JP2004279335A - 基板検査装置 - Google Patents

基板検査装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004279335A
JP2004279335A JP2003074039A JP2003074039A JP2004279335A JP 2004279335 A JP2004279335 A JP 2004279335A JP 2003074039 A JP2003074039 A JP 2003074039A JP 2003074039 A JP2003074039 A JP 2003074039A JP 2004279335 A JP2004279335 A JP 2004279335A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
substrate
glass substrate
inspection apparatus
blowing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003074039A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4307872B2 (ja
JP2004279335A5 (ja
Inventor
Mamoru Yasuda
守 安田
Yasushi Sato
靖 佐藤
Nobuo Fujisaki
暢夫 藤崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Corp filed Critical Olympus Corp
Priority to JP2003074039A priority Critical patent/JP4307872B2/ja
Publication of JP2004279335A publication Critical patent/JP2004279335A/ja
Publication of JP2004279335A5 publication Critical patent/JP2004279335A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4307872B2 publication Critical patent/JP4307872B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

【課題】ガラス基板の撓みや振動を抑えて正確な基板検査を行うこと。
【解決手段】各平面浮上ブロック31、32から吹出されるエアーにより浮上していてるガラス基板28の両端部辺を各ガラス駆動ステージ26、27上に吸着固定し、これらガラス駆動ステージ26、27の駆動によってガラス基板28を高速移動する。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶ディスプレイ(LCD)やプラズマディスプレイパネル(PDP)などのフラットパネルディスプレイ(FPD)に用いる大型ガラス基板やカラーフィルタなどを検査する基板検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
LCDやPDPといった大型ディスプレイに用いられるガラス基板やカラーフィルタは、製造工程において検査される。
【0003】
この基板検査は、一つの検査手法として、顕微鏡を用いてガラス基板表面の拡大像を取得し、この拡大像を観察して傷や汚れなどの欠陥部を検出する。このようにガラス基板表面の拡大像を顕微鏡を用いて観察するので、ガラス基板に僅かな撓みがあると、顕微鏡のフォーカス位置がガラス基板表面上からずれる。又、ガラス基板は、外部からの振動を受けたり、又はフラットパネル製造工程内のダウンフローを受けて振動することがある。ガラス基板が振動すると、顕微鏡により取得された拡大像が振るえてしまい、基板検査が不可能な状態になる。
【0004】
フラットパネルディスプレイ製造工程で製造されるガラス基板のサイズは、画面の大型化やコスト削減といった要望に対応するために、益々大型化する傾向にあり、例えば1250×1100mmのサイズに大型化している。
【0005】
ガラス基板が大型化すると、ガラス基板は、撓み易くかつ振動の影響を受け易くなる。特許文献1は、ガラス基板の検査・観察のときの振動の影響を最小限に抑える技術を記載している。すなわち特許文献1は、ガラス基板の周辺部を吸着パッドにより吸着・保持し、かつ観察系の光軸上を含む近傍において押付け機構によってガラス基板を下方から所定の付勢力で押し付けて振動を防止する。押付け機構は、ガラス基板の搬送に同期しながら転がるコロによりガラス基板の観察領域周辺を支えている。
【0006】
又、大型ガラス基板を搬送する方法として特許文献2に示す技術がある。この特許文献2は、ガラス基板の下面の左右両側を支持ローラ機構で支持し、ガラス基板の中間部が自重で下方に撓まないようにガラス基板の下面より圧力空気を吹き付けてガラス基板を圧力空気で浮かせている。
【0007】
【特許文献1】
特開平11−94755号公報
【0008】
【特許文献2】
特開2000−193604号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
特許文献1は、押付け機構の各コロを直接ガラス基板に接触し、これらコロによってガラス基板を下方から所定の付勢力で押し付けている。このため、ガラス基板を搬送する際に、ガラス基板とコロとの間で滑りが発生し、ガラス基板の裏面に傷の付くことがある。又、コロに汚れが付いていると、この汚れがガラス基板に付着する。
【0010】
特許文献2は、特許文献1と同様に、ローラを用いてガラス基板を搬送するため、ガラス基板とローラとの接触する転がり面に傷や汚れが付くことがある。
【0011】
しかしながら、上記特許文献1、2は、コロやローラでガラス基板を搬送することから、ガラス基板裏面に傷を付けたり、又汚れを付着させたりなどの不具合を生じるため、ガラス基板を圧力空気で浮上させた非接触による搬送技術が要望されている。このエア浮上搬送技術では、ガラス基板の振動の影響は大きな問題とならない。しかし、顕微鏡のようなガラス基板面を拡大視するミクロ検査装置では、ガラス基板のエアー浮上が安定せず、ガラス基板の平面度を出すことが難しく、かつ振動により基板検査が不可能な状態になる。
【0012】
そこで本発明は、ガラス基板の撓みや振動を抑えて正確な基板検査を行うことができる基板検査装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板を浮上させる浮上ブロックと、浮上ブロック上で浮上した基板の両端を吸着保持して一方向に基板を搬送する基板搬送部と、基板搬送部の搬送方向と交差するように浮上ブロックに形成した開口部と、開口部に沿って移動可能に設けられ、基板を拡大観察する顕微鏡用対物レンズと、顕微鏡用対物レンズに対峙して設けられ、基板を透過照明する照明部と、対物レンズの少なくとも観察領域の周辺にエアーを吹上げて基板を水平に保持するエアー保持手段とを具備した基板検査装置である。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の第1の実施の形態について図面を参照して説明する。
