JP2002105075A - 縮環系含窒素ヘテロ環化合物及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 ハロゲン化銀写真感光材料に用いられる写真
用有用性化合物や、医薬品，農薬など、あるいはその合
成中間体として有用な、２位がアリール基またはヘテロ
環基である１，２，４−トリアゾール−３−オン系化合
物で４、５位で含窒素５〜６員環ヘテロ環の縮環した化
合物およびその製造方法の提供。 【解決手段】 一般式（II）で表される化合物を炭酸誘
導体と反応させ閉環反応させ、一般式Ｉで表される縮環
系含窒素ヘテロ環化合物を得る。 一般式ＩおよびII中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の
含窒素ヘテロ環を形成する炭素原子および／または窒素
原子からなる原子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０
または１から４の整数を表す。Ｘはアリール基またはヘ
テロ環基を表す。一般式II中、Ｙ１およびＹ２は独立に
水素原子または−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ３基を表す。Ｙ３はハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ
基、水酸基またはヘテロ環基を表す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料に用いられる写真用有用性化合物や、医薬品あ
るいは農薬など、あるいはその合成中間体として有用な
化合物である縮環系含窒素ヘテロ環化合物及びその製造
方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に縮環系含窒素ヘテロ環化合物は多
くのものが知られており、ハロゲン化銀写真感光材料に
用いられる写真用有用性化合物や、医薬品あるいは農薬
など、あるいはその合成中間体として用いられている。
その中で、４、５位で含窒素５〜６員環ヘテロ環の縮環
した１、２、４−トリアゾール−３−オン系化合物とし
てはこれまで、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐ
ｎ．，６１，１３３９（１９８８）、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，５８，７３５（１９８５）、Ｐ
ｈａｒｍａｚｉｅ，４６，２４９（１９９１）、Ｊ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１，２６
６７（１９８７）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．Ｍｉｎｉｐ
ｒｉｎｔ，１２，３８６１（１９８５）などの文献に記
載がある。しかしながらこれらに記載されている化合物
はすべて２位が水素原子かあるいはアルキル基であり、
２位がアリール基またはヘテロ環基である１、２、４−
トリアゾール−３−オン系化合物で４、５位で含窒素５
〜６員環ヘテロ環の縮環した化合物は全く知られておら
ず、したがってその合成法も提案されていなかった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、２位がアリール基またはヘテロ環基である１、
２、４−トリアゾール−３−オン系化合物で４、５位で
含窒素５〜６員環ヘテロ環の縮環した化合物およびその
製造法を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、以下のような閉環反応を利用することにより前
記課題が解決され、目的の新規化合物を提供しうること
を見い出した。

【０００５】（１）下記一般式（II）で表される化合物
を用いることを特徴とする、下記一般式（Ｉ）で表され
る縮環系含窒素ヘテロ環化合物の製造方法。

【０００６】

【化７】

【０００７】式中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の含
窒素ヘテロ環を形成する炭素原子および／または窒素原
子からなる原子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０ま
たは１から４の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場
合、複数のＲは互いに同じであっても異なっていてもよ
く、またこれらが互いに結合して、縮環していてもよ
い。Ｘはアリール基またはヘテロ環基を表す。

【０００８】

【化８】

【０００９】式中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の含
窒素ヘテロ環を形成する炭素原子および／または窒素原
子からなる原子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０ま
たは１から４の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場
合、複数のＲは互いに同じであっても異なっていてもよ
く、またこれらが互いに結合して、縮環していてもよ
い。Ｘはアリール基またはヘテロ環基を表す。Ｙ１およ
びＹ２は独立に水素原子または−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ３基を
表す。Ｙ３はハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミノ基、水酸基またはヘテロ環基を表す。 （２）前記一般式（Ｉ）で表される化合物においてＸが
アリール基であることを特徴とする（１）項に記載の縮
環系含窒素ヘテロ環化合物の製造方法。 （３）前記一般式（II）で表される化合物においてＹ１
およびＹ２がともに水素原子であることを特徴とする
（１）項に記載の縮環系含窒素ヘテロ環化合物の製造方
法。 （４）前記一般式（Ｉ）で表される化合物が下記一般式
（III）、（IV）、（Ｖ）、（VI）、（VII）、（VIII）
または（IX）で表されることを特徴とする（１）項に記
載の縮環系含窒素ヘテロ環化合物の製造方法。

【００１０】

【化９】

【００１１】式中、Ｒは置換基を表す。ｍは０または１
から４の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場合、複
数のＲは互いに同じであっても異なっていてもよく、ま
たこれらが互いに結合して、縮環していてもよい。Ｘは
アリール基またはヘテロ環基を表す。 （５）下記一般式（II）で表わされる化合物が下記一般
式（Ｘ）で表される化合物のハイドロサルファイトナト
リウムを用いた還元により得られることを特徴とする
（１）項記載の縮環系含窒素ヘテロ環化合物の製造方
法。

