JP2004123552A - １，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】入手の容易な原料から、短工程で収率良く、１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物を製造する方法を提供すること。
【解決手段】下記一般式（ＩＩ）で表される化合物と下記一般式（ＩＩＩ）で表される炭酸エステルを塩基存在下で反応させてなる、下記一般式（Ｉ）で表される１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法。
【化１】

【化２】

【化３】

前記式中、Ｒ１は置換もしくは無置換の、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ３は置換もしくは無置換の、アルキル基またはアリール基を表す。Ｘは水素原子または置換基を表す。
【選択図】　　　　なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料に用いるイエローカプラーまたはその中間体として、また色素、医薬品、農薬、電子材料等の合成中間体として有用な１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
２位が置換もしくは無置換のアルキル基もしくはアリール基で３位が置換もしくは無置換のアルキル基である１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物は米国特許第３，８４１，８８０号（特許文献１）に記載のようにハロゲン化銀写真感光材料のイエローカプラーおよびその中間体、あるいは色素、医薬品、農薬、電子材料等の合成中間体として有用である。前記米国特許第３，８４１，８８０号では２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物とβ，β−ジアルコキシアクリル酸エステルを反応させる方法が開示されている。しかしながらこの方法では原料のβ，β−ジアルコキシアクリル酸エステルが高価でありその入手性にも問題があった。またＪ．Ｃｈｉｎ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，４５，８０５（１９９８）（非特許文献１）に記載のように２位（もしくは４位）が水素の１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物をアルキル化する方法も知られているが、この方法では２位アルキル体と４位アルキル体の混合物となる欠点があった。さらに、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，６，１２２（１９６３）（非特許文献２）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５１，１９６７（１９８６）（非特許文献３）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，３９，２０７３（１９８３）（非特許文献４）では２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物とオルトエステル化合物を反応させる方法が開示されている。しかしながらこの反応では原料のオルトエステルが、官能基（例えばアルコキシカルボニル基）を有する場合、合成が困難で収率も低いという問題があった。またＨｕａｘｕｅ　Ｓｈｉｊｉ，２１，２３５（１９９９）（非特許文献５）に記載のように２−アミノベンゼンスルホンアミド化合物をアシル化剤でアシル化した後オキシ塩化リンで環化させる方法は、工程数が長く、またアシル部分に官能基を有する場合には環化工程の収率が低いという問題があった。
【０００３】
【特許文献１】
米国特許第３，８４１，８８０号明細書（特に、２欄２０行〜６欄４８行）
【非特許文献１】
Ｊ．Ｃｈｉｎ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，４５，８０５（１９９８）
【非特許文献２】
Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，６，１２２（１９６３）
【非特許文献３】
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５１，１９６７（１９８６）
【非特許文献４】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，３９，２０７３（１９８３）
【非特許文献５】
Ｈｕａｘｕｅ　Ｓｈｉｊｉ，２１，２３５（１９９９）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、ハロゲン化銀写真感光材料のイエローカプラーまたはその中間体として、また色素、医薬品、農薬、電子材料等の合成中間体として有用な１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物を、入手の容易な原料から、短工程で収率良く製造する方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記の課題は、以下の一般式（Ｉ）で表される１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法によって達成された。
１．下記一般式（ＩＩ）で表される化合物と下記一般式（ＩＩＩ）で表される炭酸エステルを塩基存在下で反応させることを特徴とする、下記一般式（Ｉ）で表される１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法。
【０００６】
【化５】

【０００７】
式中、Ｒ１は置換もしくは無置換の、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ３は置換もしくは無置換の、アルキル基またはアリール基を表す。Ｘは水素原子または置換基を表す。
【０００８】
【化６】

【０００９】
式中、Ｒ１、Ｒ２、ｎ及びＸは一般式（Ｉ）で表される化合物のＲ１、Ｒ２、ｎ及びＸと同義である。
【００１０】
【化７】

【００１１】
式中、Ｒ３は一般式（Ｉ）で表される化合物のＲ３と同義である。
２．前記１項に記載されている塩基が下記一般式（ＩＶ）で表されるアルカリ金属アルコキシドであることを特徴とする、一般式（Ｉ）で表される１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法。
一般式（ＩＶ）
【００１２】
【化８】

【００１３】
式中、Ｍはアルカリ金属を表す。Ｒ３は一般式（Ｉ）で表される化合物のＲ３と同義である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物を詳細に説明する。
【００１５】
【化９】

【００１６】
式中、Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ２で表わされる置換基の例としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基等を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基等を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が挙げられる。複数のＲ２同士が結合して形成する環の例としては、脂環、芳香環またはヘテロ環等が挙げられる。
【００１７】
なお、上述の置換基はさらに置換基で置換されていてもよく、該置換基としては上述の基が挙げられる。
【００１８】
以下にＲ２で表わされる置換基の例を更に説明する。
これらの置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基｛直鎖、分岐もしくは環状の置換もしくは無置換のアルキル基を表わす。アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル、３−（２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル）、シクロアルキル基［好ましくは、炭素数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルが挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基も挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が特に好ましい。］なども包含する。｝、
【００１９】
アルケニル基｛直鎖、分岐もしくは環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表わす。アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基［好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルが挙げられ、多シクロアルケニル基、例えば、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）やトリシクロアルケニル基等の多環構造の基も挙げられる。好ましくは単環のシクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が特に好ましい。］なども包含する。｝、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、
【００２０】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族性もしくは非芳香族性、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子および硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子および硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族性のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、イミダゾール−１−イル、２−チエニル、２−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
【００２１】
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、
【００２２】
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、
【００２３】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基であり、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、Ｎ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ）、モノアシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−（ｎ−オクチルオキシ）フェニルカルボニルアミノ）、ジアシルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基及び／又は炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基を有するジアシルアミノ基、例えば、ホルミルアセチルアミノ、アセチルベンゾイルアミノ、アセチルピバロイルアミノ、ラウロイルプロピオニルアミノ、ベンゾイルピバロイルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、
【００２４】
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−（ｎ−オクチルオキシ）フェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基で、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、
【００２５】
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ、１−メチルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基で、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、
【００２６】
アルキル又はアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル又はアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、炭素数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、
【００２７】
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリール又はヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばＮ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、
【００２８】
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
【００２９】
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の官能基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニルが挙げられる。
【００３０】
一般式（Ｉ）においてＲ１は、置換もしくは無置換の、アルキル基もしくはアリール基を表す。Ｒ１が有しても良い置換基の例としては前記Ｒ２の置換基の例として挙げたものが挙げられる。
【００３１】
好ましくはＲ１は、置換もしくは無置換のアルキル基である。Ｒ１の総炭素数はアルキル基の場合１２以上６０以下が好ましく、１６以上５０以下がより好ましく、１８以上４０以下がさらに好ましい。またアリール基の場合６以上６０以下が好ましく、１６以上５０以下がより好ましく、１８以上４０以下がさらに好ましい。
【００３２】
一般式（Ｉ）において、Ｒ３は置換もしくは無置換の、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ３が有しても良い置換基の例としては前記Ｒ２の置換基の例として挙げたものが挙げられる。
【００３３】
好ましくは、Ｒ３は、置換もしくは無置換のアルキル基である。アルキル基の例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチルなどが含まれる。これらアルキル基が有しても良い置換基の例としては前記Ｒ２の置換基の例として挙げたものが挙げられる。
【００３４】
一般式（Ｉ）において、Ｘは水素原子または置換基を表す。Ｘで表わされる置換基の例としては、前記Ｒ２の置換基の例として挙げたものが挙げられる。
Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環基が好ましく、水素原子、アリールオキシ基、アリールチオ基、ヘテロ環基（好ましくは、結合位が窒素原子であるヘテロ環基で、更に好ましくは該ヘテロ環基が、５員環のヘテロ環基である）が更に好ましい。なお、収率の観点からは、Ｘが水素原子であることが好ましい。
【００３５】
次に本発明の一般式（ＩＩ）で表される化合物を詳細に説明する。
【００３６】
【化１０】

【００３７】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ１、Ｒ２、ｎ及びＸは一般式（Ｉ）において述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様である。
【００３８】
次に本発明の一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を詳細に説明する。
【００３９】
【化１１】

【００４０】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ３は一般式（Ｉ）において述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様である。
【００４１】
次に、本発明では一般式（ＩＩ）で表される化合物と一般式（ＩＩＩ）で表される炭酸エステルを塩基存在下で反応させる。
塩基としては、有機塩基（トリエチルアミン、トリブチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕−５−ノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタン等）、金属水素化物（水素化ナトリウム、水素化カリウム等）、アルカリ金属アルコキシド（ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔ−ブトキシカリウム、ｔ−ブトキシナトリウム等）、金属水酸化物（水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等）、炭酸塩基（炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等）、カルボン酸塩基（酢酸ナトリウム等）等を挙げることができる。
これらのうち、好ましくは、アルカリ金属アルコキシドであり、更に好ましくは、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物である。
【００４２】
【化１２】

【００４３】
一般式（ＩＶ）において、Ｒ３は一般式（Ｉ）において述べたものと同じものを表し、好ましい範囲も同様である。Ｍはアルカリ金属で、好ましくはリチウム、ナトリウム、カリウムで、さらに好ましくはナトリウムである。
【００４４】
本発明で使用する塩基の量は、塩基の種類にもよるが、一般式（ＩＩ）で表される化合物１モルに対して、０．８モル以上（さらに好ましくは０．８〜１０モル）が好ましく、より好ましくは０．８〜５モル、更に好ましくは０．８５〜２モルである。
塩基の使用量は、上記より更に好ましくは０．９０〜１．５モルであり、０．９５〜１．２モルが最も好ましい。
また、塩基は、一般式（ＩＩ）で表される化合物の水素原子を解離させるのに必要である。
【００４５】
本発明において一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお活性メチレン部の水素原子が、活性メチレン部に結合したＣ＝Ｎ部の窒素上に移動した互変異性体も本発明に含まれるものである。
【００４６】
【化１３】

【００４７】
【化１４】

【００４８】
【化１５】

【００４９】
【化１６】

【００５０】
【化１７】

【００５１】
【化１８】

【００５２】
本発明において一般式（ＩＩ）で表される化合物のうち、好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５３】
【化１９】

【００５４】
【化２０】

【００５５】
【化２１】

【００５６】
【化２２】

【００５７】
【化２３】

【００５８】
【化２４】

【００５９】
上記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）で挙げた具体例において、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｐｈはフェニル基（−Ｃ_６Ｈ_５）をそれぞれ表す。
【００６０】
本発明の反応においては、無溶媒で反応を行ってもよいが、好ましくは適当な溶媒に溶解または分散して行ってもよい。本発明の反応に用いることのできる溶媒としては、例えば水、アルコール系溶媒（例えば、メタノール、イソプロパノール）、塩素系溶媒（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム）、芳香族系溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン）、アミド系溶媒（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、　Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド）、ウレイド系溶媒（例えば１，３―ジメチル−２―イミダゾリジノン）、ニトリル系溶媒（例えば、アセトニトリル）、エーテル系溶媒（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン）、スルホン系溶媒（例えば、スルホラン）、スルホキシド系溶媒（例えば、ジメチルスルホキシド）、リン酸アミド系溶媒（例えば、ヘキサメチルホスホリックトリアミド）、炭化水素系溶媒（例えば、ヘキサン、シクロヘキサン）が挙げられる。
【００６１】
これらの溶媒は単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。溶媒の使用量としては、一般式（ＩＩ）で表される化合物の１質量部当たり、好ましくは０．１　〜１０００質量部、より好ましくは０．５〜１００質量部、さらに好ましくは１〜５０質量部の割合で使用される。
【００６２】
一般式（ＩＩ）で表される化合物と一般式（ＩＩＩ）で表される化合物との反応においては、副生するアルコールを留去しながら行うのが好ましい。
本発明において、一般式（ＩＩ）で表される化合物と一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の量比（モル比）に特に制限はないが、好ましくは一般式（ＩＩ）で表される化合物に対して一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を１〜１０倍モルの量で用いる。
【００６３】
本反応の反応温度としては特に制限はないが、通常−５０℃から３００℃の範囲であり、好ましくは−１０℃から２５０℃の範囲であり、さらに好ましくは０℃から２００℃の範囲である。
本発明において、反応圧力に特に制限はなく、通常常圧で行うことができる。
【００６４】
本反応の反応時間としては特に制限はないが、通常１分から１００時間の範囲であり、好ましくは１０分から５０時間の範囲であり、さらに好ましくは３０分から１０時間の範囲である。
本発明方法で得られる化合物は、例えば例示化合物（Ｉ−１１）〜（Ｉ−１５）などのように一般式（Ｉ）の基Ｘがカップリング離脱基である場合は、この化合物自体が色素形成カプラーであり、特にハロゲン化銀写真感光材料のイエローカプラーである。あるいは、一般式（Ｉ）の基Ｘが水素原子である場合は、例えば置換反応によりこの水素原子の位置にカップリング離脱基を導入し、該化合物をイエローカプラー等の色素形成カプラーに誘導することができる。
【００６５】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６６】
（実施例）　例示化合物（Ｉ−９）の合成
化合物（ＩＩ−９）２．３５ｇ（５．０ｍｍｏｌ）、炭酸ジメチル０．９０ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、キシレン１０ｍＬの混合溶液にナトリウムメトキシド０．２７ｇ（５．０ｍｍｏｌ）を加え、外温１００℃で副生するメタノールを留去しながら３時間加熱した。このとき、化合物（Ｉ−９）はＨＰＬＣ面積％（検出波長：２５４ｎｍ）で１８％に達した。放冷後、酢酸エチル、水を加えて分液し、有機層を希塩酸水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液　ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）により、０．２７ｇの例示化合物（Ｉ−９）を得た。収率５０％。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ）δ：１１．７２（ｓ、１Ｈ）、７．８０（ｄ、１Ｈ）、７．６１（ｄｄ、１Ｈ）、７．１５（ｍ、２Ｈ）、７．０５（ｍ、２Ｈ）、６．７１（ｄ、１Ｈ）、４．７８（ｓ、１Ｈ）、４．１５（ｔ、２Ｈ）、４．１０（ｔ、２Ｈ）、３．７２（ｓ、３Ｈ）、２．２７（ｔｔ、２Ｈ）、１．８８（ｑ、２Ｈ）、１．６５（ｑ、２Ｈ）、１．４０（ｓ、６Ｈ）、１．３０（ｓ、６Ｈ）、０．６７（ｔ、３Ｈ）、０．６３（ｔ、３Ｈ）（エナミンフォーム）
【００６７】
（参考例）中間体の例示化合物（ＩＩ−９）の合成
対応する２−アミノベンゼンスルホンアミド体８９．３ｇと酢酸１２．０ｇを、オルト酢酸トリメチル７６．４ｍＬ中で、副生するメタノールを留去しながら還流下５時間加熱撹拌した。放冷後、ヘキサンを加えて再結晶操作を行い、例示化合物（ＩＩ−９）を白色結晶で得た。（８０．５％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ）δ：７．９０（ｄ、１Ｈ）、７．６８（ｄｄ、１Ｈ）、７．５５（ｄ、１Ｈ）、７．４８（ｄｄ、１Ｈ）、７．２０（ｓ、１Ｈ），７．１８（ｄ、１Ｈ）、６．７２（ｄ、１Ｈ）、４．１４（ｔ、２Ｈ），４．０５（ｔ、２Ｈ）、２．５５（ｓ、３Ｈ）、２．３５（ｔｔ、２Ｈ）、１．８８（ｑ、２Ｈ）、１．６５（ｑ、２Ｈ）、１．４５（ｓ、６Ｈ）、１．２５（ｓ、６Ｈ）、０．６７（ｔ、３Ｈ）、０．６３（ｔ、３Ｈ）
【００６８】
【発明の効果】
本発明によれば、入手の容易な原料から、短工程で収率良く、１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物を製造する方法を提供できる。

Claims (2)

1. 下記一般式（ＩＩ）で表される化合物と下記一般式（ＩＩＩ）で表される炭酸エステルを塩基存在下で反応させることを特徴とする、下記一般式（Ｉ）で表される１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法。
   

   

   式中、Ｒ１は置換もしくは無置換の、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２は置換基を表す。ｎは０以上４以下の整数を表す。ｎが２以上のとき複数のＲ２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ３は置換もしくは無置換の、アルキル基またはアリール基を表す。Ｘは水素原子または置換基を表す。
   

   

   式中、Ｒ１、Ｒ２、ｎ及びＸは一般式（Ｉ）で表される化合物のＲ１、Ｒ２、ｎ及びＸと同義である。
   

   

   式中、Ｒ３は一般式（Ｉ）で表される化合物のＲ３と同義である。
2. 請求項１に記載されている塩基が下記一般式（ＩＶ）で表されるアルカリ金属アルコキシドであることを特徴とする、一般式（Ｉ）で表される１，２，４−チアジアジン−１，１−ジオキシド化合物の製造方法。
   一般式（ＩＶ）
   

   

   式中、Ｍはアルカリ金属を表す。Ｒ３は一般式（Ｉ）で表される化合物のＲ３と同義である。