【0015】
図1は基板検査装置の外観構成図である。除振台1上にベース2が高さ調整機構付の各脚2aを介して設けられている。このベース2上に顕微鏡フレーム3が移動可能に設けられている。
【0016】
図2はベース2及び顕微鏡フレーム3を示す部分構成図である。ベース2の上面は、平面に形成されている。このベース2の上面は、高さ調整機構付の各脚2aの高さ調整により水平に設けられている。このベース2の上面の両端部にそれぞれ各直線ガイド4、5が固定され、かつ中央部に各直線ガイド6、7が固定されている。これら直線ガイド4〜7は、X方向に互いに平行に設けられている。
【0017】
これら直線ガイド4〜7上に顕微鏡フレーム3がX方向に移動可能に設けられている。この顕微鏡フレーム3は、例えば車輪等を回転駆動する方式、リニアモータを用いた方式などによって各直線ガイド4〜7上を移動する。この顕微鏡フレーム3は、横方向に長い四辺形の枠状に形成されている。
【0018】
顕微鏡ユニット10が顕微鏡フレーム3の上部フレームに設けられている。この顕微鏡ユニット10は、回転自在なレボルバ11と、このレボルバ11に取り付けられた複数の対物レンズ12と、この対物レンズ12を介して取り込まれたガラス基板24の像を撮像するCCDカメラ13とを有する。
【0019】
透過照明ユニット14が顕微鏡フレーム3における下部フレームの上面に設けられている。この透過照明ユニット14は、出射する透過照明光の光軸を対物レンズ12の光軸に一致して設けられている。具体的に透過照明ユニット14は、光源を有するランプハウス15と、このランプハウス15から放射された透過照明光を反射するミラー16と、このミラー16で反射した透過照明光を集光するコンデンサレンズ17とを有する。
【0020】
図1に示すようにベース2上にガラスステージベース20が固定されている。図3はガラスステージベース20を示す部分構成図である。このガラスステージベース20は、ステージ上面板21と、このステージ上面板21の両端辺部に設けられた各脚用板22、23とからなる。このガラスステージベース20は、図1に示すように顕微鏡フレーム3の空間部9内を通してベース2上に固定されている。
【0021】
なお、ガラスステージベース20の脚用板22に孔22aが設けられている。この孔22aは、図2に示す顕微鏡フレーム3が図面上右側に移動したとき、透過照明ユニット14を脚用板22の外部に移動させる。これにより、透過照明ユニット14は、脚用板22に接触しない。
【0022】
直線の各ステージガイド24、25がそれぞれガラスステージベース20上の両端辺部に沿ってY方向に固定されている。これらステージガイド24、25上にそれぞれ各ガラス駆動ステージ26、27がY方向に移動可能に設けられている。なお、これらガラス駆動ステージ26、27は、各ステージガイド24、25上を例えば車輪等を回転駆動する方式、リニアモータを用いた方式などによって移動する。
【0023】
これらガラス駆動ステージ26、27は、それぞれ長方形の板状に形成され、互いに対向する向きに張り出して各ステージガイド24、25上に設けられている。なお、一方のガラス駆動ステージ26のX方向の幅(退避領域)Wは、顕微鏡フレーム3が後述するエアー搬送路となる平面浮上ブロック31、32外に退避できるように他方のガラス駆動ステージ27のX方向の幅よりも広く形成されている。この退避領域Wは、ガラス基板28を各平面浮上ブロック31、32上に受け渡しするときに顕微鏡フレーム3を退避させる領域である。
【0024】
又、これらガラス駆動ステージ26、27は、同期して互いに同一速度で各ステージガイド24、25上を移動する。これらガラス駆動ステージ26、27の間隔は、ガラス基板28の幅よりも狭く設定される。なお、このガラス駆動ステージ26、27の間隔は、ガラス基板28のサイズに応じて可変することも可能である。
【0025】
これらガラス駆動ステージ26、27の対向する側縁部に沿ってガラス基板28を吸着保持する複数の基板吸着孔29、30が所定間隔毎に設けられている。これら基板吸着孔28、29は、図示しないエアー吸引装置に接続されている。なお、一方のガラス駆動ステージ26に押付けピン26aが設けられ、他方のガラス駆動ステージ26に位置決め基準ピン27a、27bが設けられている。
【0026】
ガラスステージベース20の上面に2つの平面浮上ブロック31、32がY方向に配列されて設けられている。これら平面浮上ブロック31、32は、ガラスステージベース20のX方向の中心位置よりも図面上左側すなわちガラス駆動ステージ27側に設けられている。これにより、これら平面浮上ブロック31、32のX方向の中心位置は、各ガラス駆動ステージ26、27の間隔のほぼ中心位置に一致して設けられる。
【0027】
これら平面浮上ブロック31、32の各上面は平面に形成され、かつこれら上面に多数のエアー流通孔33が例えば縦横方向に所定の間隔毎に設けられている。これらエアー流通孔33は、それぞれ図示しないエアー送風装置又はエアー吸引装置に接続されている。従って、これらエアー流通孔33は、例えばエアーを吹出すエアー流通孔33とエアーを吸引するエアー流通孔33とが交互に配置される。
【0028】
なお、複数のエアー流通孔33は、全てをエアーの吹出しに用いてもよいし、又エアーを吹出すエアー流通孔33とエアーを吸引するエアー流通孔33との割合や配置を任意に変更可能である。いずれにしてもガラス基板28が各平面浮上ブロック31、32の上方に浮上して撓まずかつ振動しなければ、エアーを吹出すエアー流通孔33とエアーを吸引するエアー流通孔33との配置は、任意に変更してよい。
【0029】
これら平面浮上ブロック31、32の各高さは、各ガラス駆動ステージ26、27の上面よりも僅かに低く形成されている。これは各平面浮上ブロック31、32の上方に浮上したガラス基板28を各ガラス駆動ステージ26、27上に吸着して搬送するためである。
【0030】
これら平面浮上ブロック31、32の間には、上述した透過照明ユニット14のコンデンサレンズ17が移動可能な隙間が設けられている。なお、ガラスステージベース20には、平面浮上ブロック31、32の隙間に沿って透過照明ユニット14のコンデンサレンズ17を移動させる長孔が形成されている。
【0031】
ガラス基板28は、顕微鏡ユニット10により拡大観察される。このガラス基板28上の拡大観察領域を含む観察部を撓まずかつ振動させずに安定化するために次の手段が講じられている。
【0032】
図4は各平面浮上ブロック31、32間の各稜線部を示す構成図である。これら平面浮上ブロック31、32間の互いに対峙する各稜線部に複数のエアー流通孔34が例えば1列に設けられている。これらエアー流通孔34の間隔は、各エアー流通孔33の間隔よりも狭くなっている。これらエアー流通孔34は、それぞれ図示しないエアー送風装置又はエアー吸引装置に接続されている。
【0033】
従って、これらエアー流通孔34は、例えばエアーを吹出すエアー流通孔34とエアーを吸引するエアー流通孔34とが交互に配置される。なお、これらエアー流通孔34は、エアーを吹出すエアー流通孔34とエアーを吸引するエアー流通孔34との割合や配置を任意に変更可能である。
