JP2005067983A - 多孔性物質とその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000011148 porous material Substances 0.000 title description 8
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 47
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 16
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229910021563 chromium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 28
- FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K trifluorochromium Chemical compound F[Cr](F)F FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 28
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- -1 fluoro compound Chemical class 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 15
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 claims description 12
- BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L zinc fluoride Chemical compound F[Zn]F BHHYHSUAOQUXJK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 12
- IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanal Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C=O IRPGOXJVTQTAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminum fluoride Inorganic materials F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 9
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 claims description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910021583 Cobalt(III) fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 7
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 claims description 7
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 7
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- YCYBZKSMUPTWEE-UHFFFAOYSA-L cobalt(ii) fluoride Chemical compound F[Co]F YCYBZKSMUPTWEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- SHXXPRJOPFJRHA-UHFFFAOYSA-K iron(iii) fluoride Chemical compound F[Fe](F)F SHXXPRJOPFJRHA-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 7
- XROWMBWRMNHXMF-UHFFFAOYSA-J titanium tetrafluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[Ti+4] XROWMBWRMNHXMF-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 7
- RMSOEGBYNWXXBG-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=CC2=C(Cl)C(O)=CC=C21 RMSOEGBYNWXXBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) fluoride Chemical compound F[Ni]F DBJLJFTWODWSOF-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 6
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 5
- KDJOAYSYCXTQGG-UHFFFAOYSA-N disilicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O[Si](O)(O)O KDJOAYSYCXTQGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 claims description 3
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002471 indium Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- 150000001462 antimony Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 125000005624 silicic acid group Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 claims 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 abstract description 10
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 23
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 9
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 8
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 5
