JP2004535504A - ポリアミド用酸化防止剤 - Google Patents

ポリアミド用酸化防止剤 Download PDF

Info

Publication number
JP2004535504A
JP2004535504A JP2003514046A JP2003514046A JP2004535504A JP 2004535504 A JP2004535504 A JP 2004535504A JP 2003514046 A JP2003514046 A JP 2003514046A JP 2003514046 A JP2003514046 A JP 2003514046A JP 2004535504 A JP2004535504 A JP 2004535504A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
antioxidant
polyamide
polyamides
formula
bis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003514046A
Other languages
English (en)
Inventor
アスバー ハルク−オルフ
ボンバ トーマス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Evonik Degussa GmbH
Degussa GmbH
Evonik Operations GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Evonik Degussa GmbH, Degussa GmbH, Evonik Operations GmbH filed Critical Evonik Degussa GmbH
Publication of JP2004535504A publication Critical patent/JP2004535504A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/13Phenols; Phenolates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/10Esters; Ether-esters
    • C08K5/101Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids
    • C08K5/105Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids with phenols

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
  • Mobile Radio Communication Systems (AREA)

Abstract

本発明は、唯一の1次酸化防止剤として式I(式中n=1〜5の整数を表す)の立体障害されたフェノールを含有する、ポリアミド用酸化防止剤に関する。更に、本発明はポリアミド及び唯一の1次酸化防止剤としての式(I)の化合物を含有する組成物に関する。

