JP2008218025A - マイクロリレー - Google Patents

Abstract

【課題】製品毎に固定接点と可動接点との間の接触抵抗がばらつくことを抑制できて、安定した性能が得られるマイクロリレーを提供することにある。
【解決手段】マイクロリレーは、一対の固定接点２０からなる２つの固定接点部を有するボディ２と、各固定接点部それぞれに対応する部位に固定接点部との接触時に一対の固定接点２０間を電気的に接続する可動接点５０を有し各可動接点５０が固定接点部に対して接離するようにボディ２に揺動自在に支持されたアーマチュア５と、アーマチュア５を揺動させる電磁石装置とを備え、リレー本体１において各可動接点５０に対応する部位には、開口サイズが可動接点５０のサイズより小さく形成された接触防止用凹部２１が形成され、一対の固定接点２０は、互いに対向する側の縁部２０ａが接触防止用凹部２１に入り込む形でボディ２に形成されている。
【選択図】図１

Description

本発明は、マイクロリレー、特に半導体微細加工技術を利用して形成されたマイクロリレーに関する。

従来から、半導体微細加工技術を利用して形成されたマイクロリレーが提案されている（例えば、特許文献１参照）。

この種のマイクロリレーは、図４に示すように、一対の固定接点１１０が設けられたボディ１００と、可動接点２１０を有し可動接点２１０が一対の固定接点１１０の両方に接触して固定接点１１０間を電気的に接続する閉位置と可動接点２１０が一対の固定接点１１０の両方から離間して固定接点１１０間を電気的に接続しない開位置との間で移動するようにボディ１００に揺動自在に支持されたアーマチュア２００と、アーマチュア２００を揺動させる駆動手段（図示せず）とを備えている。
特開２００６−２１００８１号公報（図１，２参照）

ところで、上述したマイクロリレーにおいて、固定接点１１０を形成するにあたっては、一般にスパッタ法、電気めっき法、真空蒸着法などが用いられているが、これらの方法を用いて固定接点１１０を形成した際には、図４に示すように、固定接点１１０の縁部１１１に、突起１１２が形成されてしまうおそれがある。

固定接点１１０の縁部１１１（特に、固定接点１１０において他の固定接点１１０と対向する側の縁部１１１）に突起１１２が形成されていると、可動接点２１０と各固定接点１１０との接触時には、可動接点２１０に突起１１２が当接し、可動接点２１０が傾いた状態で各固定接点１１０と接触してしまう。

このような場合には、各固定接点１１０と可動接点２１０との接触面積が設計値よりも小さくなるため、固定接点１１０と可動接点２１０との間の接触抵抗が相対的に大きくなってしまう。

上述したような突起１１２は、固定接点１１０の縁部１１１に意図せずに形成されてしまうものであって、突起１１２が形成された場合には、その形状は製品毎に異なる蓋然性が高いから、製品毎に固定接点１１０と可動接点２１０との間の接触抵抗がばらついてしまい、安定した性能のマイクロリレーが得られないという問題が生じていた。

本発明は上述の点に鑑みて為されたもので、その目的は、製品毎に固定接点と可動接点との間の接触抵抗がばらつくことを抑制できて、安定した性能が得られるマイクロリレーを提供することにある。

上記の課題を解決するために、請求項１の発明では、複数の固定接点からなる固定接点部を有するボディと、固定接点部に対応する部位に固定接点部との接触時に複数の固定接点間を電気的に接続する可動接点を有し当該可動接点が固定接点部に対して接離するようにボディに揺動自在に支持されたアーマチュアと、アーマチュアを揺動させる駆動手段とを備え、ボディにおいて可動接点に対応する部位には、複数の固定接点それぞれにおいて少なくとも他の固定接点と対向する側の縁部が、可動接点と接触しないように入り込む接触防止用凹部が形成されていることを特徴とする。