【0034】
なお、複数のエアー流通孔34は、図5に示すように各稜線部にそれぞれ複数列、又は図6に示すように千鳥状に設けてもよい。又、平面浮上ブロック31、32上に形成されたエアー流通孔33に比べてエアーを吹き出すエアー流通孔34の口径を小さくしたり、配置密度を高めてもよい。さらに、複数のエアー流通孔34は、図7に示すように各平面浮上ブロック31、32間の各稜線部に形成された各傾斜面31a、32aに複数のエアー流通孔34aをそれぞれ設けてもよい。この場合、複数のエアー流通孔34aは、平面浮上ブロック31、32上を搬送されるガラス基板28の先端部と後端部とが隙間で垂れ下がらないようにガラス基板28の移動に追従してガラス基板28の下方からエアーを吹上げることが好ましい。各傾斜面31a、32aは、断面半円の棒状に形成され、平面浮上ブロック31、32の各稜線部に回動可能に設けられている。この場合、ガラス基板28の先端部が隙間上を通過する直前には、傾斜面32aの噴射角度を搬送面より下に向け、ガラス基板28の後端部が隙間上を通過する直後には、傾斜面31aの噴射角度を搬送面より下に向けると、ガラス基板28の先端部と後端部とがエアーに煽られることなく安定してガラス基板28を搬送することが可能になる。
【0035】
図8は各平面浮上ブロック31、32間の各稜線部を示す構成図である。平面浮上ブロック31、32間の各稜線部に各多孔質体35、36が設けられている。これら多孔質体35、36は、ガラス基板28を浮上させるのに必要な気孔率(例えば40%)を有する焼結金属(例えばセラミックス、樹脂、カーボンなど)からなる。この気孔率は、必要な浮上剛性に応じて変更可能である。これら多孔質体35、36の互いに対峙する各稜線上に各傾斜面35a、36aが形成されている。これら多孔質体35、36は、それぞれ図示しないエアー送風装置に接続されている。
【0036】
従って、各多孔質体35、36は、図9に示すようにエアーを上方から斜め、横方向に亘る方向に吹出す。これにより、ガラス基板28の端部が各平面浮上ブロック31、32の間の上方に移動しても、各傾斜面35a、36aからエアーが斜め横方向に噴射されるため、ガラス基板28の端部は、下方からエアーの吹出しを受けて撓むことなく高い平面度を保つことができる。
【0037】
図10は対物レンズ12及び透過照明ユニット14の周辺構成図である。ミラー16は、ミラーボックス16b内に備えられている。このミラーボックス16bにコンデンサレンズ17を備えた鏡筒17aが設けられている。この鏡筒17aの外周側にエアー供給用の円筒体37が鏡筒17aと同一軸上に設けられている。この円筒体37の肉厚部に複数のエアー流通孔38が設けられている。これらエアー流通孔38は、それぞれ図示しないエアー送風装置又はエアー吸引装置に接続されている。
【0038】
従って、これらエアー流通孔38は、例えばエアーを吹出すエアー流通孔38とエアーを吸引するエアー流通孔38とが交互に配置される。なお、これらエアー流通孔38は、全てをエアーの吹出し、鏡筒17aと円筒体37の隙間からエアーを吸収してもよいし、その逆でもよい。又、エアーを吹出すエアー流通孔38とエアーを吸引するエアー流通孔38との割合や配置を任意に変更可能である。
【0039】
なお、円筒体37上の各エアー流通孔38の形成方法は、次の通り変形可能である。各エアー流通孔38は、円筒体37の肉厚部における孔の噴射方向を変え、例えば図11に示すように外側と内側とに向って吹出すエアーと内側に向って吹出すようにしてもよい。
【0040】
図12は鏡筒17aの肉厚部にも複数のエアー流通孔40を形成した構成図である。これにより、外側の各エアー流通孔38と内側の各エアー流通孔40との二重構造になる。外側の各エアー流通孔38は、例えばエアーを吹出すエアー流通孔38とエアーを吸引するエアー流通孔38とを交互に配置する。内側の各エアー流通孔40も同様に例えばエアーを吹出すエアー流通孔40とエアーを吸引するエアー流通孔40とを交互に配置する。又、外側の各エアー流通孔38はエアーを吹出しのみとし、内側の各エアー流通孔40はエアーの吸引のみとしてもよいし、その逆でもよい。さらに、エアー流通孔38とエアー流通孔40とをエアー吹き出しのみとし、鏡筒17aと円筒体37の隙間から吸引のみとしてもよいし、の逆でもよい。
【0041】
図13は鏡筒17aの外周側に外径の異なる各エアー供給用筒41、42を設けた構成図である。これらエアー供給用筒41、42は、鏡筒17aに対して同軸上に設けられている。鏡筒17aとエアー供給用筒41との間は、例えばエアーを噴出する。各エアー供給用筒41、42との間は、例えばエアーを吸引する。これらエアーの吹出しとエアーの吸引とは、逆でもよい。
【0042】
以上の各エアー流通孔33,34,38,40は、それぞれエアー送風装置又はエアー吸引装置に接続されている。これらエアー送風装置又はエアー吸引装置は、それぞれエアー送風圧力、エアー吸引力を制御可能である。従って、各エアー流通孔33,34,38,40からそれぞれ吹き出されるエアーの圧力、エアー吸引力は、一定乃至個々に調節できる。これにより、ガラス基板28の高さ位置、特に顕微鏡ユニット10によるガラス基板28上の観察部の高さ位置は、顕微鏡ユニット10のフォーカス点に常に一致するように制御される。
【0043】
次に、上記の如く構成された装置の動作について説明する。
【0044】
ガラス基板28を検査するとき、顕微鏡フレーム3は、X方向(図1上右側)に移動して退避領域Wに退避する。
【0045】
この状態で、例えば未検査のガラス基板28が搬入口Aから平面浮上ブロック31の上方に搬入される。このとき、各ガラス駆動ステージ26、27は、図15に示すように搬入口A側に移動している。
【0046】
各平面浮上ブロック31、32は、エアー送風装置の駆動によって複数のエアー流通孔33のうち所定のエアー流通孔33からエアーを吹出し、かつそれ以外のエアー流通孔33からエアー吸引装置の駆動によってエアーを吸引する。
【0047】
これにより、ガラス基板28は、各エアー流通孔33からのエアーの吹出し及び吸引によって平面浮上ブロック31の上面から浮上する。なお、全てのエアー流通孔33からエアーを吹出してもよいが、一部のエアー流通孔33からエアーを吸引することによってガラス基板28の平面状態の安定度が高くなる。
【0048】
次に、一方のガラス駆動ステージ26上の押付けピン26aは、ガラス基板28の端部を他方のガラス駆動ステージ27上の各位置決め基準ピン27a、27b側に押し付ける。これにより、ガラス基板28は、浮上しているので僅かな押付け力で各位置決め基準ピン27a、27b側に移動し、基準位置に位置決めされる。
【0049】
次に、各ガラス駆動ステージ26、27の各基板吸着孔29、30は、エアー吸引装置の駆動によってエアーを吸引する。これにより、ガラス基板28の両端が各ガラス駆動ステージ26、27上に吸着固定される。
【0050】
次に、これらガラス駆動ステージ26、27は、互いに対向し合う位置関係を保ちながら、同期して互いに同一速度で各ステージガイド24、25上を移動する。これにより、ガラス基板28は、平面浮上ブロック31の上方に浮上した状態で、各ガラス駆動ステージ26、27に引っ張られてY方向に移動する。
