JP2005158926A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005158926A5 JP2005158926A5 JP2003393670A JP2003393670A JP2005158926A5 JP 2005158926 A5 JP2005158926 A5 JP 2005158926A5 JP 2003393670 A JP2003393670 A JP 2003393670A JP 2003393670 A JP2003393670 A JP 2003393670A JP 2005158926 A5 JP2005158926 A5 JP 2005158926A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- valve
- opening
- load lock
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003393670A JP2005158926A (ja) | 2003-11-25 | 2003-11-25 | ロードロック装置および方法 |
| US10/994,360 US20050118002A1 (en) | 2003-11-25 | 2004-11-23 | Load-lock technique |
| US11/843,074 US8347915B2 (en) | 2003-11-25 | 2007-08-22 | Load-lock technique |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003393670A JP2005158926A (ja) | 2003-11-25 | 2003-11-25 | ロードロック装置および方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005158926A JP2005158926A (ja) | 2005-06-16 |
| JP2005158926A5 true JP2005158926A5 (enExample) | 2007-01-18 |
Family
ID=34616486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003393670A Pending JP2005158926A (ja) | 2003-11-25 | 2003-11-25 | ロードロック装置および方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20050118002A1 (enExample) |
| JP (1) | JP2005158926A (enExample) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005158926A (ja) * | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Canon Inc | ロードロック装置および方法 |
| JP4478440B2 (ja) | 2003-12-02 | 2010-06-09 | キヤノン株式会社 | ロードロック装置および方法 |
| JP2005191494A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Canon Inc | 露光装置、デバイスの製造方法 |
| US7828504B2 (en) * | 2006-05-12 | 2010-11-09 | Axcellis Technologies, Inc. | Combination load lock for handling workpieces |
| US8693856B2 (en) | 2010-09-03 | 2014-04-08 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and methods for vacuum-compatible substrate thermal management |
| DE102010048043A1 (de) | 2010-10-15 | 2012-04-19 | Ev Group Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Prozessierung von Wafern |
| JP2015074810A (ja) * | 2013-10-10 | 2015-04-20 | 日東電工株式会社 | スパッタ装置およびスパッタ装置のフィルムロールの交換方法 |
| CN104385778B (zh) * | 2014-10-27 | 2017-05-17 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种取向膜印刷设备和取向膜印刷系统 |
| DK178352B1 (da) * | 2015-02-27 | 2016-01-04 | Intelligent Systems As | Transport- og lagersystem til servicering af et antal behandlings og plejeområder på et hospital, samt fremgangsmåde til drift heraf. |
| WO2017085874A1 (ja) * | 2015-11-20 | 2017-05-26 | クレイトス アナリティカル リミテッド | 真空処理装置および質量分析装置 |
| CN108506342B (zh) * | 2018-03-20 | 2020-02-21 | 北京石油化工学院 | 一种主动悬浮的双驱动天车 |
| KR101892129B1 (ko) * | 2018-05-25 | 2018-10-04 | 주식회사 디엠티 | 진공 챔버 이송 장치 |
| JP7168430B2 (ja) * | 2018-12-04 | 2022-11-09 | 株式会社アイシン福井 | レーザ溶接装置 |
| JP7239307B2 (ja) * | 2018-12-04 | 2023-03-14 | 株式会社アイシン福井 | レーザ溶接装置 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2812271C2 (de) * | 1978-03-21 | 1983-01-27 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Vorrichtung mit mehreren Schleusenkammern zum chargenweisen Beschichten von Substraten |