請求項１の発明によれば、ボディにおいて可動接点と対応する部位に形成された接触防止用凹部に、複数の固定接点それぞれにおいて少なくとも他の固定接点と対向する側の縁部が入り込んでいるので、固定接点と可動接点が接触する際に、固定接点の前記縁部が可動接点とは接触しなくなって、固定接点の形成時に固定接点の縁部に突起が形成されてしまった場合でも、このような突起によって固定接点と可動接点との接触面積が小さくなることを抑制できるから、製品毎に固定接点と可動接点との間の接触抵抗がばらついてしまうことを抑制できて、安定した性能が得られる。

請求項２の発明では、請求項１の発明において、固定接点において可動接点に接触される固定側接触部と、可動接点において固定接点に接触される可動側接触部のいずれか一方は、可動接点の移動方向に交わる方向を法線方向とする平面形状に形成され、残る他方は、前記法線方向と反対側の方向に凸となる曲面形状に形成されていることを特徴とする。

請求項２の発明によれば、固定接点と可動接点とが接触する際には、可動接点が固定接点上を摺動して固定接点との接触が安定する位置に位置し易くなるから、可動接点と固定接点との接触信頼性が向上する。

本発明は、製品毎に固定接点と可動接点との間の接触抵抗がばらついてしまうことを抑制できて、安定した性能が得られるという効果を奏する。

（実施形態１）
本実施形態のマイクロリレーは、例えば、常開接点と常閉接点とを備えた所謂ラッチング型リレーであり、図２に示すように、一対の固定接点２０からなる固定接点部が表面側（図２における上面側）の長手方向両端側それぞれに設けられたボディ２と、固定接点部それぞれに対応する部位に固定接点部との接触時に一対の固定接点２０間を電気的に接続する可動接点５０を有し当該可動接点５０が固定接点部に対して接離するようにボディ２に揺動自在に支持されたアーマチュア５と、ボディ２の前記表面側に接合されアーマチュア５が内側に配置されるフレーム３と、フレーム３におけるボディ２側とは反対側に接合されたカバー４と、アーマチュア５を揺動させる駆動手段となる電磁石装置６とを備え、ボディ２とフレーム３とカバー４とによってリレー本体１が構成されている。

ボディ２は、例えば、直方体状のガラス基板により形成されている。ボディ２の前記表面側における長手方向両端側それぞれには、接触防止用凹部２１がボディ２の短手方向中央部に位置する形で形成されている。

接触防止用凹部２１は、ボディ２の長手方向に直交する面内の空間形状が開口側（図１における上面側）に向けて拡開する形状となっており、ボディ２の幅方向（図１における左右方向）における両内側面は、その法線方向が底面の法線方向と鋭角をなす方向となっている。このような接触防止用凹部２１はブラスト加工、またはフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術などを利用して形成できる。

また、ボディ２の前記表面側の長手方向両端側それぞれに一対の固定接点２０からなる固定接点部が形成されている。ここで、一対の固定接点２０は、図１に示すように、前記表面側の短手方向に沿った方向（図１における左右方向）で互いに対向する形でボディ２の前記表面に膜厚が略均一となるように形成されている。また、各固定接点２０は、互いに対向する側の縁部２０ａが、接触防止用凹部２１に入り込むように延設されている。なお、固定接点２０は、例えば、ＣｕやＡｕなどの導電性が良好な金属材料からなる金属薄膜であって、スパッタ法や、電気めっき法、真空蒸着法などを利用して形成されている。また、固定接点２０は、単層構造のものに限らず、例えば、ボディ２の前記表面に形成されたＴｉ層と、Ｔｉ層におけるボディ２側とは反対側に形成されたＡｕ層とからなる多層構造のものであってもよい。

また、ボディ２において各固定接点２０それぞれと厚み方向で重なる部位には、スルーホール（図示せず）が、ブラスト加工、またはフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術などを利用して形成され、スルーホールの内周面には、図示しない外部回路（例えば、マイクロリレーを実装するプリント基板の電気回路）などと固定接点２０とを電気的に接続する貫通孔配線（図示せず）が、電気めっき法などを用いて形成されている。