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical compound FCF RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloroethane Chemical compound ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluoroethane Chemical compound CC(F)F NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XWCDCDSDNJVCLO-UHFFFAOYSA-N Chlorofluoromethane Chemical compound FCCl XWCDCDSDNJVCLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021556 Chromium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229960000359 chromic chloride Drugs 0.000 description 2
- QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K chromium(3+) trichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cr+3] QSWDMMVNRMROPK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- UHCBBWUQDAVSMS-UHFFFAOYSA-N fluoroethane Chemical compound CCF UHCBBWUQDAVSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- QVLAWKAXOMEXPM-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrachloroethane Chemical compound ClCC(Cl)(Cl)Cl QVLAWKAXOMEXPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXGNWUVNYMJENI-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)F WXGNWUVNYMJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGZYQOSEVSXDNI-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethane Chemical compound FCC(F)F WGZYQOSEVSXDNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)(Cl)Cl FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGZHHTKDHXSAQQ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-2-fluoroethane Chemical compound FCC(Cl)Cl RGZHHTKDHXSAQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHFMSNDOYCFEPH-UHFFFAOYSA-N 1,2-difluoroethane Chemical compound FCCF AHFMSNDOYCFEPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHNZEZWIUMJCGF-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,1-difluoroethane Chemical compound CC(F)(F)Cl BHNZEZWIUMJCGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYXIKYKBLDZZNW-UHFFFAOYSA-N 2-Chloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)CCl CYXIKYKBLDZZNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N Chlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)Cl VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical group ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229950005499 carbon tetrachloride Drugs 0.000 description 1
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- UMNKXPULIDJLSU-UHFFFAOYSA-N dichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)Cl UMNKXPULIDJLSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940099364 dichlorofluoromethane Drugs 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229940052308 general anesthetics halogenated hydrocarbons Drugs 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N pentafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)F GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
【課題】大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性金属フッ化物を合成するために好適に使用される原料組成物、および、例えば該原料組成物をフッ素化することにより大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性金属フッ化物を提供すること、及び該多孔性金属フッ化物を含有してなるフッ素化触媒を提供すること。
【解決手段】金属化合物にケイ素化合物を含有させてなる多孔性金属フッ化物合成用原料組成物。大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性金属フッ化物。前記原料組成物をフッ化水素処理することにより得られる多孔性金属化フッ化物。
【選択図】 なし
【解決手段】金属化合物にケイ素化合物を含有させてなる多孔性金属フッ化物合成用原料組成物。大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性金属フッ化物。前記原料組成物をフッ化水素処理することにより得られる多孔性金属化フッ化物。
【選択図】 なし
Description
本発明は、多孔性金属フッ化物合成用原料組成物、この原料をフッ素化することにより得られる多孔性金属フッ化物及びこの多孔性金属フッ化物を含有するフッ素触媒更には該触媒を用いたフルオロ化合物の製造方法に関する。
マイクロ及びメソサイズの孔を持つ多孔性物質は触媒、選択性分離、選択的反応、センサーなどに広く用いられている（非特許文献１）。しかしながら、このような多孔性物質のほとんどはケイ酸塩あるいは金属酸化物である（非特許文献２，３）。これらのケイ酸塩や金属酸化物は、フッ化水素存在下のような腐食性雰囲気下ではそれ自身反応して腐食されてしまうため、また高温においては細孔構造が破壊されてしまうため、安定に用いることができないという欠点を持つ。
