JP2005002371A - アルミニウム箔とその製造方法、集電体、二次電池および電気二重層コンデンサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アルミニウム箔はエッチング処理されて相対的に表面粗さが小さい第1の領域とエッチング処理されて相対的に表面粗さが大きい第2の領域とを備える。アルミニウム箔の表面上で一部の領域にフッ化水素を含む酸性の第1の液を接触させた後、一部の領域を少なくとも含むアルミニウム箔の表面上に塩酸を含む酸性の第2の液を接触させることによってアルミニウム箔をエッチング処理する。
【選択図】 なし
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、一般的にはアルミニウム箔とその製造方法に関し、特定的にはリチウムイオン電池およびポリマーリチウムイオン電池等の二次電池ならびに電気二重層コンデンサに用いられる集電体用アルミニウム箔とその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、高いエネルギ効率の二次電池として、リチウムイオン電池またはポリマーリチウムイオン電池が、携帯電話、パーソナルコンピュータ、カメラまたは自動車等の電源として使用されてきている。
【0003】
二次電池の一例としてリチウムイオン電池では、正極材料として、たとえばカーボン、リチウム金属酸化物塩、フッ素系バインダからなる活物質を集電体としてのアルミニウム箔の表面にコーティングしたものが使用されている。また、ポリマーリチウムイオン電池では、正極材料として、ポリアニリン、ポリアセチレン等の導電性の高分子電極活物質を集電体としてのアルミニウム箔の表面にコーティングしたものが使用されている。
【0004】
電気二重層コンデンサでは、電極活物質であるカーボンと高分子樹脂バインダの混合物がアルミニウム箔の表面にコーティングしたものが電極として使用されている。
【0005】
このようにアルミニウム箔は、二次電池、電気二重層コンデンサ等の集電体材料として活用されている。しかし、活物質等の電極コーティング材とアルミニウム箔の表面との密着性が低いと、電極コーティング材とアルミニウム箔との接触抵抗値が大きくなるとともに、充放電時に電極活物質が剥離し、電池またはコンデンサの性能、寿命等の特性に悪影響を与える恐れがある。
【0006】
活物質との密着性を改善することによって集電体としての性能をさらに向上させるために、直径1〜1.5mm程度の貫通穴を多数個形成したアルミニウム箔が開発されている。しかし、貫通穴を形成したアルミニウム箔は、その強度が著しく低下するという欠点がある。また、打抜き用のパンチと金型を用いて貫通穴を形成したアルミニウム箔を集電体材料として用いる場合には、バリまたは抜きカスの発生という製造上の問題があるので、生産性、製造コスト、信頼性等の点で満足したものを得ることができない。さらに、エッチング液によって貫通穴を形成したアルミニウム箔を集電体材料として用いる場合には、多量のレジストマスクが必要になり、そのレジストマスクを除去する工程も必要になるので、生産性、製造コスト等が低下するという問題がある。
【0007】
そこで、活物質との密着性を改善するためにアルミニウム箔の表面を粗くすることが検討されている。
【0008】
たとえば、水または不燃性有機溶媒を媒介としてアルミニウム箔の表面にアルミナ粒子を噴射することによってアルミニウム箔の表面を粗化することを特徴とする集電体用アルミニウム箔の製造方法が、特開平11−162470号公報(特許文献1)に開示されている。いわゆるブラスト法を採用してアルミニウム箔の表面を粗くする方法が上記公報に開示されている。
【0009】
また、たとえば、塩素イオンを含有する電解液中にアルミニウム箔を浸漬し、このアルミニウム箔に交流を印加してエッチング処理をする電気二重層コンデンサ集電体用アルミニウム箔の製造方法であって、エッチング処理に周波数60Hz以下の交流電流を用いたことを特徴とするものが、特開2001−189238号公報(特許文献2)に開示されている。いわゆる電解エッチング法を採用してアルミニウム箔の表面を粗くする方法が上記公報に開示されている。