一方、ボディ２の中央部には、ボディ２を厚み方向に貫通する電磁石装置６収納用の開孔部（図示せず）が形成され、ボディ２の前記表面側には、例えば厚みが５〜５０μｍ程度（好ましくは２０μｍ程度）に形成されたシリコン板やガラス板などからなり開孔部全体を閉塞する閉塞板２３が密着接合されている。したがって、開孔部の内周面と閉塞板２３とで囲まれる空間部が電磁石装置６の収納室を構成している。

フレーム３は、図２に示すように、アーマチュア５が内側に配置される開口３ａを有する矩形枠状に形成され、開口３ａにおいてフレーム３の短手方向で対向する内側面それぞれの長手方向中央部には、フレーム３の長手方向に沿った方向でのアーマチュア５の移動を規制する一対の規制突起３ｂが形成されている。なお、フレーム３はボディ２のサイズと同サイズに形成されている。

アーマチュア５は、図２に示すように、フレーム３の開口３ａ内に配置されるアーマチュア本体５１を有している。アーマチュア本体５１は、フレーム３の長手方向に沿った方向を長手方向とする長方形状に形成され、ボディ２との対向面側（図２における下面側）に接極子板（図示せず）が接合された主部５２と、主部５２の長手方向両端側に配置された接点基台５３とを備えている。

ここで、前記接極子板は、電磁石装置６で発生させる磁力によりアーマチュア５を揺動させるためのものであり、電磁軟鉄、電磁ステンレス、パーマロイなどの磁性材料を機械加工して形成され、接着、溶接、熱着、ロウ付けなどの方法で、主部５２に接合されている。

主部５２の厚みは、アーマチュア５におけるボディ２との対向面（すなわち、主部５２に接合された接極子板における主部５２とは反対側の表面）よりも、フレーム３におけるボディ２との対向面が、ボディ２側に位置するような厚みに設定されている。したがって、フレーム３をボディ２に接合した際には、アーマチュア５におけるボディ２との対向面とボディ２の前記表面との間に、アーマチュア５を揺動自在とするための空間部が形成される。

主部５２の短手方向両側における長手方向中央部には、それぞれ短手方向へ突出する突出部５２ａが中心線を一致させた形で一体に突設されている。突出部５２ａは、図２に示すように、フレーム３の一対の規制突起３ｂ間に配置され、突出部５２ａが一対の規制突起３ｂのいずれかとフレーム３の長手方向において当接することで、フレーム３の長手方向に沿った方向へのアーマチュア５の移動が規制される。

一方、主部５２におけるボディ２との対向面側の長手方向中央部には、ボディ２の前記表面側に当接してアーマチュア５の揺動動作（シーソ動作）の支点となる支点突起（図示せず）が、主部５２の短手方向に離間する形に設けられている。さらに、主部５２の前記対向面側の四隅それぞれには、ボディ２に当接することでアーマチュア５の揺動範囲を規制するストッパ（図示せず）が形成されている。なお、本実施形態では、閉塞板２３の四隅部に切り欠きを設けることで、ボディ２の前記表面においてストッパと対向する部位には、閉塞板２３が存在しないようにし、ストッパが閉塞板２３と衝突しないようにしている。また、各ストッパの突出寸法は、主部５２の対向面とボディ２の前記表面とが平行となる位置にアーマチュア５を位置させた状態では、ボディ２と当接しないような値に設定されている。

接点基台５３は、フレーム３の短手方向に沿った方向を長手方向とする直方体状に形成され、ボディ２との対向面（図２における下面）には、固定接点部との接触時に一対の固定接点２０間を電気的に接続する可動接点５０が形成されている。また、接点基台５３は、ボディ２の接触防止用凹部２１の開口サイズよりも大きいサイズに形成され、可動接点５０がボディ２の固定接点部に接触した際に、接触防止用凹部２１に入り込むことが無いようにしている。各接点基台５３は、一対の連結片５４により図２に示すように主部５２と一体に連結されている。連結片５４は、厚み方向に直交する面内で少なくとも一部が接点基台５３の長手方向に沿った方向に進む形に蛇行した形状に形成され、接点基台５３の可動接点５０が固定接点２０に接触した際に、所定の接圧を付与できるようにしている。