これに対して安定な多孔性物質として、多孔性フッ化アルミニウム（非特許文献４、５）、多孔性フッ化マグネシウム（非特許文献６）、多孔性フッ化カルシウム（非特許文献７）、多孔性フッ化クロム（特許文献１）が知られている。
しかしながら、これらの表面積は、多孔性フッ化アルミニウムでは75 m2/g程度、多孔性フッ化カルシウムでは60 m2/g程度、多孔性フッ化マグネシウムでは47 m2/g程度に過ぎない。多孔性フッ化クロムは気相フッ素化反応触媒として有用であり、冷媒などに用いられているヒドロフルオロカーボンの製造過程で使われているが、この多孔性フッ化クロムも、その表面積は70 m2/g程度のものしか知られていなかった（特許文献２）
例えば、多孔性フッ化クロムは、通常酸化クロムをフッ素処理することによって作られているが、フッ化クロム触媒の触媒活性は前駆体である酸化クロムの表面積に影響され、酸化クロムの表面積が大きくなるとフッ素化の触媒活性が向上すると報告されている（特許文献３）。このように、大きな表面積をもつ多孔性物質は高い触媒活性などの優れた特性が期待されるため、より大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性物質の開発が要望されていた。
しかしながら、これらの表面積は、多孔性フッ化アルミニウムでは75 m2/g程度、多孔性フッ化カルシウムでは60 m2/g程度、多孔性フッ化マグネシウムでは47 m2/g程度に過ぎない。多孔性フッ化クロムは気相フッ素化反応触媒として有用であり、冷媒などに用いられているヒドロフルオロカーボンの製造過程で使われているが、この多孔性フッ化クロムも、その表面積は70 m2/g程度のものしか知られていなかった（特許文献２）
例えば、多孔性フッ化クロムは、通常酸化クロムをフッ素処理することによって作られているが、フッ化クロム触媒の触媒活性は前駆体である酸化クロムの表面積に影響され、酸化クロムの表面積が大きくなるとフッ素化の触媒活性が向上すると報告されている（特許文献３）。このように、大きな表面積をもつ多孔性物質は高い触媒活性などの優れた特性が期待されるため、より大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性物質の開発が要望されていた。
Yunfeng Lu, et al., Nature, 389(25), 364 (1997)
Hui-suk Yun, et al., Adv.Mater., 13(18), 1377 (2001)
Hong Yang, et al., Nature, 379(22), 703 (1996)
H.D.Quan, et al., J. Fluorine Chem., 99, 176 (1999)
H.D.Quan, et al., Tetrahedron, 57, 4111 (2001)
M.Wojciechowska, et al., Catal. Lett., 66, 147 (2000)
H.D.Quan, et al., J. Fluorine Chem., 116, 65 (2002)
米国特許第3258500号明細書
国際公開98/10862号パンフレット
欧州特許出願公開第0514932号明細書
本発明の第１の目的は、大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性金属フッ化物を合成するために好適に使用される原料組成物を提供することであり、第２の目的は、該原料組成物をフッ素化することにより大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性金属フッ化物を提供することであり、第３の目的は、該多孔性金属フッ化物を含有してなるフッ素化触媒を提供することであり、第４の目的は、該フッ素化触媒を用いたフルオロ化合物の効率的な製造方法を提供することにある。
本発明者は、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、多孔性金属フッ化物の前駆体である金属化合物にケイ素化合物を含有させた原料組成物はフッ素化処理により、大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性金属フッ化物を与えることを見いだし、本発明を完成するに至った。
（１）含ケイ素化合物を金属塩に導入した後フッ化水素処理をすることを特徴とする多孔性金属フッ化物の製造方法。
（２）金属塩にケイ素化合物を含有させてなる多孔性金属フッ化物合成用原料組成物。
（３）含ケイ素化合物が、二酸化ケイ素（SiO2）、ケイフッ化水素酸（H2SiF6）、正ケイ酸（H4SiO4）、メタケイ酸（H2SiO3）、正二ケイ酸（H6Si2O7）、メタ二ケイ酸（H2Si2O5）、メタ三ケイ酸（H4Si3O8）及びこれらの各種ケイ酸の金属塩から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする上記（２）に記載の原料組成物。
（４）含ケイ素化合物が、共沈法、含浸法または直接混合により金属化合物に含有されることを特徴とする上記（２）または（３）に記載の原料組成物。
（５）共沈法が、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、または炭酸カリウムを用いる方法であることを特徴とする上記（２）乃至（４）何れかに記載の原料組成物。
（６）金属塩が、クロム、コバルト、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、ニッケル、チタン、亜鉛、インジウム及び鉄から選ばれた少なくとも一種の金属化合物であることを特徴とする上記（２）乃至（５）何れかに記載の原料組成物。
（７）９０ｍ２／ｇ〜５００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化クロム、１１０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化コバルト、８０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化アルミニウム、１００ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化カルシウム、７０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化マグネシウム、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化ニッケル、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化チタン、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化亜鉛、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化インジウム及び５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化鉄から選ばれた少なくとも一種の多孔性金属フッ化物。
（８）表面積が９０ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇであることを特徴とする多孔性フッ化クロム
（９）上記（２）乃至（６）何れかに記載の原料組成物をフッ化水素処理することにより得られる多孔性金属フッ化物。