| FR2659263B1 (fr) * | 1990-03-07 | 1992-05-15 | Commissariat Energie Atomique | Porte soufflante pour conteneur de confinement ultrapropre. |
| JP3238427B2 (ja) * | 1991-07-25 | 2001-12-17 | 東京エレクトロン株式会社 | イオン注入装置内に被処理体を搬入搬出するための気密容器の排気方法 |
| KR0155572B1 (ko) * | 1991-05-28 | 1998-12-01 | 이노우에 아키라 | 감압처리 시스템 및 감압처리 방법 |
| US5363872A (en) * | 1993-03-16 | 1994-11-15 | Applied Materials, Inc. | Low particulate slit valve system and method for controlling same |
| JP3311126B2 (ja) * | 1993-12-20 | 2002-08-05 | キヤノン株式会社 | ミラーユニットおよび該ミラーユニットを備えた露光装置 |
| US5835560A (en) * | 1994-05-24 | 1998-11-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
| US6048154A (en) * | 1996-10-02 | 2000-04-11 | Applied Materials, Inc. | High vacuum dual stage load lock and method for loading and unloading wafers using a high vacuum dual stage load lock |
| JPH10173025A (ja) * | 1996-12-16 | 1998-06-26 | Kokusai Electric Co Ltd | 半導体製造装置のロードロック室 |
| JPH113867A (ja) * | 1997-06-11 | 1999-01-06 | Kokusai Electric Co Ltd | 半導体製造装置 |
| JP2001102281A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-04-13 | Canon Inc | ロードロック室、チャンバ、半導体製造装置およびデバイス製造方法 |
| US6558509B2 (en) * | 1999-11-30 | 2003-05-06 | Applied Materials, Inc. | Dual wafer load lock |
| JP4689064B2 (ja) * | 2000-03-30 | 2011-05-25 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| JP2003059801A (ja) * | 2001-08-14 | 2003-02-28 | Canon Inc | 露光装置及び露光方法 |
| JP3851154B2 (ja) * | 2001-11-30 | 2006-11-29 | 株式会社日本製鋼所 | ロードロック装置の基板搬送方法及びその装置 |
| JP2004047517A (ja) * | 2002-07-08 | 2004-02-12 | Canon Inc | 放射線生成装置、放射線生成方法、露光装置並びに露光方法 |
| JP4164414B2 (ja) * | 2003-06-19 | 2008-10-15 | キヤノン株式会社 | ステージ装置 |
| US6916009B2 (en) * | 2003-07-14 | 2005-07-12 | Vat Holding Ag | Load-lock device for introducing substrates into a vacuum chamber |
| JP2005158926A (ja) | 2003-11-25 | 2005-06-16 | Canon Inc | ロードロック装置および方法 |
-
2003
- 2003-11-25 JP JP2003393670A patent/JP2005158926A/ja active Pending
-
2004
- 2004-11-23 US US10/994,360 patent/US20050118002A1/en not_active Abandoned
-
2007
- 2007-08-22 US US11/843,074 patent/US8347915B2/en not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2005158926A5 (enExample) | ||
| CN100514551C (zh) | 热处理装置 | |
| JP3403181B2 (ja) | 熱処理装置及び熱処理方法 | |
| JP2006287178A5 (enExample) | ||
| JP2005166970A5 (enExample) | ||
| JP2005166862A5 (enExample) | ||
| JP2004006801A5 (enExample) | ||
| TW201036099A (en) | Substrate treating apparatus and method | |
| CN113311890B (zh) | 极紫外光刻机物料传递及污染控制系统、方法 | |
| JP2001118904A5 (enExample) | ||
| JP7379042B2 (ja) | 真空搬送装置および真空搬送装置の制御方法 | |
| JP2006310561A (ja) | 真空処理装置および真空処理方法 | |
| JPH07335602A (ja) | 基板の表面処理方法及び表面処理装置 | |
| JP2004228602A5 (enExample) | ||
| JP2004200364A (ja) | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 | |
| JPH05295551A (ja) | インライン式プラズマcvd装置 | |
| JP2003059997A (ja) | 処理装置および処理方法 | |
| JP5598407B2 (ja) | 成膜処理装置および成膜方法 | |
| JP2008227264A5 (enExample) | ||
| JPH11168045A5 (enExample) | ||
| JPH0982594A (ja) | 半導体製造装置における室内減圧方法 | |
| CN112746155A (zh) | 气氛置换装置和热处理系统 | |
| JP2005050852A (ja) | 負圧処理装置のロードロック室パージシステム及びその方法 | |
| JP2006169576A (ja) | 真空装置 | |
| JPH02184333A (ja) | ロードロック装置を備えた処理装置 |