JP2005197715A - Sramデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は、半導体基板のセル領域に第1及び第2導電層パターンを形成すると共に、半導体基板の周辺領域に第3導電層パターンを形成する工程と、基板上に第1〜第3絶縁膜を順次重ねる工程と、基板の周辺領域だけを露出するように基板上に第1マスクを形成する工程と、露出した周辺領域における第1〜第3絶縁膜をエッチングして、第3導電層パターンの側壁に第3スペーサを形成する工程と、第1マスクを除去する工程と、第3絶縁膜を除去する工程と、基板のセル領域を露出するように基板上に第2マスクを形成する工程と、露出したセル領域における第2及び第3絶縁膜をエッチングして、第1及び第2導電層パターンの側壁にそれぞれ第1及び第2スペーサを形成する工程と、第2マスクを除去する工程とを備える。
【選択図】 図2D
Description
202 アイソレート膜
203 酸化膜
204a〜204c 導電層パターン
205〜207 絶縁膜
208 フォトレジストパターン
211、212、213 スペーサ
Claims (3)
- 半導体基板のセル領域に第1及び第2導電層パターンを形成すると共に、前記半導体基板の周辺領域に第3導電層パターンを形成する工程と、
前記基板上にわたって第1〜第3絶縁膜を順次重ねる工程と、
前記基板の周辺領域だけを露出するように前記基板上にわたって第1マスクを形成する工程と、
前記露出した周辺領域における第3〜第1絶縁膜をエッチングすることにより、第3導電層パターンの側壁に第3スペーサを形成する工程と、
前記第1マスクを除去する工程と、
前記第3絶縁膜を除去する工程と、
前記基板の前記セル領域を露出するように前記基板上にわたって第2マスクを形成する工程と、
前記露出したセル領域における前記第2及び第3絶縁膜をエッチングすることによって、前記第1導電層パターン及び第2導電層パターンの側壁にそれぞれ第1及び第2スペーサを形成する工程と、
前記第2マスクを除去する工程とを備えたことを特徴とする、SRAMデバイスを製造する方法。 - 前記第1〜第3絶縁膜がそれぞれ150〜250Å、450〜550Å及び250〜350Åの厚みに形成されていることを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 前記第1及び第2導電層パターンがそれぞれトランジスタのゲート電極及びキャパシタの上部電極であることを特徴とする、請求項1記載の方法。
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