（１０）多孔性金属フッ化物が、フッ化クロム、フッ化コバルト、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ニッケル、フッ化チタン、フッ化亜鉛、フッ化インジウム及びフッ化鉄から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする上記（９）に記載の多孔性金属フッ化物。
（１１）多孔性金属フッ化物が、９０ｍ２／ｇ〜５００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化クロム、１１０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化コバルト、８０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化アルミニウム、１００ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化カルシウム、７０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化マグネシウム、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化ニッケル、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化チタン、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化亜鉛、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化インジウム及び５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化鉄であることを特徴とする上記（１０）に記載の多孔性金属フッ化物。
（１２）多孔性金属フッ化物が９０ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇの表面積を有する多孔性フッ化クロムであることを特徴とする上記（１１）に記載の多孔性金属フッ化物。
（１３）上記（７）乃至（１２）何れかに記載の多孔性金属フッ化物を含むフッ素化触媒。
（１４）上記（７）乃至（１２）何れかに記載の多孔性金属フッ化物にクロム塩、コバルト塩、鉄塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、銀塩、ニッケル塩、インジウム塩、アンチモン塩、パラジウム塩、白金塩から選ばれた少なくとも一種の金属塩を添加して得られるフッ素化触媒
（１５）上記（１３）または（１４）に記載のフッ素化触媒の存在下、ハロゲン化合物とフッ化水素を反応させることを特徴とするフルオロ化合物の製造方法。
（１６）ハロゲン化合物がハロゲン化炭化水素であることを特徴とする上記（１５）に記載のフルオロ化合物の製造方法。
（１７）ハロゲン炭化水素がジクロロメタンである上記（１６）に記載のフルオロ化合物の製造方法。
（１）含ケイ素化合物を金属塩に導入した後フッ化水素処理をすることを特徴とする多孔性金属フッ化物の製造方法。
（２）金属塩にケイ素化合物を含有させてなる多孔性金属フッ化物合成用原料組成物。
（３）含ケイ素化合物が、二酸化ケイ素（SiO2）、ケイフッ化水素酸（H2SiF6）、正ケイ酸（H4SiO4）、メタケイ酸（H2SiO3）、正二ケイ酸（H6Si2O7）、メタ二ケイ酸（H2Si2O5）、メタ三ケイ酸（H4Si3O8）及びこれらの各種ケイ酸の金属塩から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする上記（２）に記載の原料組成物。
（４）含ケイ素化合物が、共沈法、含浸法または直接混合により金属化合物に含有されることを特徴とする上記（２）または（３）に記載の原料組成物。
（５）共沈法が、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、または炭酸カリウムを用いる方法であることを特徴とする上記（２）乃至（４）何れかに記載の原料組成物。
（６）金属塩が、クロム、コバルト、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、ニッケル、チタン、亜鉛、インジウム及び鉄から選ばれた少なくとも一種の金属化合物であることを特徴とする上記（２）乃至（５）何れかに記載の原料組成物。
（７）９０ｍ２／ｇ〜５００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化クロム、１１０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化コバルト、８０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化アルミニウム、１００ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化カルシウム、７０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化マグネシウム、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化ニッケル、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化チタン、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化亜鉛、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化インジウム及び５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化鉄から選ばれた少なくとも一種の多孔性金属フッ化物。
（８）表面積が９０ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇであることを特徴とする多孔性フッ化クロム
（９）上記（２）乃至（６）何れかに記載の原料組成物をフッ化水素処理することにより得られる多孔性金属フッ化物。
（１０）多孔性金属フッ化物が、フッ化クロム、フッ化コバルト、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ニッケル、フッ化チタン、フッ化亜鉛、フッ化インジウム及びフッ化鉄から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする上記（９）に記載の多孔性金属フッ化物。
（１１）多孔性金属フッ化物が、９０ｍ２／ｇ〜５００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化クロム、１１０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化コバルト、８０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化アルミニウム、１００ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化カルシウム、７０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化マグネシウム、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化ニッケル、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化チタン、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化亜鉛、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化インジウム及び５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化鉄であることを特徴とする上記（１０）に記載の多孔性金属フッ化物。