【0010】
これらの方法によって処理されたアルミニウム箔の表面は、電極活物質との密着性を向上させるために一様に粗くなっている。
【0011】
ところで、電池等の体積あたりの蓄電容量を高めるためには、集電体として用いられるアルミニウム箔自体を薄くすることが求められている。そして、電極活物質を塗布する工程において必要な一定の機械強度を確保するとともに、電極のリード部を接合するために必要な一定の溶接特性等を確保することも求められている。アルミニウム箔の表面を一様に、あるいは全表面を粗くすると、これらの要求特性を満足することが困難になる。
【0012】
そこで、たとえば、特開2001−338843号公報(特許文献3)には、塩素イオンを含有する電解液中でアルミニウム箔をエッチング処理する電気二重層コンデンサ集電体用アルミニウムエッチング箔の製造方法であって、電解液中でアルミニウム箔表面の一部に近接して電気絶縁性の遮蔽部材が存在する表面に未エッチング部分を残存させる方法が提案されている。
【0013】
【特許文献1】
特開平11−162470号公報
【特許文献2】
特開2001−189238号公報
【特許文献3】
特開2001−338843号公報
【0014】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開2001−338843号公報(特許文献3)に開示されている方法では、10mm以上のある程度幅の広い帯状のパターンの未エッチング部を形成することができたとしても、より幅の狭いパターンの未エッチング部または複雑な図形のパターンの未エッチング部を形成することが困難であった。また、エッチング部と未エッチング部との間の境界が不明確であった。
【0015】
このような問題を解決するために、化学エッチング法または電解エッチング法において、レジストをパターン印刷した後、その印刷されたレジスト層をマスクとして用いてエッチング処理し、その後、レジスト層を除去する方法が考えられる。また、いわゆるブラスト法を採用してアルミニウム箔の表面を粗くする方法において、マスクフィルムを介してブラスト処理を行なうことが考えられる。
【0016】
しかし、上記のいずれの方法でも、製造コストが高くなるだけでなく、マスクフィルムまたはレジスト層を除去する工程において、初期設計時に設定したアルミニウム箔の表面の電気的特性または機械的特性が損なわれるという問題があった。また、電解エッチング法を採用してアルミニウム箔の表面を粗くする方法では純度の高いアルミニウム箔を用いる必要性があるので、薄い箔を用いて一定の機械強度を確保するためにアルミニウム合金箔を用いることができないという問題があった。
【0017】
そこで、この発明の目的は、電気的特性または機械的特性を向上させることができ、任意の形状で表面粗さの異なる領域を有することが可能なアルミニウム箔とその製造方法を提供することである。
【0018】
また、この発明の目的は、任意の形状の領域で電極活物質との密着性を高めることが可能なアルミニウム箔とその製造方法を提供することである。
【0019】
さらに、この発明の目的は、任意の形状の領域で電極活物質との間の接触抵抗値を低下させることが可能なアルミニウム箔とその製造方法を提供することである。
【0020】
この発明の別の目的は、任意の形状の領域で電極活物質との密着性が高く、かつ電極活物質との間の接触抵抗値が低い集電体を提供することである。
【0021】
この発明のさらに別の目的は、寿命または性能のような特性を高めることができ、かつ機械的特性のような他の特性を維持することが可能な二次電池または電気二重層コンデンサを提供することである。
【0022】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上述した課題を解決するために鋭意検討し、研究を重ねた結果、アルミニウム箔の表面に所定の前処理を施した後で所定の後処理を施すことによってエッチング処理を行なうと、表面粗さの異なる領域を形成することができることを見出した。この知見に基づいて本発明はなされたものであり、以下の特徴的な構成を備える。