【0051】
このときガラス基板28の両端が各ガラス駆動ステージ26、27上の複数の基板吸着孔29、30によって吸着固定されるので、ガラス基板28は、例えば移動方向に向って左右方向及び上下方向に揺れることなく安定して搬送される。
【0052】
又、各ガラス駆動ステージ26、27は、浮上しているガラス基板28を移動させるので、ガラス基板28の移動の駆動力は僅かでよい。従って、ガラス基板28は、高速で移動可能である。
【0053】
なお、エアー流通孔33から吹出すエアーは、イオン化されているものが使用されていれば、この後のガラス基板28の高速搬送により、静電気が中和される。この結果、ガラス基板28への帯電は、阻止される。
【0054】
このようにしてガラス基板28は、図15に示すように各平面浮上ブロック31、32の間における顕微鏡ユニット10による拡大観察領域を含む観察部に到達する。
【0055】
観察部におけるガラス基板28の平面状態は、例えば以下の手段により高い安定度に保たれる。
【0056】
図4に示すように各平面浮上ブロック31、32間の各稜線部に設けられた複数のエアー流通孔34は、例えば交互に配置されたエアー吹出しのエアー流通孔34とエアー吸引のエアー流通孔34とによってエアー吹出し、エアー吸引を行う。これらエアー流通孔34は、観察部に複数設けられているので、観察部におけるガラス基板28の平面状態は、高い安定度に保たれる。
【0057】
これと同様に、図5に示すように各稜線部にそれぞれ複数列、例えば2列づつ設けられた複数のエアー流通孔34によってエアー吹出し、エアー吸引するを行ってもよい。又、図6に示すように千鳥状に設けられた複数のエアー流通孔34によってエアー吹出し、エアー吸引を行ってもよい。又、図7に示すように各平面浮上ブロック31、32の各傾斜面31a、32aに設けられた複数のエアー流通孔34によってエアー吹出し、エアー吸引を行ってもよい。
【0058】
図8に示す各多孔質体35、36は、図9に示すようにエアーを上方から斜め、横方向に亘る方向に噴出する。これにより、ガラス基板28における観察部は、各多孔質体35、36からエアーの吹出しを受けて撓むことなく高い平面度を保つ。特にガラス基板28の端部が各平面浮上ブロック31、32の間の上方に移動したとき、ガラス基板28の端部は、各多孔質体35、36からエアーの吹出しを受けて撓むことなく高い平面度を保つ。
【0059】
図10に示すように透過照明ユニット14側において、円筒体37の複数のエアー流通孔38は、例えば交互に配置されたエアー吹出しのエアー流通孔38とエアー吸引のエアー流通孔38とによってエアー吹出し、エアー吸引を行う。これらエアー吹出し、吸引は、対物レンズ12に対向するガラス基板28に裏面で行なわれる。従って、対物レンズ12によるガラス基板28上の拡大観察領域の平面度が局所的に高く保持される。
【0060】
なお、透過照明ユニット14側からは、図11に示すように外側と内側とに向ってエアー吹出しを行ってもよい。
【0061】
又、図12に示すように例えば外側の各エアー流通孔38は、例えば交互に配置されたエアー吹出しのエアー流通孔38とエアー吹き込みのエアー流通孔38とによってエアー吹出し、エアー吸引を行う。これと共に内側の各エアー流通孔40は、例えば交互に配置されたエアー吹出しのエアー流通孔40とエアー吸引のエアー流通孔40とによってエアー吹出し、エアー吸引を行うようにしてもよい。
【0062】
又、図13に示すように例えば鏡筒17aとエアー供給用筒41との間からエアーを吹き出し、各エアー供給用筒41、42との間からエアーを吸引するようにしてもよい。
【0063】
ガラス基板28が顕微鏡ユニット10の観察部に到達すると、ガラス基板28の検査が行なわれる。各ガラス駆動ステージ26、27は、例えば互いに対向し合う位置関係を保ちながらY方向に移動し、例えばオートマクロ検査装置で検出された傷や汚れなどの欠陥部の座標データに従って停止する。顕微鏡フレーム3は、同じく例えばオートマクロ検査装置で検出された傷や汚れなどの欠陥部の座標データに従ってX方向に移動し、停止する。これにより、対物レンズ12と透過照明ユニット14とを通る光軸は欠陥部上に配置される。
【0064】
CCDカメラ13は、顕微鏡ユニット10により拡大された欠陥部を撮像し、その画像信号を出力する。図示しない画像処理装置は、CCDカメラ13からの画像信号を処理し、その画像データをディスプレイに表示したり、画像メモリに記憶する。
【0065】
このガラス基板28の検査において、観察部におけるガラス基板28は、撓むことなく、外部からの振動の影響を受けず、さらに常に同一高さ位置に浮上した状態を安定度高く保てる。これにより、顕微鏡ユニット10は、ガラス基板28の表面上にフォーカス点を保てる。従って、CCD13は、常にフォーカスの合った画像を撮像できるので、この画像を観察することによりガラス基板28の検査精度を向上できる。
【0066】
ガラス基板28の別の検査方法として、各ガラス駆動ステージ26、27は、例えば互いに対向し合う位置関係を保ちながら所定時間毎にY方向にステップ移動する。このステップ移動の距離は、顕微鏡ユニット10の拡大観察領域におけるY方向の長さに相当する。
【0067】
ステップ移動毎の各ガラス駆動ステージ26、27の停止期間中に、顕微鏡フレーム3は、X方向に移動する。この移動中にCCDカメラ13は、顕微鏡ユニット10により拡大された欠陥部を撮像し、その画像信号を出力する。
【0068】
画像処理装置は、CCDカメラ13からの画像信号を処理し、その画像データをディスプレイに表示したり、画像メモリに記憶する。
【0069】
従って、各ガラス駆動ステージ26、27のステップ移動と顕微鏡フレーム3の移動とを繰り返すことにより、CCDカメラ13は、ガラス基板28の全面を撮像する。この結果、画像処理装置は、ガラス基板28の全面の画像データを取得する。従って、CCDカメラ13の撮像中にリアルタイムで取得される画像を観察したり、ガラス基板28の全面の画像を観察することにより、ガラス基板28の検査ができる。
【0070】
このように上記第1の実施の形態においては、各平面浮上ブロック31、32から吹出されるエアーにより浮上していてるガラス基板28の両端部辺を各ガラス駆動ステージ26、27上の複数の基板吸着孔30によって吸着固定し、各ガラス駆動ステージ26、27の駆動によってガラス基板28を高速移動する。
【0071】
従って、ガラス基板28の両端部辺が各ガラス駆動ステージ26、27上に吸着固定されることにより、ガラス基板28が大型サイズであっても、ガラス基板28は、撓むことなく、かつ外部からの振動の影響を受けず、又フラットパネル製造工程内のダウンフローを受けて振動せず、さらに移動中に例えば移動方向に向って左右方向及び上下方向にふらつかない。
【0072】
この結果、ガラス基板28の両端部辺を各ガラス駆動ステージ26、27上に載置することにより、ガラス基板28に傷が付いたり、又汚れが付着することはない。そして、ガラス基板28を高速移動できるので、検査が高速化でき、タクトタイムが短縮できる。
【0073】
顕微鏡ユニット10の観察部、すなわち各平面浮上ブロック31、32の間においては、これら平面浮上ブロック31、32の各稜線部に設けられた複数のエアー流通孔34によりエアー吹出し、エアー吸引を行う。