ところで、主部５２は図２に示すように支持片５５によりフレーム３と一体に連結されている。支持片５５は、フレーム３の開口３ａの短手方向における内側面と、当該内側面に対向する主部５２の短手方向の外側面とを一体に連結するものであって、アーマチュア５の揺動軸に対して線対称となるように４つ形成されている。

支持片５５は、厚み方向に直交する面内で少なくとも一部が主部５２の長手方向に沿った方向に進むように蛇行した形状に形成されているから、アーマチュア５がフレーム３に揺動自在に支持されることになる。また、支持片５５を蛇行した形状に形成することで、支持片５５の長さを長くでき、アーマチュア５が揺動動作する際に支持片５５がねじられることで生じるばね力のばね定数を適切に小さくできるとともに、支持片５５に加えられる応力も分散できる。なお、支持片５５は、フレーム３よりも厚みが薄く形成され、幅方向の寸法が厚み寸法よりも小さく形成されている。

なお、本実施形態では、アーマチュア本体５１とフレーム３とが同じ基板から形成されている。すなわち、アーマチュア本体５１を構成する主部５２、接点基台５３、連結片５４、および支持片５５と、フレーム３とは、例えば、５０μｍ〜３００μｍ程度、好ましくは２００μｍ程度の厚みのシリコン基板をフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術などを利用してパターニングすることにより形成されている。

カバー４は、例えば、耐熱ガラスなどの耐熱性に優れる材料によりボディ２と同サイズの矩形板状に形成され、フレーム３との対向面側（図２における下面側）には、アーマチュア５との接触を防止してアーマチュア５をリレー本体１内に揺動自在に収納するための逃げ凹部（図示せず）が形成されている。

電磁石装置６は、図２に示すように、ヨーク６０と、永久磁石６３と、一対のコイル６４とを備えている。ヨーク６０は、電磁軟鉄などの鉄板を曲げ加工あるいは鍛造加工してなり、長尺矩形板状の中央片６１と、中央片６１の表面側（図２における上面側）の長手方向両端部それぞれに突設された矩形板状の脚片６２とを一体に備えている。永久磁石６３は、脚片６２の中央片６１からの突出寸法と略同寸法の厚みの直方体状に形成され、厚み方向の一面側と他面側とが互いに異極となるように着磁されている。この永久磁石６３は、前記他面をヨーク６０の中央片６１の前記表面における長手方向中央部に当接させた状態でヨーク６０に取着される。各コイル６４は、各脚片６２と永久磁石６３との間の中央片６１の部位それぞれに巻回されている。

そして、本実施形態のマイクロリレーは、上述したボディ２の前記表面側に、アーマチュア５の各接点基台５３の可動接点５０と一対の固定接点２０からなる各固定接点部とがそれぞれ対向する形で、フレーム３を接合（例えば、陽極接合）し、フレーム３におけるボディ２側とは反対側にカバー４を接合（例えば、陽極接合）し、ボディ２の開孔部に電磁石装置６を収納することによって構成されている。

このマイクロリレーでは、アーマチュア５は、可動接点５０が固定接点部に接触して一対の固定接点２０間を電気的に接続する閉位置と、可動接点５０が固定接点部から離間して一対の固定接点部２０間を電気的に接続しない開位置との間で移動するようにリレー本体１に揺動自在に収納され、可動接点５０と固定接点部によってリレー本体１の長手方向両端側それぞれに接点機構部が構成される。なお、リレー本体１内には不活性ガスを充填してもよい。