【００１２】

【化１０】

【００１３】式中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の含
窒素ヘテロ環を形成する炭素原子および／または窒素原
子からなる原子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０ま
たは１から４の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場
合、複数のＲは互いに同じであっても異なっていてもよ
く、またこれらが互いに結合して、縮環していてもよ
い。Ｘはアリール基またはヘテロ環基を表す。Ｙ１およ
びＹ２は独立に水素原子または−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ３基を
表す。Ｙ３はハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミノ基、水酸基またはヘテロ環基を表す。

【００１４】

【化１１】

【００１５】式中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の含
窒素ヘテロ環を形成する炭素原子および／または窒素原
子からなる原子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０ま
たは１から４の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場
合、複数のＲは互いに同じであっても異なっていてもよ
く、またこれらが互いに結合して、縮環していてもよ
い。Ｘはアリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｙ１は
水素原子または−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ３基を表す。Ｙ３はハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ
基、水酸基またはヘテロ環基を表す。 （６）下記一般式（Ｉ）で表される縮環系含窒素ヘテロ
環化合物。

【００１６】

【化１２】

【００１７】式中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の含
窒素ヘテロ環を形成する炭素原子および／または窒素原
子からなる原子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０ま
たは１から４の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場
合、複数のＲは互いに同じであっても異なっていてもよ
く、またこれらが互いに結合して、縮環していてもよ
い。Ｘはアリール基またはヘテロ環基を表す。 （７）前記一般式（Ｉ）で表される化合物においてＸが
アリール基であることを特徴とする（６）項に記載の縮
環系含窒素ヘテロ環化合物。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の下記一般式
（Ｉ）で表される化合物について詳しく述べる。

【００１９】

【化１３】

【００２０】式中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の含
窒素ヘテロ環を形成する炭素原子および／または窒素原
子からなる原子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０ま
たは１から４の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場
合、複数のＲは互いに同じであっても異なっていてもよ
く、またこれらが互いに結合して、縮環していてもよ
い。Ｘはアリール基またはヘテロ環基を表す。

【００２１】上記一般式（Ｉ）において、ＺおよびＮ−
Ｃにより形成される５〜６員環の含窒素ヘテロ環の例と
しては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、
１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾー
ル環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピ
リミジン環、ピラジン環、インドール環、イソインドー
ル環、ベンズイミダゾール環、キノリン環、イソキノリ
ン環などが挙げられる。なお、「ＺはＮ−Ｃとともに５
〜６員環の含窒素ヘテロ環を形成する炭素原子および／
または窒素原子からなる原子群を表す」、との表現は、
該原子群の環骨格の構成原子を意味しており、この原子
に置換する水素原子も含まれる。

【００２２】また上記一般式（Ｉ）において、Ｒは、ハ
ロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール
基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ
基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（ア
ルキルアミノ基、アリールアミノ基、またはヘテロ環ア
ミノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルア
ミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキ
シカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アル
キル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、ス
ルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスル
フィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシ
ル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ
基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフ
ィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例
として挙げられる。

【００２３】Ｒは、好ましくはアルキル基、アルケニル
基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバ
モイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、スルホニ
ル基、ハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基であ
る。Ｒが複数存在する場合（ｍが２〜４のいずれかの場
合）、それらは互いに同じ置換基であっても異なった置
換基であってもよく、更に、これらが互いに結合して環
を形成してもよい。２以上のＲが互いに結合して環を形
成する場合、該環は５〜６員の飽和または不飽和環であ
るのが好ましく、ＺとＮ−Ｃで形成する環に縮合する環
となる。なお、Ｒで表される上述の置換基は、さらに置
換基で置換されていてもよく、該置換基としては上述の
基が挙げられる。

【００２４】上記一般式（Ｉ）において、Ｘはアリール
基またはヘテロ環基を表す。これらの基はさらに置換基
で置換されていてもよく、該置換基としては、前記のＲ
で挙げた置換基が挙げられ、Ｒの好ましい置換基が好ま
しい。Ｘは好ましくは、アリール基である。

【００２５】以下に本発明の化合物についてさらに詳し
く述べる。上記一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、
好ましい化合物は、下記一般式（III）、（IV）、
（Ｖ）、（VI）、（VII）、（VIII）および（IX）で表
される。

