端部が可動接点基台部34に連続一体に連結されていることにより、可動基台部30aと可動接点基台部34との間の距離を比較的小さくしながらも所望の接点圧を得ることが可能となるので、リレー全体の小型化を図れる。なお、本実施形態のマイクロリレーでは、可動接点39が固定接点14に接触した状態では図15(a)に示すようにアーマチュア30の可動基台部30aと接圧ばね35とが互いに異なる平面上に位置し、可動接点39が固定接点14から開離した状態では図15(b)に示すようにアーマチュア30の可動基台部30aと接圧ばね35とが同一平面上に位置する。
(実施形態8)
本実施形態のマイクロリレーの基本構成は実施形態7と略同じであって、図16に示すように磁性体部30bの外周に当接する部分を他の部位に比べて幅広の幅広部35bとしてある点が相違する。ここに、幅広部35bは磁性体部30bの短辺に沿って形成されている。
しかして、本実施形態のマイクロリレーでは、接圧ばね35において磁性体部30bの外周に当接する部分を他の部位に比べて幅広の幅広部35bとしてあるので、接圧ばね35と磁性体部30bとが当たる際に接圧ばね35が破損するのを防止することができる。
ところで、本実施形態のマイクロリレーでは、可動接点基台部34および可動接点39の平面形状が一対の固定接点14の並設方向を長手方向とする矩形状に形成されているが、図17(a)〜(d)のいずれかに示すような形状を採用してもよい。ここに、図17(a)では可動接点基台部34および可動接点39それぞれの平面形状が図10を参照して説明した実施形態3と同じであり、図17(b)では可動接点基台部34および可動接点39それぞれの平面形状が図11を参照して説明した実施形態4と同じであり、図17(c)では一対の固定接点14の位置関係、可動接点部34および可動接点39それぞれの平面形状が図12を参照して説明した実施形態5と同じであり、図17(d)では可動接点基台部34および可動接点39それぞれの平面形状が図13を参照して説明した実施形態6と略同じである。
また、上記各実施形態では、固定接点14をスルーホール10から離れた位置に設けてスルーホール10を蓋体19で閉塞しているが、図18に示すように、ベース基板1の上記一表面側でスルーホール10を閉塞する金属ボールからなる固定接点14を設けるようにしてもよく、当該金属ボールにおいてベース基板1の上記一表面側へ露出した部分の表面が上記凸曲面を構成するようにしてもよい。このような構成を採用すれば、固定接点14によりスルーホール10の開口面を閉塞することができるから、スルーホール10を通した配線を可能としながらもスルーホール10を通して外部から粉塵などが侵入するのを防止できる。しかも、固定接点14をスルーホール10から離間して設ける場合に比べてベース基板1の平面サイズの小型化を図れてリレー全体の小型化を図ることが可能となる。
また、図19(a)に示すようにベース基板1の厚み方向に貫設したスルーホール10を上記一表面側で金属ボール14aにより閉塞してから、当該金属ボール14aにおいてベース基板1の上記一表面側へ露出した部分を図19(b)に示すようなフォーミング用の冶具60を用いて所望の形状にフォーミングすることにより上記凸曲面を形成してもよい。ここに、冶具60は金属ボール14aを所定の形状にフォーミングするための凹所61が厚み方向の一面に形成されており、図19(b)に示すように冶具60の厚み方向をベース基板1の厚み方向に一致させてから、冶具60を図19(b)の矢印Cの向きでベース基板1へ近づけてフォーミングを行うことができる。このようなフォーミングを行うことにより、フォーミングを行わない場合に比べて接触信頼性を向上させることが可能となる。
なお、上述の各例では、可動接点39と固定接点14との互いの対向面の少なくとも一方に他方側へ突出する凸曲面を形成した構成、可動接点39が固定接点14と弾接可能な一対の可動接点片39bを有する構成、可動接点39が設けられ一対の固定接点14に跨って配置される可動接点基台部34が1本の接圧ばね35を介してアーマチュア30に支持された構成などについて説明したが、これらの構成を適宜組み合わることにより接触信頼性をより一層向上させることが可能である。
実施形態1を示し、(a)は分解斜視図、(b)は可動接点が固定接点に接触した状態の要部断面図である。 同上を示す斜視図である。 同上の要部分解斜視図である。 同上におけるアーマチュアブロックを示し、(a)は平面図、(b)は下面図である。 同上におけるアーマチュアブロックの分解斜視図である。 同上に用いるカバーの斜視図である。 同上の他の構成例において可動接点が固定接点に接触した状態の要部断面図である。 実施形態2を示し、(a)は要部平面図、(b)は可動接点の平面図である。 同上の動作説明図である。 実施形態3を示し、(a)は要部平面図、(b)は可動接点の平面図である。 実施形態4を示し、(a)は要部平面図、(b)は可動接点の平面図である。 実施形態5の要部平面図である。 実施形態6の要部平面図である。 実施形態7の要部平面図である。 同上の動作説明図である。 実施形態8の要部平面図である。 同上の他の構成例図である。 同上の他の構成例の要部概略断面図である。 同上の他の構成例の製造方法の説明図である。
符号の説明
1 ベース基板
2 電磁石装置
3 アーマチュアブロック
4 カバー
14 固定接点
30 アーマチュア
31 フレーム部
32 支持ばね部
34 可動接点基台部
35 接圧ばね部
39 可動接点

Claims (13)

  1. 電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび固定接点に接離する可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーとを備え、固定接点と可動接点との互いの対向面の少なくとも一方が他方側へ突出する凸曲面に形成されてなることを特徴とするマイクロリレー。
  2. 電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび固定接点に接離する可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーとを備え、可動接点は、互いに電気的に接続されそれぞれ固定接点と弾接可能な一対の可動接点片を有することを特徴とするマイクロリレー。
  3. 前記固定接点を2つ1組として少なくとも1組備え、前記可動接点は、組となる前記固定接点間を短絡する位置と開放する位置との間で変位可能であり、前記一対の前記可動接点片を前記各固定接点ごとに有することを特徴とする請求項2記載のマイクロリレー。
  4. 電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび固定接点に接離する可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーとを備え、アーマチュアブロックは、平行配置される一対の直線状の固定接点に対して当該一対の固定接点に跨って配置される可動接点を複数備え、固定接点の長手方向の両側の可動接点がアーマチュアに接圧ばねを介して支持された可動接点基台部の両端部に設けられ、可動接点基台部は、前記長手方向において隣り合う可動接点の間の部位が他の部位に比べて細幅に形成されてなることを特徴とするマイクロリレー。
  5. 電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび固定接点に接離する可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーとを備え、アーマチュアブロックは、固定接点に対して可動接点を2つ有しており、各可動接点は、それぞれ異なる接圧ばねを介して前記アーマチュアに支持された可動接点基台部に設けられてなることを特徴とするマイクロリレー。
  6. 電磁石装置を収納する収納部が形成され且つ厚み方向の一表面側に固定接点が設けられたベース基板と、ベース基板の前記一表面側に固着される枠状のフレーム部およびフレーム部の内側に配置されて支持ばね部を介してフレーム部に揺動自在に支持され電磁石装置により駆動されるアーマチュアおよび固定接点に接離する可動接点を有するアーマチュアブロックと、アーマチュアブロックにおけるベース基板とは反対側で周部がフレーム部に固着されたカバーとを備え、可動接点は、2つの固定接点に跨って配置される可動接点基台部に設けられ、両固定接点間を短絡するように両固定接点に接触する位置と両固定接点間を開放するように両固定接点から離れた位置との間で変位可能であり、可動接点基台部は、両固定接点の並設方向における中央部がアーマチュアに1本の接圧ばねを介して支持されてなることを特徴とするマイクロリレー。
  7. 前記アーマチュアは、前記フレーム部の内側に配置され前記支持ばね部を介して前記フレーム部に支持された薄板状の可動基台部と、可動基台部において前記電磁石装置側に固着された磁性体材料からなる薄板状の磁性体部とで構成され、前記接圧ばねは、一端部が可動基台部において前記可動接点基台部との対向面に形成された切欠部の内周面に連続一体に連結されるとともに他端部が前記可動接点基台部における可動基台部との対向面に連続一体に連結され、磁性体部の外周に当接する部分を他の部位に比べて幅広の幅広部としてあることを特徴とする請求項6記載のマイクロリレー。
  8. 前記可動接点は、互いに電気的に接続されそれぞれ前記固定接点と接離可能な一対の可動接点片を有することを特徴とする請求項6または請求項7記載のマイクロリレー。
  9. 前記可動接点は、前記各固定接点ごとに、互いに電気的に接続されそれぞれ前記固定接点と弾接可能な一対の可動接点片を有することを特徴とする請求項6ないし請求項8のいずれかに記載のマイクロリレー。
  10. 前記固定接点と前記可動接点との互いの対向面の少なくとも一方が他方側へ突出する凸曲面に形成されてなることを特徴とする請求項2ないし請求項9のいずれかに記載のマイクロリレー。
  11. 前記可動接点は、互いに電気的に接続されそれぞれ前記固定接点と弾接可能な一対の可動接点片を有し、接圧ばねを介して前記アーマチュアに支持された可動接点基台部に設けられてなることを特徴とする請求項1ないし請求項10のいずれかに記載のマイクロリレー。
  12. 前記凸曲面は前記固定接点に形成され、前記固定接点は、前記ベース基板の厚み方向に貫設したスルーホールを前記一表面側で閉塞する金属ボールからなり、当該金属ボールにおいて前記ベース基板の前記一表面側へ露出した部分の表面が前記凸曲面を構成していることを特徴とする請求項1または請求項10記載のマイクロリレー。
  13. 前記凸曲面は前記固定接点に形成され、前記固定接点は、前記ベース基板の厚み方向に貫設したスルーホールを前記一表面側で閉塞する金属ボールにおいて前記ベース基板の前記一表面側へ露出した部分を所望の形状にフォーミングすることにより前記凸曲面が形成されてなることを特徴とする請求項1または請求項10記載のマイクロリレー。
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