【0074】
なお、ガラス基板28の観察部に対応する部分の平面状態を安定度高く保持する手段としては、図4乃至図13に示す構成を講じることができる。この結果、観察部におけるガラス基板28は、エアーの吹き出し及び吸引により撓むことなく、外部からの振動の影響を受けず、さらに常に同一高さ位置に浮上した状態を安定度高く保てる。これにより、顕微鏡ユニット10は、ガラス基板28の表面上にフォーカス点を保てる。従って、常にフォーカスの合った画像を観察することによりガラス基板28の検査精度を向上できる。
【0075】
又、各平面浮上ブロック31、32の間に顕微鏡ユニット10及び透過照明ユニット14を移動させるので、透過照明光は、遮光物の障害を受けずにガラス基板28の裏面に照射できる。
【0076】
次に、本発明の第2の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、図1と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。
【0077】
図16は基板検査装置の外観構成図である。支柱50がガラスステージベース20の脚用板22に設けられている。この支柱50の上部に接眼鏡筒ユニット51が設けられている。この接眼鏡筒ユニット51と観察光学系の光軸との間に揺動型延長光学ユニット52が設けられている。
【0078】
この揺動型延長光学ユニット52は、対物レンズ12からの像を接眼鏡筒ユニット51に伝送する。この揺動型延長光学ユニット52は、それぞれリレー光学系を内部に収納した2つの光学アーム53、54を有する。光学アーム53は、接眼鏡筒ユニット51と光学アーム54との各連結点で回転自在に連結されている。光学アーム54は、光学アーム54とCCDカメラ13の各連結点で回転自在に連結されている。
【0079】
従って、顕微鏡フレーム3がX方向に移動すると、揺動型延長光学ユニット52は、2つの光学アーム53、54を各連結点で回転することにより、接眼鏡筒ユニット51と観察光学系の光軸との間の光学的な結合を保つ。これにより、対物レンズ12を通して得られた像は、揺動型延長光学ユニット52内のリレー光学系によって接眼鏡筒ユニット51に伝送される。この結果、接眼鏡筒ユニット51からガラス基板28の拡大像が観察できる。
【0080】
なお、本発明は、上記第1及び第2の実施の形態に限定されるものでなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。
【0081】
さらに、上記実施形態には、種々の段階の発明が含まれており、開示されている複数の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出できる。例えば、実施形態に示されている全構成要件から幾つかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出できる。
【0082】
例えば、ガラス基板28の観察部の平面状態を安定度高く保持する手段としては、対物レンズ12側にエアーの吹き出し部、又はエアーの吹き出し部と吸引部との両方を設けるなどして、ガラス基板28の観察部の表面と裏面とをエアーで挟持するようにしてもよい。これらエアーの吹き出し部と吸引部とは、複数本のチューブを並べて行ってもよい。
【0083】
【発明の効果】
以上詳記したように本発明によれば、ガラス基板の撓みや振動を抑えて正確な基板検査を行うことができる基板検査装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態を示す外観構成図。
【図2】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態におけるベース及び顕微鏡アームを示す部分構成図。
【図3】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態におけるガラスステージベースを示す部分構成図。
【図4】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態における各平面浮上ブロックの各稜線部を示す構成図。
【図5】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態における各平面浮上ブロックの各稜線部の変形例を示す構成図。
【図6】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態における各平面浮上ブロックの各稜線部の変形例を示す構成図。
【図7】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態における各平面浮上ブロックの各稜線部の変形例を示す構成図。
【図8】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態における各平面浮上ブロックの各稜線部の変形例を示す構成図。
【図9】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態における各平面浮上ブロックの各稜線部からエアー吹出し作用を示す図。
【図10】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態における対物レンズ及び透過照明ユニットの周辺構成図。
【図11】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態におけるエアーの噴出方向の変形例を示す図。
【図12】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態における鏡筒に浮上孔を設けた構成図。
【図13】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態における鏡筒の外周側に各エアー供給用筒を設けた構成図。
【図14】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態におけるガラス基板のエアー搬送を示す図。
【図15】本発明に係わる基板検査装置の第1の実施の形態における観察部におけるエアー搬送を示す図。
【図16】本発明に係わる基板検査装置の第2の実施の形態を示す外観構成図。
【符号の説明】
1:除振台、2:ベース、2a:脚、3:顕微鏡フレーム、4〜7:直線ガイド、9:空間部、10:顕微鏡ユニット、11:レボルバ、12:対物レンズ、13:CCDカメラ、14:透過照明ユニット、15:ランプハウス、16:ミラー、17:コンデンサレンズ、17a:鏡筒、20:ガラスステージベース、21:ステージ上面板、22,23:脚用板、22a:孔、24,25:ステージガイド、26,27:ガラス駆動ステージ、26a:押付けピン、28:ガラス基板、29,30:基板吸着孔、27a,27b:位置決め基準ピン、31,32:平面浮上ブロック、33,34,38,40:浮上孔、31a,32a:傾斜面、35,36:多孔質体、37:円筒体、39:傾斜面、41,42:エアー供給用筒、50:支柱、51:接眼鏡筒ユニット、52:揺動型延長光学ユニット、53,54:光学アーム。

