JP2004297034A - 熱処理装置及びそれを用いた熱処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被処理物を圧力10-2Pa以下、又は予め圧力10-2Pa以下に到達した後に不活性ガスを導入した希薄ガス雰囲気下において短時間で1200℃〜2,300℃に加熱する加熱室2と、前記加熱室2に連結され、前記加熱室2に被処理物5を移動するための移動手段10が設けられている前室4と、前記前室4に連結され、前記被処理物5を10-2Pa以下の圧力下において予め800℃以上に加熱する予備加熱室3と、を備えてなる熱処理装置とする。
【選択図】図1
Description
このような構成によると、被処理物を圧力10-2Pa以下、好ましくは10-5Pa以下の真空、又は予め圧力10-5Pa以下の高真空に到達した後に若干の不活性ガスを導入した希薄ガス雰囲気下においても短時間で被処理物を1200℃〜2,300℃に加熱することが可能となる。
このような構成によると、予備加熱室においても短時間で800℃以上、好ましくは1000℃以上に加熱することが可能となり、また、被処理物を効率良く加熱することができる。
2 加熱室
3 予備加熱室
4 前室
5 被処理物
5’ 密閉容器
5a 上容器
5b 下容器
6 ランプ
7 ゲートバルブ
8 テーブル
9 サセプタ
10 移動手段
11 加熱ヒータ
12 反射鏡
25 嵌合部
Claims (3)
- 被処理物を圧力10-2Pa以下、好ましくは10-5Pa以下の真空、又は予め圧力10-2Pa以下に好ましくは10-5Pa以下の真空に到達した後に不活性ガスを導入した希薄ガス雰囲気下において短時間で1200℃〜2,300℃に加熱する加熱室と、
前記加熱室に連結され、前記加熱室に被処理物を移動するための移動手段が設けられている前室と、
前記前室に連結され、前記被処理物を10-2Pa以下好ましくは10-5Pa以下の真空において予め800℃以上に加熱する予備加熱室と、を備えてなる熱処理装置。 - 前記予備加熱室の加熱手段が、ランプ式加熱手段である請求項1に記載の熱処理装置。
- 被処理物を短時間で1200℃〜2,300℃に加熱する加熱室と、前記加熱室に連結され、前記加熱室に被処理物を移動するための移動手段が設けられている前室と、前記前室に連結され、前記被処理物を予め所定の温度に加熱する予備加熱室と、を備えてなる熱処理装置による熱処理方法であって、
前記被処理物を予め圧力10-2Pa以下好ましくは10-5Pa以下の真空の予備加熱室で800℃以上に加熱した後、予め1200℃〜2,300℃に加熱された圧力10-2Pa以下好ましくは10-5Pa以下の真空、又は予め圧力10-2Pa以下好ましくは10-5Pa以下の真空に到達した後に不活性ガスを導入した希薄ガス雰囲気下の加熱室に移動することで、前記被処理物を、短時間で1200℃〜2,300℃に加熱する熱処理方法。
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