【0023】
この発明の一つの局面に従ったアルミニウム箔は、エッチング処理されて相対的に表面粗さが小さい第1の領域と、エッチング処理されて相対的に表面粗さが大きい第2の領域とを備える。
【0024】
この発明の一つの局面においては、相対的に表面粗さが小さい第1の領域が機械的強度を担保し、相対的に表面粗さが大きい第2の領域において電極活物質との密着性を高めることができ、電極活物質との間の接触抵抗値を低下させることができる。これにより、機械的強度を犠牲にすることなく、任意の形状の領域で必要な部分のみに電極活物質との密着性を高めることができ、通電性等の電気的特性を向上させることができる。
【0025】
この発明の一つの局面に従ったアルミニウム箔においてエッチング処理は、アルミニウム箔の表面上で第2の領域にフッ化水素を含む酸性の液を接触させた後、第1の領域と第2の領域とに塩酸を含む酸性の液を接触させる処理で行なわれるのが好ましい。この場合、レジスト層の印刷またはマスクフィルムを用いることなく、任意の形状で表面粗さの異なる領域を形成することができる。また、アルミニウム箔の純度に影響されずに広範囲な種類のアルミニウム箔またはアルミニウム合金箔に表面粗さの異なる領域を形成することができる。
【0026】
この発明のもう一つの局面に従ったアルミニウム箔は、圧延したままの状態の表面粗さよりも表面粗さが大きい第1の領域と、第1の領域よりも表面粗さが大きい第2の領域とを備える。
【0027】
この発明のもう一つの局面においては、圧延したままの表面粗さの状態に影響されずに任意に表面粗さの異なる領域をアルミニウム箔の表面に形成することができる。これにより、機械的強度を犠牲にすることなく、圧延したままの状態に影響されずに任意の形状の領域で必要な部分のみに電極活物質との密着性を高めることができ、通電性等の電気的特性を向上させることができる。
【0028】
この発明の一つの局面またはもう一つの局面に従ったアルミニウム箔において、第1の領域の表面粗さとして平均粗さRaが0.25μm以下であり、第2の領域の表面粗さとして平均粗さRaが第1の領域の平均粗さRaの1.2倍以上であるのが好ましい。第1の領域の表面粗さが0.25μmを超えると、従来の一様にエッチングされたアルミニウム箔と実質的に差がなくなる。
【0029】
なお、本発明において、第1の領域は、エッチング処理されていても実質的にはエッチングされていない状態、すなわち、未エッチング状態を含むものである。第1の領域の表面粗さとして平均粗さRaは0.05〜0.25μm(特に0.15〜0.25μm)、第2の領域の表面粗さとして平均粗さRaは0.3〜1.5μm程度であるのがさらに好ましい。
【0030】
また、この発明の一つの局面またはもう一つの局面に従ったアルミニウム箔において、第2の領域は、表面に残存する炭素の量が1mg/m2以下、皮膜耐電圧が0.2V以上1.5V以下、表面積12.5cm2あたりのプレーン容量が100μF以上であるのが好ましい。この場合、これらの範囲内で電極活物質との良好な密着性、良好な通電性、集電体としての良好な性能を得ることができる。
【0031】
この発明の一つの局面またはもう一つの局面に従ったアルミニウム箔において、第1の領域は第2の領域に隣接しているのが好ましい。この場合、表面粗さの異なる領域の間において明確な界面を得ることができる。
【0032】
この発明の一つの局面またはもう一つの局面に従ったアルミニウム箔において、第1の領域がアルミニウム箔の圧延方向に沿って連続して延在しているのが好ましい。この場合、アルミニウム箔の圧延方向に沿った機械的強度を高めることができ、後工程でのアルミニウム箔のハンドリングが容易になる。
【0033】
この発明の一つの局面またはもう一つの局面に従ったアルミニウム箔において、第1の領域がアルミニウム箔の圧延方向とほぼ垂直な方向に沿って連続して延在しているのが好ましい。この場合、アルミニウム箔の圧延方向とほぼ垂直な方向、すなわち、幅方向に沿った機械的強度を高めることができ、この第1の領域の部分を後工程で切断すれば作業性が良くなる。また、一定の機械的強度が必要とされるリード部の付いた集電体等の電気部品を容易に作製することができる。
【0034】
この発明に従った集電体は、上述した特徴のいずれかを有するアルミニウム箔を備える。これにより、任意の形状の領域で電極活物質との密着性が高く、かつ電極活物質との間の接触抵抗値が低い集電体を得ることができる。
【0035】
この発明に従った二次電池は上記の集電体を備える。また、この発明に従った電気二重層コンデンサは、上記の集電体を備える。この発明の集電体を用いることによって、二次電池または電気二重層コンデンサの寿命または性能のような特性を高めることができ、かつ機械的特性のような他の特性を維持することができる。
【0036】
この発明に従ったアルミニウム箔の製造方法は、アルミニウム箔の表面上で一部の領域にフッ化水素を含む酸性の第1の液を接触させる工程と、当該一部の領域を少なくとも含むアルミニウム箔の表面上に塩酸を含む酸性の第2の液を接触させる工程とを備える。
【0037】
この発明の製造方法によれば、レジスト層の印刷またはマスクフィルムの形成および除去という複雑な工程を経ることなく、任意の形状で表面粗さの異なる領域を簡単な工程で形成することができる。また、アルミニウム箔の純度に影響されずに広範囲な種類のアルミニウム箔またはアルミニウム合金箔に表面粗さの異なる領域を形成することができる。
【0038】
この発明に従ったアルミニウム箔の製造方法において、第1の液はフッ化水素を0.1質量%以上5.0質量%含み、第2の液は塩酸を3質量%以上20質量%以下、塩化アルミニウムを5質量%以上25質量%以下含み、第1の液を接触させる工程は第1の液をアルミニウム箔の表面積に対して5g/m2以上で塗布することを含むのが好ましい。
【0039】
【発明の実施の形態】
フッ化水素を少なくとも含む酸性の前処理液を所定のパターンでアルミニウム箔の表面上に印刷または塗布し、アルミニウム箔の表面を水洗した後、塩酸を含む酸性の後処理液にアルミニウム箔を浸漬することによってエッチング処理を行なう。これにより、前処理液を塗布したアルミニウム箔の表面部分を後処理液によって優先的に化学エッチングすることができる。結果として、第1の領域として弱エッチング部と第2の領域として強エッチング部を有するアルミニウム箔を作製することができる。すなわち、アルミニウム箔の表面の残油量と酸化皮膜の厚みとを前処理液の塗布の有無で変化させ、後処理液による化学エッチング時のエッチング速度に差を生じさせて、弱エッチング部と強エッチング部を任意のパターン形状で形成することができることを本発明者は見出した。
【0040】
具体的には、フッ化水素を0.1質量%以上5.0質量%以下含む酸性の前処理液をアルミニウム箔の表面積に対して5g/m2以上でアルミニウム箔の表面上に所定のパターンで塗布し、アルミニウム箔の表面を水洗した後、塩酸を3質量%以上20質量%以下、塩化アルミニウムを5質量%以上25質量%以下含む後処理液にアルミニウム箔を浸漬することによってエッチング処理を行なう。
【0041】
ここで、前処理液の組成としてはフッ化水素を0.1質量%以上含むことが必要であり、0.1質量%未満であれば、上述した前処理の効果を得ることが困難となる。フッ化水素の含有量が5.0質量%を超える場合には、過度にアルミニウム箔の腐食が進行し、塗布部に孔食が発生して不均一になり、あるいは液のにじみができ、結果として強エッチング部と弱エッチング部の境界が所定のパターンどおりに得られない恐れがある。なお、前処理液の組成において残部は水であればよく、その他の成分として必要に応じて界面活性剤等を適量添加してもよい。 前処理液の塗布量としては、濃度の関係もあるが、5g/m2以上が好ましく、より好ましくは10〜20g/m2であればよい。前処理液の塗布量が5g/m2未満であれば、強エッチング部と弱エッチング部との差異が乏しくなり、20g/m2を超えると、液のにじみができ、結果として強エッチング部と弱エッチング部の境界が所定のパターンどおりに得られない恐れがある。
【0042】
前処理液を塗布する手段としては、特に限定されないが、たとえば、刷毛塗り、スプレー吹き付け法、ゴム版による転写、スポンジ版による塗布などを採用することができる。ロール状のゴム版またはスポンジ版を用いることにより、連続的に塗布することができる。前処理液の塗布後は、直ちにまたは所定時間放置後、アルミニウム箔の表面を水洗すればよいが、必要に応じて室温から80℃までの温度範囲で数秒〜数十分間乾燥させた後にアルミニウム箔の表面を水洗してもよい。
【0043】
後処理液は、その組成として塩酸を3質量%以上20質量%以下、塩化アルミニウムを5質量%以上25質量%以下含む酸性の水溶液である。後処理液は塩酸を5質量%以上12質量%以下含むのが好ましい。また、後処理液は塩化アルミニウムを12質量%以上18質量%以下含むのが好ましい。ここで、塩酸の含有量が3質量%未満では、化学エッチングの速度が極端に遅くなり、目的とする強エッチング部を得ることが困難で、20質量%を超えると、過度の孔食が起こりやすくなり、局部的なエッチングが進行し、エッチングが不均一になることによってアルミニウム箔の機械強度が低下し、後加工を行なうことが困難になる恐れがある。後処理液は室温のままで用いてもよいが、30〜80℃程度に加熱して用いてもよい。後処理液を用いた処理時間は、最終的に目的とする表面粗さ等により適宜設定すればよいが、通常10〜2000秒間程度の範囲内で調整すればよい。後処理液を用いた処理は、公知の方法で、たとえば、浸漬、スプレー吹き付け、塗布等によって行なえばよいが、工業的には、前処理したアルミニウム箔をエッチング槽中に連続的に浸漬する方法を採用するのが好ましい。後処理液による処理後は、適宜、水洗工程、通常60〜120℃程度の乾燥工程を施せばよい。
【0044】
強エッチング部においては、圧延油等のアルミニウム箔の表面上の残油に起因して表面に残存する炭素(カーボン)の量が1mg/m2以下、表面酸化膜の皮膜耐電圧が0.2V以上1.5V以下、表面積12.5cm2あたりのプレーン容量が100μF以上であるのが好ましい。このようにアルミニウム箔の表面の性質を改善することにより、特に、表面に残存する炭素(カーボン)の量で評価される油膜量と、表面酸化膜の皮膜耐電圧で評価される酸化皮膜の厚みとを限定することによって、後工程で電極活物質等からなる膜を塗布加工する際に、その膜の密着性を改善することができ、本来のアルミニウム箔の特性を十分に活かすことができる。
【0045】
ここで、表面に残存する炭素(カーボン)の量が1mg/m2を超える場合には、アルミニウム箔の表面の上に形成される活物質の膜の密着性が良好ではなく、結果として、その膜との間の接触抵抗が増大する。また、表面酸化膜の皮膜耐電圧が0.2V未満の場合には、アルミニウム箔の表面が安定ではなく、集電体として使用中に電解質中に不純物金属成分等が溶解しやすい。表面酸化膜の皮膜耐電圧が1.5Vを超える場合には、集電体の表面の内部抵抗が上昇し、電気効率の悪化または発熱等の弊害を生じる恐れがある。
【0046】
プレーン容量は表面粗さの指標になる。表面酸化膜の皮膜耐電圧が一定の場合、プレーン容量が大きいほど単位表面積が大きくなる。ここで、表面積12.5cm2あたりのプレーン容量が100μF未満であれば、得られる表面粗さが十分ではなく、結果として電極活物質との密着性が不十分で電池またはコンデンサの耐久性に悪影響を及ぼす。
【0047】
前処理液で処理されるアルミニウム箔としては、厚みが10〜100μm、好ましくは15〜40μmのものが使用される。厚みが10μm未満では、アルミニウム箔自体の機械強度が低く、エッチング処理の作業が困難になり、100μmを超えると、機能上、不必要な厚みとなり、コスト的に不利になる。なお、アルミニウム箔は硬質箔、軟質箔、半硬質箔のいずれでもよいが、機械強度を考慮すると、硬質箔を用いるのが好ましい。
【0048】
アルミニウム箔の組成としては、アルミニウムの純度が96.5質量%以上99.9質量%以下で、合金成分としてマンガンを1.5質量%以下、鉄を2.0質量%以下、シリコンを0.5質量%以下、銅を0.2質量%以下含み、マンガン、鉄、シリコンおよび銅の合計の含有量が0.1質量%以上3.5質量%以下のものが用いられる。ここで、アルミニウムの純度が96.5質量%未満で合金成分が所定の量を超えると、アルミニウム箔の薄箔圧延、エッチング特性の制御が困難になるだけでなく、集電体として用いた場合に使用中に電解液への溶解量が多くなり、電池またはコンデンサの特性に悪影響を及ぼす。アルミニウムの純度が99.9質量%を超えると、化学エッチングの速度が遅くなり、結果として強エッチング部と弱エッチング部との差異が乏しくなる。
【0049】
合金成分元素の役割としては、銅、鉄およびシリコンは含有量が多くなるほど、化学エッチングの速度が速くなる傾向があり、過度に含むとエッチング処理の制御が困難となる。これに対して、マンガンは化学エッチングの速度を抑制する働きがあり、アルミニウムの純度と合金成分元素の配合により反応速度とエッチング処理される表面の形状とを制御することができる。しかし、アルミニウム箔の表面に残存する鉄、シリコンおよび銅が多くなると、二次電池の集電体として用いた場合、電解質による充放電時にアルミニウム箔の腐食量が多くなるので、電極の寿命を低下させ、また特性を大きく劣化させる。このため、エッチング処理が終了した後では、アルミニウム箔の表面に残存する鉄、シリコンおよび銅は極力少ない方が好ましい。
【0050】
本発明に従って表面粗さが異なる領域を有するアルミニウム箔は、リチウムイオン電池およびポリマーイオン電池等の二次電池ならびに電気二重層コンデンサに用いられる集電体として好適であり、その他、電解コンデンサの電極材料、各種電池の外装容器またはタブ材、ICカードまたは高周波(RF)IDタグの構成部品等に用いてもよい。
【0051】
【実施例】
以下に述べるように、エッチング処理の有無、エッチング処理の条件およびアルミニウムの純度を変えてアルミニウム箔を実施例1〜3と比較例1〜4で準備または作製した。
【0052】
(実施例1)
厚みが30μmのアルミニウム硬質箔(JIS A1085−H18、組成:アルミニウム99.90質量%、シリコン0.02質量%、鉄0.05質量%、銅0.01質量%、その他0.02質量%)の一部表面上に、液温が25℃の前処理液としてフッ化水素を0.3質量%、ノニオン界面活性剤を0.5質量%含有する酸性水溶液をポリオレフィンスポンジに染み込ませて塗布量10g/m2で塗布加工し、20秒後にアルミニウム硬質箔の表面を水洗した。その後、塩酸を12質量%、塩化アルミニウムを15質量%含有する液温が35℃の後処理液中にアルミニウム硬質箔を140秒間浸漬した。
【0053】
(実施例2)
厚みが22μmのアルミニウム硬質箔(JIS A3003−H18、組成:アルミニウム96.90質量%、シリコン0.6質量%、鉄0.7質量%、銅0.2質量%、マンガン1.5質量%、その他0.1質量%)の一部表面上に、液温が25℃の前処理液としてフッ化水素を0.3質量%、ノニオン界面活性剤を0.5質量%含有する酸性水溶液をポリオレフィンスポンジに染み込ませて塗布量10g/m2で塗布加工し、20秒後にアルミニウム硬質箔の表面を水洗した。その後、塩酸を12質量%、塩化アルミニウムを15質量%含有する液温が35℃の後処理液中にアルミニウム硬質箔を70秒間浸漬した。
【0054】
(実施例3)
厚みが30μmのアルミニウム硬質箔(JIS A8021−H18、組成:アルミニウム98.50質量%、シリコン0.1質量%、鉄1.3質量%、銅0.05質量%、その他0.05質量%)の一部表面上に、液温が25℃の前処理液としてフッ化水素を0.3質量%、ノニオン界面活性剤を0.5質量%含有する酸性水溶液をポリオレフィンスポンジに染み込ませて塗布量10g/m2で塗布加工し、20秒後にアルミニウム硬質箔の表面を水洗した。その後、塩酸を12質量%、塩化アルミニウムを15質量%含有する液温が35℃の後処理液中にアルミニウム硬質箔を80秒間浸漬した。
【0055】
(比較例1)
厚みが30μmのアルミニウム硬質箔(JIS A1085−H18、組成:アルミニウム99.90質量%、シリコン0.02質量%、鉄0.05質量%、銅0.01質量%、その他0.02質量%)を準備した。
【0056】
(比較例2)
厚みが22μmのアルミニウム硬質箔(JIS A3003−H18、組成:アルミニウム96.90質量%、シリコン0.6質量%、鉄0.7質量%、銅0.2質量%、マンガン1.5質量%、その他0.1質量%)を準備した。
【0057】
(比較例3)
厚みが30μmのアルミニウム硬質箔(JIS A8021−H18、組成:アルミニウム98.50質量%、シリコン0.1質量%、鉄1.3質量%、銅0.05質量%、その他0.05質量%)を準備した。
【0058】
(比較例4)
日本ケミコン株式会社製の電解エッチングアルミニウム箔(製品呼称:40C045、厚み40μm、JIS A1085−H18相当)を準備した。
【0059】
上述の実施例1〜3と比較例1〜4で準備または作製したアルミニウム箔の機械的特性と電気的特性を調べた。その測定結果として、各アルミニウム箔の組成(アルミニウム合金種類)、表面粗さ(JIS B 0601−1994に準じた測定による)、引張強度、アルミニウム箔の表面上に残存するカーボン残量を表1に示す。また。アルミニウム箔の表面に形成された酸化膜の皮膜耐電圧とプレーン容量の測定結果も表1に示す。実施例1〜3においては、エッチング処理されて形成された強エッチング部と弱エッチング部について各測定結果を示す。
【0060】
なお、カーボン残量は、アルミニウム箔を高温加熱し、各アルミニウム箔の表面の油分が完全燃焼したときに発生する二酸化炭素を赤外分光分析で定量し、カーボンに換算することによって求めた。酸化膜の皮膜耐電圧は、各アルミニウム箔を陽極として用いて低電流で陽極酸化処理した際に測定される電流電圧特性曲線にて電圧が増加して飽和するときの変曲点における電圧を求めることによって評価した。プレーン容量は、各アルミニウム箔を表面積が12.5cm2の正電極とし、対極の負電極として同一表面積のスズ板を用いてコンデンサを構成し、液温が30℃±2℃の8%のホウ酸アンモニウム溶液中で静電容量を測定することによって評価した。測定器としてNFエレクトロニック製の型番2321のLCZメータを用いて、測定条件は120Hz,50mVとした。
【0061】
【表1】
以上のようにして準備されたアルミニウム箔を用いて集電体としての性能を確認した。
【0062】
実施例1〜3と比較例1〜4で準備した各アルミニウム箔の表面に電気二重層コンデンサ用の活物質を塗布加工した。活物質の塗布加工は活物質をエタノールで混錬した後に行ない、乾燥後の塗布厚みは60μmとなるように調整した。活物質の組成は、比表面積が1500m2/gの活性炭を90質量%、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)を10質量%含むものを用いた。その後、圧延ロールにて約20%の圧下を加えて活物質の塗膜を各アルミニウム箔の表面に圧着させた。圧延後の活物質の塗膜の密着性を観察した。
【0063】
また、アルミニウム箔と活物質の塗膜との間の接触抵抗値を測定した、接触抵抗値の測定は、図1に示すように、黄銅製の上部電極1(重量:500g)と下部電極2の間に各試料を挟んだ状態でAB間をデジタルマルチメータにより測定することによって行なわれた。この場合、厳密には接触抵抗のみを測定するものではないが、電極や試料の体積抵抗は無視し得る程度に小さいものであるので、その測定値を接触抵抗値とみなすことができる。
【0064】
活物質の塗膜の密着性の観察結果と接触抵抗値の測定結果を表2に示す。
【0065】
【表2】
表2から、実施例1〜3で作製したアルミニウム箔の強エッチング部は、圧延後において活物質の塗膜は良好な密着性を示し、塗膜との間の接触抵抗値も低いことがわかる。また、表1から、実施例1〜3で作製したアルミニウム箔の弱エッチング部は、引張強度の値が比較例1〜3のエッチング処理されていないアルミニウム箔と同じ値を示し、エッチング処理後において機械強度がほぼ維持されていることがわかる。比較例4の電解エッチング箔は、表2から、圧延後の活物質の塗膜の密着性と接触抵抗値で良好な結果が得られているが、表1から、引張強度の値は低く、機械強度が低下していることがわかる。
【0066】
以上に開示された実施の形態や実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考慮されるべきである。本発明の範囲は、以上の実施の形態や実施例ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての修正や変形を含むものである。
【0067】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、アルミニウム箔の機械的強度を犠牲にすることなく、任意の形状の領域で必要な部分のみに電極活物質との密着性を高めることができ、通電性等の電気的特性を向上させることができる。また、任意の形状の領域で電極活物質との密着性が高く、かつ電極活物質との間の接触抵抗値が低い集電体を得ることができる。さらに、この集電体を用いることによって、二次電池または電気二重層コンデンサの寿命または性能のような特性を高めることができ、かつ機械的特性のような他の特性を維持することができる。この発明のアルミニウム箔の製造方法によれば、レジスト層の印刷またはマスクフィルムの形成および除去という複雑な工程を経ることなく、任意の形状で表面粗さの異なる領域を簡単な工程で形成することができ、アルミニウム箔の純度に影響されずに広範囲な種類のアルミニウム箔またはアルミニウム合金箔に表面粗さの異なる領域を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例で行なわれた接触抵抗値の測定方法を概略的に示す図である。
【符号の説明】
1:上部電極、2:下部電極。
Claims (13)
- エッチング処理されて相対的に表面粗さが小さい第1の領域と、エッチング処理されて相対的に表面粗さが大きい第2の領域とを備えた、アルミニウム箔。
- 前記エッチング処理は、アルミニウム箔の表面上で前記第2の領域にフッ化水素を含む酸性の液を接触させた後、前記第1の領域と前記第2の領域とに塩酸を含む酸性の液を接触させる処理を含む、請求項1に記載のアルミニウム箔。
- 圧延したままの状態の表面粗さよりも表面粗さが大きい第1の領域と、前記第1の領域よりも表面粗さが大きい第2の領域とを備えた、アルミニウム箔。
- 前記第1の領域の表面粗さとして平均粗さRaが0.25μm以下であり、前記第2の領域の表面粗さとして平均粗さRaが前記第1の領域の平均粗さRaの1.2倍以上である、請求項1から請求項3までのいずれか1項に記載のアルミニウム箔。
- 前記第2の領域は、表面に残存する炭素の量が1mg/m2以下、皮膜耐電圧が0.2V以上1.5V以下、表面積12.5cm2あたりのプレーン容量が100μF以上である、請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載のアルミニウム箔。
- 前記第1の領域は前記第2の領域に隣接している、請求項1から請求項5までのいずれか1項に記載のアルミニウム箔。
- 前記第1の領域が当該アルミニウム箔の圧延方向に沿って連続して延在している、請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載のアルミニウム箔。
- 前記第1の領域が当該アルミニウム箔の圧延方向とほぼ垂直な方向に沿って連続して延在している、請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載のアルミニウム箔。
- 請求項1から請求項8までのいずれか1項に記載のアルミニウム箔を備えた集電体。
- 請求項9に記載の集電体を備えた、二次電池。
- 請求項9に記載の集電体を備えた、電気二重層コンデンサ。
- アルミニウム箔の表面上で一部の領域にフッ化水素を含む酸性の第1の液を接触させる工程と、
前記一部の領域を少なくとも含むアルミニウム箔の表面上に塩酸を含む酸性の第2の液を接触させる工程とを備えたアルミニウム箔の製造方法。 - 前記第1の液はフッ化水素を0.1質量%以上5.0質量%含み、前記第2の液は塩酸を3質量%以上20質量%以下、塩化アルミニウムを5質量%以上25質量%以下含み、前記第1の液を接触させる工程は前記第1の液をアルミニウム箔の表面積に対して5g/m2以上で塗布することを含む、請求項12に記載のアルミニウム箔の製造方法。
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