（１２）多孔性金属フッ化物が９０ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇの表面積を有する多孔性フッ化クロムであることを特徴とする上記（１１）に記載の多孔性金属フッ化物。
（１３）上記（７）乃至（１２）何れかに記載の多孔性金属フッ化物を含むフッ素化触媒。
（１４）上記（７）乃至（１２）何れかに記載の多孔性金属フッ化物にクロム塩、コバルト塩、鉄塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、銀塩、ニッケル塩、インジウム塩、アンチモン塩、パラジウム塩、白金塩から選ばれた少なくとも一種の金属塩を添加して得られるフッ素化触媒
（１５）上記（１３）または（１４）に記載のフッ素化触媒の存在下、ハロゲン化合物とフッ化水素を反応させることを特徴とするフルオロ化合物の製造方法。
（１６）ハロゲン化合物がハロゲン化炭化水素であることを特徴とする上記（１５）に記載のフルオロ化合物の製造方法。
（１７）ハロゲン炭化水素がジクロロメタンである上記（１６）に記載のフルオロ化合物の製造方法。
本発明に係る、金属化合物にケイ素化合物を含有させてなる原料組成物は、多くの場合多孔性の非晶質であり、その表面積は場合により400 m2/g以上になる場合がある。また、化学的組成としては、フッ化水素との反応によって当該金属のフッ化物となる。このような特性を呈することから、フッ素化処理することにより、従来品よりも極めて大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性金属フッ化物を与える。また、得られる多孔性金属フッ化物は、優れたフッ素化触媒能を有し、ハロゲン化合物とフッ化水素を反応させてフルオロ化合物を製造する際の触媒として利用すると、高収率で目的とするフルオロ化合物を得ることができる。
本発明の多孔性金属フッ化物合成用原料組成物は、金属化合物にケイ素化合物を含有させたものである。
ケイ素化合物が含有される金属化合物としては、フッ化水素処理により多孔性金属フッ化物を与えるものなら特に制限はないが、クロム、コバルト、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、ニッケル、チタン、亜鉛、インジウム、鉄の塩、あるいはこれらの混合物が好ましい。より好ましくは、これらの酸化物、水酸化物、あるいはこれらの混合物が好ましい。さらに好ましくはクロムの酸化物、水酸化物、あるいはこれらを含有する塩が好ましい。
ケイ素化合物が含有される金属化合物としては、フッ化水素処理により多孔性金属フッ化物を与えるものなら特に制限はないが、クロム、コバルト、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、ニッケル、チタン、亜鉛、インジウム、鉄の塩、あるいはこれらの混合物が好ましい。より好ましくは、これらの酸化物、水酸化物、あるいはこれらの混合物が好ましい。さらに好ましくはクロムの酸化物、水酸化物、あるいはこれらを含有する塩が好ましい。
ケイ素化合物としては、本製造方法が適用できるものであれば特に制限はないが、好ましくは、二酸化ケイ素（SiO2）、ケイフッ化水素酸（H2SiF6）、正ケイ酸（H4SiO4）、メタケイ酸（H2SiO3）、正二ケイ酸（H6Si2O7）、メタ二ケイ酸（H2Si2O5）、メタ三ケイ酸（H4Si3O8）、これら各種ケイ酸の金属塩、または、これらの混合物が好ましい。
金属化合物にケイ素化合物を含有させる際のケイ素の含有量は、0.1〜20重量％、好ましくは1〜5重量%がよい。ケイ素の含有量が多すぎると、フッ化水素処理の際に構造の崩壊などが起こり、好ましくない。
ケイ素化合物を前駆体に含有させる方法に特に制限はないが、共沈法、含浸法、または前駆体とケイ素化合物を直接混合する方法などが例示される。
ケイ素化合物を前駆体に含有させる方法に特に制限はないが、共沈法、含浸法、または前駆体とケイ素化合物を直接混合する方法などが例示される。
共沈法による場合、金属塩と含ケイ素化合物の水溶液と塩基とを混合して含ケイ素化合物を含む金属水酸化物を沈殿させる。このとき用いる塩基は、この方法で水酸化物の沈殿が得られれば特に制限はないが、例えばアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、または炭酸カリウムが例示される。また、沈殿生成時のpHは6〜9、好ましくは7〜8である。得られた沈殿はろ過した後、水、好ましくは脱イオン水で洗浄する。
含ケイ素化合物を導入した前駆体は必要に応じて焼成する。その温度は300〜600℃、好ましくは400〜500℃であり、空気中の焼成でもよいが、好ましくは窒素雰囲気下で焼成するのが好ましい。
含ケイ素化合物を導入した前駆体は必要に応じて焼成する。その温度は300〜600℃、好ましくは400〜500℃であり、空気中の焼成でもよいが、好ましくは窒素雰囲気下で焼成するのが好ましい。
上記にようにして得られる原料組成物（以下、前駆体ともいう）は、多くの場合多孔性の非晶質であり、その表面積は場合により400 m2/g以上になる場合がある。また、化学的組成としては、フッ化水素との反応によって当該金属のフッ化物となる。このような特性を呈することから、フッ素化処理することによりＢＥＴ法により測定される表面積が例えば９０ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇと従来より大きな表面積を持ち、腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性金属フッ化物を与える。このようにして好適に得られる多孔性の金属フッ化物としては９０ｍ２／ｇ〜５００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化クロム、１１０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化コバルト、８０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化アルミニウム、１００ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化カルシウム、７０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化マグネシウム、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化ニッケル、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化チタン、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化亜鉛、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化インジウム及び５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化鉄などを挙げることができる。この中でも、９０ｍ２／ｇ〜５００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化クロム、特に、９０ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇの表面積を有する多孔性フッ化クロムが好ましい。