【００２６】

【化１４】

【００２７】上記一般式（III）、（IV）、（Ｖ）、（V
I）、（VII）、（VIII）および（IX）中、ＸおよびＲは
いずれも一般式（Ｉ）で規定したものと同じものを表
す。またｍは０または１〜３の整数を表す。ｍは好まし
くは１〜３の整数である。ここで、一般式（Ｉ）中のＲ
が置換基である場合の例としては、更に詳しくは、ハロ
ゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子）、アルキル基（直鎖または分岐の置換もしくは無置
換のアルキル基で好ましくは炭素数１から３０のアルキ
ル基であり、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イ
ソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、
２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキ
シル）、シクロアルキル基〔好ましくは、炭素数３から
３０の置換または無置換のシクロアルキル基で、例え
ば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシ
ルシクロヘキシルが挙げられ、多シクロアルキル基、例
えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から
３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、例え
ば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシ
クロ［２，２，２］オクタン−３−イル）やトリシクロ
アルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは
単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、
単環のシクロアルキル基が特に好ましい。〕、

【００２８】アルケニル基（直鎖または分岐の置換もし
くは無置換のアルケニル基で好ましくは炭素数２から３
０の置換または無置換のアルケニル基であり、例えば、
ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シ
クロアルケニル基〔好ましくは、炭素数３から３０の置
換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２
−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１
−イルが挙げられ、多シクロアルケニル基、例えば、ビ
シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５から３０の
置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例え
ば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イ
ル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イ
ル）］やトリシクロアルケニル基等の多環構造の基が挙
げられる。好ましくは単環のシクロアルケニル基、ビシ
クロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が
特に好ましい。〕、アルキニル基（好ましくは、炭素数
２から３０の置換または無置換のアルキニル基、例え
ば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニ
ル基、

【００２９】アリール基（好ましくは炭素数６から３０
の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、
ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキ
サデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましく
は５または６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしく
は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り
除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から
３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例
えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、
２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、
ニトロ基、カルボキシル基、

【００３０】アルコキシ基（好ましくは、炭素数１から
３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メ
トキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ
−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリール
オキシ基（好ましくは、炭素数６から３０の置換もしく
は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２
−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−
ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノ
キシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３から２
０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキ
シ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキ
シ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無
置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−
５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、

【００３１】アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキ
シ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキ
ルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしく
は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホル
ミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステ
アロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェ
ニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ま
しくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカル
バモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モ
ルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチル
アミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイ
ルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましく
は、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシ
カルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキ
シ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニ
ルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリール
オキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７から
３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル
オキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−
メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサ
デシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、

【００３２】アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数
１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、
炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、
例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニ
リノ、N-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシ
ルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１
から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルア
ミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリ
ールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、ア
セチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、
ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオ
キシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルア
ミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは
無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイ
ルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノ
カルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基
（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換ア
ルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボ
ニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシ
カルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル
アミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ）、

【００３３】アリールオキシカルボニルアミノ基（好ま
しくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリ
ールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカ
ルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミ
ノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミ
ノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０
から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ
基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスル
ホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミ
ノ基（好ましくは炭素数１から３０の置換もしくは無置
換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６から３０の置
換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例え
ば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミ
ノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロ
ロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスル
ホニルアミノ）、メルカプト基、

【００３４】アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１か
ら３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えば
メチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、ア
リールチオ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もし
くは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ
−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、
ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２から３０の置換ま
たは無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチア
ゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチ
オ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０から３０
の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ
−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプ
ロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモ
イル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルス
ルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）ス
ルファモイル）、スルホ基、

【００３５】アルキル及びアリールスルフィニル基（好
ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアル
キルスルフィニル基、６から３０の置換または無置換の
アリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニ
ル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−
メチルフェニルスルフィニル）、アルキル及びアリール
スルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換ま
たは無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換
または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチル
スルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、
ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましく
はホルミル基、炭素数２から３０の置換または無置換の
アルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換もしく
は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル、
ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベン
ゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニ
ル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素
数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカ
ルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロ
ロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボ
ニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、

【００３６】アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭
素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボ
ニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキ
シカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数
１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例え
ば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−
ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカル
バモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、
アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６から
３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３
から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例え
ば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチ
ルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルア
ゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ
−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数
２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例え
ば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチ
ルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましく
は、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィ
ニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホス
フィニル、ジエトキシホスフィニル）、

【００３７】ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素
数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキ
シ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオ
クチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミ
ノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無
置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホス
フィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミ
ノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換
もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリ
ル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリ
ル）を表わす。

【００３８】上記の官能基の中で、水素原子を有するも
のは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても
良い。そのような官能基の例としては、アルキルカルボ
ニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノス
ルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、
アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具
体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メ
チルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルア
ミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基等が挙
げられる。

【００３９】なお、Ｘにおけるアリール基、ヘテロ環基
は上述の置換基で説明したアリール基、ヘテロ環基と同
じ意味で使用する。本発明において一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物のうち、好ましい具体例を以下に示すが、本
発明はこれらに限定されるものではない。なお本発明に
おいてはこれらの化合物とともに、その互変異性体も含
まれる。

【００４０】

【化１５】

【００４１】

【化１６】

【００４２】

【化１７】

【００４３】

【化１８】

【００４４】

【化１９】

【００４５】

【化２０】

【００４６】なお、以降の説明において、以上に示され
た例示化合物の化合物を引用する場合、それぞれの例示
化合物に付された括弧書きの番号（ｘ）を用いて、「化
合物（ｘ）」と表示することとする。

【００４７】次に、本発明に用いられる下記一般式（I
I）で表される化合物について詳しく述べる。

【００４８】

【化２１】

【００４９】上記一般式（II）中、Ｚ、ＸおよびＲはい
ずれも一般式（Ｉ）で規定したものと同じものを表し、
好ましい範囲も同じである。ｍは０または１〜４の整数
を表す。Ｙ１およびＹ２は独立に水素原子または−（Ｃ
＝Ｏ）−Ｙ３基を表す。Ｙ３はハロゲン原子（例えば、
塩素原子、臭素原子）、アルコキシ基（例えばメトキ
シ、エトキシ）、アリールオキシ基（例えばフェノキ
シ、ｐ−ニトロフェノキシ）、アミノ基（例えば、アミ
ノ、ジメチルアミノ、アニリノ）、ヒドロキシル基、ヘ
テロ環基（例えば、イミダゾール、ベンゾイミダゾー
ル）を表す。これらの基はさらに置換基を有していても
よく、この置換基の例としては前記Ｒの例として挙げた
置換基が挙げられる。好ましくはＹ１、Ｙ２の両方が水
素原子であるか、またはいずれか一方が水素原子で、他
方が−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ３基であるものであり、特に好ま
しくはＹ１、Ｙ２の両方が水素原子のものである。Ｙ３
で好ましいものはハロゲン原子、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ヘテロ環基であり、さらに好ましくは、ハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基である。
一般式（II）で表される化合物はＹ１とＹ２がともに水
素原子の場合、化合物例を例示するまでもなく明らかで
ある。すなわち、一般式（Ｉ）における（１）は以下の
（１Ａ）である。同様に、（２）〜（３９）に対応する
化合物は（２Ａ）〜（３９Ａ）である。従って、以下に
は、Ｙ１とＹ２がともに水素原子でない場合の例示化合
物を示す。

【００５０】

【化２２】

【００５１】本発明において、一般式（II）で表される
化合物においてＹ１およびＹ２が両方水素原子である場
合を例に、これを炭酸誘導体と反応させ、一般式（Ｉ）
で表される化合物を合成する反応を反応式で示すと次式
に従っているものと考えられる。

【００５２】

【化２３】

【００５３】なお、ここで、Ｙ４はＹ３と同じ意味を表
す。またＢａｓｅは塩基を表す。ここで用いられる炭酸
誘導体としては、ホスゲン、ホスゲンダイマー、トリホ
スゲン、クロロ炭酸エステル（例えばクロロ炭酸メチ
ル、クロロ炭酸フェニル等）等の化合物が挙げられる。
ここで用いる炭酸誘導体と一般式（II）で表される化合
物とは一般に１００：１〜１：１００のモル比で使用さ
れ、好ましくは１０：１〜１：１０のモル比で使用さ
れ、さらに好ましくは５：１〜１：５のモル比で使用さ
れ、特に好ましくは２：１〜１：２のモル比で使用され
る。

【００５４】好ましくは一般式（II）で表される化合物
と炭酸誘導体とを反応させる時に、塩基が使用される。
本発明において使用される塩基としては、無機化合物の
塩基でもよいし、有機化合物の塩基でもよい。例えば水
酸化化合物（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化テトラブチルアンモニウム）、水素化化合物
（例えば、水素化ナトリウム）、炭酸化合物（例えば、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、重炭酸化合物（例え
ば、重炭酸ナトリウム）、アミン類（例えばアンモニ
ア、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン）
アニリン類（例えば、アニリン、ジメチルアニリン）、
芳香族ヘテロ環類（例えば、ピリジン、ピコリン、イミ
ダゾール）、含窒素ヘテロ環類（例えば、１、８−ジア
ザビシクロ−［５，４，０］−７−ウンデセン）、酢酸
化合物（例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム）、有
機化合物の金属塩（例えばナトリウムメトキシド、ｔ−
ブトキシカリウム）などが挙げられる。これら塩基は単
独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよ
い。塩基の使用量としては、一般式（II）で表される化
合物の１モル当たり、好ましくは０．０１〜１００モ
ル、より好ましくは０．１〜５０モル、さらに好ましく
は０．２〜２０モル、特に好ましくは０．５〜１０モル
の割合で使用される。

【００５５】本発明の反応においては、無溶媒で反応を
行ってもよいが、好ましくは適当な溶媒に溶解または分
散して行ってもよい。本発明の反応に用いることのでき
る溶媒としては、例えば水、アルコール系溶媒（例え
ば、メタノール、イソプロパノール）、塩素系溶媒（例
えばジクロロメタン、クロロホルム）、芳香族系溶媒
（例えば、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン）、ア
ミド系溶媒（例えば、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、
Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド）、ウレイド系溶媒（例
えば１、３−ジメチル−２−イミダゾリジノン）、ニト
リル系溶媒（例えば、アセトニトリル）、エーテル系溶
媒（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン）、スルホン系溶媒（例えば、スルホラン）、スルホ
キシド系溶媒（例えば、ジメチルスルホキシド）、リン
酸アミド系溶媒（例えば、ヘキサメチルホスホリックト
リアミド）、炭化水素系溶媒（例えば、ヘキサン、シク
ロヘキサン）が挙げられる。これらの溶媒は単独で用い
てもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。溶媒の
使用量としては、一般式（II）で表される化合物の１質
量部（重量部）当たり、好ましくは０．１〜１０００質
量部（重量部）、より好ましくは０．５〜１００質量部
（重量部）、さらに好ましくは１〜５０質量部（重量
部）の割合で使用される。この反応の反応温度としては
特に制限はないが、−５０℃から２００℃の範囲で実施
することが可能であり、好ましくは−１０℃から１００
℃の範囲で実施でき、さらに好ましくは０℃から５０℃
の範囲で実施できる。この反応の反応時間としては特に
制限はないが、１分から２４０時間の範囲で実施するこ
とが可能であり、好ましくは１０分から１０時間の範囲
で実施でき、さらに好ましくは３０分から５時間の範囲
で実施できる。

【００５６】本発明においては一般式（II）で表される
化合物でＹ１およびＹ２が同時に水素原子のものを原料
とし、前記の炭酸化合物と反応させて、一旦できる中間
体を単離し、あるいは抽出、濃縮等の操作により反応混
合物を得て、さらに、この中間体あるいは反応混合物を
別の条件で反応させて一般式（Ｉ）で表される化合物を
合成してもよい。ここで言う中間体としては、たとえば
一般式（II）で表される化合物で、Ｙ１もしくはＹ２が
前述の−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ３基であるものを指す。この一
般式（II）で表される化合物でＹ１もしくはＹ２が−
（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ３基の場合の反応を反応式で示すと次式
に従っているものと考えられる。

【００５７】

【化２４】

【００５８】ここで、Ｂａｓｅは塩基であり、Ｙ４は前
記と同じ意味をもつ。この時、第１ステップ、第２ステ
ップとも、前記の塩基、溶媒を使用することができ、ま
た反応温度、反応時間等も前記と同様である。

【００５９】本発明の製造方法における合成反応におい
て用いられる一般式（II）で表される化合物（ただしＹ
２は水素原子であるもの）は、好ましくは一般式（Ｘ）
で表される化合物を還元することにより合成される。こ
の時、還元剤としてはハイドロサルファイトナトリウム
を用いることが好ましい。

【００６０】

【化２５】

【００６１】上記一般式（Ｘ）中、Ｚ、Ｘ、Ｙ１および
Ｒはいずれも一般式（Ｉ）および一般式（II）で規定し
たものと同じものを表し、好ましい範囲も同じである。
ｍは０または１〜４の整数を表す。好ましくはＹ１は水
素原子である。

【００６２】以下に、ハイドロサルファイトナトリウム
による一般式（Ｘ）の還元方法に関して説明する。ここ
で用いるハイドロサルファイトと一般式（Ｘ）で表され
る化合物とは、一般に１００：１〜５：１のモル比で使
用され、好ましくは５０：１〜２：１のモル比で使用さ
れ、さらに好ましくは２０：１〜１：１のモル比で使用
される。

【００６３】一般式（Ｘ）で表される化合物とハイドロ
サルファイトとを反応させる時に、塩基を使用せずに反
応を行ってもよいが、塩基を使用するのが好ましい。本
反応において使用される塩基としては、無機の塩基でも
よいし、有機の塩基でもよい。これらの塩基としては、
例えば前述の一般式（II）と炭酸誘導体の反応の項で例
示した塩基が挙げられる。上記塩基は単独で用いてもよ
いし、２種以上を混合して用いてもよい。塩基の使用量
としては、一般式（Ｘ）で表される化合物の１モル当た
り、好ましくは０．０１〜１００モル、より好ましくは
０．１〜５０モル、さらに好ましくは０．２〜２０モ
ル、特に好ましくは０．５〜１０モルの割合で使用され
る。

【００６４】本発明の反応においては、無溶媒で反応を
行ってもよいが、好ましくは適当な溶媒に溶解または分
散して行う。本反応に用いることのできる溶媒として
は、例えば前述の一般式（II）と炭酸誘導体の反応にお
いて例示したものが挙げられる。これら溶媒は単独で用
いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。好ま
しくは有機溶媒と水を混合した２層系もしくは均一系の
溶媒中で反応を行う。溶媒の使用量としては一般式
（Ｘ）で表される化合物の１質量部（重量部）当たり、
好ましくは０．１〜１０００質量部（重量部）、より好
ましくは０．５〜１００質量部（重量部）、さらに好ま
しくは１〜５０質量部（重量部）の割合で使用される。
本反応の反応温度としては特に制限はないが、−５０℃
〜２００℃の範囲で行うのが好ましく、より好ましくは
−１０℃〜１００℃、さらに好ましくは０℃〜５０℃の
範囲で行う。本反応の反応時間としては特に制限はない
が、１分〜２４０時間の範囲で行うのが好ましく、より
好ましくは１０分〜１０時間、さらに好ましくは３０分
〜５時間の範囲で行う。

【００６５】一般式（Ｘ）で表される化合物は既知の種
々の方法で合成でき、例えばＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，
２９，３１１９（１９６４）に記載のように、芳香族化
合物のジアゾニウム塩をイミダゾールなどのヘテロ環と
反応させる方法、あるいはＪ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．Ｍｉ
ｎｉｐｒｉｎｔ，５，２４７６（１９８０）に記載のよ
うにトリアゾールなどのヘテロ環化合物のジアゾニウム
塩と、フェノール類、フェニルエーテル類、アニリン類
あるいはアシルアニリド類などの芳香族化合物と反応さ
せる方法等によって合成することができる。

【００６６】

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１：例示化合物（３９）の合成 例示化合物（３９）は下記に示すルートにより合成する
ことができる。

【００６７】

【化２６】

【００６８】濃硫酸４４ｍｌに水冷下、亜硝酸ナトリウ
ム６．１ｇを２０分かけて添加し、１０分間攪拌した。
７０℃まで加熱して完全に亜硝酸ナトリウムを溶解させ
た後、氷冷した。この溶液を、３−アミノ−５−フェニ
ル−１，２，４−トリアゾール１２．８ｇを酢酸１４０
ｍｌに溶解した溶液に、氷冷下２０分かけて滴下し、氷
冷下３０分間攪拌して化合物（Ａ）の溶液を調整した。
３，５−ジメチルアニソール１０．９ｇをメタノール２
００ｍｌに溶解し、この溶液に先に調整した化合物
（Ａ）の溶液を、氷冷下、攪拌しながら３０分かけて添
加した。氷冷下３０分攪拌して反応した後、水および酢
酸エチルを加えて抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧留去し、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒から晶析して
１５．５ｇの化合物（Ｂ）を得た。次いで、１３．８ｇ
の化合物（Ｂ)および炭酸カリウム６．３ｇをテトラヒ
ドロフラン（ＴＨＦ）３００ｍｌ、ＥｔＯＨ２００ｍ
ｌ、および水３００ｍｌの混合溶媒に溶解し、室温に
て、ハイドロサルファイトナトリウム１５．７ｇを添加
した。室温にて１０分間攪拌した後、さらにハイドロサ
ルファイトナトリウム１５．７ｇを添加した。室温にて
１５分間攪拌した後、さらにハイドロサルファイトナト
リウム１５．７ｇ、および炭酸カリウム０．６ｇを添加
した。室温にて３０分間反応させた後、溶媒を減圧で留
去し、酢酸エチル、ヘキサン、水を加えて攪拌し、析出
した結晶を濾別して１１．６ｇの化合物（Ｃ）を得た。
次いで、９．３ｇの化合物（Ｃ）をジメチルアセトアミ
ド（DMAC）３００ｍｌ、およびＴＨＦ３００ｍｌの混合
溶媒に溶解し、これにトリホスゲン４．２ｇをＴＨＦ１
００ｍｌに溶解した溶液を氷冷下、１３分かけて添加し
た。氷冷下３０分間反応した後、水および酢酸エチルを
加えて抽出し、有機層を希塩酸水および飽和食塩水にて
洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を減圧留去し、残査をカラムクロマトグラフィーで精
製した後、ＤＭＡＣ、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒か
ら晶析して例示化合物（３９）を０．７１ｇ得た。

【００６９】以下にプロトンＮＭＲのデータを示す。¹ Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ１３．
１４（ｓ，１Ｈ）、８．１０〜７．９５（ｍ，２Ｈ）、
７．７０〜７．５５（ｍ，３Ｈ）、６．７５（ｓ，２
Ｈ）、３．８０（ｓ，３Ｈ）、２．１０（ｓ，６Ｈ）

【００７０】実施例２：例示化合物（１５）の合成 例示化合物（１５）は、実施例１と同様にして、実施例
１において用いた３、５−ジメチルアニソールの替わり
に３−メチルアニソールを用いた以外は実施例１と全く
同様にして合成を行い、例示化合物（１５）を収率１１
％で得た。以下にプロトンＮＭＲのデータを示す。¹ Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ１３．
４５（ｓ，１Ｈ）、８．１０〜７．９５（ｍ，２Ｈ）、
７．７０〜７．５５（ｍ，３Ｈ）、７．８０（ｄ，２
Ｈ）、７．００〜６．８０（ｍ，２Ｈ）、３．８０
（ｓ，３Ｈ）、２．２０（ｓ，３Ｈ）

【００７１】実施例３：例示化合物（１８）の合成 例示化合物（１８）は、以下に示すルートにより合成す
ることができる。

【００７２】

【化２７】

【００７３】２，４，５−トリクロロアニリン９．８ｇ
を濃塩酸１３ｍｌと氷水３９ｍｌの混合溶液に溶解し、
氷冷下、亜硝酸ナトリウム３．８ｇを水１９ｍｌに溶解
した溶液を滴下し、氷冷下１時間攪拌して化合物（Ｄ）
の溶液を調製した。４，５−ジフェニルイミダゾール
９．９ｇをメタノール３００ｍｌに溶解し、水酸化ナト
リウム８．４ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を添加し
た。この溶液に先に調整した化合物（Ｄ）の溶液を、氷
冷下、攪拌しながら３０分かけて添加した。氷冷下３０
分間攪拌した後、塩酸水を加えて中和し、酢酸エチルを
加えて抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、
ＴＨＦ、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒から晶析して１
３．０ｇの化合物（Ｅ）を得た。次いで、７．７ｇの化
合物（Ｅ)をＴＨＦ１００ｍｌ、ＥｔＯＨ５０ｍｌ、お
よび水５０ｍｌの混合溶媒に溶解し、４０℃にて、ハイ
ドロサルファイトナトリウム７．８ｇを水５０ｍｌに溶
解した溶液を１０分かけて滴下した。４０℃にて３０分
間反応させた後、水および酢酸エチルを加えて抽出し、
有機層を飽和食塩水にて洗浄した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、酢酸エチル、
ヘキサン混合溶媒から晶析して６．４ｇの化合物（Ｆ）
を得た。次いで、トリホスゲン２．１ｇをＴＨＦ３００
ｍｌに溶解し、３．９ｇの化合物（Ｆ）を水冷下、１０
分かけて添加した。さらにトリエチルアミン７．０ｍｌ
を水冷下１０分かけて滴下した。室温にて３０分間反応
した後、水５０ｍｌを添加して３０分間攪拌した。水お
よび酢酸エチルを加えて抽出し、有機層を飽和食塩水に
て洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去し、酢酸エチル、ヘキサン混合溶媒から
晶析して例示化合物（１８）を１．９ｇ得た。

【００７４】以下にプロトンＮＭＲのデータを示す。¹ Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ₆）δ１１．
８０（ｓ，１Ｈ）、８．１０（ｓ，１Ｈ）、８．００
（ｓ，３Ｈ）、７．６０〜７．３０（ｍ，１０Ｈ）

【００７５】なお、本発明においては、上記に示したよ
うに、アニリン誘導体から３工程で製造できるのに対
し、例えばBull.Chem.Soc.Jpn.,58,735(1985)ではＮＨ₂
ＮＨ（Ｃ＝Ｓ）ＮＨＮＨ₂から６工程と工程数が多く、
コストも高い。

【００７６】

【発明の効果】本発明によれば入手容易な原料から短工
程にて、ハロゲン化銀写真感光材料に用いられる写真用
有用性化合物や、医薬品あるいは農薬など、あるいはそ
の合成中間体として有用な、２位がアリール基またはヘ
テロ環基である１，２，４−トリアゾール−３−オン系
化合物で４、５位で含窒素５〜６員環ヘテロ環の縮環し
た化合物を製造することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H016 BE03 BF00 4C050 AA01 BB06 CC04 CC05 CC06 CC07 EE03 EE04 EE05 FF03 FF05 GG03 GG04 GG05 HH02 HH04 4C065 AA03 BB03 CC01 DD03 EE02 HH01 HH02 JJ04 JJ09 KK09 LL04

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（II）で表される化合物を用
   いることを特徴とする、下記一般式（Ｉ）で表される縮
   環系含窒素ヘテロ環化合物の製造方法。 【化１】 式中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の含窒素ヘテロ環
   を形成する炭素原子および／または窒素原子からなる原
   子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０または１から４
   の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場合、複数のＲ
   は互いに同じであっても異なっていてもよく、またこれ
   らが互いに結合して、縮環していてもよい。Ｘはアリー
   ル基またはヘテロ環基を表す。 【化２】 式中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の含窒素ヘテロ環
   を形成する炭素原子および／または窒素原子からなる原
   子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０または１から４
   の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場合、複数のＲ
   は互いに同じであっても異なっていてもよく、またこれ
   らが互いに結合して、縮環していてもよい。Ｘはアリー
   ル基またはヘテロ環基を表す。Ｙ１およびＹ２は独立に
   水素原子または−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ３基を表す。Ｙ３はハ
   ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ
   基、水酸基またはヘテロ環基を表す。
2. 【請求項２】 前記一般式（Ｉ）で表される化合物にお
   いて、Ｘがアリール基であることを特徴とする請求項１
   に記載の縮環系含窒素ヘテロ環化合物の製造方法。
3. 【請求項３】 前記一般式（II）で表される化合物にお
   いてＹ１およびＹ２がともに水素原子であることを特徴
   とする請求項１に記載の縮環系含窒素ヘテロ環化合物の
   製造方法。
4. 【請求項４】 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が下
   記一般式（III）、（IV）、（Ｖ）、（VI）、（VII）、
   （VIII）または（IX）で表されることを特徴とする請求
   項１に記載の縮環系含窒素ヘテロ環化合物の製造方法。 【化３】 式中、Ｒは置換基を表す。ｍは０または１から４の整数
   を表す。ここで、ｍが２から４の場合、複数のＲは互い
   に同じであっても異なっていてもよく、またこれらが互
   いに結合して、縮環していてもよい。Ｘはアリール基ま
   たはヘテロ環基を表す。
5. 【請求項５】 下記一般式（II）で表わされる化合物が
   下記一般式（Ｘ）で表される化合物のハイドロサルファ
   イトナトリウムを用いた還元により得られることを特徴
   とする請求項１記載の縮環系含窒素ヘテロ環化合物の製
   造方法。 【化４】 式中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の含窒素ヘテロ環
   を形成する炭素原子および／または窒素原子からなる原
   子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０または１から４
   の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場合、複数のＲ
   は互いに同じであっても異なっていてもよく、またこれ
   らが互いに結合して、縮環していてもよい。Ｘはアリー
   ル基またはヘテロ環基を表す。Ｙ１およびＹ２は独立に
   水素原子または−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ３基を表す。Ｙ３はハ
   ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ
   基、水酸基またはヘテロ環基を表す。 【化５】 式中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の含窒素ヘテロ環
   を形成する炭素原子および／または窒素原子からなる原
   子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０または１から４
   の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場合、複数のＲ
   は互いに同じであっても異なっていてもよく、またこれ
   らが互いに結合して、縮環していてもよい。Ｘはアリー
   ル基、またはヘテロ環基を表す。Ｙ１は水素原子または
   −（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ３基を表す。Ｙ３はハロゲン原子、ア
   ルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、水酸基また
   はヘテロ環基を表す。
6. 【請求項６】 下記一般式（Ｉ）で表される縮環系含窒
   素ヘテロ環化合物。 【化６】 式中、ＺはＮ−Ｃとともに５〜６員環の含窒素ヘテロ環
   を形成する炭素原子および／または窒素原子からなる原
   子群を表す。Ｒは置換基を表す。ｍは０または１から４
   の整数を表す。ここで、ｍが２から４の場合、複数のＲ
   は互いに同じであっても異なっていてもよく、またこれ
   らが互いに結合して、縮環していてもよい。Ｘはアリー
   ル基またはヘテロ環基を表す。
7. 【請求項７】 前記一般式（Ｉ）で表される化合物にお
   いてＸがアリール基であることを特徴とする請求項６に
   記載の縮環系含窒素ヘテロ環化合物。