Claims (10)

  1. 基板を浮上させる浮上ブロックと、
    前記浮上ブロック上で浮上した前記基板の両端を吸着保持して一方向に前記基板を搬送する基板搬送部と、
    前記基板搬送部の搬送方向と交差するように前記浮上ブロックに形成した開口部と、
    前記開口部に沿って移動可能に設けられ、前記基板を拡大観察する顕微鏡用対物レンズと、
    前記顕微鏡用対物レンズに対峙して設けられ、前記基板を透過照明する照明部と、
    前記対物レンズの少なくとも観察領域の周辺にエアーを吹上げて前記基板を水平に保持するエアー保持手段と、
    を具備したことを特徴とする基板検査装置。
  2. 前記エアー保持手段は、エアーを吹き出すエアー流通部と、エアーを吸込むエアー流通部とを備えたことを特徴とする請求項1記載の基板検査装置。
  3. 前記エアー保持手段は、前記開口部の長辺に沿ってエアーを吹き出すエアー流通孔を多数配置してなることを特徴とする請求項1記載の基板検査装置。
  4. 前記浮上ブロックは、前記基板を載置する面にエアーを吹き出して前記基板を浮上させるエアー流通孔を多数配置してなり、前記エアー保持手段の前記エアー流通孔の口径を前記浮上ブロックの前記エアー流通孔よりも小さく形成したことを特徴とする請求項3記載の基板検査装置。
  5. 前記エアー保持手段の前記エアー流通孔は、前記基板が前記開口部を通過する際に、前記基板の搬送に追従してエアーの出射角度を可変可能にしたことを特徴とする請求項3記載の基板検査装置。
  6. 前記エアー保持手段は、前記照明部側に前記対物レンズの光軸を中心にして円状にエアーを吹き出すエアー流通孔を多数配置してなることを特徴とする請求項1記載の基板検査装置。
  7. 前記エアー保持手段は、前記顕微鏡用対物レンズ側及び前記照明部側の両側に前記対物レンズの観察領域の周囲にエアーを吹き出すエアー流通孔とエアーを吸込むエアー流通孔とを円状に配置してなることを特徴とする請求項1記載の基板検査装置。
  8. 前記エアー保持手段は、前記対物レンズの観察領域の周囲に前記エアーエアーを吹き出すエアー流通孔とエアーを吸込むエアー流通孔とを同心円状に配置してなることを特徴とする請求項1記載の基板検査装置。
  9. 前記基板搬送部は、前記基板の両端辺に対応してそれぞれ設けられ、前記基板を載置して搬送する各ステージと、
    これらステージにそれぞれ設けられ、前記基板の両端辺を吸着固定する複数の吸着部と、
    を有することを特徴とする請求項1記載の基板検査装置。
  10. 前記各ステージは、前記基板の両端辺の長さと略同一長さに形成され、
    前記複数の吸着部は、前記基板の両端辺上に沿って所定の間隔で設けられた、ことを特徴とする請求項9記載の基板検査装置。
JP2003074039A 2003-03-18 2003-03-18 基板検査装置 Expired - Fee Related JP4307872B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003074039A JP4307872B2 (ja) 2003-03-18 2003-03-18 基板検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003074039A JP4307872B2 (ja) 2003-03-18 2003-03-18 基板検査装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2004279335A true JP2004279335A (ja) 2004-10-07
JP2004279335A5 JP2004279335A5 (ja) 2006-05-11
JP4307872B2 JP4307872B2 (ja) 2009-08-05