フッ化水素処理は、前駆体にフッ化水素、または窒素ガスやアルゴンガスなどの希釈ガスで希釈したフッ化水素を接触させればよい。フッ化水素処理の温度は、室温から５００℃、好ましくは５０℃から３５０℃で行われる。フッ化水素の量に特に制限はない。残存したフッ化水素は窒素気流を流して除去できる。
このフッ化水素処理によって大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性金属フッ化物が得られる理由は定かではないが、前駆体がフッ素化される際、前駆体に含まれるケイ素はフッ化水素と反応してガス状の四フッ化ケイ素となって除去されるため、そこに細孔が生じ、大きな表面積が得られることが一因となっているものと推定される。
このフッ化水素処理によって大きな表面積を持ち腐食性雰囲気下などでも安定な多孔性金属フッ化物が得られる理由は定かではないが、前駆体がフッ素化される際、前駆体に含まれるケイ素はフッ化水素と反応してガス状の四フッ化ケイ素となって除去されるため、そこに細孔が生じ、大きな表面積が得られることが一因となっているものと推定される。
本発明に係る多孔性金属フッ化物は、クロロカーボンなどのハロゲン化合物をフッ化水素によりフッ素化してフルオロ化合物を製造する際の触媒として好適に使用できる。また、この多孔性金属フッ化物に、クロム塩、コバルト塩、鉄塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、銀塩、ニッケル塩、インジウム塩、またはこれらの混合物を添加してもよい。添加の方法としては、多孔性フッ素化物に添加してもよいが、前駆体に含浸法や共沈法で添加し、その後フッ化水素処理を行ってもよい。添加量は、多孔性フッ化物の金属と添加物の金属のモル比で1:1〜100:1、好ましくは3:1〜10:1である。
フルオロ化合物を製造する際の出発原料であるハロゲン化合物としては、クロロカーボン類、クロロフルオロカーボン類、ヒドロクロロフルオロカーボン類、クロロオレフィン類などのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。
具体例としては、クロロメタン、ジクロロメタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、クロロフルオロメタン、ジクロロフルオロメタン、クロロジフルオロメタン、クロロエタン、１，１−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１−クロロ−１，１−ジフルオロエタン、１−クロロ−１，２−ジフルオロエタン、１−クロロ−２，２−ジフルオロエタン、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン、１，１−ジクロロ−２−フルオロエタン、１−クロロ−２，２，２−トリフルオロエタン、クロロエチレン、１，１−ジクロロエチレン、１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、１，１−ジクロロ−２，２−ジフルオロエチレン、トリフルオロクロロエチレンなどが挙げられる。
具体例としては、クロロメタン、ジクロロメタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、クロロフルオロメタン、ジクロロフルオロメタン、クロロジフルオロメタン、クロロエタン、１，１−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１−クロロ−１，１−ジフルオロエタン、１−クロロ−１，２−ジフルオロエタン、１−クロロ−２，２−ジフルオロエタン、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン、１，１−ジクロロ−２−フルオロエタン、１−クロロ−２，２，２−トリフルオロエタン、クロロエチレン、１，１−ジクロロエチレン、１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、１，１−ジクロロ−２，２−ジフルオロエチレン、トリフルオロクロロエチレンなどが挙げられる。
これらの触媒フッ素化反応に使用されるフッ化水素は出発物質であるハロゲン化合物に対して過剰量で使用するのが有利であり、通常１〜３０当量、好ましくは３〜１０当量用いるのが好ましい。また、この場合において、窒素ガスやアルゴンガスなどの希釈ガスで希釈したフッ化水素を用いることもできる。
フッ素化の反応温度は通常２００℃から４５０℃、好ましくは２３０℃から４００℃である。反応の形式としては、バッチ式、フロー式のどちらでも行うことができる。
本発明のフッ素化反応により得られるフルオロ化合物としては、たとえばフルオロメタン、ジフルオロメタン、トリフルオロメタン、テトラフルオロメタン、フルオロエタン、１，１−ジフルオロエタン、１，２−ジフルオロエタン、１，１，１−トリフルオロエタン、１，１，２−トリフルオロエタン、１，１，１，２−テトラフルオロエタン、１，１，２，２−テトラフルオロエタン、ペンタフルオロエタンを挙げることができる。
次に、実施例及び比較例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の例によって限定されるものではない。
実施例１
実施例１
ケイ酸ナトリウム（Na2SiO3、３ｇ）を２８％アンモニア水（１１４ｍｌ）に溶解し、これを三塩化クロム水溶液（クロム含量約１０％、２４０ｇ）に激しく撹拌しつつ加えた。混合後のpHは約７であった。沈殿をろ過して取り、脱イオン水で洗浄、乾燥した後、窒素気流下４５０℃で焼成し、ケイ素を含む前駆体のクロム塩を得た。ＢＥＴ法による比表面積は３６６m2/gであった。
実施例２
実施例２
実施例１で調製した前駆体に、窒素で希釈したフッ化水素（フッ化水素／窒素＝１／３）を室温で４時間処理、さらに温度を上昇し、最後には３５０℃でフッ化水素のみで処理し、多孔性フッ化クロムを得た。ＢＥＴ法による比表面積は１７６m2/gであった。
実施例３
実施例３
実施例２で調製した多孔性フッ化クロムを触媒に用いてジクロロメタンの気相フッ素化を行った。ジクロロメタン（０．３ｇ／ｍｉｎ）と無水フッ酸（３００ｍｌ／ｍｉｎ）を気化して触媒上に流して反応させ、生成物を水洗、ソーダライムで乾燥した後、ガスクロマトグラフィーで分析した。反応温度ごとのジフルオロメタン（CH2F2）及びクロロフルオロメタン（CH2ClF）の収率を表１に示す。
ケイ酸ナトリウムを９ｇ用いる以外は実施例１、２と同様にして前駆体、及び多孔性フッ化クロムを調製した。ＢＥＴ法による比表面積は前駆体、多孔性フッ化クロムそれぞれ、４７０、１６９m2/gであった。次にここで得られた多孔性フッ化クロムを用い、実施例３と同様にしてジクロロメタンの気相フッ素化を行った。結果を表２に示す。
ケイ酸ナトリウムを９ｇ用い、焼成温度を４００℃とする以外は実施例１、２と同様にして前駆体、及び多孔性フッ化クロムを調製した。ＢＥＴ法による比表面積は前駆体、多孔性フッ化クロムそれぞれ、４０７、１８７m2/gであった。次にここで得られた多孔性フッ化クロムを用い、実施例３と同様にしてジクロロメタンの気相フッ素化を行った。結果を表３に示す。
ケイ酸ナトリウムを１５ｇ用い、焼成温度を４００℃とする以外は実施例１、２と同様にして前駆体、及び多孔性フッ化クロムを調製した。ＢＥＴ法による比表面積は前駆体、多孔性フッ化クロムそれぞれ、３５５、１５２m2/gであった。次にここで得られた多孔性フッ化クロムを用い、実施例３と同様にしてジクロロメタンの気相フッ素化を行った。結果を表４に示す。
ケイ酸ナトリウムを０．９ｇ用いる以外は実施例１、２と同様にして前駆体、及び多孔性フッ化クロムを調製した。ＢＥＴ法による比表面積は前駆体、多孔性フッ化クロムそれぞれ、３９５、１１０m2/gであった。
実施例８
実施例８
ケイ酸ナトリウム（９ｇ）を２８％アンモニア水（１１４ｍｌ）に溶解し、これを三塩化クロム水溶液（クロム含量約１０％、２４０ｇ）と二塩化コバルト水溶液（コバルト含量約１５％、３２ｇ）の混合溶液に激しく撹拌しつつ加えた。その後の操作は実施例１、２と同様に行い、前駆体、及びコバルトを含む多孔性フッ化クロムを得た。ＢＥＴ法による比表面積は前駆体、コバルトを含む多孔性フッ化クロムそれぞれ、３５６、１３４m2/gであった。次にここで得られたコバルトを含む多孔性フッ化クロムを用い、実施例３と同様にしてジクロロメタンの気相フッ素化を行った。結果を表５に示す。
ケイ酸ナトリウムを用いないこと以外は実施例１、２と同様にして多孔性フッ化クロムを調製した。ＢＥＴ法による比表面積は前駆体、多孔性フッ化クロムそれぞれ、２５３、９０m2/gであった。次にここで得られた多孔性フッ化クロムを用い、実施例２と同様にしてジクロロメタンの気相フッ素化を行った。結果を表６に示す。
同じ反応温度領域で比較すると、ケイ酸ナトリウムを用いた場合（実施例３〜６）よりジフルオロエタンの収率は低かった。
Claims (17)
- 含ケイ素化合物を金属塩に導入した後フッ化水素処理をすることを特徴とする多孔性金属フッ化物の製造方法。
- 金属塩にケイ素化合物を含有させてなる多孔性金属フッ化物合成用原料組成物。
- 含ケイ素化合物が、二酸化ケイ素（SiO2）、ケイフッ化水素酸（H2SiF6）、正ケイ酸（H4SiO4）、メタケイ酸（H2SiO3）、正二ケイ酸（H6Si2O7）、メタ二ケイ酸（H2Si2O5）、メタ三ケイ酸（H4Si3O8）及びこれらの各種ケイ酸の金属塩から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項２に記載の原料組成物。
- 含ケイ素化合物が、共沈法、含浸法または直接混合により金属化合物に含有されることを特徴とする請求項２または３に記載の原料組成物。
- 共沈法が、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、または炭酸カリウムを用いる方法であることを特徴とする請求項２乃至４何れかに記載の原料組成物。
- 金属塩が、クロム、コバルト、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、ニッケル、チタン、亜鉛、インジウム及び鉄から選ばれた少なくとも一種の金属塩であることを特徴とする請求項２乃至５何れかに記載の原料組成物。
- ９０ｍ２／ｇ〜５００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化クロム、１１０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化コバルト、８０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化アルミニウム、１００ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化カルシウム、７０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化マグネシウム、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化ニッケル、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化チタン、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化亜鉛、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化インジウム及び５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化鉄から選ばれた少なくとも一種の多孔性金属フッ化物。
- 表面積が９０ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇであることを特徴とする多孔性フッ化クロム
- 請求項２乃至６何れかに記載の原料組成物をフッ化水素処理することにより得られる多孔性金属フッ化物。
- 多孔性金属フッ化物が、フッ化クロム、フッ化コバルト、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ニッケル、フッ化チタン、フッ化亜鉛、フッ化インジウム及びフッ化鉄から選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求項９に記載の多孔性金属フッ化物。
- 多孔性金属フッ化物が、９０ｍ２／ｇ〜５００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化クロム、１１０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化コバルト、８０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化アルミニウム、１００ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化カルシウム、７０ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化マグネシウム、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化ニッケル、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化チタン、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化亜鉛、５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化インジウム及び５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇの表面積を有するフッ化鉄であることを特徴とする請求項１０に記載の多孔性金属フッ化物。
- 多孔性金属フッ化物が９０ｍ２／ｇ〜２００ｍ２／ｇの表面積を有する多孔性フッ化クロムであることを特徴とする請求項１１に記載の多孔性金属フッ化物。
- 請求項７乃至１２何れかに記載の多孔性金属フッ化物を含むフッ素化触媒。
- 請求項７乃至１２何れかに記載の多孔性金属フッ化物にクロム塩、コバルト塩、鉄塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、銀塩、ニッケル塩、インジウム塩、アンチモン塩、パラジウム塩、白金塩から選ばれた少なくとも一種の金属塩を添加して得られるフッ素化触媒
- 請求項１３または１４に記載のフッ素化触媒の存在下、ハロゲン化合物とフッ化水素を反応させることを特徴とするフルオロ化合物の製造方法。
- ハロゲン化合物がハロゲン化炭化水素であることを特徴とする請求項１５に記載のフルオロ化合物の製造方法。
- ハロゲン炭化水素がジクロロメタンである請求項１６に記載のフルオロ化合物の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003303078A JP4231921B2 (ja) | 2003-08-27 | 2003-08-27 | 多孔性物質とその製造方法 |
| PCT/JP2004/010455 WO2005021437A1 (ja) | 2003-08-27 | 2004-07-23 | 多孔性物質とその製造方法 |
| CN200480014832.3A CN1798703B (zh) | 2003-08-27 | 2004-07-23 | 多孔性物质及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003303078A JP4231921B2 (ja) | 2003-08-27 | 2003-08-27 | 多孔性物質とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005067983A true JP2005067983A (ja) | 2005-03-17 |
| JP4231921B2 JP4231921B2 (ja) | 2009-03-04 |
Family
ID=34269191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003303078A Expired - Lifetime JP4231921B2 (ja) | 2003-08-27 | 2003-08-27 | 多孔性物質とその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4231921B2 (ja) |
| CN (1) | CN1798703B (ja) |
| WO (1) | WO2005021437A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006225167A (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-31 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ミクロ多孔質金属フルオライド |
| JP2008537837A (ja) * | 2005-03-24 | 2008-09-25 | ジーエム・グローバル・テクノロジー・オペレーションズ・インコーポレーテッド | 燃料電池双極板用の耐久性で親水性の被覆 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101863502B (zh) * | 2010-06-24 | 2012-11-14 | 浙江师范大学 | 一种高比表面积的β-氟化铝的制备方法 |
| JP5878429B2 (ja) * | 2012-05-29 | 2016-03-08 | ステラケミファ株式会社 | フッ化マグネシウム粒子、フッ化マグネシウム粒子の製造方法、フッ化マグネシウム粒子分散液、フッ化マグネシウム粒子分散液の製造方法、低屈折率層形成用組成物、低屈折率層形成用組成物の製造方法、低屈折率層付基材及び低屈折率層付基材の製造方法 |
| CN104907065B (zh) * | 2014-03-12 | 2019-08-02 | 北京宇极科技发展有限公司 | 氟化催化剂、制备方法及用途 |
| CN104907063A (zh) * | 2014-03-12 | 2015-09-16 | 北京宇极科技发展有限公司 | 铬基催化剂、制备方法及用途 |
| CN107867997B (zh) * | 2016-09-28 | 2023-07-04 | 中化近代环保化工(西安)有限公司 | 一种制备二氟乙酰氟的方法 |
| CN106890662B (zh) * | 2017-02-24 | 2019-09-10 | 北京宇极科技发展有限公司 | 一种催化剂、其制备方法及其应用 |
| CN112588307A (zh) * | 2020-12-30 | 2021-04-02 | 山东华安新材料有限公司 | 一种气相氟化制备1,1,2,2-四氟乙烷的方法 |
| CN113480402B (zh) * | 2021-07-14 | 2023-04-28 | 山东华安新材料有限公司 | 一种副产再利用制备四氟乙烷的方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5239800B2 (ja) * | 1974-03-06 | 1977-10-07 | ||
| FR2521974A1 (fr) * | 1982-02-24 | 1983-08-26 | Commissariat Energie Atomique | Procede de preparation de produits poreux a base de fluorure de cobalt ou de fluorure de plomb et utilisation pour la purification d'hexafluorure d'uranium de billes ou d'elements composites a base de fluorure de cobalt |
-
2003
- 2003-08-27 JP JP2003303078A patent/JP4231921B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2004
- 2004-07-23 WO PCT/JP2004/010455 patent/WO2005021437A1/ja active Application Filing
- 2004-07-23 CN CN200480014832.3A patent/CN1798703B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006225167A (ja) * | 2005-02-15 | 2006-08-31 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ミクロ多孔質金属フルオライド |
| JP4595113B2 (ja) * | 2005-02-15 | 2010-12-08 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ミクロ多孔質金属フルオライド |
| JP2008537837A (ja) * | 2005-03-24 | 2008-09-25 | ジーエム・グローバル・テクノロジー・オペレーションズ・インコーポレーテッド | 燃料電池双極板用の耐久性で親水性の被覆 |
| JP4840882B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2011-12-21 | ジーエム・グローバル・テクノロジー・オペレーションズ・インコーポレーテッド | 燃料電池双極板用の耐久性で親水性の被覆 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1798703B (zh) | 2011-01-12 |
| CN1798703A (zh) | 2006-07-05 |
| WO2005021437A1 (ja) | 2005-03-10 |
| JP4231921B2 (ja) | 2009-03-04 |
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| S533 | Written request for registration of change of name |
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|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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