JP2004186362A - 回路装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】多層配線を構成する導電パターン12の最上層の導電パターン12Aに第1の回路素子13を実装する。最下層の導電パターンであり装置裏面に露出する第4の導電パターン12Dに、第2の回路素子14およびコネクタ15を実装する。このことにより、より多数個の回路素子を有する回路装置10を提供することができる。更に、コネクタ15を装置裏面に実装することにより、外部との電気的接続を容易に行うことができる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、回路装置に関し、樹脂封止された回路装置の裏面に外部との電気的接続を行うコネクタおよび回路素子が実装された回路装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、電子機器にセットされる回路装置は、携帯電話、携帯用のコンピューター等に採用されるため、小型化、薄型化、軽量化が求められている。例えば、回路装置として半導体装置を例にして述べると、一般的な半導体装置として、最近ではCSP(チップサイズパッケージ)と呼ばれる、チップのサイズと同等のウェハスケールCSP、またはチップサイズよりも若干大きいサイズのCSPが開発されている(例えば、特許文献1を参照)。
【0003】
図5は、支持基板としてガラスエポキシ基板101を採用した、チップサイズよりも若干大きいCSP100を示すものである。ここではガラスエポキシ基板101にトランジスタチップTが実装されたものとして説明していく。
【0004】
このガラスエポキシ基板101の表面には、第1の電極102A、第2の電極102Bおよびダイパッド103が形成され、裏面には第1の裏面電極105Aと第2の裏面電極105Bが形成されている。そしてスルーホールTHを介して、前記第1の電極102Aと第1の裏面電極105Aが、第2の電極102Bと第2の裏面電極105Bが電気的に接続されている。またダイパッド103には前記ベアのトランジスタチップTが固着され、トランジスタのエミッタ電極と第1の電極102Aが金属細線104を介して接続され、トランジスタのベース電極と第2の電極102Bが金属細線104を介して接続されている。更にトランジスタチップTを覆うようにガラスエポキシ基板101に樹脂層106が設けられている。
【0005】
前記CSP100は、ガラスエポキシ基板101を採用するが、ウェハスケールCSPと違い、チップTから外部接続用の裏面電極105A、105Bまでの延在構造が簡単であり、安価に製造できるメリットを有する。
【0006】
図6を参照して、上記したCSP100等の素子が、実装基板PSに実装されることにより、1つのモジュールが構成される。実装基板PSには、CSPの他にも、半導体素子を内蔵する回路装置110、チップ抵抗CRおよびチップコンデンサCCが表面および裏面に実装されている。そして、実装基板PSの表面および裏面に形成された導電路により個々の回路素子は電気的に接続されていた。この様な構造で、例えば携帯、OA機器等の中に実装されるモジュールが構成されていた。
【0007】
【特許文献1】
特開2001−339151号公報(第1頁、第1図)
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来例に示すような構成で、1つの機能を有するモジュールを構成した場合、全体のサイズが大きく成ってしまい。このモジュールを内蔵する電子機器の小型化および軽量化を行うのが困難である問題があった。具体的に、前述したモジュールを従来例に示すような構造で実現した場合、そのサイズが、十数センチ四方に成ってしまう問題があった。
【0009】
更に、実装基板PSの両面に回路素子が固着されているので、マザーボード等の基板への接続が困難になる問題があった。
【0010】
本発明は上記した問題を鑑みて成されたものであり、本発明の主な目的は、回路装置の裏面に露出した導電パターンに回路素子やコネクタを実装することにより、モジュールとしての機能を有し且つ小型の回路装置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明の回路装置は、少なくとも1層の導電パターンと、前記導電パターンに固着される第1の回路素子と、前記第1の回路素子および前記導電パターンを被覆して全体を支持する封止樹脂とを具備し、裏面に露出した前記導電パターンにコネクタを接続することを特徴とする。
【0012】
更に、本発明の回路装置は、少なくとも1層の導電パターンと、前記導電パターンに固着される第1の回路素子と、前記第1の回路素子および前記導電パターンを被覆して全体を支持する封止樹脂とを具備し、前記回路装置の裏面に露出した前記導電パターンに固着された第2の回路素子とを具備することを特徴とする。
【0013】
更にまた、本発明の回路装置は、少なくとも二層の導電パターンと、前記最上層の導電パターンとして形成された第1の電極に電気的に接続された第1の回路素子と、前記第1の回路素子および前記導電パターンとを一体で封止した封止樹脂と、最下層の導電パターンとして形成され、裏面に位置する前記封止樹脂面から露出したた第2の電極とから成るパッケージとを有し、前記第2の電極は、コネクタ実装用の電極、第2の回路素子実装用の電極とから成り、それぞれコネクタと第2の回路素子が実装され、最上層から最下層に渡り設けられたスルーホール、配線を介して所望の回路またはシステム回路が実現される事を特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
図1を参照して、本発明の回路装置10の構成を説明する。図1(A)は回路装置10の上面図であり、図1(B)はその断面図である。本発明の回路装置10は、少なくとも1層の導電パターン12A〜Dと、導電パターン12Aに固着される第1の回路素子13と、第1の回路素子13および導電パターン12Aを被覆して全体を支持する封止樹脂16とを具備し、裏面に露出した導電パターン12Dにコネクタを接続する構成となっている。このような構成を以下にて詳述する。
【0015】
図1(B)を参照して、導電パターン12はロウ材の付着性、ボンディング性、メッキ性が考慮されてその材料が選択され、材料としては、Cuを主材料とした導電箔、Alを主材料とした導電箔またはFe−Ni等の合金から成る導電箔等が採用される。ここでは、第1の導電パターン12A、第2の導電パターン12B、第3の導電パターン12Cおよび第4の導電パターン12Dから成る4層の多層配線構造が形成されている。各々の導電パターン12は、接続手段20(コンタクトホールまたはスルーホール)により電気的に接続されている。そして、各々の導電パターン12は、樹脂層21を介して積層されている。
【0016】
上記した多層の導電パターン12の具体的な構造を説明する。第2の導電パターン12Bと第3の導電パターン12Cは、厚さが100μm程度の樹脂層21を介して積層されている。そして、樹脂層21に穿たれた貫通孔に形成されたメッキ膜により、第2の導電パターン12Bと第3の導電パターン12Cとを電気的に接続する接続手段20が形成されている。
【0017】
そして、第2の導電パターン12Bおよび第3の導電パターン12Cは、樹脂層21により被覆される。第2の導電パターン12Bを被覆する樹脂層21に貫通孔を設けて、銅メッキを形成することにより、第1の導電パターン12Aが形成される。また、第3の導電パターン12Cを被覆する樹脂層21に貫通孔を設けて、銅メッキを形成することにより、第4の導電パターン12Dが形成される。そして、第4の導電パターン12Dは、端子18として露出箇所を除いて、樹脂被膜17により被覆される。
【0018】
図1(A)を参照して、端子18は、回路装置10裏面を被覆する樹脂被膜17から露出する第4の導電パターン12Dから成る。ここでは、回路装置10の一側辺に整列した端子18Aは、外部との接続部となる第1のコネクタ15Aと電気的に接続されている。端子18Aと対向する辺に整列する端子18Bは、外部との接続を行う第2のコネクタ18Bと接続されている。また、端子18Cは、他の側辺に沿って設けられ、この端子の使用方法としては色々あるが、例えば、内蔵される半導体素子(特にメモリ、マイコン等)へのデータ書き込み・読み出しの為に使用されても良い。また、端子18Eは、周辺部以外の箇所に設けられ、この端子の使用方法としては、例えば、内部に形成された回路またはシステムの検査用に使用されても良い。
【0019】
第1の回路素子13としては、トランジスタ、ダイオード、ICチップ等の半導体素子、チップコンデンサ、チップ抵抗等の受動素子である。また厚みが厚くはなるが、CSP、BGA等のフェイスダウンの半導体素子も実装できる。更に、インダクタ、サーミスタ等も採用される。そして、第1の回路素子13は、第1の導電パターン12Aに固着されおり、封止樹脂16により被覆されている。ここでは、フェイスアップで実装された第1の回路素子13Aは、金属細線14を介して他の第1の導電パターン12Aと電気的に接続されている。また、第1の回路素子13Bとしては、チップ抵抗やチップコンデンサ等のチップ部品が採用される。第1の回路素子13Bとして採用されるチップ部品は、封止樹脂16の厚みを抑制するために小型のものが採用され、例えば、金属細線19の頂部よりも薄いものが採用される。更に、封止樹脂16よりも薄い素子を回1の回路素子13として採用することにより、回路装置10全体の厚みを薄く形成することができる。
【0020】
第2の回路素子14は、第4の導電パターン12Dの露出面に実装され、上記した第1の回路素子13と同種の素子を採用することができる。第2の回路素子14は、封止樹脂16で被覆されないために、比較的大型の素子を採用することが可能である。具体的には、容量の大きいチップコンデンサや、樹脂封止されたパッケージを第2の回路素子14として採用することができる。このように厚い素子を、第2の回路素子14として回路装置10の裏面に実装することにより、封止樹脂16の厚みを、大型の第2の回路素子14よりも薄くすることができる。
【0021】
封止樹脂16は、回路素子13、金属細線19および導電パターン12を被覆している。封止樹脂16としては、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を採用することができる。更に、本発明の回路装置10は、封止樹脂16により全体が支持されている。即ち、装置の薄型化およびパターンの微細化を実現するために、各導電パターン12の厚さは、50〜70μm以下に薄く形成されており、好適には、10〜30μm程度に形成される。そして、導電パターン12は、封止樹脂16の剛性により全体が支持されている。従って、封止樹脂16により支持されて実装基板として機能する回路装置10の裏面からは、導電パターン12より成る端子18が多数個露出しており、端子18に第2の回路素子14およびコネクタ15が固着されている。また、封止樹脂16から成る回路装置10の下面は、平坦面であるので、接着剤を介して実装基板や筐体内壁に容易に固着することができる。
【0022】
第1のコネクタ15Aは、回路装置10裏面の側辺部付近に実装され、外部との電気的接続を行う働きを有する。第1のコネクタ15Aから導出されるリードが端子18Aに固着することで、第1のコネクタ15Aと端子18Aとの電気的接続が行われる。また、第1のコネクタ15Aの両端には、固着用のリードが導出され、このリードが端子18Dに固着されることで、第1のコネクタ15Aは回路素子10裏面に固着される。
【0023】
第2のコネクタ15Bは、第1のコネクタ15Aに対向する側辺部付近に固着され、多数個の端子18Bとリードを介して電気的に接続されている。他の構成は、上述した第1のコネクタ15Aと同様である。
【0024】
また、上記した第1のコネクタ15Aおよび第2のコネクタ15Bは、回路装置10の側辺部以外の箇所に固着することも可能であり、更に、2個以外の個数のコネクタ15を回路装置10裏面に実装することも可能である。更に、2つのコネクタ15A、15Bを実装する場合に於いて、相対向するする辺以外の辺にコネクタ15を実装することも可能である。
【0025】
ここで、第1のコネクタ15Aおよび第2のコネクタ15Bの具体的な使用例を説明する。第1のコネクタ15Aを他の制御部と電気的に接続し、第2のコネクタ15BをCD−RW等の制御部と接続することで、回路装置10をCD−RWの制御モジュールとして用いることができる。従って、他の制御部から入力される電気信号に基づいて、第2のコネクタ15Bにより、CD−RWの書き込みおよび読み出しの指示を行うことができる。更に、CD−RW等のメディアから読み出された信号が、第1のコネクタ15Aから外部に伝達される。
【0026】
図2を参照して、コネクタ15Aの実装構造に関して説明する。図2(A)は回路装置10の平面図であり、図2(B)は回路装置10を図2(A)に示す矢印の方向から見た側面図である。
【0027】
図2(B)を参照して、第1のコネクタ15Aは、その両端の下部にリード22Aが導出されており、リード22Aが端子18Dに固着されることで、第1のコネクタ15Aは回路装置10の裏面に固着されている。ここで、端子18Dは、上述した第4の導電パターン12Dからなり、電気信号が通過しないダミーの導電パターンである。また、回路装置10の1側辺に整列して露出する各々の端子18Aは、第1のコネクタ15Aがその下面に有するリード22Bと半田等のロウ材を介して電気的に接続される。そして、各々のリード22Bは、第1のコネクタ内部にて引き回され、端子18Fと導通している。端子18Fは、回路装置10の外部入出力端子として機能する。第2のコネクタ15Bの構造は、上述した第1のコネクタと同様である。
【0028】
図3を参照して、第1の導電パターン12Aの構成を説明する。図3(A)は回路装置10の断面図であり、図3(B)は図3(A)のA−A’線に於ける平面図であり、回路装置10が有する第1の導電パターン12Aを示している。
【0029】
図3(B)を参照して、第1の導電パターン12Aは、第1の回路素子13が実装されるパッドと、配線部とを形成している。同図の中央部にて点線で囲まれる領域は、半導体素子である第1の回路素子13Aを示し、アイランド上に形成された第1の導電パターン上にフェイスアップで固着されている。また、回路素子13Aを囲むように、第1の導電パターン12Aによりボンディングパッドが設けられている。そして、第1の導電パターン12Aにより成る配線部により、第1の回路素子13同士や、第1の回路素子13と接続手段20とが接続されている。
【0030】
また、微細な配線部が形成されない箇所には、第1の導電パターン12Aにより、幅広のパターンが形成され、比較的大きな電流が流れる配線として用いされる。具体的には、幅広に形成された第1の導電パターン12Aは、接地電位または電源に接続するパターンとして用いることができる。更に、幅広に形成された第1の導電パターン12Aには、マトリックス状に開口部23が設けられ、開口部23からは樹脂層21が露出している。一般的に、導電パターン12の材料である金属と樹脂との接着力よりも、樹脂同士の接着力の方が大きい。従って、開口部23から樹脂層21を露出させることにより、樹脂層21とそれを被覆する他の樹脂材(例えば封止樹脂16または導電被膜17)とを接着させることができるので、回路装置10の信頼性を向上させることができる。更に、このように幅広の導電パターン12Aに開口部23を設けることにより、導電パターン12Aの側面を露出させて、封止樹脂16等の樹脂と導電パターン12との側面とを接触させることができる。従って、導電パターン12Aと封止樹脂16との接着強度を向上させることができる。
【0031】
また幅広のパターンおよびそこに形成される開口部23は、第2の導電パターン12Bおよび第3の導電パターン12Cにも設けられる。従って、第2の導電パターンおよび第3の導電パターンに開口部23を設けることにより、樹脂層21と導電パターン12との接着強度を向上させることができる。
【0032】
各層の導電パターン12に開口部23を設けることの他のメリットに関して説明する。各層の導電パターン12に適切な割合にて開口部を設けることにより、導電パターン12の残存率を調整することができる。具体的には、第1の導電パターン12Aと第4の導電パターン12Dとを同程度の残存率に調整することで、それらを被覆する樹脂被膜17の厚みを合わせ込むことができる。また、第2の導電パターン12Bおよび第3の導電パターン12Cの残存率を同程度に調整することで、それらを被覆する樹脂層21の厚さを合わせ込むことができる。
【0033】
また、第2の導電パターン12Bおよび第3の導電パターン12Cは、接続手段20を介して電気的に接続され、主に配線部が形成される。
【0034】
図4を参照して、第4の導電パターン12Dの構成を説明する。図4(A)は回路装置10の断面図であり、図4(B)は図4(A)のA−A’線に於ける平面図である。
【0035】
図4(B)を参照して、第4の導電パターン12Dは、第2の回路素子14およびコネクタ15が実装される端子18と配線部を形成している。また各々の端子18は、第4の導電パターン12Dから成る配線部または接続手段を介して、回路装置10内部に構成される電気回路と接続されている。端子18Aおよび端子18Bは、回路措置10の1側辺に沿うように整列して、樹脂被膜17から裏面に露出している。また、端子18Aまたは端子18Bが多数個である場合は、同図に示すように2段以上に配列して整列させても良い。端子18Cは、回路装置10の1側辺に整列され、ここでは、内部の半導体素子にデータを書き込むために使用される。また、端子18Eは、回路装置10裏面の側辺部以外の箇所に形成されている。この端子18Eは、例えば、内部に形成された回路の動作や特性等を確認するために用いることができる。また、上記した端子18は側辺部以外の箇所に設けることも可能であり、整列させずに設けることも可能である。
【0036】
以下に、本発明の特徴をまとめて述べる。
一般に半導体パッケージは、プリント基板等の実装基板に実装するため、パッケージされた外形には、何の素子も実装されない。例えばパッケージの裏面にのみ外部接続用の電極が形成されたもの、一例としてBGAは、裏面の電極が形成された部分に回路素子やコネクタが実装されない。それは半田等の実装材料を介して基板に実装するからである。
【0037】
一方、本装置は、実装基板に固着するモノではなく、それ自体を実装基板として活用する半導体パッケージである。本パッケージは、導電パターンが何層採用されるかによりその厚みが異なるが、全体で約1ミリ以下であり、薄型の板状体である。そのまま裏面に位置する外部接続電極に半田等のロウ材を設ければ、これも薄型のBGAに成る。しかし図1(B)の様に裏面を表にして、実装面として活用し、ここに第2の回路素子14やコネクタ15を接続してモジュールとする。
【0038】
つまり本発明では、以下に列挙する要素により、所望の回路またはシステムが実現されている。
▲1▼モールドされた第1の回路素子13、最上層の導電パターン12Aおよびそれから形成される電極、ランド、ボンディングパッド等、
▲2▼最下層の第4の導電パターン12Dから成る外部接続電極、配線、それに実装される第2の回路素子14
▲3▼最下層および最上層の導電パターン間に設けられた少なくとも一層の配線
▲4▼各導電パターン12間に形成されたスルーホール
▲5▼最下層の外部接続電極に設けられたコネクタ15
厚みが薄く、しかもリードフレームが無い分、その平面的面積も少なく、超小型のパッケージが実現でき、携帯用機器、OA機器の小型化、軽量化が可能となるものである。またコネクタがこれらの機器の実装手段となる。一般に例えば5センチ×5センチ、10センチ×4センチ、厚みが0.5ミリ等の薄型のパッケージは、普通に考えてもその反りが問題となるが、裏面に形成される半田等で実装されるのではなく、コネクタや薄板保持手段等で実装されるため、その反りのまま実装される。よって半田等のクラックを防止することも可能となる。
【0039】
続いて、島状に開口部23が形成された第1の導電パターン12Aについて説明する。以下メッシュパターンと呼ぶ。このメッシュパターンは、本来の趣旨は、図3(A)に示す、第1の導電パターン12A〜第4の導電パターン12Dおよびこれらを一体にする封止樹脂16が全面に渡り実質均一になるために設けられるダミーパターンである。このダミーパターンは、電極自体がアイランド状でも良いが、それぞれにかかる電圧はフローティングとなるため、容量が発生する。またそれぞれをフローティングにせず固定にするには、コンタクト孔が必要となる。このメッシュパターンにし、各層にまたは重畳する下層および上層に設ければ、これらを同電位とするコンタクトホールは少なくとも一箇所ですむ。しかも開口部23を介して上層と下層の樹脂が接合し、パッケージとして密着性が向上する。また図3(B)に示すように、パターンも大きくなり大電流を流す電極としても機能する。更には、各層のメッシュパターンは例えばグランド電位に固定されるため、寄生容量も発生しない。更には、この開口部23のサイズを制御することによりシールド効果も可能となる。
【0040】
【発明の効果】
本発明では、以下に示すような効果を奏することができる。
【0041】
導電パターン12に実装された第1の回路素子13を有する回路装置10の裏面に、外部との接続端子となるコネクタ15を実装することで、回路装置10全体の平面的なサイズを大きくすること無く、コネクタ15を介して外部との電気的接続を容易に行うことができる。
【0042】
更に、半導体素子等の第1の回路素子13を内蔵して、多層に形成された導電パターン12を有する回路素子10の裏面に、第2の回路素子14を実装することで、小型であり且つ複雑な回路構成を有する回路装置を提供することができる。具体的に本発明の回路装置10の平面的なサイズは、約3cm×3cmに形成することが可能である。
【0043】
更にまた、導電パターン12を多層に形成することにより、より複雑な回路を装置内部に構成することができるので、1つのシステムを有するモジュールとしての回路装置10を構成することができる。例えば、CD−WR等のハードウェアを制御する機能を有する回路装置10を構成することができる。
【0044】
更に、回路装置10は、封止樹脂16により全体が指示されており、従来例の実装基板の様な支持基板を不要にして形成されているので、回路装置10は薄型に形成されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の回路装置を説明する平面図(A)、断面図(B)である。
【図2】本発明の回路装置を説明する平面図(A)、断面図(B)である。
【図3】本発明の回路装置を説明する断面図(A)、平面図(B)である。
【図4】本発明の回路装置を説明する断面図(A)、平面図(B)である。
【図5】従来の回路装置を説明する断面図である。
【図6】従来の回路装置を説明する断面図である。
【符号の説明】
10 回路装置
12A〜12D 導電パターン
13 第1の回路素子
14 第2の回路素子
15A、15B コネクタ
16 封止樹脂
Claims (19)
- 少なくとも1層の導電パターンと、前記導電パターンに固着される第1の回路素子と、前記第1の回路素子および前記導電パターンを被覆して全体を支持する封止樹脂とを具備し、
裏面に露出した前記導電パターンにコネクタを接続することを特徴とする回路装置。 - 前記コネクタは、前記回路装置の周辺部に設けられることを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記コネクタは、相対向する側辺に沿って設けられることを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記導電パターンの裏面に、第2の回路素子が実装されることを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記導電パターンは多層に形成され、最上層の前記導電パターンに前記第1の回路素子が実装され、最下層の前記導電パターンに前記コネクタが接続されることを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記第1の回路素子は、トランジスタ、ダイオード、IC、チップコンデンサ、チップ抵抗、樹脂封止パッケージ、インダクタまたはサーミスタであることを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記第2の回路素子は、トランジスタ、ダイオード、IC、チップコンデンサ、チップ抵抗、樹脂封止パッケージ、インダクタまたはサーミスタであることを特徴とする請求項4記載の回路装置。
- 前記導電パターンにより、前記第1の回路素子が固着されるパッドおよび配線部を構成することで回路またはシステムを構成することを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 少なくとも1層の導電パターンと、前記導電パターンに固着される第1の回路素子と、前記第1の回路素子および前記導電パターンを被覆して全体を支持する封止樹脂とを具備し、
前記回路装置の裏面に露出した前記導電パターンに固着された第2の回路素子とを具備することを特徴とする回路装置。 - 前記第1の回路素子は、金属細線で前記導電パターンと電気的に接続される半導体素子およびチップ部品であり、前記チップ部品の厚さは、前記封止樹脂よりも薄いことを特徴とする請求項9記載の回路装置。
- 前記第1の回路素子および前記第2の回路素子は、トランジスタ、ダイオード、IC、チップコンデンサ、チップ抵抗、樹脂封止パッケージ、インダクタまたはサーミスタであることを特徴とする請求項9記載の回路装置。
- 前記回路装置の周辺部には、前記導電パターンと電気的に接続されるコネクタが実装され、前記コネクタに挟まれる領域に前記第2の回路素子が配置されることを特徴とする請求項9記載の回路装置。
- 前記導電パターンは多層に形成され、最上層の前記導電パターンに前記第1の回路素子が実装され、最下層の前記導電パターンに前記第2の回路素子が実装されることを特徴とする請求項9記載の回路装置。
- 前記導電パターンにより、前記第1の回路素子および前記第2の回路素子が固着されるパッドおよび配線部を構成することで回路またはシステムを構成することを特徴とする請求項9記載の回路装置。
- 少なくとも二層の導電パターンと、前記最上層の導電パターンとして形成された第1の電極に電気的に接続された第1の回路素子と、前記第1の回路素子および前記導電パターンとを一体で封止した封止樹脂と、最下層の導電パターンとして形成され、裏面に位置する前記封止樹脂面から露出したた第2の電極とから成るパッケージとを有し、
前記第2の電極は、コネクタ実装用の電極、第2の回路素子実装用の電極とから成り、それぞれコネクタと第2の回路素子が実装され、最上層から最下層に渡り設けられたスルーホール、配線を介して所望の回路またはシステム回路が実現される事を特徴とする回路装置。 - 前記第2の回路素子は、パッケージされた半導体素子、チップコンデンサ、チップ抵抗または電解コンデンサである請求項15に記載の回路装置。
- 少なくとも一層の導電路として、島状の開口部が複数形成された導電パターンが設けられ、前記開口部を介して一方の側の樹脂と他方の側の樹脂が固着される請求項1、請求項9または請求項15に記載の回路装置。
- 前記島状の開口部が形成された導電パターンは、上層または下層に重畳されて形成され、両者は電気的に同電位で固定される事を特徴とした請求項17に記載の回路装置。
- 前記島状に開口部が形成された導電パターンが複数層に渡り空き領域に形成され、この導電パターンを固定する樹脂層と一体で実質全面に渡り均一な膜厚に形成される請求項17に記載の回路装置。
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