Family

ID=33289784

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003074039A Expired - Fee Related JP4307872B2 (ja) 2003-03-18 2003-03-18 基板検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4307872B2 (ja)

Cited By (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006161940A (ja) * 2004-12-07 2006-06-22 Ckd Corp 非接触支持装置
WO2006077950A1 (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Oht Inc. センサ、検査装置および検査方法
WO2006088150A1 (ja) * 2005-02-17 2006-08-24 Central Glass Company, Limited ガラス基板検査装置および検査方法
JP2006242679A (ja) * 2005-03-02 2006-09-14 Olympus Corp 基板検査装置及び基板検査装置の組み立て方法
JP2006258727A (ja) * 2005-03-18 2006-09-28 Olympus Corp 基板検査装置
JP2006266351A (ja) * 2005-03-23 2006-10-05 Ckd Corp 非接触支持装置
JP2006337542A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Lasertec Corp カラーフィルタ基板のステージ装置及び検査装置
JP2006343327A (ja) * 2005-05-12 2006-12-21 Olympus Corp 基板検査装置
JP2007088201A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
JP2007278715A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Olympus Corp 基板検査装置
JP2008014767A (ja) * 2006-07-05 2008-01-24 Olympus Corp 基板検査装置
JP2008023637A (ja) * 2006-07-19 2008-02-07 Yokogawa Electric Corp 移送システム
WO2008035752A1 (fr) * 2006-09-22 2008-03-27 Olympus Corporation Appareil d'inspection de substrat
JP2008076170A (ja) * 2006-09-20 2008-04-03 Olympus Corp 基板検査装置
JP2009002954A (ja) * 2007-05-23 2009-01-08 Lasertec Corp 基板保持装置
JP2009051654A (ja) * 2007-08-29 2009-03-12 Toppan Printing Co Ltd 基板搬送装置及び基板検査装置
JP2009080042A (ja) * 2007-09-26 2009-04-16 Oht Inc 回路パターン検査装置
JP2009229258A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Toppan Printing Co Ltd 基板搬送装置及び基板検査装置
JP2009231717A (ja) * 2008-03-25 2009-10-08 Toppan Printing Co Ltd 基板移動装置および基板搬送装置および基板撮像装置
KR100932751B1 (ko) * 2007-09-28 2009-12-17 주식회사 탑 엔지니어링 어레이 테스트 장치
JP2010040755A (ja) * 2008-08-05 2010-02-18 Sharp Corp 基板搬送装置
WO2011007651A1 (ja) * 2009-07-15 2011-01-20 有限会社共同設計企画 基板検査装置
JP2011082561A (ja) * 2010-12-27 2011-04-21 Olympus Corp 基板搬送装置
JP2011519796A (ja) * 2008-03-11 2011-07-14 コアフロー リミテッド 平坦な対象物の支持を局所的に制御するための方法およびシステム
JP2011162346A (ja) * 2010-02-15 2011-08-25 Ihi Corp 浮上搬送装置
JP2012162364A (ja) * 2011-02-07 2012-08-30 Oiles Corp 離間距離調整装置およびこれを用いた搬送装置
JP2012195403A (ja) * 2011-03-16 2012-10-11 Tokyo Electron Ltd 浮上式塗布装置
KR101208262B1 (ko) 2010-06-30 2012-12-04 (주)에이티엘 글래스 검사 장치
KR101258405B1 (ko) * 2012-01-19 2013-04-26 로체 시스템즈(주) 글라스 디스크 반송장치
KR101270077B1 (ko) * 2006-01-24 2013-05-31 엘아이지에이디피 주식회사 기판 결함 검사장치
JP2013247358A (ja) * 2012-05-23 2013-12-09 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
KR101379324B1 (ko) * 2013-01-11 2014-03-31 김준수 인쇄회로기판의 불량위치 출력장치
CN104787579A (zh) * 2014-01-22 2015-07-22 由田新技股份有限公司 检测装置
WO2015178189A1 (ja) * 2014-05-20 2015-11-26 オイレス工業株式会社 搬送用レールおよび浮上搬送装置
JP2016016989A (ja) * 2014-07-11 2016-02-01 オイレス工業株式会社 搬送用レールおよび浮上搬送装置
KR20160078280A (ko) * 2014-12-24 2016-07-04 가부시키가이샤 단켄시루세코 비접촉 반송 장치 및 비접촉 흡착반
JP2017089894A (ja) * 2016-12-07 2017-05-25 株式会社日本製鋼所 ガス浮上ワーク支持装置
CN108106996A (zh) * 2017-12-25 2018-06-01 通彩智能科技集团有限公司 一种玻璃检测盛放平台
CN111308747A (zh) * 2020-03-17 2020-06-19 北京七星华创集成电路装备有限公司 一种显示面板承载工作台及液晶屏生产设备

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102759531A (zh) * 2012-07-25 2012-10-31 深圳市华星光电技术有限公司 自动光学检测装置
US20220208579A1 (en) * 2020-12-29 2022-06-30 Photon Dynamics, Inc. Synchronous substrate transport and electrical probing