Description

【技術分野】
【0001】
本発明は、ポリアミド用酸化防止剤としての立体障害されたフェノール(ein sterisch gehindertes Phenol)並びにポリアミド及び立体障害されたフェノールを含有する組成物に関する。
【0002】
押出し及び射出成形等による熱可塑性ポリアミドの半製品及び最終生成物の加工及び製造の際には、プラスチックがその際に現れる分解過程により黄色化されるか又はその機械的特性、例えば衝撃強度、脆化抵抗、引裂き強度等に関して害されることを阻止するために、プラスチックに老化防止剤を添加しなければならない。最終生成物の貯蔵及び使用のためにも同じことが当てはまる。
【0003】
分解メカニズムは、なお最終的に解明されてはいないが、エネルギー供給及び酸素により、ラジカル、殊に、ペルオキシドラジカルが形成され、これが連鎖伝送及び連鎖分岐の相当するメカニズムを介してラジカル分解及び酸化を司ると仮定される。
【0004】
このことを阻止するために、酸化防止剤が添加され、この際、これは原則的に2つの群に分けられる。特にラジカル捕捉剤、特に立体障害されたフェノールが重要であり、これは一方で、水素ラジカルの移動下にラジカルを捕捉し、これにより、このフェノールから安定化されたフェノールラジカルが生じ、他方で、こうして形成され、安定化されたフェノールラジカルの第2のラジカルへの付加により、これを付加的に捕捉する。この群は1次酸化防止剤と称される。
【0005】
更に、還元下に直接ヒドロペルオキシド基を分解するいわゆる2次酸化防止剤が使用され、この際には、新たなラジカルは生じない。典型的な代表として、ホスファイト及び有機スルフィド、殊にチオエステルがこの群に属する(Taschenbuch der Kunststoff-Additive,3.Ausgabe(1989))。
【0006】
一般に、相乗効果の目的のために種々の安定剤からの系が使用されるが、この際、これは強制的ではない。ポリアミド用に現在最も使用されている着色されていない酸化防止剤は、チバのイルガノックス1098、次式:
【0007】
【化1】
Figure 2004535504
を有するジマーフェノールである。
【0008】
もう一つの公知のポリアミド用酸化防止剤は、イルガノックス254:
【0009】
【化2】
Figure 2004535504
である。
【0010】
種々の酸化防止剤に関する概観は、例えばGaechter/Mueller "Kunststoffadditive" 3.Aufl. 1990, Hanser Verlag Muenchen Wien.に存在する。
【0011】
式I:
【0012】
【化3】
Figure 2004535504
の立体障害されたフェノールをスチレンのコ−及びターポリマー用の老化防止剤としてのチオエステル及びホスファイトと組み合わせて使用することが、DE19750747に記載されている。
【0013】
EP669376A1から、ポリアミド及びコポリアミドにも使用可能であるべき2種の立体障害されたフェノールからの安定剤混合物が公知である。この唯一の例は、
【0014】
【化4】
Figure 2004535504
からの混合物を用いるアクリロニトリル−ブタジエン−スチレン−ターポリマーの安定化に関する。
【0015】
ポリアミド用の多数の酸化防止剤は既に公知であるが、更に、改良された、特別に有効かつ価格的に好適な安定剤への需要が存在する。本発明の課題は、改良された作用物質を見つけることである。
【0016】
ところで、意外にも、ポリアミド用の唯一の1次酸化防止剤としての式I:
【0017】
【化5】
Figure 2004535504
[式中n=1〜5である]の立体障害されたフェノールが、慣用の酸化防止剤に比べて著しく改良された酸化防止作用を示すことを発見した。
【0018】
従って、この課題の解決は、唯一の1次酸化防止剤として前記式Iの化合物を含有する、ポリアミド用酸化防止剤並びにポリアミド及び唯一の1次酸化防止剤としての式Iの化合物を含有する組成物にある。
【0019】
全体として、ポリマーに対して0.01〜5質量%、有利に0.1〜3質量%の化合物が使用される。
【0020】
式Iの化合物は、Firma Rasching GmbH, Ludwigshafen社のラロックス(RALOX)(R)LCなる商品名で入手可能である。ラロックス(R)LC(CAS No.68610−51−5 p−クレゾール及びジシクロペンタジエンからのブチル化された反応生成物)は、p−クレゾールとトリシクロ−[5.2.1.0]−デカジエンの10:1〜1:5のモル比でのフリーデル−クラフツ−反応及び引き続くイソブテン又はt−ブタノール又はt−ブチルクロリドとの反応により製造される。
【0021】
この生成物は、n=1〜5のオリゴマーの混合物である。
【0022】
出発物質のモル比及び”n”の混合割合に応じて、この化合物は、70〜140℃の融点及び600〜800g/モルの平均分子量を有する。これは、難揮発性、良好な相容性、低いミグレーション及び高い抽出安定性により優れている。
【0023】
ポリアミドとしては、本発明によれば、ジアミン及びジカルボン酸又は相応するラクタムから生じるポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリアミド6/8、ポリアミド6/12、ポリアミド4/6、ポリアミド11、ポリアミド12がこれに該当する。更に、m−キシレン、ジアミン及びアジピン酸から出発した芳香族ポリアミド、ヘキサメチレンジアミン及びイソ−及び/又はテレフタル酸から、及び場合により変性剤としてのエラストマー、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタラミド、ポリ−m−フェニレン−イソフタラミドから製造されたポリアミド、前記のポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオノマー又は化学的に結合された又はグラフトされたエラストマーとの又はポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー、更にEPDM又はABSで変性されたポリアミド又はコポリアミド並びに加工の間に縮合されたポリアミド(”RIM−ポリアミドシステム”)。
【0024】
本発明による、変色並びに熱的及び酸化的分解に対して安定化された前記の熱可塑性プラスチックの組成物は、次のようにして製造することができる。
【0025】
プラスチック顆粒及びフェノール系酸化防止剤を、室温で、相互に例えばフープミキサー中で混合し、かつ、平流の二軸ニーダーを通してプラスチックの融点で押出す。この押出しの後に融液を水浴中で冷却させ、造粒させ、かつ乾燥させる。こうして製造された半製品は、常法で、付加的な安定化なしに、更に加工することができる。
【0026】
所望の場合には、なお他の慣用の添加剤、例えば2次酸化防止剤、UV−吸収剤及び遮光剤、金属失活剤、填料及び強化剤、可塑剤、内滑剤、乳化剤、顔料、光学明化剤、防炎剤、帯電防止剤及び/又は発泡剤を添加することもできる。
【0027】
2次酸化防止剤としては、有利に次のものがこれに該当する:
1.1 アルキルチオメチルフェノール
例えば
− 2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−t−ブチルフェノール
− 2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−メチルフェノール
− 2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−エチルフェノール
− 2,6−ジ−オクチルチオメチル−4−ノニルフェノール
1.2 ヒドロキシル化されたチオジフェニルエーテル
例えば
−2,2’−チオ−ビス−(6−t−ブチル−4−メチルフェノール)
−2,2’−チオ−ビス−(4−オクチルフェノール)
−4,4’−チオ−ビス−(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)
−4,4’−チオ−ビス−(6−t−ブチル−2−メチルフェノール)
−4,4’−チオ−ビス−(3,6−ジ−s−アミルフェノール)
−4,4’−ビス−(2,6−ジ−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−ジスルフィド
1.3 ホスファイト及びホスホナイト
例えば
−トリフェニルホスファイト
−ジフェニルアルキルホスファイト
−フェニルジアルキルホスファイト
−トリス−(ノニルフェニル)−ホスファイト
−トリラウリルホスファイト
−トリオクタデシルホスファイト
−ジステアリル−ペンタエリスリットジホスファイト
−トリス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−ホスファイト
−ジイソデシルペンタエリスリット−ジホスファイト
−ビス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−ペンタエリスリットジホスファイト
−ビス−(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)−ペンタエリスリットジホスファイト
−ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリスリットジホスファイト
−ビス−(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)−ペンタエリスリットジホスファイト
−ビス−(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)−ペンタエリスリットジホスファイト
−トリステアリール−ソルビット−トリホスファイト
−テトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレン−ジホスホナイト
−6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−12H−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン
−6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−12−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン
−ビス−(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)−メチルホスファイト
−ビス−(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)−エチルホスファイト
1.4 ペルオキシド破壊性化合物
例えば
−β−チオ−ジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル−、ステアリール−、ミリスチル−又はトリデシルエステル
−メルカプトベンズイミダゾール
−2−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩
−亜鉛−ジブチル−ジチオカルバメート
−ジオクタデシルジスルフィド
−ペンタエリスリット−テトラキス−(β−ドデシルメルカプト)−プロピオネート
1.5 ポリアミド安定剤
例えば
−ヨージド及び/又は燐化合物及び2価のマンガンの塩と組み合わされた銅塩。
【0028】
次の実施例で、技術水準から公知の薬剤に比べた本発明による酸化防止剤の優秀性を証明する。
【0029】
例1
ポリアミド6の安定化
酸化防止作用を、動的DSCを用いる熱分析により測定した。この方法は、例えば、Widmann/Riesenの”Thermoanalyse”Huethig Buch Verlag Heidelberg,3.Aufl.1990、63頁に記載されている。オートマチックタンジェント評価(atutomatischer Tangentenauswertung)を伴うMettler DSCを用いた。加熱速度は20℃/minであり、各試料は、約10mgの重さを有した。結果が、第1表中に挙げられている。全ての百分率記載は、質量に対する。
【0030】
【表1】
Figure 2004535504
【0031】
第1表中の測定値で、本発明によるラロックス(R)LCが、従来慣用のポリアミド用酸化防止剤(イルガノックス1098、イルガノックス245・・・)よりも優れていることが認められる。
【0032】
例2
この測定系では、本発明による化合物の作用を、EP699367から公知の安定剤と比較した。純粋な2−(1−メチルペンタデシル)−4,6−ジメチルフェノールは、市場では得られないので、スチレンポリマー用のチバからイルガノックス1141なる名称で売られるフェノール約80%と2,6−ジ−t−ブチル−4−プロピオン酸オクタデシルエステル20%とからの混合物を使用した。
【0033】
検査を例1におけると同様な方法で行った。結果を第2表中にまとめた。
【0034】
【表2】
Figure 2004535504
【0035】
本発明による化合物(No.10)は、意外にもEP699367A1から公知の組み合わせ(No.12)に比べても、イルガノックス1141(No.11)に比べても、良好な酸化防止作用を示すことが認められる。この組み合わせは、ポリアミドに関しては、むしろイルガノックス1141よりも劣悪な酸化防止作用を有する。このことは、安定剤の組み合わせの際に屡々相乗効果が現れるので、特に意想外である。

Claims (5)

  1. 式I:
    Figure 2004535504
    [式中、n=1〜5である]の立体障害されたフェノールが唯一の1次酸化防止剤として使用されていることを特徴とする、ポリアミド用酸化防止剤。
  2. ポリアミドの合計質量に対して0.01〜5質量%で使用されていることを特徴とする、請求項1に記載の酸化防止剤。
  3. ポリマーの合計質量に対して0.1〜3質量%で使用されていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の酸化防止剤。
  4. ポリアミド及び請求項1から3までのいずれか1項に記載の酸化防止剤0.01〜5質量%を含有する、組成物。
  5. 酸化防止剤の0.1〜3質量%の含有率を有する、請求項4に記載の組成物。
JP2003514046A 2001-07-14 2002-07-11 ポリアミド用酸化防止剤 Pending JP2004535504A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10134327A DE10134327A1 (de) 2001-07-14 2001-07-14 Antioxidantien für Polyamide
PCT/EP2002/007718 WO2003008492A1 (de) 2001-07-14 2002-07-11 Antioxidantien für polyamide

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004535504A true JP2004535504A (ja) 2004-11-25

Family

ID=7691821

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003514046A Pending JP2004535504A (ja) 2001-07-14 2002-07-11 ポリアミド用酸化防止剤

Country Status (21)

Country Link
US (2) US7335693B2 (ja)
EP (1) EP1412428B1 (ja)
JP (1) JP2004535504A (ja)
KR (1) KR100831887B1 (ja)
CN (1) CN1250623C (ja)
AT (1) ATE414123T1 (ja)
AU (1) AU2002328874B2 (ja)
BR (1) BR0211147A (ja)
CA (1) CA2454196A1 (ja)
DE (2) DE10134327A1 (ja)
DK (1) DK1412428T3 (ja)
ES (1) ES2318038T3 (ja)
HU (1) HUP0400366A2 (ja)
MX (1) MXPA04000292A (ja)
NO (1) NO330408B1 (ja)
PL (1) PL203810B1 (ja)
PT (1) PT1412428E (ja)
RS (1) RS2204A (ja)
RU (1) RU2307852C9 (ja)
WO (1) WO2003008492A1 (ja)
ZA (1) ZA200401177B (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009132877A (ja) * 2007-11-30 2009-06-18 Afton Chemical Corp 抗酸化特性を向上させる添加剤および潤滑剤組成物
KR20100134713A (ko) * 2008-04-30 2010-12-23 에보니크 데구사 게엠베하 반응성 중합체의 연속적 제조 방법
JP4681073B2 (ja) * 2007-12-28 2011-05-11 住友電工ファインポリマー株式会社 光学レンズ
JP2011518928A (ja) * 2008-04-30 2011-06-30 エボニック デグサ ゲーエムベーハー フェノール樹脂含有ポリマー組成物
US8834971B2 (en) 2010-11-17 2014-09-16 Evonik Degussa Gmbh Process for continuous preparation of a prepolymer based on phenolic resins, oxazolines and epoxides
JP2016084431A (ja) * 2014-10-28 2016-05-19 日立化成株式会社 ポリアミドイミド樹脂系耐熱性樹脂組成物、塗膜、塗膜板及び耐熱性塗料

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7696260B2 (en) * 2006-03-30 2010-04-13 Dsm Ip Assets B.V. Cationic compositions and methods of making and using the same
KR101173215B1 (ko) * 2009-09-10 2012-08-13 금호석유화학 주식회사 신규한 티오 화합물 및 이의 제조방법
CN106916432B (zh) * 2016-09-01 2019-07-19 艾特国际有限公司 用来稳定聚氧化烯烃聚醚多元醇,防止其氧化降解的方法
CN117511197B (zh) * 2024-01-05 2024-04-16 山东祥龙新材料股份有限公司 一种耐水解可挤出成型的聚酰胺材料及其制备方法与应用

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5379935A (en) * 1976-12-24 1978-07-14 Adeka Argus Chem Co Ltd Stabilized synthetic resin composition
US4127490A (en) * 1977-12-05 1978-11-28 Basf Wyandotte Corporation Fiber finish compositions
JPS56152863A (en) * 1980-04-28 1981-11-26 Adeka Argus Chem Co Ltd Synthetic resin composition
US4481317A (en) * 1983-06-07 1984-11-06 Adeka Argus Chemical Co., Ltd. Hindered bisphenol diphosphonites and stabilized synthetic resin compositions containing the same
US4670492A (en) * 1983-12-01 1987-06-02 Adeka Argus Chemical Co., Ltd. Cyclic bis and tris phosphites and stabilized synthetic resin compositions
JPS61113649A (ja) * 1984-11-07 1986-05-31 Adeka Argus Chem Co Ltd 耐光性の改善された高分子材料組成物
US4624679A (en) * 1985-01-03 1986-11-25 Morton Thiokol, Inc. Compositions containing antimicorbial agents in combination with stabilizers
US4761247A (en) * 1987-03-06 1988-08-02 Morton Thiokol, Inc. Phenol-stabilized microbiocidal compositions
US5322734A (en) * 1993-03-22 1994-06-21 Amoco Corporation Oxidatively-stabilized poly(vinylmethylether) for hot-melt adhesives
EP0669367A1 (de) * 1994-02-24 1995-08-30 Ciba-Geigy Ag Phenolische Stabilisatormischungen
US5670255A (en) * 1995-01-23 1997-09-23 Ppg Industries, Inc. Antioxidant compositions for coating substrates, substrates coated with the same and methods for inhibiting the oxidation of such compositions applied to a substrate
DE69705998T2 (de) * 1996-06-11 2002-04-04 Ato Findley Sa Schmelzklebstoffe auf Basis von Ethylenalkylmethylacrylat und Poly-alpha-Olefinen und ihre Verwendung
US6001957A (en) * 1997-12-23 1999-12-14 General Electric Company Stabilized polyetherimide resin composition
DE19946519A1 (de) * 1999-09-28 2001-08-16 Basf Ag Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Stabilisatordispersionen
US6353050B1 (en) * 2000-10-13 2002-03-05 General Electric Co. Thermoplastic blend comprising poly(arylene ether) and polyamide
DE10058135A1 (de) * 2000-11-22 2002-05-23 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Additivdispersionen
US8337968B2 (en) * 2002-09-11 2012-12-25 Boston Scientific Scimed, Inc. Radiation sterilized medical devices comprising radiation sensitive polymers
US7390579B2 (en) * 2003-11-25 2008-06-24 Magnequench, Inc. Coating formulation and application of organic passivation layer onto iron-based rare earth powders

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009132877A (ja) * 2007-11-30 2009-06-18 Afton Chemical Corp 抗酸化特性を向上させる添加剤および潤滑剤組成物
JP4681073B2 (ja) * 2007-12-28 2011-05-11 住友電工ファインポリマー株式会社 光学レンズ
JPWO2009084690A1 (ja) * 2007-12-28 2011-05-19 住友電工ファインポリマー株式会社 光学レンズ
US8854733B2 (en) 2007-12-28 2014-10-07 Sumitomo Electric Fine Polymer, Inc. Optical lens
KR20100134713A (ko) * 2008-04-30 2010-12-23 에보니크 데구사 게엠베하 반응성 중합체의 연속적 제조 방법
JP2011518928A (ja) * 2008-04-30 2011-06-30 エボニック デグサ ゲーエムベーハー フェノール樹脂含有ポリマー組成物
JP2011518927A (ja) * 2008-04-30 2011-06-30 エボニック デグサ ゲーエムベーハー 反応性ポリマーを製造する連続的方法
KR101588477B1 (ko) * 2008-04-30 2016-01-25 에보니크 데구사 게엠베하 반응성 중합체의 연속적 제조 방법
US8834971B2 (en) 2010-11-17 2014-09-16 Evonik Degussa Gmbh Process for continuous preparation of a prepolymer based on phenolic resins, oxazolines and epoxides
JP2016084431A (ja) * 2014-10-28 2016-05-19 日立化成株式会社 ポリアミドイミド樹脂系耐熱性樹脂組成物、塗膜、塗膜板及び耐熱性塗料

Also Published As

Publication number Publication date
EP1412428B1 (de) 2008-11-12
US20080119594A1 (en) 2008-05-22
ATE414123T1 (de) 2008-11-15
PL365205A1 (en) 2004-12-27
PT1412428E (pt) 2009-02-02
CN1527862A (zh) 2004-09-08
NO20040157L (no) 2004-03-11
MXPA04000292A (es) 2004-05-04
RU2307852C9 (ru) 2008-07-20
EP1412428A1 (de) 2004-04-28
US7335693B2 (en) 2008-02-26
KR20040024584A (ko) 2004-03-20
DE50213012D1 (de) 2008-12-24
RU2307852C2 (ru) 2007-10-10
DK1412428T3 (da) 2009-03-02
ES2318038T3 (es) 2009-05-01
PL203810B1 (pl) 2009-11-30
US20040192821A1 (en) 2004-09-30
ZA200401177B (en) 2004-10-29
KR100831887B1 (ko) 2008-05-23
CA2454196A1 (en) 2003-01-30
AU2002328874B2 (en) 2007-01-11
RU2004101639A (ru) 2005-06-27
CN1250623C (zh) 2006-04-12
DE10134327A1 (de) 2002-02-28
HUP0400366A2 (en) 2004-12-28
NO330408B1 (no) 2011-04-04
RS2204A (en) 2007-02-05
WO2003008492A1 (de) 2003-01-30
BR0211147A (pt) 2004-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20080119594A1 (en) Antioxidants for polyamides
KR20210030898A (ko) 분해방지제 블렌드
US20020077403A1 (en) Thermally stable, weather-resistant polyamide moulding compositions
EP1253169B1 (en) Degradation inhibitor for resin material, chlorine water-resistant resin composition and method for inhibiting degradation
TWI492973B (zh) Polyolefin resin composition
CN116134083A (zh) 具有改进的水解稳定性的阻燃聚合物用的阻燃剂-稳定剂组合及其用途
JP2522136B2 (ja) 4,4’−ビフェニレンジホスホナイト化合物およびその用途
JP2740193B2 (ja) 強化ポリアミドを基礎とする難燃性の熱可塑性成形材料
JP4526830B2 (ja) 塩化ナトリウム充填用ポリオレフィン成型体
JP6986367B2 (ja) ポリオレフィン樹脂組成物及び成形品
US20080221242A1 (en) Stabilizer blend for improved chlorine resistance
JPH08302331A (ja) 重金属不活性化剤
EP0548293A1 (en) Thermooxidative stabilization of polyolefins with an oxo-piperazinyl-triazine and a phosphorous acid ester
KR20210102934A (ko) 폴리아미드 조성물
JP2000248113A (ja) スピロクロマン化合物を含有する高分子材料組成物
KR20210151863A (ko) 비-할로겐화된 난연성 폴리아미드 조성물
JPH03217449A (ja) ポリオキシメチレン樹脂組成物
EP1932878A1 (en) Use of compostions comprising isocyanurates
JP2003268165A (ja) 放射線滅菌用ポリオレフィン成形体
JP2000239659A (ja) 硫黄系酸化防止剤の安定化法
JPH08283569A (ja) ポリアミド樹脂組成物
JPH10316863A (ja) 樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041214

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071122

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080218

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080225

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080321

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080328

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080418

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080425

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080716

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080902

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20080903