次に、本実施形態のマイクロリレーの動作について図１および図２を参照して説明する。なお、以下の説明では、一対の固定接点２０に関しては、必要に応じてリレー本体１の長手方向一端側（図２における右下側）のものと他端側（図２における左上側）のものとを区別するために、符号２０Ａ，２０Ｂで表す。また、同様の理由から、可動接点５０を符号５０Ａ，５０Ｂで、接点基台５３を符号５３Ａ，５３Ｂで、脚片６２を符号６２Ａ，６２Ｂで、コイル６４を符号６４Ａ，６４Ｂでそれぞれ表す。また、初期状態では、可動接点５０がいずれの固定接点２０とも接触していないとする。

初期状態から電磁石装置６の両コイル６４それぞれに所定方向に電流が流れるように通電すると、コイル６４で発生する磁束は、例えば、脚片６２Ａでは永久磁石６３が発生する磁束と同方向となり、脚片６４Ｂでは永久磁石６３が発生する磁束と逆方向となるから、脚片６２Ａの先端面とアーマチュア５の接極子板との間に吸引力が生じる。

そのため、アーマチュア５は、主部５２の前記支点突起の頂点を支点として揺動動作し、アーマチュア５の主部５２の長手方向一端側（リレー本体１の長手方向一端側と同じ側）に設けられたストッパがボディ２の前記表面に当接した状態となる。このとき、ストッパがボディ２の前記表面に当接することで、接極子板が閉塞板２３に衝突しないから閉塞板２３の破損が防止される。

このようにアーマチュア５が前記初期状態から傾いた状態では、接点基台５３Ａの可動接点５０Ａが、一対の固定接点２０Ａからなる固定接点部と所定の接圧で接触して、一対の固定接点２０Ａ間を電気的に接続する閉位置に位置する。ここで、リレー本体１のボディ２において可動接点５０に対応する部位それぞれには、接触防止用凹部２１が形成されているから、固定接点２０Ａと可動接点５０Ａが接触するにあたっては、可動接点５０Ａは、接触防止用凹部２１の外側に位置する固定接点２０Ａの部位と接触する。つまり、可動接点５０Ａは、接触防止用凹部２１に入り込んだ各固定接点２０Ａの縁部２０ａとは接触しないようになっている。

一方、接点基台５３Ｂの可動接点５０Ｂは、一対の固定接点２０Ｂからなる固定接点部から離間して、一対の固定接点２０Ｂ間を電気的に接続しない開位置に位置する。

したがって、電磁石装置６の両コイル６４に前記所定方向に電流を流すと、一対の固定接点２０Ａ間のみが電気的に接続される。

この状態で、両コイル６４への通電を停止した場合には、永久磁石６３が発生する磁束が、永久磁石６３→接触子板→脚片６２Ａ→永久磁石６３という閉磁路を通るため、上記状態が保持される。

その後に、両コイル６４それぞれに、前記所定方向とは逆方向に電流が流れるように通電すると、コイル６４が発生する磁束は、脚片６２Ｂでは永久磁石６３が発生する磁束と同方向となり、脚片６４Ａでは永久磁石６３が発生する磁束と逆方向となるから、脚片６２Ｂの先端面とアーマチュア５の接極子板との間に吸引力が生じる。

そのため、アーマチュア５は、主部５２の前記支点突起の頂点を支点として上記とは反対方向へ揺動動作し、アーマチュア５の主部５２の長手方向他端側（リレー本体１の長手方向他端側と同じ側）に設けられたストッパがボディ２の前記表面に当接した状態となる。

このようにアーマチュア５が傾いた状態では、接点基台５３Ｂの可動接点５０Ｂが、一対の固定接点２０Ｂからなる固定接点部と所定の接圧で接触して、一対の固定接点２０Ｂ間を電気的に接続する閉位置に位置する。可動接点５０Ｂと一対の固定接点２０Ｂとが接触する際においても、可動接点５０Ａの場合と同様に、可動接点５０Ｂは、接触防止用凹部２１の外側に位置する固定接点２０Ｂの部位と接触し、接触防止用凹部２１に入り込んだ固定接点２０Ｂの縁部２０ａとは接触しないようになっている。

一方、接点基台５３Ａの可動接点５０Ａは、一対の固定接点２０Ａからなる固定接点部から離間して、一対の固定接点２０Ａ間を電気的に接続しない開位置に位置する。

したがって、電磁石装置６の両コイル６４に前記所定方向とは逆方向に電流を流すと、一対の固定接点２０Ｂ間のみが電気的に接続される。

この状態で、両コイル６４への通電を停止した場合には、永久磁石６３が発生する磁束が、永久磁石６３→接触子板→脚片６２Ｂ→永久磁石６３という閉磁路を通るため、上記状態が保持される。

そして、一対の固定接点２０Ａ間を電気的に接続したい場合には、両コイル６４に前記所定方向に電流が流れるように通電すればよい。

このように本実施形態のマイクロリレーは、両コイル６４の通電方向によって、常開接点と常閉接点とが切り換えられるラッチング型リレーとなっている。

以上述べた本実施形態のマイクロリレーによれば、リレー本体１のボディ２において可動接点５０と対応する部位に形成された接触防止用凹部２１に、一対の固定接点２０それぞれにおいて互いに対向する側の縁部２０ａが入り込んでいるので、固定接点２０と可動接点５０が接触する際に、固定接点２０の縁部２０ａが可動接点５０とは接触しなくなる。そのため、スパッタ法などを用いて固定接点２０を形成した際に、固定接点２０の縁部２０ａに図１に示すように突起２２が形成されてしまった場合でも、可動接点５０が突起２２に接触することがないので、このような突起２２によって固定接点２０と可動接点５０との接触面積が小さくなることを抑制できるから、製品毎に固定接点２０と可動接点５０との間の接触抵抗がばらついてしまうことを抑制でき、安定した性能が得られ、その上、接触抵抗の低抵抗化が図れる。

ところで、本実施形態のマイクロリレーでは、接触防止用凹部２１を、固定接点２０において他の固定接点２０と対向する側の縁部２０ａが入り込むように形成しているが、接触防止用凹部２１は、固定接点２０において少なくとも可動接点５０と厚み方向で重なる部位の縁部２０ａ全てが、入り込むような形状に形成してもよく、このようにすれば、固定接点２０の縁部２０ａの全てが可動接点５０と接触しなくなるから、接触抵抗のさらなる安定化が図れる。

なお、本実施形態のマイクロリレーでは、一対の固定接点２０により固定接点部を構成しているが、固定接点部はさらに多くの固定接点２０により構成され、可動接点５０が固定接点部に接触した際には、可動接点５０によって全ての固定接点２０が電気的に接続されるようにしてもよい。また、リレー本体１のボディ２に固定接点２０を設けているが、カバー４側に固定接点２０を設けるようにしてもよい。さらに、本実施形態のマイクロリレーでは、アーマチュア５を駆動する駆動手段として、永久磁石６３を用いた有極型の電磁石装置６を用いているが、永久磁石６３を用いない無極型の電磁石装置を用いてもよい。また、本実施形態のマイクロリレーでは、ラッチング型のリレーを例示しているが、これに限定する趣旨ではない。これらの点は後述する実施形態２においても同様である。

（実施形態２）
本実施形態のマイクロリレーは、主として接点基台５３の構成が実施形態１と異なっており、その他の構成は実施形態１と同様であるから説明を省略する。

本実施形態における接点基台５３は、図３に示すように、接触防止用凹部２１の底面のサイズよりも大きく、且つボディ２の接触防止用凹部２１の開口サイズよりも小さいサイズに形成されている。そのため、本実施形態においては、可動接点５０は、接触防止用凹部２１の幅方向の内側面に形成された固定接点２０の部位と接触するようになっている。

つまり、接触防止用凹部２１の幅方向の内側面に形成された固定接点２０の部位が固定接点２０において可動接点５０と接触される固定側接触部２０ｂとなる。

ここで、固定接点２０は上述したように膜厚が均一となるように形成され、接触防止用凹部２１の両内側面は、その法線方向が接触防止用凹部２１の底面の法線方向と鋭角をなす方向となっており、本実施形態では、前記底面の法線方向は、接点基台５３の移動方向に沿った方向となっているから、固定側接触部２０ｂは、その表面の法線方向が、可動接点５０の移動方向に交わる方向となっている。

一方、接点基台５３におけるボディ２との対向面（図３における下面）は、接点基台５３の短手方向に直交する面内においてボディ２側に凸となるＲ形状に形成されている。可動接点５０は、接点基台５３におけるボディ２との対向面に、膜厚が均一となるように形成されている。

そのため、可動接点５０の表面もＲ形状となり、可動接点５０において固定側接触部２０ｂと接触する部位（以下、「可動側接触部」と称する）５０ａは、固定側接触部２０ｂの表面の法線方向と反対側の方向に凸となる曲面形状を有している。なお、接点基台５３におけるボディ２との対向面の表面は、仮想的な球面の一部を構成する曲面（所謂ＳＲ形状）であってもよい。

すなわち、本実施形態のマイクロリレーでは、図３に示すように、固定側接触部２０ｂは、可動接点５０の移動方向に交わる方向を法線方向とする平面形状に形成され、可動側接触部５０ａは、前記法線方向と反対側の方向に凸となる曲面形状に形成されている。

したがって、本実施形態のマイクロリレーによれば、アーマチュア５の揺動によって接点基台５３が接触防止用凹部２１内に押し込まれた際には、可動接点５０の移動方向に交わる方向を法線方向とする平面形状に形成された固定側接触部２０ｂと、前記法線方向と反対側の方向に凸となる曲面形状に形成された可動側接触部５０ａとが接触して、可動接点５０が固定接点２０上を摺動するから、固定接点２０との接触が安定する位置に位置し易くなり、可動接点５０と固定接点２０との接触信頼性が向上する。

なお、図３に示す例とは逆に、可動側接触部５０ａが、可動接点５０の移動方向に交わる方向を法線方向とする平面形状に形成され、固定側接触部２０ｂが、前記法線方向と反対側の方向に凸となる曲面形状に形成されていてもよく、このような場合でも同様の効果が得られる。

実施形態１のマイクロリレーの要部の概略断面図である。 同上におけるマイクロリレーの分解斜視図である。 実施形態２のマイクロリレーの要部の概略断面図である。 従来例のマイクロリレーの要部の概略断面図である。

符号の説明

２ ボディ
５ アーマチュア
６ 電磁石装置（駆動手段）
２０ 固定接点
２０ａ 縁部
２０ｂ 固定側接触部
２１ 接触防止用凹部
５０ 可動接点
５０ａ 可動側接触部

Claims (2)

1. 複数の固定接点からなる固定接点部を有するボディと、固定接点部に対応する部位に固定接点部との接触時に複数の固定接点間を電気的に接続する可動接点を有し当該可動接点が固定接点部に対して接離するようにボディに揺動自在に支持されたアーマチュアと、アーマチュアを揺動させる駆動手段とを備え、
   ボディにおいて可動接点に対応する部位には、複数の固定接点それぞれにおいて少なくとも他の固定接点と対向する側の縁部が、可動接点と接触しないように入り込む接触防止用凹部が形成されていることを特徴とするマイクロリレー。
2. 固定接点において可動接点に接触される固定側接触部と、可動接点において固定接点に接触される可動側接触部のいずれか一方は、可動接点の移動方向に交わる方向を法線方向とする平面形状に形成され、残る他方は、前記法線方向と反対側の方向に凸となる曲面形状に形成されていることを特徴とする請求項１記載のマイクロリレー。

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