Cited By (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006161940A (ja) * 2004-12-07 2006-06-22 Ckd Corp 非接触支持装置
JP4494179B2 (ja) * 2004-12-07 2010-06-30 シーケーディ株式会社 非接触支持装置
WO2006077950A1 (ja) * 2005-01-14 2006-07-27 Oht Inc. センサ、検査装置および検査方法
WO2006088150A1 (ja) * 2005-02-17 2006-08-24 Central Glass Company, Limited ガラス基板検査装置および検査方法
JP2006226801A (ja) * 2005-02-17 2006-08-31 Central Glass Co Ltd ガラス基板検査装置および検査方法
JP2006242679A (ja) * 2005-03-02 2006-09-14 Olympus Corp 基板検査装置及び基板検査装置の組み立て方法
JP2006258727A (ja) * 2005-03-18 2006-09-28 Olympus Corp 基板検査装置
JP2006266351A (ja) * 2005-03-23 2006-10-05 Ckd Corp 非接触支持装置
JP4491364B2 (ja) * 2005-03-23 2010-06-30 シーケーディ株式会社 非接触支持装置
JP2006343327A (ja) * 2005-05-12 2006-12-21 Olympus Corp 基板検査装置
JP2006337542A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Lasertec Corp カラーフィルタ基板のステージ装置及び検査装置
JP2007088201A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
JP4570545B2 (ja) * 2005-09-22 2010-10-27 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
KR101270077B1 (ko) * 2006-01-24 2013-05-31 엘아이지에이디피 주식회사 기판 결함 검사장치
JP2007278715A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Olympus Corp 基板検査装置
JP2008014767A (ja) * 2006-07-05 2008-01-24 Olympus Corp 基板検査装置
JP2008023637A (ja) * 2006-07-19 2008-02-07 Yokogawa Electric Corp 移送システム
JP2008076170A (ja) * 2006-09-20 2008-04-03 Olympus Corp 基板検査装置
JPWO2008035752A1 (ja) * 2006-09-22 2010-01-28 オリンパス株式会社 基板検査装置
WO2008035752A1 (fr) * 2006-09-22 2008-03-27 Olympus Corporation Appareil d'inspection de substrat
JP2009002954A (ja) * 2007-05-23 2009-01-08 Lasertec Corp 基板保持装置
JP2009051654A (ja) * 2007-08-29 2009-03-12 Toppan Printing Co Ltd 基板搬送装置及び基板検査装置
JP2009080042A (ja) * 2007-09-26 2009-04-16 Oht Inc 回路パターン検査装置
KR100932751B1 (ko) * 2007-09-28 2009-12-17 주식회사 탑 엔지니어링 어레이 테스트 장치
US9022699B2 (en) 2008-03-11 2015-05-05 Coreflow Ltd Method and system for locally controlling support of a flat object
US8690489B2 (en) 2008-03-11 2014-04-08 Coreflow Ltd. Method and system for locally controlling support of a flat object
JP2011519796A (ja) * 2008-03-11 2011-07-14 コアフロー リミテッド 平坦な対象物の支持を局所的に制御するための方法およびシステム
JP2009229258A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 Toppan Printing Co Ltd 基板搬送装置及び基板検査装置
JP2009231717A (ja) * 2008-03-25 2009-10-08 Toppan Printing Co Ltd 基板移動装置および基板搬送装置および基板撮像装置
JP2010040755A (ja) * 2008-08-05 2010-02-18 Sharp Corp 基板搬送装置
WO2011007651A1 (ja) * 2009-07-15 2011-01-20 有限会社共同設計企画 基板検査装置
JP2011162346A (ja) * 2010-02-15 2011-08-25 Ihi Corp 浮上搬送装置
KR101208262B1 (ko) 2010-06-30 2012-12-04 (주)에이티엘 글래스 검사 장치
JP2011082561A (ja) * 2010-12-27 2011-04-21 Olympus Corp 基板搬送装置
JP2012162364A (ja) * 2011-02-07 2012-08-30 Oiles Corp 離間距離調整装置およびこれを用いた搬送装置
JP2012195403A (ja) * 2011-03-16 2012-10-11 Tokyo Electron Ltd 浮上式塗布装置
KR101258405B1 (ko) * 2012-01-19 2013-04-26 로체 시스템즈(주) 글라스 디스크 반송장치
JP2013247358A (ja) * 2012-05-23 2013-12-09 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
US9811005B2 (en) 2012-05-23 2017-11-07 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR101379324B1 (ko) * 2013-01-11 2014-03-31 김준수 인쇄회로기판의 불량위치 출력장치
CN104787579A (zh) * 2014-01-22 2015-07-22 由田新技股份有限公司 检测装置
WO2015178189A1 (ja) * 2014-05-20 2015-11-26 オイレス工業株式会社 搬送用レールおよび浮上搬送装置
JP2016016989A (ja) * 2014-07-11 2016-02-01 オイレス工業株式会社 搬送用レールおよび浮上搬送装置
JP2016121015A (ja) * 2014-12-24 2016-07-07 株式会社タンケンシールセーコウ 非接触搬送装置、および非接触吸着盤
KR20160078280A (ko) * 2014-12-24 2016-07-04 가부시키가이샤 단켄시루세코 비접촉 반송 장치 및 비접촉 흡착반
KR102552128B1 (ko) 2014-12-24 2023-07-06 가부시키가이샤 단켄시루세코 비접촉 반송 장치 및 비접촉 흡착반
JP2017089894A (ja) * 2016-12-07 2017-05-25 株式会社日本製鋼所 ガス浮上ワーク支持装置
CN108106996A (zh) * 2017-12-25 2018-06-01 通彩智能科技集团有限公司 一种玻璃检测盛放平台
CN108106996B (zh) * 2017-12-25 2024-05-28 通彩智能科技集团有限公司 一种玻璃检测盛放平台
CN111308747A (zh) * 2020-03-17 2020-06-19 北京七星华创集成电路装备有限公司 一种显示面板承载工作台及液晶屏生产设备
CN111308747B (zh) * 2020-03-17 2023-09-22 北京七星华创集成电路装备有限公司 一种显示面板承载工作台及液晶屏生产设备

Also Published As

Publication number Publication date
JP4307872B2 (ja) 2009-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4307872B2 (ja) 基板検査装置
KR100848229B1 (ko) 기판 반송 장치
JP2006266722A (ja) 基板検査システム及び基板検査方法
JP4789399B2 (ja) 浮上ユニット
JP2012021852A (ja) 基板検査装置および基板検査方法
JP2007107945A5 (ja)
JP4780984B2 (ja) 基板搬送装置
JP5315013B2 (ja) 基板搬送装置、及び、基板搬送方法
JP2007248291A (ja) 基板検査装置
JP2007281285A (ja) 基板搬送装置
JP2008064666A (ja) 外観検査装置の基板保持機構
JP5005945B2 (ja) 基板検査装置
JP2009229301A (ja) 基板検査装置
JP2006344705A (ja) 基板のステージ装置、検査装置及び修正装置
KR101543875B1 (ko) 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 검사 장치
KR20090008114A (ko) 검사 장치 및 기판 처리 시스템
JP2012127761A (ja) 基板検査装置
JP2011082561A (ja) 基板搬送装置
JP2001135691A (ja) 検査装置
KR20210072960A (ko) 휴대용 기기용 기판의 이산화탄소 세정 시스템
JP2000021709A (ja) 基板端縁洗浄装置
JP2019072664A (ja) 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
KR101544282B1 (ko) 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 기판 검사 장치
JP2006066747A (ja) 基板の位置決め装置及び位置決め方法
JP2011174862A (ja) 基板保持装置およびそれを用いた欠陥修正装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060316

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060316

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080926

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Effective date: 20090407

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20090430

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120515

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130515

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees